專利名稱：電光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及適合于進行采用像素偏移的分割曝光的數(shù)字曝光裝置的電光裝置。
背景技術(shù)：
以往，作為在照片印相中使用的膝光裝置，開發(fā)了將與圖像數(shù)據(jù)相應(yīng) 的光照射在印相紙上進行啄光的數(shù)字曝光裝置。作為這種數(shù)字曝光裝置， 具有利用激光的裝置以及利用液晶面板等的電光裝置的裝置。數(shù)字曝光裝置根據(jù)數(shù)字化了的圖像數(shù)據(jù)進行膝光。利用計算機可以容 易進行圖像數(shù)據(jù)的各種圖像處理，例如影像的亮度調(diào)整等，通過使用數(shù)字 啄光裝置，使從對攝影的圖像的圖像處理到膝光的操作性變得良好。在利用了激光的裝置中，通過根據(jù)圖像數(shù)據(jù)進行激光光的掃描來進行 爆光。因而，如果要提高分辨率則在膝光中要求的總時間變長，相反如果 要縮短時間則需要降低分辨率，或者降低每單位面積的曝光時間，將犧牲 灰度顯示。這樣在激光方式中，生產(chǎn)率(每單位時間的處理張數(shù))和分辨 率 灰度性的雙贏困難。另一方面，在使用了液晶面板的數(shù)字曝光裝置中，通過根據(jù)圖像信號 驅(qū)動液晶面板，將通過液晶面板的來自光源的光變換為影像光，通過將該 影像光曝光在印相紙上進行照片瀑光。因而，在使用了液晶面板的數(shù)字曝 光裝置中，可以以面順序進行曝光，能夠增加每單位面積的曝光時間。因 此，使用了液晶面板的數(shù)字曝光裝置灰度性優(yōu)異，能夠得到高分辨率的圖 像。進而，近年在專利文獻l中公開了這樣的方法，通過一邊使相對印相紙的液晶面板的相對位置在面方向上偏移一邊進行曝光，由此提高分辨率。 專利文獻1的技術(shù)將來自液晶面板的各像素的影像光經(jīng)由微型透鏡照射在 印相紙上，通過控制微型透鏡的焦點來縮小每個像素在印相紙上的聚光部。 而后，通過一邊根據(jù)聚光部的尺寸使液晶面板在水平方向、垂直方向上偏 移一邊進行曝光，對整個面進行曝光。例如，如果假設(shè)聚光部的大小是印相紙上的像素的1/4 (水平以及垂直方向上分別是1/2)，則通過每次一邊 使液晶面板偏移一半像素量一邊進行4次曝光，對印相紙整個面進行曝光。 在利用了這種^^素偏移的分割曝光中，通過使用與各聚光部的位置對應(yīng)的 圖像數(shù)據(jù)進行曝光，可以以液晶面板的像素數(shù)的4倍的像素數(shù)的分辨率進 行印相。[專利文獻1WO 2004/107733 Al如上所述，在專利文獻l中，通過用光學(xué)系統(tǒng)控制印刷紙上的聚光部 的尺寸，進行與像素偏移相應(yīng)的分割曝光，對光學(xué)系統(tǒng)要求極其高的精度。 現(xiàn)實中，將聚光部的尺寸正確地控制為印相紙上的^ 素的整數(shù)分之一是困 難的，以使聚光部之間重疊的方式設(shè)定光學(xué)系統(tǒng)。因此，在專利文獻l的裝置中，存在重疊部分進行基于不同的2個圖 像的曝光、畫質(zhì)降低的問題。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種電光裝置，其與采用像素偏移的1次啄光 區(qū)域的尺寸相應(yīng)設(shè)定與像素間距相對的開口率，由此能夠防止畫質(zhì)降低。本發(fā)明的電光裝置的特征在于具備多個像素，其與設(shè)置在基板上的 多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng)被配置為矩陣狀，并與通過上述掃描 線和數(shù)據(jù)線驅(qū)動的圖像信號相應(yīng)地使光的透過率改變；以及遮光部件23，整數(shù)分之一的區(qū)域上。如果采用這種構(gòu)成，則用遮光部件將像素的開口率以100%為基準(zhǔn)限 制在整數(shù)分之一上。因而，通過使用透過光在感光材料上進行曝光，在1次曝光中對與各像素對應(yīng)的曝光區(qū)域的整數(shù)分之一的區(qū)域進行膝光。例如， 通過用像素偏移重復(fù)分割曝光，可以對感光材料的整個區(qū)域進行膝光。采 用像素偏移的1次曝光的尺寸用遮光部件規(guī)定，能夠正確地規(guī)定曝光區(qū)域 的尺寸。本發(fā)明的電光裝置是用于將來自光源的光變換為基于圖像信號的影像光，經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)曝光在感光材料上的電光裝置，其特征在于具備多個 像素，其與設(shè)置在基板上的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng)被配置為 矩陣狀，并與通過上述掃描線和數(shù)據(jù)線提供的信號相應(yīng)地使光的透過率改 變；以及遮光部件，其以通過了各像素的光的透過區(qū)域以及上述光學(xué)系統(tǒng) 的光照射的上述感光材料上的各曝光區(qū)域的尺寸，成為與基于光學(xué)系統(tǒng)計 算的上述感光材料上的上述像素間距相當(dāng)?shù)某叽绲恼麛?shù)分之一 的方式，分 別相對于水平以及垂直方向限制各像素的光的透過區(qū)域。如果采用這種構(gòu)成，則將影像光經(jīng)由規(guī)定的光學(xué)系統(tǒng)照射在感光材料 上進行曝光。遮光部件通過限制各像素的開口率，在l次曝光中對與各像 素對應(yīng)的曝光區(qū)域的整數(shù)分之一的區(qū)域進行曝光。例如，通過重復(fù)采用寸象 素偏移的分割曝光，可以對感光材料的整個區(qū)域進行曝光。采用^^素偏移 的1次曝光的尺寸用遮光部件規(guī)定，能夠正確地規(guī)定啄光區(qū)域的尺寸。此外，本發(fā)明的電光裝置是用于將來自光源的光變換為基于圖像信號 的影像光，經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)曝光在感光材料上的電光裝置，其特征在于具備 多個像素，其與i殳置在J4l上的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng)被配 置為矩陣狀，并與通過上述掃描線和數(shù)據(jù)線提供的信號相應(yīng)地使光的透過 率改變；以及遮光部件，其以與各^象素分別對應(yīng)的上述感光材料上的各曝 光區(qū)域的水平以及垂直尺寸，分別成為與上述感光材料上的上述像素間距 對應(yīng)的膝光區(qū)域的水平以及垂直尺寸的整數(shù)分之一的尺寸的方式，分別相 對于水平以及垂直方向?qū)⑸鲜龈飨袼氐墓獾耐高^區(qū)域限制在像素間距的整 數(shù)分之一的區(qū)域上。如果采用這種構(gòu)成，則將影像光經(jīng)由規(guī)定的光學(xué)系統(tǒng)照射在感光材料 上進行曝光。遮光部件將各像素的開口率以100%為基準(zhǔn)限制在整數(shù)分之一上。因而，在1次曝光中對與各像素對應(yīng)的曝光區(qū)域的整數(shù)分之一的區(qū) 域進行曝光。例如，通過重復(fù)采用像素偏移的分割曝光，可以對感光材料 的整個區(qū)域進行曝光。采用像素偏移的1次曝光的尺寸用遮光部件規(guī)定， 能夠正確地規(guī)定曝光區(qū)域的尺寸。此外，其特征在于上述遮光部件，以由上述^L定的光學(xué)系統(tǒng)引起的 上述影像光的擴展量，將上述各像素的光的透過區(qū)域限制在比水平以及垂 直方向的像素間距的各自的整數(shù)分之一小的區(qū)域上。如果采用這種構(gòu)成，則遮光部件以由規(guī)定的光學(xué)系統(tǒng)引起的影像光的 擴展量，設(shè)定比整數(shù)分之一小的開口率。通過限制透過區(qū)域，例如，控制 采用像素偏移的分割曝光的尺寸，不需要調(diào)整控制困難的光學(xué)系統(tǒng)，可以 可靠地進行曝光尺寸的控制。此外，其特征在于上述像素通過在上述M和與該基板相對配置的 另一基板之間夾持電光物質(zhì)而構(gòu)成，上述遮光部件由在上述基板和另一基 板的至少一個上形成的遮光膜構(gòu)成。如果采用這種構(gòu)成，則可以使用液晶裝置進行正確的曝光控制。
圖1是表示本發(fā)明的第1實施方式的電光裝置的一部分的主要要素的 平面圖。圖2是表示組裝了圖1的電光裝置的數(shù)字曝光裝置的概略構(gòu)成圖。 圖3是將構(gòu)成作為圖1的電光裝置的液晶裝置的元件基板與形成在其上的各構(gòu)成要素一 同從相對M—側(cè)看的平面圖。圖4是粘合元件基板和相對基板、封入液晶的組裝工序后的液晶裝置在圖3的H-H，線的位置處切斷表示的剖面圖。圖5是構(gòu)成液晶裝置的像素區(qū)域的多個像素中的各種元件、配線等的等價電路圖。圖6是詳細(xì)表示液晶裝置的像素構(gòu)造的剖面圖。圖7是表示圖2中的印相紙14上的曝光狀態(tài)的說明圖。圖8是表示本發(fā)明的笫2實施方式的電光裝置的一部分的主要要素的 平面圖。符號說明3a:掃描線；6a:數(shù)據(jù)線；23:遮光膜；35:開口部。
具體實施方式
以下，參照附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的實施方式。圖l是表示本發(fā)明的第 1實施方式的電光裝置的一部分的主要要素的平面圖。圖2是表示組裝了 電光裝置的數(shù)字膝光裝置的概略構(gòu)成圖。圖3是將構(gòu)成作為圖1的電光裝 置的液晶裝置的元件基板與形成在其上的各構(gòu)成要素 一 同從相對基板一側(cè) 看的平面圖，圖4是粘合元件M和相對基板、封入液晶的組裝工序后的 液晶裝置在圖3的H-H，線的位置處切斷表示的剖面圖。圖5是構(gòu)成液晶裝 置的像素區(qū)域的多個像素中的各種元件、配線等的等價電路圖。此外，圖 6是詳細(xì)表示液晶裝置的像素構(gòu)造的剖面圖。而且，在上述各圖中，為了 以在圖面上可識別的大小顯示各層和各構(gòu)件，對各層和各構(gòu)件的每個使用 不同的比例尺。首先，參照圖2以及圖5說明液晶裝置的構(gòu)造。液晶裝置如圖3以及圖4所示，在使用例如石英M、玻璃基板、硅 基板的TFTMlO，和與其相對配置的使用例如玻璃M、石英M等 的相對基板20之間封入液晶50構(gòu)成。相對配置的TFT基板10和相對基 板20用密封材料52粘合。將在TFT基板10上構(gòu)成像素的像素電極(ITO ) 9a等配置成矩陣狀。 此外，在相對基板20上在整個區(qū)域上設(shè)置相對電極(ITO) 21。在TFT 基板10的像素電極9a上設(shè)置實施了取向處理的取向膜16。另一方面，在 經(jīng)過相對J4！ 20上的整個面形成的相對電極21上也設(shè)置實施了取向處理 的取向膜22。圖5表示構(gòu)成像素的TFT基板10上的元件的等價電路。如圖5所示， 在像素區(qū)域上，以多條掃描線3a和多條數(shù)據(jù)線6a交叉的方式配線，在用掃描線3a和數(shù)據(jù)線6a劃分的區(qū)域上將4象素電極9a配置成矩陣狀。而后， 與掃描線3a和數(shù)據(jù)線6a的各交叉部分對應(yīng)地設(shè)置TFT30,該TFT30與 像素電極9a連接。TFT30利用掃描線3a的ON信號變成導(dǎo)通，由此，將提供給數(shù)據(jù)線 6a的圖像信號提供給像素電極9a。將設(shè)置在該像素電極9a和相對基板20 上的相對電極21之間的電壓施加在液晶50上。此外，與像素電極9a并列 地設(shè)置存儲電容器70，用存儲電容器70將像素電極9a的電壓保持比施加 源極電壓的時間例如還長3位的時間。利用存儲電容器70改善電壓保持特 性，可以進行對比度高的圖像顯示。像素電極9a在TFT基板10上以矩陣狀設(shè)置多個，分別沿著像素電極 9a的縱橫的邊界設(shè)置數(shù)據(jù)線6a以及掃描線3a。數(shù)據(jù)線6a如以后所述那樣， 由鋁膜等構(gòu)成，掃描線3a例如包括導(dǎo)電性的多晶硅膜等。此外，掃描線 3a與以后說明的溝道區(qū)域la，相對形成。即，分別在掃描線3a和數(shù)據(jù)線 6a的交叉位置上使與掃描線3a連接的柵極電極與溝道區(qū)域la，相對配置構(gòu) 成j象素開關(guān)用的TFT30。沿著相對M 20的邊緣封入液晶的密封材料52在元件基板10和相對 基板20之間形成。密封材料52配置成與相對基板20的輪廓形狀基本一致， 相互粘著元件基板10和相對J4！ 20。密封材料52在元件14^ 10的一邊 的一部分上缺少，形成用于注入液晶50的液晶注入口 108。在粘合的元件 基板IO以及相對基板20相互的間隙中通過液晶注入口 108注入液晶。在 液晶注入后用密封材料109密封液晶注入口 108。在元件M 10的密封材料52的外側(cè)的區(qū)域上，沿著元件基板10的一 邊設(shè)置數(shù)據(jù)線區(qū)域電路101以及安裝端子102,沿著與這一邊相鄰的2邊 設(shè)置掃描線驅(qū)動電路104。在元件J4！ 10的剩下的一邊上設(shè)置用于連接在 畫面顯示區(qū)域的兩側(cè)上設(shè)置的掃描線驅(qū)動電路104之間的多個配線105。 在密封材料52的外側(cè)的4角上配置上下導(dǎo)通部件106。上下導(dǎo)通部件106 下端與上下導(dǎo)通端子107接觸，上端與共用電極21接觸，電氣連接兩者。 由此，電氣連接在像素區(qū)域外形成的配線105和共用電極21。在本實施方式中，在相對基板20上設(shè)置遮光膜23。在電光裝置中， 如不映出TFT、配線等的要素那樣，將圖像顯示區(qū)域分為開口區(qū)域和遮光 區(qū)域，在遮光區(qū)域上設(shè)置TFT。在直視型的顯示器、投影機用的光閥等中， 因為要求明亮的圖像，所以努力擴展開口區(qū)域的面積。與此相反，在本實施方式中的遮光膜23,以將開口率限制為像素間距 的方式，構(gòu)成為平面上不僅覆蓋數(shù)據(jù)線6a以及掃描線3a的形成區(qū)域，而 且覆蓋像素電極9a上的多個部分。例如，如以后說明的那樣，遮光膜23 形成為開口部35變成像素間距的整數(shù)分之一的尺寸。而且，也可以將像素 電極9a只形成在與開口部35相對的區(qū)域以及周邊上。圖6是著眼于一個像素的液晶顯示裝置的模式化剖面圖。而且，圖6 表示在圖1的A-A，線中的剖面構(gòu)造。在玻璃和石英等的元件基板10上形成TFT30。 TFT30在形成溝道區(qū) 域la，、源極區(qū)域ld、漏極區(qū)域le的半導(dǎo)體層上隔著絕緣膜2設(shè)置用作柵 極電極的掃描線3a。在TFT30上疊層第1層間絕緣膜4，在第1層間絕緣膜4上疊層數(shù)據(jù) 線6a。數(shù)據(jù)線6a經(jīng)由貫通第1層間絕緣膜4的接觸孔5與源極區(qū)域ld電 氣連接。在第1層間絕緣膜4以及數(shù)椐線6a上形成第2層間絕緣膜7。在第2 層間絕緣膜7上形成像素電極9a。像素電極9a利用貫通第2層間絕緣膜7 以及第1層間絕緣膜4的接觸孔8與漏極區(qū)域le電氣連接。在像素電極 9a上以及第2層間絕緣膜7上疊層包括聚酰亞胺類的高分子樹脂的取向膜 16，在規(guī)定方向上進行取向處理。通過向掃描線3a (柵極電極)提供ON信號，溝道區(qū)域la，變成導(dǎo)通 狀態(tài)，連接源極區(qū)域ld和漏極區(qū)域le，將提供給數(shù)據(jù)線6a的圖像信號給 予^f象素電極9a。另一方面，在相對^20上，在與TFT陣列M的數(shù)據(jù)線6a、掃描 線3a以及TFT30的形成區(qū)域相對的區(qū)域以及與像素電極9a的一部分區(qū)域 相對的區(qū)域上設(shè)置遮光膜23。遮光膜23在相對基板20的除了開口部35的整個面上形成。利用該遮光膜23在防止來自相對M 20 —側(cè)的入射光 入射到TFT30的溝道區(qū)域la，、源極區(qū)域Id以及漏極區(qū)域le的同時，規(guī) 定各像素的開口區(qū)域。在遮光膜23上經(jīng)過基板20的整個面形成相對電極(共用電極)21。 在相對電極21上疊層包括聚酰亞胺類的高分子樹脂的取向膜22，在規(guī)定 方向上進行摩擦處理。而后，在元件基板10和相對基板20之間封入液晶50。由此，TFT30 將在規(guī)定的時刻從數(shù)據(jù)線6a提供的圖像信號寫入到像素電極9a。根據(jù)寫 入的像素電極9a和相對電極21的電位差，液晶50的分子集合的取向狀態(tài) 變化，可以進行光調(diào)制，并進行灰度顯示。而且，在元件基板10上還形成構(gòu)成圖5的存儲電容器70的未圖示的 導(dǎo)體層以及電介質(zhì)層。在本實施方式中，用遮光膜23將開口率設(shè)定為充分 小，也可以在充分大的面積上形成需要形成在遮光區(qū)域上的存儲電容器 70。在圖1中，在向著Y方向延伸設(shè)置的數(shù)據(jù)線6a和向著X方向延伸設(shè) 置的掃描線3a的交點上，形成構(gòu)成TFT30的溝道區(qū)域la，。而且，圖1 只表示水平以及垂直的2><2=4像素的部分。在以往的液晶裝置中，數(shù)據(jù)線 6a以及掃描線3a的形成區(qū)域以外的區(qū)域，即由數(shù)據(jù)線6a和掃描線3a包 圍的區(qū)域變成開口區(qū)域。與此相反，在本實施方式中，開口部35只設(shè)定在 可以作為開口區(qū)域設(shè)定的區(qū)域的一部分的區(qū)域上。在圖l的例子中，將水 平方向的像素間距設(shè)置為Lh,將垂直方向的像素間距設(shè)置為Lv，開口部 35的尺寸i殳定為水平Lh/2、垂直Lv/2。而且，在圖l的例子中，雖然示出了在除了數(shù)據(jù)線6a以及掃描線3a 的區(qū)域、可以作為開口區(qū)域設(shè)定的區(qū)域的大致中央^L置了開口部35的例 子，但在可以作為開口區(qū)域設(shè)定的區(qū)域的任何位置上也可以設(shè)置開口部 35。此外，在圖l的例子中，雖然示出了將開口部35的尺寸設(shè)定為像素間 距的1/2的例子，但可以設(shè)定為整數(shù)分之一的尺寸。開口部35以外的區(qū)域用遮光膜23阻止從相對基板20 —側(cè)入射的光通過元件基板10 —側(cè)。而且，在圖6中雖然示出了用設(shè)置在相對基板20上的遮光膜23控制 開口率的例子，但不僅在相對基板20—側(cè)上，也可以在元件14110—側(cè) 上設(shè)置控制開口率的遮光膜。進而，也可以在相對基板20—側(cè)上只設(shè)置阻 止向TFT30的光的入射的遮光膜，在元件基板10 —側(cè)上設(shè)置控制開口率 的遮光膜。圖2表示使用了這種液晶裝置的數(shù)字曝光裝置。在圖2中，數(shù)字曝光 裝置在光源裝置11和印相紙14之間，配置作為電光裝置的液晶裝置12 以及印相透鏡13。而且，在液晶裝置12的兩側(cè)上配置偏振片41、 42。偏 振片41、 42只分別使規(guī)定的偏振軸的光透過。用偏振片41規(guī)定液晶裝置 12的入射光的偏振軸，用偏振片42規(guī)定液晶裝置12的射出光的偏振軸。 在液晶裝置12中，通過根據(jù)圖像數(shù)據(jù)改變透過光的偏振軸，能夠使影像光 從偏振片42射出。光源裝置11例如能夠用LED (發(fā)光二極管)陣列構(gòu)成。作為光源裝 置11的LED陣列，具備分別發(fā)出發(fā)光帶不同的多個波長區(qū)域的色光的多 個種類的LED。例如，作為光源裝置11的LED陣列能夠射出紅(R)光、 綠(G)光、藍(B)光。配置在從光源裝置11到作為感光材料的印相紙 14的光路上的印相透鏡13是用于將入射光像成像在印相紙14上的透鏡。而且，代替光源裝置11也可以使用燈和以面順序切換的濾光器。圖像處理裝置43在如杲需要對曝光的圖像實施了規(guī)定的圖像處理后， 為了啄光將圖像數(shù)據(jù)提供給驅(qū)動裝置44。在本實施方式中，圖像處理裝置 43針對液晶裝置12的像素數(shù)輸出與像素間距和開口部35尺寸的比(以下， 稱為分辨率倍率)相應(yīng)的像素數(shù)的圖像數(shù)據(jù)。例如，在圖l的例子中因為 像素間距和開口部35尺寸的比在水平以及垂直方向都是2:1，所以水平以 及垂直方向的分辨率倍率是2，當(dāng)液晶裝置12的像素數(shù)是水平640 x垂直 480像素的情況下，輸出水平640 x2、垂直480x2像素的分辨率的圖像數(shù) 據(jù)。驅(qū)動裝置44向液晶裝置12提供圖像數(shù)據(jù)進行驅(qū)動。這種情況下，驅(qū)動裝置44用1次詠光與液晶裝置12的各像素對應(yīng)地輸出來自圖像處理裝 置43的1個像素量的圖像數(shù)據(jù)。如果忽視光學(xué)系統(tǒng)的圖像的擴展，則如果 將來自液晶裝置12的影像光曝光在印相紙14上，則在一次膝光中，在印 相紙14上相對與液晶裝置12的各^^素尺寸相應(yīng)的曝光面積，分別在水平 以及垂直方向上在分辨率倍率分之一的尺寸的面積上進行膝光。移動控制裝置45在每次啄光時根據(jù)分辨率倍率移動液晶裝置12。液 晶裝置12構(gòu)成為利用未圖示的壓電元件、XY載物臺等在與入射面平行的 平面上在水平以及垂直方向上移動自如，驅(qū)動裝置44在下次膝光中，與液 晶裝置12的各像素對應(yīng)地輸出來自圖像處理裝置43的下一個像素量的圖 像數(shù)據(jù)。以后，通過只以水平分辨率倍率x垂直分辨率倍率重復(fù)液晶裝置 12的移動和曝光，對印相紙14的曝光范圍的整個面進行曝光。以下，參照圖7說明這樣構(gòu)成的實施方式的作用。圖7是表示圖2中 的印相紙14上的曝光的狀態(tài)的說明圖。圖7 (a)至圖7 (d)分別表示笫 1至第4次的曝光狀態(tài)。圖7表示與圖1對應(yīng)，水平以及垂直方向的分辨 率倍率是2的例子。而且，在彩色曝光中，使用來自光源裝置11的R、 G、 B光進行瀑光，為了簡化，對這些R、 G、 B光的切換省略"^兌明。本實施方式適合于，通過使來自光源的光變換為影像光的液晶裝置和 感光材料的至少一個相對光軸在垂直的面內(nèi)移動，使感光材料和液晶裝置 的位置關(guān)系相對偏移，進行^Jfl所謂^^素偏移來進行膝光。以下，說明采 用像素偏移的曝光。圖像處理裝置43對于進行曝光的圖像，在根據(jù)需要實施圖像處理后， 將圖像數(shù)據(jù)輸出到驅(qū)動裝置44。來自圖像處理裝置43的圖像至少具有(液 晶裝置12的像素數(shù)x水平方向的分辨率倍率x垂直方向的分辨率倍率)的 分辨率。以下，說明水平方向的分辨率倍率以及垂直方向的分辨率倍率都 是2的情況。將輸入到驅(qū)動裝置44的圖像數(shù)據(jù)給予液晶裝置12驅(qū)動液晶裝置12。 這種情況下，驅(qū)動裝置44在每次曝光中，在液晶裝置12的每個像素中輸 出來自圖像處理裝置43的圖像的l個像素量的數(shù)據(jù)。即，驅(qū)動裝置44將與采用像素偏移的分割曝光進行曝光的區(qū)域相應(yīng)的圖像數(shù)據(jù)給予液晶裝置12進行驅(qū)動。例如，驅(qū)動裝置44在第l次曝光時，例如將液晶裝置12的 各像素的上左的位置的1/4像素的數(shù)據(jù)提供給液晶裝置12。液晶裝置12根據(jù)來自驅(qū)動裝置44的圖像數(shù)據(jù)進行驅(qū)動，根據(jù)圖像數(shù) 據(jù)改變來自光源11的射出光的透過率。由此，從液晶裝置12的射出面一 側(cè)的偏振片42射出基于圖像數(shù)據(jù)的影像光。該影像光經(jīng)由印相透鏡13照 射在印相紙14上進行曝光。圖7(a)在該情況下表示在印相紙14上的一部分區(qū)域中的曝光。圖7 (a)的左下斜線表示進行了啄光的區(qū)域。在圖7中用水平線和垂直線包圍 的區(qū)域是與液晶裝置12的各像素對應(yīng)的曝光區(qū)域。如上所述，因為液晶裝 置12的開口部35的水平以及垂直尺寸是水平以及垂直方向的像素間距的 各自1/2，所以用l次曝光，只能在印相紙14上曝光用圖7的框包圍的各 爆光區(qū)域的1/4 (水平1/2，垂直1/2 )的區(qū)域。接著，移動控制裝置45使液晶裝置12在與射入射出面平行的面內(nèi)， 例如在水平的一方向上移動1/2像素間距量。即，如果在該狀態(tài)下進行詠 光，則在印相紙14上，如圖7 (b)的左下斜線所示，在用右下斜線表示 的第l次的爆光區(qū)域的水平相鄰的位置上進行曝光。在該第2次曝光時， 驅(qū)動裝置14將與第2次的啄光區(qū)域?qū)?yīng)的圖像數(shù)據(jù)提供給液晶裝置12的 各像素。同樣，在第3次膝光中，移動控制裝置45使液晶裝置12在與射入射 出面平行的面內(nèi)，例如在垂直方向上移動1/2像素間距量。如果在該狀態(tài) 下進行曝光，則在印相紙14上，如圖7 (c)的左下斜線所示，在用右下 斜線表示的第1、 2次的曝光區(qū)域中的第2次曝光區(qū)域的垂直下方的位置上 進行曝光。進而，在第4次曝光中，移動控制裝置45使液晶裝置12在與 射入射出面平行的面內(nèi)，例如在水平的另一方向上移動1/2像素間距量。 如果在該狀態(tài)下進行曝光，則在印相紙14上，如圖7 (d)的左下斜線表 示，在用右下斜線表示的第1~3次的曝光區(qū)域中的第1次曝光區(qū)域的垂直 下方的位置上進行膝光。這樣，通過采用4次的像素偏移的分割曝光，可以用液晶裝置12的像 素數(shù)的4倍的像素數(shù)進行曝光。這種情況下，各膝光時的膝光區(qū)域用液晶 裝置12的開口部35的尺寸嚴(yán)格規(guī)定，在各膝光中膝光區(qū)域之間不會重合， 不會發(fā)生畫質(zhì)的劣化。這樣在本實施方式中，因為將液晶裝置12的開口部設(shè)定為像素間距的 整數(shù)分之一，所以即使在采用像素偏移進行分割膝光的情況下，各膝光時 的曝光區(qū)域之間不會重合，能夠防止畫質(zhì)劣化。而且，在上述的實施方式中，雖然示出了作為像素間距和開口部的尺 寸的比的水平方向的分辨率倍率和垂直方向的分辨率倍率是2的例子，但 可知可以是3及以上。此外，水平方向的分辨率倍率和垂直方向的分辨率 可以是不同的值。圖8是表示本發(fā)明的第2實施方式的電光裝置的一部分的主要要素的 平面圖。在圖8中，在與圖l相同的構(gòu)成要素上標(biāo)注相同符號并省略說明。本實施方式只是開口部的尺寸和圖1不同。在第l實施方式中，說明 了忽略光學(xué)系統(tǒng)的影響的例子。但是，實際上，由于光學(xué)系統(tǒng)的影響，采 用像素偏移的各曝光的印相紙上的曝光區(qū)域比基于通過4象素間距和開口部 尺寸的比給予的分辨率倍率的區(qū)域還大一些，各爆光的曝光區(qū)域之間 一部 分重合。因而，考慮光學(xué)系統(tǒng)的影響，通過減小開口部尺寸，防止由像素偏移 的各曝光引起的曝光區(qū)域之間重合。在本實施方式中，開口部35，的水平尺寸Kh以及垂直尺寸Kv分別比 水平像素間距Lh以及垂直像素間距Lv的整數(shù)分之一 (圖8的例子中是 1/2 )還d、一些。例如，當(dāng)水平以及垂直像素間距是20.5pm的情況下，作 為開口部35，的水平以及垂直尺寸Kh=Kv采用8jim。而且，該數(shù)值是考 慮光學(xué)系統(tǒng)的影響的數(shù)值，如果光學(xué)系統(tǒng)不同則需要采用不同的數(shù)值。為了形成開口部35，，在第2實施方式的液晶裝置中，設(shè)置遮光膜23'。 即，本實施方式的液晶裝置只是遮光膜23，的平面形狀與遮光膜23不同。對于與本實施方式中的液晶裝置的像素間距對應(yīng)的感光材料上的曝光區(qū)域，為了將采用像素偏移的各曝光的曝光區(qū)域設(shè)置為整數(shù)分之一，只要 將液晶裝置的像素間距和各像素的開口部的比只以考慮了光學(xué)系統(tǒng)的影響 的量設(shè)置比整數(shù)分之一小一些即可。由此，與圖7—樣，采用像素偏移的各啄光的曝光區(qū)域之間不會重合， 不會使畫質(zhì)劣化，能夠提高分辨率。這樣，在本實施方式中，即使有光學(xué)系統(tǒng)的影響，也能夠可靠地防止 由像素偏移的各曝光產(chǎn)生的曝光區(qū)域之間重合，能夠提高畫質(zhì)。而且，并 不調(diào)整控制困難的光學(xué)系統(tǒng)，通過調(diào)整可以可靠控制的開口部尺寸，可以 確實去掉光學(xué)系統(tǒng)的影響，能夠謀求高畫質(zhì)。此外，本發(fā)明的電光裝置不僅是具備作為開關(guān)元件的TFT (薄膜晶體 管)的液晶顯示面板，對于其他的有源矩陣型的液晶面板(例如，具## 為開關(guān)元件的TFD (薄膜二極管)的液晶面板)、無源矩陣型的液晶面板 等也同樣適用。
權(quán)利要求
1.一種電光裝置，其特征在于具備多個像素，其與設(shè)置在基板上的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng)被配置為矩陣狀，并與通過上述掃描線和數(shù)據(jù)線提供的信號相應(yīng)地使光的透過率改變；以及遮光部件，其分別相對于水平方向以及垂直方向?qū)⒏飨袼氐墓獾耐高^區(qū)域限制在像素間距的整數(shù)分之一的區(qū)域上。
2. —種電光裝置，用于將來自光源的光變換為基于圖像信號的影像 光，經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)膝光在感光材料上，其特征在于具備多個像素，其與設(shè)置在基板上的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng) 被配置為矩陣狀，并與通過上述掃描線和數(shù)據(jù)線提供的信號相應(yīng)地使光的 透過率改變；以及遮光部件，其以通過了各像素的光的透過區(qū)域以及上述光學(xué)系統(tǒng)的光 照射的上述感光材料上的各詠光區(qū)域的尺寸，成為與基于光學(xué)系統(tǒng)計算的 上述感光材料上的上述像素間距相當(dāng)?shù)某叽绲恼麛?shù)分之一的方式，分別相 對于水平以及垂直方向限制各像素的光的透過區(qū)域。
3. —種電光裝置，用于將來自光源的光變換為基于圖像信號的影像 光，經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)曝光在感光材料上，其特征在于具備多個像素，其與設(shè)置在皿上的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng)被配置為矩陣狀，并與通過上述掃描線和數(shù)據(jù)線提供的信號相應(yīng)地使光的 透過率改變；以及遮光部件，其以與各像素分別對應(yīng)的上述感光材料上的各曝光區(qū)域的 水平以及垂直尺寸，分別成為與上迷感光材料上的上述4象素間距對應(yīng)的曝 光區(qū)域的水平以及垂直尺寸的整數(shù)分之一的尺寸的方式，分別相對于水平 以及垂直方向?qū)⑸鲜龈飨袼氐墓獾耐高^區(qū)域限制在像素間距的整數(shù)分之一 的區(qū)域上。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的電光裝置，其特征在于上述遮光部件，以由上述規(guī)定的光學(xué)系統(tǒng)引起的上述影像光的擴展量，將上述各像素的光 的透過區(qū)域限制在比水平以及垂直方向的像素間距的各自的整數(shù)分之一 d、 的區(qū)域上。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1或2的電光裝置，其特征在于 上述像素通過在上述J4l和與該a相對配置的另一基板之間夾持電 光物質(zhì)而構(gòu)成，上述遮光部件由在上述基板和另 一基板的至少 一個上形成的遮光膜構(gòu)成。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種電光裝置，其通過將像素間距和開口部的比設(shè)置為基于整數(shù)分之一的值，防止在采用像素偏移的分割曝光時各曝光區(qū)域之間重合，從而提高畫質(zhì)。其特征在于具備多個像素，其與設(shè)置在基板上的多個掃描線和多個數(shù)據(jù)線的交叉對應(yīng)被配置為矩陣狀，并與通過上述掃描線和數(shù)據(jù)線驅(qū)動的圖像信號相應(yīng)地使光的透過率改變；以及遮光部件23，其將各像素的光的透過區(qū)域限制在水平以及垂直方向的像素間距的各自的整數(shù)分之一的區(qū)域上。
文檔編號G02F1/13GK101271236SQ20081008585
公開日2008年9月24日 申請日期2008年3月21日 優(yōu)先權(quán)日2007年3月22日
發(fā)明者堀口宏貞 申請人:精工愛普生株式會社