專利名稱：制造光學(xué)器件的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本公開文獻涉及一種光學(xué)器件，更具體地，本公開文獻涉及一 種在投影儀、光學(xué)開關(guān)、條形碼讀出器、復(fù)印機等中使用的光學(xué)器件。
背景技術(shù)：
圖1中所示的光學(xué)器件100被內(nèi)置于諸如投影儀、光學(xué)開關(guān)、 條形碼讀出器、復(fù)印機等的裝置中。
圖1是相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的截面圖。在圖1中，J表示從光 源111發(fā)出的光的傳播方向，K表示被反射鏡114反射的光的傳播方 向。
參考圖1，相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件100具有框架101、半透明構(gòu) 件102、遮光構(gòu)件103、抗反射(AR)涂層104和105、反射鏡元件 108、以及氣密構(gòu)件109。
框架101具有用于裝配半透明構(gòu)件102的裝配部分112。裝配部 分112被形成為穿過框架101。提供框架101來支撐半透明構(gòu)件102。
將半透明構(gòu)件102裝配進框架101的裝配部分112。半透明構(gòu)件 102被布置成與提供給反射鏡元件108的多個反射鏡114相對。半透 明構(gòu)件102使從光源111發(fā)出的光透射，并且將由多個反射鏡114 反射的光發(fā)射至光學(xué)器件100的外部。
遮光構(gòu)件103被形成為從半透明構(gòu)件102的下表面102B延伸至 框架101的下表面IOIB。將遮光構(gòu)件103形成為相框形狀，遮光構(gòu) 件103具有開口 116。對開口 116進行布置，從而使得通過半透明構(gòu)件102所透射的光穿過開口到達多個反射鏡114。將開口 116形成為 使得其寬度從半透明構(gòu)件102的下表面102B向外延伸。與開口 116 的側(cè)表面對應(yīng)的遮光構(gòu)件103的一部分被成形為傾斜表面117。與傾 斜表面117對應(yīng)的遮光構(gòu)件103的一部分防止了從光源111發(fā)出的光 經(jīng)由遮光構(gòu)件103到達反射鏡114。將遮光構(gòu)件103的傾斜表面117 相對于遮光構(gòu)件103的表面103A(遮光構(gòu)件103上與半透明構(gòu)件102 的下表面102B接觸的表面)的傾斜角0x設(shè)置為給定角度(例如，30 度)。當(dāng)此傾斜角9x與給定角度不同時，由多個反射鏡114反射的 光(投影光)形成的圖像的投影畫面是模糊的。因此，形成開口 116， 從而將傾斜角ex設(shè)置為給定角度，這是非常重要。
提供遮光構(gòu)件103，從而限制了被多個反射鏡114反射的光的反 射區(qū)域，并且還將從光源111發(fā)出的光直接提供至多個反射鏡114 上。換句話說，遮光構(gòu)件103可作為由多個反射鏡114所反射的光(投 影光)形成的圖像的投影畫面，并且防止了在由多個反射鏡114反射 的光(投影光)中產(chǎn)生噪聲(光散射)。
對于遮光構(gòu)件103，例如，可以采用通過依次布置Cr層、CrxOy 層和Cr層而形成的Cr/CrxOy/Cr多層薄膜。例如，可以將Cr/CrxOy/Cr 多層薄膜的厚度設(shè)置為170pm。
涂敷AR涂層104，以覆蓋半透明構(gòu)件102的上表面102A。涂敷 AR層104，以防止半透明構(gòu)件102的上表面102A反射從光源111發(fā) 出的光。
涂敷AR涂層105，以覆蓋半透明構(gòu)件102的下表面102B從開口 116暴露出來的一部分和遮光構(gòu)件103。涂敷AR涂層105，以防止這 種情形半透明構(gòu)件102的下表面102B反射被多個反射鏡114反射 的光。
反射鏡元件108經(jīng)由AR涂層105固定至框架101。反射鏡元件 108具有多個反射鏡114。反射鏡114用于將從光源111發(fā)出的光經(jīng) 由半透明構(gòu)件102和AR涂層104、 105反射到光學(xué)器件100的外部。 在反射鏡元件108和AR涂層105對應(yīng)于形成開口 116的區(qū)域的部分 之間形成間隔L。間隔L使多個反射鏡114能夠移動，而不會與AR涂層105接觸。布置在AR涂層105和反射鏡元件108之間的氣密構(gòu) 件109以氣密方式將間隔L密封起來。
圖2至圖8是示出制造相關(guān)技術(shù)的光學(xué)器件的步驟的視圖。在 圖2至圖8中，相同標(biāo)號被附加給與圖l所示的相關(guān)技術(shù)的光學(xué)器件 100的組成部分相同的組成部分。
以下，參考圖2至圖8，將描述制造相關(guān)技術(shù)的光學(xué)器件100 的方法。首先，在圖2所示的步驟中，把半透明構(gòu)件102插入框架 101的裝配部分112，于是，此半透明構(gòu)件102被放至框架101。
隨后，在圖3所示的步驟中，形成Cr/Cr力y/Cr多層薄膜119， 以覆蓋框架101的下表面101B和半透明構(gòu)件102的下表面102B。例 如，可以通過諸如濺射方法、真空沉積方法之類的方法來形成 Cr/CrxOy/Cr多層薄膜119。
隨后，在圖4所示的步驟中，在Cr/CrxOy/Cr多層薄膜119的表 面119A上形成具有開口 121A的抗蝕劑薄膜121。形成開口 121A以 暴露Cr/CrxOy/Cr多層薄膜119的表面119A的一部分，如上所述，被 暴露部分對應(yīng)于形成遮光構(gòu)件103的開口 116 (見圖1)的區(qū)域。
隨后，在圖5所示的步驟中，將抗蝕劑薄膜121用作掩模對布 置在圖4所示結(jié)構(gòu)的Cr/Cr力y/Cr多層薄膜119進行蝕刻。從而，形 成了具有開口 116的遮光構(gòu)件103。
隨后，在圖6所示的步驟中，去除圖5所示的抗蝕劑薄膜121。 隨后，在圖7所示的步驟中，形成AR涂層104以覆蓋半透明構(gòu)件102 的上表面102A，并且形成AR涂層105以覆蓋半透明構(gòu)件102的下表 面102 B從開口 116暴露的部分遮光構(gòu)件103。
隨后，在圖8所示的步驟中，將反射鏡元件108固定于粘結(jié)構(gòu) 件109和AR涂層105。從而，制造了相關(guān)技術(shù)的光學(xué)器件100 (例如 見日本未經(jīng)審査的專利申請公開第2006-145610號)。
然而，在相關(guān)技術(shù)的光學(xué)器件中，是通過對形成來覆蓋框架101 的下表面101B和半透明構(gòu)件102的下表面102B的Cr/CrxOy/Cr多層 薄膜119進行蝕刻來形成具有開口 116的遮光構(gòu)件103。
因此，在技術(shù)上，很難將遮光構(gòu)件103的傾斜表面117相對于遮光構(gòu)件103的表面103A (遮光構(gòu)件103中與半透明構(gòu)件102的下 表面102B接觸的表面)的傾斜角6x控制在給定角度(例如，30度)。 而且，當(dāng)通過上述方法形成遮光構(gòu)件103時，將會增加光學(xué)器件100 的生產(chǎn)成本。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的示范性實施例提供了一種光學(xué)器件，其能夠形成具有 良好精度的遮光構(gòu)件，因此，可以將與遮光構(gòu)件中形成的開口的側(cè)表 面對應(yīng)的遮光構(gòu)件的傾斜表面的傾斜角設(shè)置為給定角度，并且該光學(xué) 器件還能夠降低生產(chǎn)成本。
根據(jù)本發(fā)明的一個或多個方面，在一種制造光學(xué)器件的方法中， 該光學(xué)器件包括半透明構(gòu)件，其用于透射從光源發(fā)出的光；反射鏡 元件，其被布置為與半透明構(gòu)件相對，并且該反射鏡元件具有用于對 通過半透明構(gòu)件透射的光進行反射的多個反射鏡；和遮光構(gòu)件，其用 于限制被多個反射鏡反射的光的反射區(qū)域，并且該遮光構(gòu)件還具有第 一開口，用于將通過半透明構(gòu)件透射的光直接提供至多個反射鏡上，
所述遮光構(gòu)件的一部分對應(yīng)于被形成為傾斜表面的第一開口的側(cè)表 面，該方法包括在半透明構(gòu)件上形成具有第二開口的掩模，以使第 二開口對應(yīng)于遮光構(gòu)件的形狀和形成區(qū)域；通過印刷方法，將其中在 樹脂中包含了含Cr粒子的含Cr樹脂填充進第二開口 ；對填充進開口 的含Cr樹脂進行固化處理，以形成由固化的含Cr樹脂制成的遮光構(gòu) 件；以及去除掩模。
根據(jù)本發(fā)明的一個或多個方面，該方法還包括形成AR涂層， 以覆蓋從光源發(fā)出的光被入射到其上的半透明構(gòu)件的表面和與反射 鏡元件相對的半透明構(gòu)件的表面。
根據(jù)本發(fā)明的一個或多個方面，第二開口的傾斜表面與半透明 構(gòu)件相對于反射鏡元件的表面之間的夾角是銳角。
根據(jù)本發(fā)明的一個或多個方面，在一種制造光學(xué)器件的方法中， 該光學(xué)器件包括半透明構(gòu)件，以及在半透明構(gòu)件上形成的具有第一
開口的遮光構(gòu)件，所述遮光構(gòu)件的一部分對應(yīng)于形成為傾斜表面的第一開口的側(cè)表面，該方法包括在半透明構(gòu)件上形成具有第二開口的 掩模，從而使第二開口對應(yīng)于遮光構(gòu)件的形狀和形成區(qū)域；通過印刷 方法，將其中在樹脂中包含了含Cr粒子的含Cr樹脂填充進第二開口； 對填充在開口中的含Cr樹脂進行固化處理，以形成由固化的含Cr 樹脂制成的遮光構(gòu)件；去除掩模；以及形成AR涂層，以覆蓋從光源 發(fā)出的光被入射到其上的半透明構(gòu)件的第一表面和與第一表面相對 的半透明構(gòu)件的第二表面。
根據(jù)本發(fā)明的一個或多個方面，該方法還包括將具有多個反 射鏡的反射鏡元件布置為與半透明構(gòu)件相對。
根據(jù)本發(fā)明的一個或多個方面，第二開口的傾斜表面與第二表 面之間的夾角是銳角。
根據(jù)本發(fā)明，可以形成具有良好精度的遮光構(gòu)件，從而可以將 與形成在遮光構(gòu)件中的開口的側(cè)表面對應(yīng)的遮光構(gòu)件的傾斜表面的 傾斜角設(shè)置為給定角度，并且可以降低該光學(xué)器件的生產(chǎn)成本。
從以下描述、附圖和權(quán)利要求，本發(fā)明的其它方面和優(yōu)點是顯 然的。
圖1是相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的截面圖2是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#1);
圖3是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#2);
圖4是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#3);
圖5是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(M);
圖6是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#5);
圖7是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#6);
圖8是示出制造相關(guān)技術(shù)中的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#7);
圖9是根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的截面圖io是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖
(#1);
圖ll是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖(#2);
圖12是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖
(#3);
圖13是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖
(#4);
圖14是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖 (#5);
圖15是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖 (#6);
圖16是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖
(#7);以及
圖17是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟的示意圖 (#8)。
具體實施例方式
以下，參考附圖，將描述本發(fā)明的實施例。
圖9是根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的截面圖。在圖9中，A 表示從光源21發(fā)出的光的傳播方向，B表示由多個反射鏡24反射的 光的傳播方向。
參考圖9，本實施例的光學(xué)器件IO具有框架11、半透明構(gòu)件12、 遮光構(gòu)件13、 AR涂層14和15、 Ni/Au多層薄膜17、反射鏡元件18 和氣密構(gòu)件19。
框架11具有用于裝配半透明構(gòu)件12的裝配部分22。將裝配部 分22形成為穿過框架11。提供框架11，以支撐半透明構(gòu)件12。對 于框架ll的材料，例如，可以采用Kovar (Cu-Ni-Co合金)。
將半透明構(gòu)件12放置于框架11的裝配部分22。將半透明構(gòu)件 12布置為與提供給反射鏡元件18的多個反射鏡24相對。半透明構(gòu) 件12使從光源21發(fā)出的光透射，并且將由多個反射鏡24反射的光 傳播至光學(xué)器件10的外部。
布置遮光構(gòu)件13，使之從半透明構(gòu)件12的下表面12B延伸至在框架ll的下表面llB上形成的Ni/Au多層薄膜17的下表面的一部分。 將遮光構(gòu)件13形成為相框形狀，并且其具有開口 26。對開口 26進 行布置，從而使得通過半透明構(gòu)件12透射的光穿過以到達多個反射 鏡24。
將開口 26形成為使其寬度從半透明構(gòu)件12的下表面12B向外 延伸。將與開口 26的側(cè)表面對應(yīng)的遮光構(gòu)件13的一部分形成為傾斜 表面27。與傾斜表面27對應(yīng)的遮光構(gòu)件13的一部分被布置成用以 防止這種情況從光源21發(fā)出的光經(jīng)由遮光構(gòu)件13到達反射鏡24。 將遮光構(gòu)件13的傾斜表面27相對于遮光構(gòu)件13的表面13A (遮光 構(gòu)件13中與半透明構(gòu)件12的下表面12B接觸的表面)的傾斜角 設(shè)置為給定角度e。例如，可以將該給定角度e設(shè)置為30度。
布置遮光構(gòu)件13，以限制被多個反射鏡24反射的光的反射區(qū) 域，并且將從光源21發(fā)出的光直接傳播到多個反射鏡24上。換句話 說，遮光構(gòu)件13可作為被多個反射鏡24反射的光(投影光)形成的 圖像的投影畫面，并且防止了在由多個反射鏡24反射的光(投影光) 中產(chǎn)生噪聲(例如，光散射)。
對于遮光構(gòu)件13的材料，例如，可以采用含Cr樹脂，其中在 樹脂中包含了含Cr粒子。在這種情況下，例如可以將遮光構(gòu)件13 的厚度Ml設(shè)置為50,。對于樹脂，例如可以采用聚酰亞胺硅樹脂 (polyimide silicon resin)。而且，對于含Cr粒子，例如可以采 用三價鉻粒子。當(dāng)將三價鉻粒子用作含Cr粒子時，例如可以將三價 鉻粒子的粒子直徑設(shè)置為l,。而且，當(dāng)采用聚酰亞胺硅樹脂作為樹 脂時，例如可以按10%至30%的比例將三價鉻粒子混入含0樹脂。
提供AR涂層14以覆蓋半透明構(gòu)件12的上表面12A，并且從半 透明構(gòu)件12的上表面12A延伸至形成在框架11的上表面11A上的 Ni/Au多層薄膜17的一部分。提供AR涂層14以防止這種情形半 透明構(gòu)件12的上表面12A對從光源21發(fā)出的光進行反射。
在Ni/Au多層薄膜17的一部分(在框架11的下表面11B上形 成的部分)的下表面上和在半透明構(gòu)件12的一部分(從開口 26暴露 的部分)的下表面12B上布置AR涂層15，以覆蓋遮光構(gòu)件13。 AR涂層15防止了這種情形半透明構(gòu)件12的下表面12B對被多個反射 鏡24反射的光進行反射。
布置Ni/Au多層薄膜17，以覆蓋框架11的上表面IIA、框架11 的下表面11B和框架11的側(cè)表面IIC。通過在框架11上布置Ni層， 然后在Ni層上布置Au層，形成了 Ni/Au多層薄膜17。例如，可以 將Ni層厚度設(shè)置為7pm。而且，例如可以將Au層厚度設(shè)置為5pm。 布置Ni/Au多層薄膜17，以增加框架11和AR涂層14、 15之間的粘 合力。
將反射鏡元件18經(jīng)由AR涂層15固定在框架11上。反射鏡元 件18具有多個反射鏡24。多個反射鏡24被布置用以將從光源21發(fā) 出的光經(jīng)由半透明構(gòu)件12和AR涂層14、15反射到光學(xué)器件10的外 部。在AR涂層15和反射鏡元件18之間形成間隔C,其中的AR涂層 15是布置在半透明構(gòu)件12的下表面12B中從開口 26所暴露的部分 上的。間隔C使多個反射鏡24能夠在不與AR涂層15接觸的情況下 移動。在AR涂層15和反射鏡元件18之間所布置的氣密構(gòu)件19以氣 密方式將間隔C密封起來。對于氣密構(gòu)件19的材料，例如可以采用 由樹脂固化的陶瓷粉末。對于反射鏡元件18，例如可以采用Digital Micromirror Device (Texas儀器公司在美國的注冊商標(biāo))。
圖10至圖17是示出制造根據(jù)本發(fā)明實施例的光學(xué)器件的步驟 的示意圖。在圖10至圖17中，相同標(biāo)號被附加至與根據(jù)本實施例的 光學(xué)器件10的組成部分相同的組成部分。
以下，參考圖10至圖17，將描述一種制造根據(jù)本實施例的光學(xué) 器件10的方法。首先，在圖10所示的步驟中，將半透明構(gòu)件12放 至框架11的裝配部分22。隨后，在圖ll所示的步驟中，形成Ni/Au 多層薄膜17，以覆蓋框架11的上表面IIA、框架11的下表面11B 和框架11的側(cè)表面IIC。具體的說，把框架11用作供電層，以便通 過電鍍方法形成Ni/Au多層薄膜17。
隨后，在圖12所示的步驟中，在提供于框架11的下表面11B 上的Ni/Au多層薄膜17的下表面上和在半透明構(gòu)件12的下表面12B 上布置了具有形狀與遮光構(gòu)件13對應(yīng)的開口 33的掩模32。將開口33形成為相框形狀。將掩模32與開口 33的內(nèi)側(cè)表面對應(yīng)的部分的 形狀形成為傾斜表面32A。該傾斜表面32A是用于形成遮光構(gòu)件13 的傾斜表面27的表面。將掩模32的傾斜表面32A與半透明構(gòu)件12 的下表面12B之間的夾角92設(shè)置為大致等于遮光構(gòu)件13的傾斜表面 27的傾斜角e"具體地說，例如可以將92設(shè)置為30度。
隨后，在圖13所示的步驟中，將含Cr樹脂35 (在樹脂中包含 了含Cr粒子)通過印刷方法填充進掩模32的開口 33中。對于印刷 方法，例如可以采用使用了橡皮滾軸36的橡皮滾軸印刷方法。對于 組成含Cr樹脂35的樹脂，例如可以采用聚酰亞胺硅樹脂。而且，對 于含Cr粒子，例如可以采用三價鉻粒子。當(dāng)釆用三價鉻作為含Cr 粒子時，例如可以將三價鉻的粒子直徑設(shè)置為lpm。而且，例如， 當(dāng)采用聚酰亞胺硅樹脂作為樹脂時，可以將三價鉻粒子按10%至30% 的比例混入含Cr樹脂35?？梢詫⒑珻r樹脂35的厚度M2設(shè)置為 50|im。
隨后，在圖14所示的步驟中，通過對在開口 33中所填充的含 Cr樹脂35進行固化來在開口 33中形成遮光構(gòu)件13。具體地說，例 如，當(dāng)含Cr樹脂35是熱固樹脂時，通過對圖13所示的結(jié)構(gòu)進行加 熱來固化在開口 33中所填充的含Cr樹脂35 (除了存在于橡皮滾軸 36上而不包含在開口 33中的多余含Cr樹脂35之外)。例如，可以 將遮光構(gòu)件13的厚度M1設(shè)置為50pn。而且，例如可以將遮光構(gòu)件 13的傾斜表面27相對于遮光構(gòu)件13的表面13A (遮光構(gòu)件13上與 半透明構(gòu)件12的下表面12b接觸的那個表面)的傾斜角6i設(shè)置為30 度(給定角度e)。
以此方式，在布置在框架11的下表面11B上的Ni/Au多層薄膜 17的下表面上和在半透明構(gòu)件12的下表面12B上，布置具有形狀與 遮光構(gòu)件13對應(yīng)的開口 33的掩模32，隨后，通過印刷方法，在開 口 33中填充含Cr樹脂35，隨后通過對在開口 33中所填充的含Cr 樹脂35進行固化來形成遮光構(gòu)件13。于是，能形成具有良好精度的 遮光構(gòu)件13，從而能將遮光構(gòu)件13的傾斜表面27的傾斜角9i設(shè)置 為給定角度e。而且，由于遮光構(gòu)件13是利用掩模32通過印刷方法形成的， 所以可以重復(fù)地使用掩模32。結(jié)果是，與現(xiàn)有技術(shù)中遮光構(gòu)件103 是利用抗蝕劑薄膜121通過蝕刻工藝形成的制造方法(見圖2至圖6) 相比，本技術(shù)能降低光學(xué)器件10的生產(chǎn)成本。
隨后，在圖15所示的步驟中，將圖14所示的掩模32從框架11 和半透明構(gòu)件12去除。
隨后，在圖16所示的步驟中，通過公知方法形成AR涂層14、 15。提供AR涂層14，以覆蓋半透明構(gòu)件12的上表面12A，該涂層從 半透明構(gòu)件12的上表面12A延伸至在框架11的上表面IIA上所形成 的Ni/Au多層薄膜17的部分。由于AR涂層14是以此方式形成的， 所以可以防止這種情形半透明構(gòu)件12的上表面12A將反射從光源 21發(fā)出的光。
對于AR涂層14，例如，可以采用Si02/Al20:yLaTi02/MgF2多層 薄膜，該多層薄膜是通過依次在半透明構(gòu)件12的上表面12A上提供 Si02薄膜(厚度為90nm) 、 A1A薄膜(厚度為80腿)、LaTi02薄膜 (厚度為110讓)和MgF2薄膜(厚度為80nm)而獲得的。
在形成在框架11的下表面11B上的Ni/Au多層薄膜17的下表 面的一部分上和在半透明構(gòu)件12的下表面12B的一部分(由開口 26 所暴露的部分)上布置了 AR涂層15，以覆蓋遮光構(gòu)件13。由于是以 此方式形成了AR涂層15的，所以能防止這種情形半透明構(gòu)件12 的下表面12B將反射被多個反射鏡24所反射的光。
對于AR涂層15，例如，可以采用Si02/AlA/LaTi02/MgF2多層 薄膜，該多層薄膜是通過依次在半透明構(gòu)件12的下表面12B上提供 Si02薄膜(厚度為90nm)、八1203薄膜(厚度為80nra) 、 LaTi02薄膜 (厚度為110nm)和MgF2薄膜(厚度為80nm)而獲得的。例如，可 以通過諸如濺射方法、真空沉積方法等之類的方法來形成AR涂層14、 15。
隨后，在圖17所示的步驟中，將反射鏡元件18經(jīng)由AR涂層15 和氣密構(gòu)件19固定在框架11上。從而，制造了本實施例的光學(xué)器件 10。根據(jù)制造本實施例的光學(xué)器件的方法，在布置在框架11的下表
面11B上的Ni/Au多層薄膜17的下表面上和在半透明構(gòu)件12的下表 面12B上布置了具有形狀與遮光構(gòu)件13對應(yīng)的開口 33的掩模32， 隨后，通過印刷方法在開口 33中填充含Cr樹脂35，以及隨后通過 對在開口 33中所填充的含Cr樹脂35進行固化來形成遮光構(gòu)件13。 于是，可以形成具有良好精度的遮光構(gòu)件13，從而可以將遮光構(gòu)件 13的傾斜表面27的傾斜角e,設(shè)置為給定角度e。
而且，由于遮光構(gòu)件13是利用掩模32通過印刷方法來形成的， 所以可以重復(fù)地使用掩模32。于是，與相關(guān)技術(shù)中遮光構(gòu)件103利 用抗蝕劑薄膜121通過蝕刻工藝來形成的制造方法(見圖2至圖6) 相比，本技術(shù)可以降低光學(xué)器件10的生產(chǎn)成本。
在這種情況下，在本實施例的光學(xué)器件10中，雖然作為示范性 實施例，在半透明構(gòu)件12的下表面12B側(cè)上提供了遮光構(gòu)件13，但 是也可以在半透明構(gòu)件12的上表面12A側(cè)通過使用與上述制造方法 類似的方法來形成遮光構(gòu)件13。而且，在涂敷AR涂層14、 15后， 可以通過使用與上述制造方法類似的方法來在AR涂層14、15上形成 遮光構(gòu)件13。
本發(fā)明還可以適用于內(nèi)置于投影儀、光學(xué)開關(guān)、條形碼讀出器、
復(fù)印機等中的光學(xué)器件。
雖然參考本發(fā)明的某些示范性實施例已經(jīng)示出和描述了本發(fā)
明，但是所屬領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在不脫離附屬權(quán)利要求 所定義的本發(fā)明的思想和范圍的情況下，可以在形式和細(xì)節(jié)上進行各 種改變。因此，本發(fā)明在附屬權(quán)利要求中覆蓋了所有屬于本發(fā)明的真 實思想和范圍的所有這種改變和改型。
權(quán)利要求
1. 一種制造光學(xué)器件的方法，該光學(xué)器件包括半透明構(gòu)件，其用于透射從光源發(fā)出的光；反射鏡元件，其被布置為與所述半透明構(gòu)件相對，并且所述反射鏡元件具有用于對通過所述半透明構(gòu)件透射的光進行反射的多個反射鏡；和遮光構(gòu)件，其對被所述多個反射鏡反射的光的反射區(qū)域進行限制，并且所述遮光構(gòu)件還具有第一開口，所述第一開口用于將通過所述半透明構(gòu)件透射的光直接提供至所述多個反射鏡上，所述遮光構(gòu)件的一部分對應(yīng)于被形成在傾斜表面內(nèi)的所述第一開口的側(cè)表面，所述方法包括在所述半透明構(gòu)件上形成具有第二開口的掩模，從而使得所述第二開口對應(yīng)于所述遮光構(gòu)件的形狀和形成區(qū)域；通過印刷方法，將含Cr樹脂填充進所述第二開口，所述含Cr樹脂是在該樹脂中包含了含Cr粒子；對填充在所述開口中的所述含Cr樹脂進行固化，以形成由固化的含Cr樹脂制成的所述遮光構(gòu)件；以及去除所述掩模。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的方法，其還包括形成AR涂層，以覆蓋從所述光源發(fā)出的光被入射到其上的所述 半透明構(gòu)件的表面，并且覆蓋與所述反射鏡元件相對的所述半透明構(gòu) 件的表面。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其中所述第二開口的傾斜表面 與所述半透明構(gòu)件相對于所述反射鏡元件的表面之間的夾角是銳角。
4. 一種制造光學(xué)器件的方法，所述光學(xué)器件包括半透明構(gòu)件， 以及在所述半透明構(gòu)件上形成的并且具有第一開口的遮光構(gòu)件，所述 遮光構(gòu)件的一部分對應(yīng)于被形成為傾斜表面的所述第一開口的側(cè)表面，所述方法包括在所述半透明構(gòu)件上形成具有第二開口的掩模，從而使得所述 第二開口對應(yīng)于所述遮光構(gòu)件的形狀和形成區(qū)域；通過印刷方法，將含Cr樹脂填充進所述第二開口，所述含Cr 樹脂是在該樹脂中包含了含Cr粒子；對填充在所述開口中的所述含Cr樹脂進行固化，以形成由固化 的所述含Cr樹脂制成的所述遮光構(gòu)件；去除所述掩模；以及形成AR涂層，以覆蓋從所述光源發(fā)出的光被入射到其上的所述 半透明構(gòu)件的第一表面，并且覆蓋與所述第一表面相對的所述半透明 構(gòu)件的第二表面。
5. 根據(jù)權(quán)利要求4的方法，所述方法還包括 將具有多個反射鏡的反射鏡元件布置為與所述半透明構(gòu)件相對。
6. 根據(jù)權(quán)利要求5的方法，其中所述第二開口的傾斜表面與所 述第二表面之間的夾角是銳角。
全文摘要
一種光學(xué)器件包括半透明構(gòu)件和在半透明構(gòu)件上形成的并且具有第一開口的遮光構(gòu)件。在傾斜表面內(nèi)形成了與第一開口的側(cè)表面對應(yīng)的遮光構(gòu)件的一部分。一種制造該光學(xué)器件的方法包括在半透明構(gòu)件上形成具有第二開口的掩模，使得第二開口對應(yīng)于遮光構(gòu)件的形狀和形成區(qū)域；通過印刷方法，將含Cr樹脂填充進第二開口，其中在樹脂中包含了含Cr粒子；對開口中所填充的含Cr樹脂進行固化以形成由固化的含Cr樹脂制成的遮光構(gòu)件；以及去除掩模。
文檔編號G02B26/08GK101295072SQ200810089238
公開日2008年10月29日 申請日期2008年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月26日
發(fā)明者坂口秀明, 小林秀, 根岸徹, 織田卓哉 申請人:新光電氣工業(yè)株式會社