專利名稱：電路結(jié)構(gòu)及用以定義此電路結(jié)構(gòu)的光掩模的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及集成電路的設(shè)計，特別涉及一種應(yīng)用于集成電路領(lǐng)域的電路結(jié)構(gòu)，以及用以定義此電路結(jié)構(gòu)的光掩模，其圖案的光學(xué)近接修正較為容易。
背景技術(shù)：
現(xiàn)今半導(dǎo)體工藝常以狗骨(dog-bone)狀圖案作為導(dǎo)線的拾取(pickup)區(qū)域的光掩模圖案。請參照圖1，此設(shè)計中導(dǎo)線圖案110的拾取墊(pickuppad)圖案120的位置介于密集區(qū)12與孤立區(qū)14之間，圖案密度差異性大，故其光學(xué)鄰近效應(yīng)較不易控制，使其光學(xué)鄰近修正(Optical Proximity Correction,OPC)時的復(fù)雜度較高，如圖2所示者，其中標(biāo)號210、 220分別為導(dǎo)線圖案、拾取墊圖案。因此，其光學(xué)近接修正常需通過電腦輔助，以達到優(yōu)選的修正效果。
隨著半導(dǎo)體光刻工藝線寬微縮，光學(xué)鄰近效應(yīng)因光刻技術(shù)世代演進(如曝光光源波長縮小，數(shù)值孔徑加大等)而更加顯著。狗骨狀設(shè)計的難度將因此而更形提高，也不利于得到足夠的工藝窗口 (process window)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是在提供一種包含導(dǎo)線及拾取墊的電路結(jié)構(gòu)，其光掩模圖案的光學(xué)近接修正較已知者容易進行。
本發(fā)明的再一目的是提供一種光掩模，其可用以定義本發(fā)明的電路結(jié)構(gòu)。此光掩模上的導(dǎo)線圖案及拾取墊定義用圖案的光學(xué)近接修正較已知者容易進行。
本發(fā)明的電路結(jié)構(gòu)包括多條并列的導(dǎo)線以及多個拾取墊。其中呈連續(xù)排列的部分導(dǎo)線各自配置有一拾取墊，且任一條配置拾取墊的導(dǎo)線的拾取墊穿過該導(dǎo)線一側(cè)的一相鄰導(dǎo)線的一斷開處，而與次一導(dǎo)線連接。此種拾取墊的周圍結(jié)構(gòu)在本發(fā)明中特稱為H-切斷(H-cut)結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明的光掩模是用以定義上述電路結(jié)構(gòu)者，其上有多個并列的導(dǎo)線圖
3案以及多個拾取墊定義用圖案。其中，呈連續(xù)排列的部分導(dǎo)線圖案各自配置一拾取墊定義用圖案。對任一個配置拾取墊定義用圖案的導(dǎo)線圖案而言，其拾取墊定義用圖案穿過該導(dǎo)線圖案一側(cè)的一相鄰導(dǎo)線圖案的一斷開處，而配置于次一導(dǎo)線圖案和該導(dǎo)線圖案之間。
在一些實施例中，特別是線寬較小的情況下，上述導(dǎo)線圖案與拾取墊定義用圖案須再經(jīng)過光學(xué)近接修正。此光學(xué)近接修正可為比較簡單的對稱型態(tài)的光學(xué)近接修正。在一實施例中，上述拾取墊定義用圖案連接該次一導(dǎo)線圖
案和該導(dǎo)線圖案，其相關(guān)的光學(xué)近接修正例如是包括使該拾取墊定義用圖案在導(dǎo)線圖案的延伸方向上的尺寸縮小，使該次一導(dǎo)線圖案和該導(dǎo)線圖案的分別位于該拾取墊定義用圖案兩側(cè)的二個部分的二內(nèi)側(cè)邊界各自向外凸、二外側(cè)邊界各自向內(nèi)縮，以及使位于該次一導(dǎo)線圖案和該導(dǎo)線圖案外側(cè)的二導(dǎo)線圖案外側(cè)的二導(dǎo)線圖案的分別位于該拾取墊定義用圖案兩側(cè)的二個部分的二內(nèi)側(cè)邊界各自向內(nèi)縮、二外側(cè)邊界亦各自向內(nèi)縮。
本發(fā)明的H-切斷結(jié)構(gòu)中拾取墊周遭的圖案密度近于密集區(qū)，其光學(xué)鄰近效應(yīng)較已知狗骨狀設(shè)計容易控制；且因H-切斷結(jié)構(gòu)的對稱性佳，因此光學(xué)鄰近修正較易于實行。通過電腦模擬軟件與實驗的驗證，在相同光刻工藝條件下，本發(fā)明的H-切斷圖案設(shè)計能獲得比狗骨狀圖案設(shè)計更大的工藝窗o 。
為讓本發(fā)明的上述和其他目的、特征和優(yōu)點更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實施例并配合所附圖示，詳細i兌明如下。


圖1為已知狗骨狀設(shè)計的配置拾取墊圖案的多條導(dǎo)線圖案的結(jié)構(gòu)。圖2為已知狗骨狀設(shè)計的拾取墊圖案及其附近的導(dǎo)線圖案經(jīng)過光學(xué)近接修正后的結(jié)果。
圖3繪示本發(fā)明 一實施例的配置拾取墊圖案的多條導(dǎo)線圖案的結(jié)構(gòu)及其設(shè)計過程。
圖4繪示用以形成本發(fā)明的H-切斷結(jié)構(gòu)的光掩模圖案的光學(xué)近接修正的 一例(a),以及由此光學(xué)近接修正后的光掩模圖案所定義的電路結(jié)構(gòu)的電腦模擬結(jié)果(b)。附圖標(biāo)記說明
12、 14:圖案密集區(qū)、圖案稀疏區(qū)
110、 210、 310、 410(a/b/c/d/e):導(dǎo)線圖案
120、 220、 320:拾取墊圖案
330:斷開處
340: H-切斷結(jié)構(gòu)
412:拾取墊定義用圖案
414、 416、 418、 420:導(dǎo)線圖案的邊界
具體實施例方式
圖3繪示本發(fā)明一實施例的配置拾取墊圖案的多條導(dǎo)線圖案的結(jié)構(gòu)及其設(shè)計過程。
請參照圖3，此圖案設(shè)計是先定出多條并列的導(dǎo)線圖案310，其包括須配置拾取墊的導(dǎo)線的光掩模圖案，以及作為假圖案(dummy pattem)而不須配置拾取墊圖案的線狀圖案，其即圖中最右側(cè)的3條線狀圖案，功能是造成對稱的圖案配置環(huán)境，以使光學(xué)進接修正較容易進行。
接著，在須配置拾取墊的各導(dǎo)線的圖案310上配置一個拾取墊圖案320，并在相鄰導(dǎo)線圖案310的對應(yīng)該拾取墊圖案320處設(shè)置一斷開處330。以圖中須配置拾取墊的導(dǎo)線圖案310a為例，其拾取墊圖案320穿過此導(dǎo)線圖案310a —側(cè)的相鄰導(dǎo)線圖案310b的斷開處330,而與次一導(dǎo)線圖案310c連接，從而形成H-切斷結(jié)構(gòu)340,其中相鄰導(dǎo)線圖案310b未與導(dǎo)線圖案310a的拾取墊圖案320連接。
請再參照圖3，當(dāng)工藝線寬足夠大時，使用圖示的光掩模圖案會定義出形狀近似的電路結(jié)構(gòu)，包括對應(yīng)310的多條并列的導(dǎo)線與對應(yīng)320的多個拾取墊，其中呈連續(xù)排列的部分導(dǎo)線各自配置有一拾取墊，且任一條配置拾取墊的導(dǎo)線的拾取墊穿過該導(dǎo)線一側(cè)的一相鄰導(dǎo)線的一斷開處，而與次一導(dǎo)線連接，從而形成對應(yīng)340的H-切斷結(jié)構(gòu)。
然而，當(dāng)線寬較小時，上述導(dǎo)線圖案310與拾取墊圖案320即須經(jīng)過光學(xué)近接修正。相較于狗骨狀結(jié)構(gòu)，此種H-切斷結(jié)構(gòu)的對稱性佳，周遭環(huán)境
較容易實行。發(fā)明人由電腦模擬得知，此種H-切斷結(jié)構(gòu)只要以手動修正(Manual OPC)就可以得到不錯的效果，而不一定要藉助于電腦輔助修正。詳言之，通過部分挖空與/或其他圖案修正手法修改H-切斷狀圖案在光
掩模上的設(shè)計圖案，即可使H-切斷狀圖案的成像在焦距/曝光的適當(dāng)條件以
及一定程度的變動條件的下均能合于規(guī)范，而可確保足夠的工藝窗口 。
圖4繪示用以形成本發(fā)明的H-切斷結(jié)構(gòu)的光掩模圖案的光學(xué)近接修正
的 一 例(a)，以及由此光學(xué)近接修正后的光掩模圖案所定義的電路結(jié)構(gòu)的電腦
模擬結(jié)果(b)。
請參照圖4(a)，其中的拾取墊定義用圖案412是用以定義由導(dǎo)線圖案410a所定義的導(dǎo)線的拾取墊，且穿過相鄰的導(dǎo)線圖案410b的斷開處，而連接次一導(dǎo)線圖案410c。此處的光學(xué)近接修正包括使拾取墊定義用圖案412在導(dǎo)線圖案的延伸方向上的尺寸縮小，使次一導(dǎo)線圖案410c和導(dǎo)線圖案410a的分別位于拾取墊定義用圖案412兩側(cè)的二個部分的二內(nèi)側(cè)邊界414各自向外凸、二外側(cè)邊界416各自向內(nèi)縮，以及使位于次一導(dǎo)線圖案410c和導(dǎo)線圖案410a外側(cè)的二導(dǎo)線圖案410d外側(cè)的二導(dǎo)線圖案410e的分別位于拾取墊定義用圖案412兩側(cè)的二個部分的二內(nèi)側(cè)邊界418各自向內(nèi)縮、二外側(cè)邊界420亦各自向內(nèi)縮。此OPC圖案的電腦模擬圖案轉(zhuǎn)移結(jié)果的如圖4(b)所示，其中導(dǎo)線線寬設(shè)定為0.25fim,曝光光源波長設(shè)定為193nm。
綜上所述，本發(fā)明的H-切斷結(jié)構(gòu)中拾取墊周遭的圖案密度近似于密集區(qū)，其光學(xué)鄰近效應(yīng)較已知狗骨狀設(shè)計容易控制；且因H-切斷結(jié)構(gòu)的對稱性佳，因此光學(xué)鄰近修正較易于實行。通過電腦模擬軟件與實驗的驗證，在相同光刻工藝條件下，本發(fā)明的H-切斷圖案設(shè)計能獲得比狗骨狀設(shè)計更大的工藝窗口。
雖然本發(fā)明已以優(yōu)選實施例披露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的更動與潤飾，因此本發(fā)明的保護范圍當(dāng)視后附的權(quán)利要求所界定者為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1、一種電路結(jié)構(gòu)，包括多條并列的導(dǎo)線以及多個拾取墊，其中，呈連續(xù)排列的部分該些導(dǎo)線各自配置有一拾取墊；且任一條配置拾取墊的導(dǎo)線的該拾取墊穿過該導(dǎo)線一側(cè)的一相鄰導(dǎo)線的一斷開處，而與次一導(dǎo)線連接。
2、 一種光掩模，其上有多個并列的導(dǎo)線圖案以及多個拾取墊定義用圖 案，其中呈連續(xù)排列的部分該些導(dǎo)線圖案各自配置有一拾取墊定義用圖案； 對任一個配置拾取墊定義用圖案的導(dǎo)線圖案而言，其拾取墊定義用圖案穿過該導(dǎo)線圖案一側(cè)的一相鄰導(dǎo)線圖案的一斷開處，而配置于次一導(dǎo)線圖案與該導(dǎo)線圖案之間。
3、 如權(quán)利要求2所述的光掩模，其中該些導(dǎo)線圖案與該些拾取墊定義 用圖案再經(jīng)過光學(xué)近接修正。
4、 如權(quán)利要求3所述的光掩模，其中該光學(xué)近接修正為對稱型態(tài)的光 學(xué)近接修正。
5、 如權(quán)利要求4所述的光掩模，其中該拾取墊定義用圖案連接該次一 導(dǎo)線圖案與該導(dǎo)線圖案。
6、 如權(quán)利要求5所述的光掩模，其中與該拾取墊定義用圖案相關(guān)的光 學(xué)近接修正包括使該拾取墊定義用圖案在該些導(dǎo)線圖案的延伸方向上的尺寸縮?。?使該次一導(dǎo)線圖案與該導(dǎo)線圖案的分別位于該拾取墊定義用圖案兩側(cè) 的二個部分的二內(nèi)側(cè)邊界各自向外凸，二外側(cè)邊界各自向內(nèi)縮；以及使位于該次一導(dǎo)線圖案與該導(dǎo)線圖案外側(cè)的二導(dǎo)線圖案外側(cè)的二導(dǎo)線 圖案的分別位于該拾取墊定義用圖案兩側(cè)的二個部分的二內(nèi)側(cè)邊界各自向 內(nèi)縮，二外側(cè)邊界亦各自向內(nèi)縮。
全文摘要
本發(fā)明提出一種電路結(jié)構(gòu)及用以定義此電路結(jié)構(gòu)的光掩模。此電路結(jié)構(gòu)包括多個拾取墊與多條并列的導(dǎo)線，其中呈連續(xù)排列的部分導(dǎo)線各自配置有一拾取墊，且任一條配置拾取墊的導(dǎo)線的拾取墊穿過該導(dǎo)線一側(cè)的一相鄰導(dǎo)線的一斷開處，而與次一導(dǎo)線連接。本發(fā)明的光掩模上有用以定義上述導(dǎo)線的多個導(dǎo)線圖案，以及用以定義上述拾取墊的多個拾取墊定義用圖案。本發(fā)明的H-切斷結(jié)構(gòu)中拾取墊周遭的圖案密度近于密集區(qū)，其光學(xué)鄰近效應(yīng)較已知狗骨狀設(shè)計容易控制；且因H-切斷結(jié)構(gòu)的對稱性佳，因此光學(xué)鄰近修正較易于實行。
文檔編號G03F1/36GK101499447SQ20081000929
公開日2009年8月5日 申請日期2008年2月3日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月3日
發(fā)明者杜德洪, 陳高惇 申請人:力晶半導(dǎo)體股份有限公司