專(zhuān)利名稱(chēng)：光刻膠剝離液的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種清洗劑，尤其是一種應(yīng)用于集成電路(IC)、超大規(guī)模集成電路(ULSI)制造工藝中，用以剝離經(jīng)刻蝕工藝后的光刻膠的剝離液。

背景技術(shù)：
在集成電路(IC)、超大規(guī)模集成電路(ULSI)的制造工藝中，使用光刻膠在晶圓上形成導(dǎo)電層是非常重要的一道工序。一般是用光刻膠均勻涂抹在絕緣膜或金屬膜上，經(jīng)曝光、顯影后在光刻膠上形成導(dǎo)電層圖像，然后通過(guò)蝕刻工藝把導(dǎo)電層圖像轉(zhuǎn)移到晶圓的表層。晶圓表面導(dǎo)電層形成之后，需要去除作為刻蝕阻擋層的光刻膠。目前通常采用濕法工藝去除光刻膠，其濕法工藝中的清洗液主要為SPM溶液和APM溶液，但存在著如下缺點(diǎn) 1.清洗液易腐蝕晶圓基料及金屬配線，導(dǎo)致柵結(jié)構(gòu)破壞； 2.清洗后殘留金屬離子的數(shù)量超出標(biāo)準(zhǔn)要求，易引起晶圓表面金屬離子污染； 3.主要成分為強(qiáng)酸、過(guò)氧化氫和氟化物，均是危險(xiǎn)的化學(xué)試劑，在清洗操作過(guò)程中，不但危害操作人員的身體，且排放的廢液對(duì)環(huán)境污染嚴(yán)重。


發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的上述問(wèn)題，提供一種制備方法簡(jiǎn)單、成本低、對(duì)襯底材料及金屬配線腐蝕率低、對(duì)環(huán)境無(wú)污染的光刻膠灰化殘留物清洗劑。
本發(fā)明的技術(shù)解決方案是一種光刻膠剝離液，其特征在于含有原料及重量百分比如下 表面活性劑1％～15％ 有機(jī)胺5％～40％ 有機(jī)溶劑 5％～30％ 螯合劑0.1％～5％ 緩蝕劑0.01％～5％ 純水余量 含有原料及重量百分比的最佳方案如下 表面活性劑5％ 有機(jī)胺10％ 有機(jī)溶劑 10％ 螯合劑2％ 緩蝕劑0.05％ 純水 余量 所述的表面活性劑是脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚，分子通式為RO(C2H4O)m(C3H6O)nH，其中R為C10-C18的烷基，m和n分別是環(huán)氧乙烷基和環(huán)氧丙烷的聚合數(shù)，聚合數(shù)為3～20。
所述的有機(jī)胺是二乙胺、三乙胺、乙二胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺的至少一種。
所述的有機(jī)溶劑是乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、、二丙二醇單乙醚的至少一種。
所述的螯合劑是所述的螯合劑是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二鈉鹽、二亞乙基三胺五乙酸、三亞乙基四胺六乙酸或次氮基三乙酸中的至少一種。
所述的緩蝕劑是果糖、葡萄糖、半乳糖、山梨糖、山梨糖醇、木糖醇、乳酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸中的至少一種。
所述的純水是經(jīng)過(guò)離子交換樹(shù)脂過(guò)濾的水，其電阻至少是18MΩ。
本發(fā)明同現(xiàn)有技術(shù)相比，具有以下優(yōu)點(diǎn) 1.本發(fā)明含有的脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚非離子表面活性劑，具有高效的脫脂能力，能均勻滲透到晶圓表面，快速剝離晶圓表面的光刻膠及其他殘留物，并能有效控制晶圓表面的蝕刻速率； 2.本發(fā)明含有的螯合劑，可以捕獲污染物中的金屬離子并與其形成絡(luò)離子，從而去除晶圓表面的金屬離子污染； 3.本發(fā)明在清洗過(guò)程中不產(chǎn)生殘留雜質(zhì)微粒； 4.本發(fā)明的揮發(fā)性小，對(duì)襯底材料及金屬配線的腐蝕率低，毒性低，對(duì)操作人員不造成健康危害，對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

具體實(shí)施例方式 實(shí)施例1 由表面活性劑、有機(jī)胺，有機(jī)溶劑，螯合劑，緩蝕劑，純水組成。
其原料重量百分比如下表面活性劑1％～15％、有機(jī)胺5％～40％、有機(jī)溶劑5％～30％、螯合劑0.1％～5％、緩蝕劑0.01％～5％、純水余量。
所述的表面活性劑是脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚，分子通式為RO(C2H4O)m(C3H6O)nH，其中R為C10-C18的烷基，m和n分別是環(huán)氧乙烷基和環(huán)氧丙烷的聚合數(shù)，聚合數(shù)為3～20。
所述的有機(jī)胺是二乙胺、三乙胺、乙二胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺的至少一種。
所述的有機(jī)溶劑是乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、、二丙二醇單乙醚的至少一種。
所述的螯合劑是所述的螯合劑是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二鈉鹽、二亞乙基三胺五乙酸、三亞乙基四胺六乙酸或次氮基三乙酸中的至少一種。
所述的所述的緩蝕劑是果糖、葡萄糖、半乳糖、山梨糖、山梨糖醇、木糖醇、乳酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸中的至少一種。
所述的純水是經(jīng)過(guò)離子交換樹(shù)脂過(guò)濾的水，其電阻至少是18MΩ。
各原料在其重量范圍內(nèi)選擇，總重量為100％，將上述各原料混合均勻，即可。
具體清洗方法為室溫至60℃下，將含有光刻膠的晶圓片浸入本發(fā)明實(shí)施例1中清洗5～20min，用超純水漂洗3min，最后用高純氮?dú)飧稍铩?br> 清洗效果評(píng)價(jià)用本發(fā)明提供的清洗劑能快速剝離晶圓片上的光刻膠及殘留物，在晶圓表面沒(méi)有殘留，對(duì)襯底材料和金屬配線的腐蝕率很小。
實(shí)施例2 原料及重量百分比如下表面活性劑5％、單乙醇胺10％、乙二醇單丁醚10％、乙二胺四乙酸2％、山梨糖醇0.5％、純水。
清洗方法及清洗效果同實(shí)施例1。
權(quán)利要求
1.一種光刻膠剝離液，其特征在于含有原料及重量百分比如下
表面活性劑 1％～15％
有機(jī)胺 5％～40％
有機(jī)溶劑 5％～30％
螯合劑 0.1％～5％
緩蝕劑 0.01％～5％
純水 余量
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠剝離液，其特征在于含有原料及重量百分比如下
表面活性劑 5％
有機(jī)胺 10％
有機(jī)溶劑 10％
螯合劑 2％
緩蝕劑 0.05％
純水 余量
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光刻膠剝離液，其特征在于所述的表面活性劑是脂肪醇聚氧乙烯聚氧丙烯醚，分子通式為RO(C2H4O)m(C3H6O)nH，其中R為C10-C18的烷基，m和n分別是環(huán)氧乙烷基和環(huán)氧丙烷的聚合數(shù)，聚合數(shù)為3～20。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的光刻膠剝離液，其特征在于所述的有機(jī)胺是二乙胺、三乙胺、乙二胺、單乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、異丙醇胺、二異丙醇胺、三異丙醇胺的至少一種。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光刻膠剝離液，其特征在于所述的有機(jī)溶劑是乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單丁醚、乙二醇單苯醚、二乙二醇單丁醚、二乙二醇單乙醚、二丙二醇單甲醚、、二丙二醇單乙醚的至少一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的光刻膠剝離液，其特征在于所述的螯合劑是乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二鈉鹽、二亞乙基三胺五乙酸、三亞乙基四胺六乙酸或次氮基三乙酸中的至少一種。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的光刻膠剝離液，其特征在于所述的所述的緩蝕劑是果糖、葡萄糖，半乳糖、山梨糖、山梨糖醇、木糖醇、乳酸、蘋(píng)果酸、檸檬酸中的至少一種。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的光刻膠剝離液，其特征在于所述的純水是經(jīng)過(guò)離子交換樹(shù)脂過(guò)濾的水，其電阻至少是18MΩ。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)一種制備方法簡(jiǎn)單、成本低、對(duì)襯底材料及金屬配線腐蝕率低、對(duì)環(huán)境無(wú)污染的光刻膠灰化殘留物清洗劑。其原料及重量百分比如下表面活性劑1％～15％、有機(jī)胺5％～40％、有機(jī)溶劑5％～30％、螯合劑0.1％～5％、緩蝕劑0.01％～5％、純水余量。
文檔編號(hào)G03F7/42GK101295144SQ20081001190
公開(kāi)日2008年10月29日 申請(qǐng)日期2008年6月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月19日
發(fā)明者軍 侯, 冬 呂 申請(qǐng)人:大連三達(dá)奧克化學(xué)股份有限公司