專利名稱：摩擦配向裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種配向膜的配向裝置，尤其涉及一種摩擦配向裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器主要是由上、下兩片制品基板組成，在制品基板的內(nèi)表面上設(shè)有 向液晶層施加電場用的透明電極，為控制電場設(shè)有相應(yīng)的開關(guān)器件；為顯示顏色 在其中的一片制品基板上設(shè)有彩色膜；為使液晶分子沿特定方向取向，在制品基 板的內(nèi)表面制備有配向膜層，在配向膜硬化后，對配向膜沿一定方向進(jìn)行摩擦處 理。
對制品基板的配向膜層進(jìn)行摩擦處理是液晶顯示元件制造過程中的一項重要 步驟，通常的摩擦處理設(shè)備主要由基臺1、摩擦滾輪3和支架6三部分組成，請參 照圖1，制品基板2水平固定在基臺1的臺面上，摩擦滾輪3由支架6支撐在制品 基板2的上方，在摩擦滾輪3表面，包有麻布或者尼龍的材質(zhì)的摩擦布，并且可 以自由回轉(zhuǎn)，回轉(zhuǎn)速度可以自動進(jìn)行調(diào)整，在回轉(zhuǎn)的同時，摩擦滾輪3在原地不 動，制品基板2沿某一特定方向移動從而實現(xiàn)特定方向的配向。
為了使液晶顯示器的輝度和響應(yīng)性均一，在摩擦處理時，在配向膜表面進(jìn)行 均一地摩擦非常重要。而為了實現(xiàn)均一地摩擦，必須嚴(yán)格控制摩擦滾輪和配向膜 之間的距離的均一性。對于中小尺寸的基板，這種控制相對比較容易，但是隨著 TFT-LCD產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，基板的尺寸變得越來越大，相應(yīng)地摩擦滾輪的尺寸也變得越 來越長，重量也就越來越大，這勢必帶來摩擦滾輪翹曲變形的問題。由于摩擦滾 輪的下方用于摩擦制品基板，不能在下方設(shè)置支撐裝置，所以摩擦滾輪在自重作 用下發(fā)生翹曲是不可避免的，如圖2所示，摩擦滾輪3在自重作用下發(fā)生翹曲， 相對摩擦滾輪中心軸線14產(chǎn)生摩擦滾輪翹曲量5。針對上述問題，目前雖然提出 了一些改進(jìn)方案，如使用重量更輕的材質(zhì)，使用精密度更高的摩擦滾輪加工工藝， 但只能在一定程度內(nèi)改善。摩擦滾輪的上述問題，降低了制造良率，增加了制造 成本，使其在大尺寸基板上的應(yīng)用受限。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種摩擦配向裝置，避免摩擦滾輪在自重 作用下發(fā)生翹曲，提高制造良率。
本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題而采用的技術(shù)方案是提供一種摩擦配向裝置，包括 放置和固定制品基板用的基臺、與基臺相對且在水平方向可以回轉(zhuǎn)的摩擦滾輪，以 及用于支撐基臺或者摩擦滾輪的框架，其中，所述摩擦滾輪位于所述基臺的下側(cè)， 所述摩擦滾輪的上側(cè)用于摩擦制品基板，摩擦滾輪的下側(cè)設(shè)置有支撐臺，所述摩擦 滾輪和所述基臺至少有一個能在所定方向上作水平移動。
上述摩擦配向裝置中，所述支撐臺的內(nèi)側(cè)可設(shè)置有冷卻水管。 上述摩擦配向裝置中，所述支撐臺的底部可設(shè)置有滑動軌道。 上述摩擦配向裝置中，所述基臺的下表面可設(shè)置有真空吸附孔。 上述摩擦配向裝置中，所述基臺上可設(shè)置有卡板。
本發(fā)明對比現(xiàn)有技術(shù)有如下的有益效果本發(fā)明把摩擦滾輪放在基臺的下側(cè)， 摩擦滾輪的上側(cè)用于摩擦制品基板，所以可以在摩擦滾輪的下方設(shè)置相應(yīng)的支撐 臺，所述支撐臺可以大大緩解摩擦滾輪的翹曲量。此外，由于受到支撐臺的支撐， 摩擦滾輪在回轉(zhuǎn)時的顫動降低，便于傳動機構(gòu)的設(shè)置，所以較為容易制作基板不 動而摩擦滾輪移動的配向裝置。


圖1是現(xiàn)有的摩擦配向裝置示意圖。 圖2是現(xiàn)有的摩擦滾輪翹曲示意圖。 圖3是本發(fā)明的摩擦配向裝置示意圖。
圖4是本發(fā)明實施例的摩擦配向裝置的正視圖。 圖5是圖4中沿A—A'方向的剖視圖。 圖6是本發(fā)明實施例的基臺上卡板示意圖。
圖中，
1基臺 2 制品基板3摩擦滾輪
4支撐臺
5摩擦滾輪翹曲
6框架
8摩擦滾輪中心軸
7升降部
9支架
10滑動軌道
11底座
12冷卻水管
13卡板
14摩擦滾輪中心軸線
15.吸附孔
具體實施例方式
下面結(jié)合附圖和實施例對本發(fā)明作進(jìn)一步的描述。 圖4是本發(fā)明實施例的正視圖，圖5是圖4的A—A'剖視圖。 請參考圖4和圖5，本發(fā)明實施例中的摩擦配向裝置，包括基臺l，摩擦滾輪 3和框架6?；_1水平放置，基臺1通過升降部7固定在框架6上。升降部7上 設(shè)置有上下位置微調(diào)馬達(dá)(圖未示)，使得基臺1在垂直方向上可以在一定范圍 內(nèi)上下移動。在水平方向上，基臺1可以如圖所示設(shè)置成不可移動的，也可以再 增加水平傳動裝置設(shè)置成可移動的(圖未示)?；_1的下表面設(shè)置有真空吸附 孔15，為了增加固定強度，還可在基臺上增加相應(yīng)的卡板13，如圖6所示，卡板 13的形狀可為"「" 、 "i " 、 " L"、"」"等。這種形狀的凸起的部分可以在 基臺1上通過驅(qū)動馬達(dá)等方式向基臺1內(nèi)部移動，最終卡在基板上，從而完成固 定基板的目的。
摩擦滾輪3在基臺1及制品基板2的下方，所述摩擦滾輪3的下方設(shè)置有支 撐臺4。所述摩擦滾輪中心軸8的兩端被安放在支撐臺4的支架9上，使其能沿中 心軸8回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速由設(shè)置在支撐臺4上的摩擦滾輪驅(qū)動馬達(dá)調(diào)整(圖未示)。摩 擦滾輪3和支撐臺4安放在底座11上。底座ll上設(shè)置有驅(qū)動馬達(dá)(圖未示)， 使得摩擦滾輪3和支撐臺4的高度可以上、下調(diào)整。此外，底座ll上還設(shè)置有滑 動軌道IO，支撐臺4上相應(yīng)地設(shè)有滾輪(圖未示)，使得摩擦滾輪3和支撐臺4 組成的這個部件能在所定方向上作水平移動。
此外，摩擦滾輪3和支撐臺4組成的這個部件還可以沿摩擦滾輪中心軸8在 水平方向上沿滑動軌道IO作正負(fù)90度范圍內(nèi)的傾斜固定，使摩擦滾輪中心軸8 與制品基板2呈一定角度，以滿足對制品基板2作相對傾斜地摩擦。上述的摩擦配向裝置中，摩擦滾輪3放在基臺1的下側(cè)，摩擦滾輪的上側(cè)用 于摩擦制品基板2，摩擦滾輪的下側(cè)和下方的支撐臺4相接觸，支撐臺4的接觸支 撐可以大大緩解摩擦滾輪3的翹曲量。在摩擦滾輪3的表面一般包裹有麻或者尼 龍材質(zhì)的摩擦布，由于摩擦滾輪上的摩擦布和支撐臺4接觸，支撐臺4表面盡可 能光滑，可以最大限度減少摩擦及摩擦纖維的產(chǎn)生。摩擦滾輪3回轉(zhuǎn)時，會因為 摩擦而有熱量產(chǎn)生，所以在支撐臺4的內(nèi)側(cè)有冷卻水管12通過。此外，在支撐臺 4和摩擦布接觸的地方，還可以設(shè)置冷卻風(fēng)的噴口 (圖未示)，為了防止冷卻風(fēng)造 成的大量亂流，在摩擦滾輪附近還可進(jìn)一步設(shè)置抽真空設(shè)備(圖未示)。
在實際生產(chǎn)時，首先是摩擦滾輪3降低到一定的位置，通過機械手或者其他 搬送方式將制品基板2放在摩擦基臺1上，這時其真空吸附孔打開，制品基板2 被牢牢的吸附在基臺l上。在設(shè)置有卡板13的裝置中，卡板13也會卡緊，防止 制品基板2在基臺l上發(fā)生平移。上述動作完成后，摩擦滾輪3上升到設(shè)定高度， 摩擦滾輪的驅(qū)動馬達(dá)在此之前打開，保持其均速回轉(zhuǎn)。最后通過沿特定方向移動 制品基板2或摩擦滾輪3，完成摩擦工序。
本發(fā)明實施例把摩擦滾輪放在基臺的下側(cè)，摩擦滾輪的上側(cè)用于摩擦制品基 板，所以可以在摩擦滾輪的下方設(shè)置相應(yīng)的支撐臺，所述支撐臺可以大大緩解摩 擦滾輪的翹曲量。此外，由于受到支撐臺的支撐，摩擦滾輪在回轉(zhuǎn)時的顫動降低， 便于傳動機構(gòu)的設(shè)置，所以較為容易制作基板不動而摩擦滾輪移動的配向裝置。 而由支撐臺的接觸支撐引起的回轉(zhuǎn)摩擦阻力，則可以通過冷卻水管和冷卻風(fēng)的噴 口予以解決。
雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領(lǐng) 域技術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許的修改和完善，因此 本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)以權(quán)利要求書所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種摩擦配向裝置，包括放置和固定制品基板用的基臺、與基臺相對且在水平方向可以回轉(zhuǎn)的摩擦滾輪，以及用于支撐基臺或者摩擦滾輪的框架，其特征在于，所述摩擦滾輪位于所述基臺的下側(cè)，所述摩擦滾輪的上側(cè)用于摩擦制品基板，摩擦滾輪的下側(cè)設(shè)置有支撐臺，所述摩擦滾輪和所述基臺至少有一個能在所定方向上作水平移動。
2. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述支撐臺的內(nèi)側(cè) 設(shè)置有冷卻水管。
3. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述支撐臺的底部 設(shè)置有滑動軌道。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述基臺的下表面 設(shè)置有真空吸附孔。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的摩擦配向裝置，其特征在于，所述基臺上設(shè)置有卡板。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種摩擦配向裝置，包括放置和固定制品基板用的基臺、與基臺相對且在水平方向可以回轉(zhuǎn)的摩擦滾輪，以及用于支撐基臺或者摩擦滾輪的框架，其中，所述摩擦滾輪位于所述基臺的下側(cè)，所述摩擦滾輪的上側(cè)用于摩擦制品基板，摩擦滾輪的下側(cè)設(shè)置有支撐臺，所述摩擦滾輪和所述基臺至少有一個能在所定方向上作水平移動。本發(fā)明通過在摩擦滾輪的下方設(shè)置支撐臺，大大緩解了摩擦滾輪的翹曲量，且由于得到支撐臺的支撐，較為容易制成基板不動而摩擦滾輪移動的摩擦配向裝置。
文檔編號G02F1/1337GK101303485SQ200810039580
公開日2008年11月12日 申請日期2008年6月26日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月26日
發(fā)明者亮 徐 申請人:上海廣電光電子有限公司