專利名稱：繪圖裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及在由電子電路基板、液晶元件用玻璃基板、PDP用玻璃
元件基板等的表面形成感光材料層所構(gòu)成的平面基材(工件)的該表面 上，描繪圖案并進(jìn)行曝光的直接曝光方式的繪圖裝置。
背景技術(shù)：
電子電路基板(印刷電路基板)配載于例如便攜式電話、各種移動(dòng) 式電子機(jī)器、個(gè)人計(jì)算機(jī)等電子機(jī)器中，然而，隨著這些電子機(jī)器的小
型化，對(duì)于形成在基板上的電路圖案的解像度、連接用面(land)徑、通孔 (via)徑等的要求呈現(xiàn)微細(xì)地構(gòu)成的傾向。
為了應(yīng)對(duì)這些要求，當(dāng)使用傳統(tǒng)接觸方式的曝光裝置時(shí)，必須預(yù)先 準(zhǔn)備與預(yù)繪圖對(duì)象圖案等倍的掩模，而且，必須正常地管理及維持該掩 模。此外，曝光中，必須保持掩模及工件相互平行且保持各自呈平面狀， 而且，必須使照射于掩模的光束在其全域保持為平行光束。因此，利用 接觸方式進(jìn)行的曝光，較為麻煩，而且，不利于電路圖案的微細(xì)化。
所以，近年來如下所述的直接曝光方式正在普及，利用基于將電路 圖案影像化的繪圖數(shù)據(jù)而調(diào)制的激光來在工件表面上掃描，或者通過將 DMD (Digital Micro mirror Device:數(shù)字微鏡器件)等光空間調(diào)制元件基 于繪圖數(shù)據(jù)所形成的影像的像投影于工件表面上，從而在工件表面上描 繪出電路圖案。在采用直接曝光方式的情況下，因?yàn)橐岳L圖數(shù)據(jù)的形式 具有電路圖案，而無需如掩模的制造/維持管理的步驟，故可容易應(yīng)對(duì)所 要求的各種圖案。
即使采用直接曝光方式，因?yàn)橐矐?yīng)使工件表面保持為平面狀以對(duì)大 量工件進(jìn)行一致的曝光為前提來進(jìn)行設(shè)計(jì)，因此，對(duì)構(gòu)成繪圖光學(xué)系統(tǒng) 的透鏡組的像面彎曲進(jìn)行高度校正，以使電路圖案的像成像在平面狀的像面上，并且需要進(jìn)行對(duì)焦調(diào)整，以使該像面與配載于工作臺(tái)上的工件 表面相一致。若能滿足這些條件，則可在工件表面上形成高精細(xì)的電路 圖案的像，并可對(duì)大量工件實(shí)施曝光。
另外，即使采用該直接曝光方式，仍然應(yīng)通過使工件密貼于具有平 面狀表面的工作臺(tái)上，來使工件表面保持平面狀，而且，必須保持該表 面的清潔。如上所述的用以使工件密貼于工作臺(tái)上的裝置以及使工件表 面保持清潔的裝置，可以應(yīng)用傳統(tǒng)接觸方式的曝光裝置所使用的裝置。 例如，下述專利文獻(xiàn)1 4公開了接觸方式的曝光裝置所使用的這些裝置 的實(shí)例。
首先，在本專利申請(qǐng)人所申請(qǐng)的日本公開特許公報(bào)的專利文獻(xiàn)1中 記載著這樣的裝置在配載工件的工作臺(tái)表面穿設(shè)有多個(gè)抽吸口，利用 設(shè)置于工作臺(tái)背面的真空吸附裝置從這些抽吸口進(jìn)行抽吸，從而使工件 真空吸附于工作臺(tái)表面上。然而，專利文獻(xiàn)1所記載的構(gòu)造，也必須以 利用框使工件整體密貼于工作臺(tái)表面的方式將工件推壓向工作臺(tái)，以使 工件在沒有反翹和皺紋的狀態(tài)接觸工作臺(tái)，從而導(dǎo)致裝置變大及必須依 賴作業(yè)者手工作業(yè)的問題。而且，若未適當(dāng)實(shí)施該作業(yè)，就會(huì)產(chǎn)生繪圖 于從繪圖工作臺(tái)浮起的部分上的電路圖案變得模糊不清的問題，除此以 外還產(chǎn)生如下問題因?yàn)槿砍槲谠诠ぷ髋_(tái)內(nèi)部連通，大氣從未被工 件阻塞的抽吸口侵入，從而無法提高全部抽吸口內(nèi)部的真空度(氣壓無 法下降)，無法得到充分的吸附力，在繪圖過程中發(fā)生工件從繪圖工作臺(tái) 脫落或位置偏離。
其次，仍然是本專利申請(qǐng)人所申請(qǐng)的日本公開特許公報(bào)的專利文獻(xiàn)
2，雖然未積極地公開如上所述的真空吸附裝置，然而公開了通過使清潔 滾輪接觸掩模表面并進(jìn)行滾動(dòng)來除去該掩模表面附著的灰塵等的裝置。 然而，因?yàn)閷＠墨I(xiàn)2并未公開除去工件表面附著的灰塵的結(jié)構(gòu)，所以 將其應(yīng)用于工件時(shí)并無法明確了解應(yīng)以何種機(jī)構(gòu)在何時(shí)機(jī)實(shí)施除塵。
相對(duì)于此，專利文獻(xiàn)3記載了如下情況將基板從搬入部移動(dòng)至曝 光部時(shí)，通過在曝光部的前方使第一清潔頭的黏著滾輪在基板上滾動(dòng)， 來除去基板表面附著的灰塵。然而，因?yàn)閷＠墨I(xiàn)3也未針對(duì)如上所述的真空吸附裝置積極進(jìn)行公開，利用工作臺(tái)(平臺(tái))的工件(基板)進(jìn) 行的吸附與清潔滾輪(黏著滾輪)的動(dòng)作關(guān)系并不明確。因此，可產(chǎn)生 未充分吸附的工件(基板)因?yàn)榍鍧崫L輪(黏著滾輪)而從工作臺(tái)(平 臺(tái))剝離或位置偏離的問題。
同樣地，專利文獻(xiàn)4記載了如下情況將基板從基板找位工作臺(tái)移 動(dòng)至基板曝光工作臺(tái)時(shí)，在基板曝光工作臺(tái)的前方，通過使構(gòu)成除塵裝 置的滾輪接觸基板表面并滾動(dòng)，來除去基板表面附著的灰塵。然而，專 利文獻(xiàn)4也未積極公開如上所述的真空吸附裝置，所以利用工作臺(tái)(第 一支撐部)進(jìn)行的工件(基板)的吸附與清潔滾輪的動(dòng)作關(guān)系并不明確。 因此，可產(chǎn)生未充分吸附的工件(基板)因?yàn)榍鍧崫L輪而從工作臺(tái)(第 一支撐部)剝離或位置偏離的問題。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2001-209192號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)2:日本特開2003-149791號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)3:日本特開2007-25436號(hào)公報(bào) 專利文獻(xiàn)4:日本專利第2847808號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容
因此，本專利申請(qǐng)發(fā)明提供一種繪圖裝置，繪圖裝置是直接曝光方 式的繪圖裝置，在除去工件表面的灰塵的同時(shí)，使工件伸展成平面狀并 密貼于工作臺(tái)上，從而當(dāng)清潔滾輪接觸工作臺(tái)上的工件表面時(shí)，不會(huì)因 為清潔滾輪接觸工件而導(dǎo)致工件在工作臺(tái)上偏離或剝離。
為達(dá)成上述目的而提出的本發(fā)明的繪圖裝置，基于繪圖數(shù)據(jù)而調(diào)制 的光線對(duì)工件的表面描繪出與繪圖數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的圖案的直接曝光方式的繪 圖裝置，其特征在于，該繪圖裝置具備繪圖光學(xué)裝置，該繪圖光學(xué)裝 置利用基于繪圖數(shù)據(jù)而調(diào)制的光線來描繪像；繪圖工作臺(tái)，該繪圖工作 臺(tái)在其表面形成有抽吸口；繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī) 構(gòu)使所述繪圖工作臺(tái)在待機(jī)位置與利用所述繪圖光學(xué)裝置描繪像的位置 之間往復(fù)移動(dòng)；抽吸泵，該抽吸泵通過抽吸管而與所述繪圖工作臺(tái)的各 抽吸口連通，通過該抽吸管從所述抽吸口進(jìn)行抽吸；壓力傳感器，該壓力傳感器用以檢測(cè)所述抽吸管內(nèi)的真空度；清潔單元，該清潔單元在處
于待機(jī)位置的所述繪圖工作臺(tái)上的所述工件的載置位置與所述繪圖光學(xué) 裝置之間，使旋轉(zhuǎn)軸面向與所述繪圖工作臺(tái)的表面平行且與該繪圖工作 臺(tái)的移動(dòng)方向正交的方向，旋轉(zhuǎn)自如地保持著清潔滾輪，并且，使其在
接觸所述繪圖工作臺(tái)表面的位置與離開該繪圖工作臺(tái)的位置之間移動(dòng)； 以及控制部，該控制部只有在所述壓力傳感器檢測(cè)到的真空度為特定閾 值以上時(shí)，才對(duì)所述清潔單元使所述清潔滾輪朝接觸所述繪圖工作臺(tái)的 位置移動(dòng)，在該狀態(tài)下利用所述繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述繪圖工作臺(tái) 從所述待機(jī)位置移動(dòng)至利用所述繪圖光學(xué)裝置描繪像的位置。
在這樣構(gòu)成的繪圖裝置中，即使工件未能完全密貼于繪圖工作臺(tái)表 面，只要為某種程度的密貼，抽吸管內(nèi)的真空度就會(huì)提高，控制部在壓 力傳感器所檢測(cè)到的真空度超過特定閾值時(shí)，視為工件于某種程度密貼 于繪圖工作臺(tái)表面，而對(duì)清潔單元移動(dòng)清潔滾輪使其接觸繪圖工作臺(tái)， 在該狀態(tài)下，使繪圖工作臺(tái)移動(dòng)至利用繪圖光學(xué)裝置描繪像的位置。在 其移動(dòng)的途中，清潔滾輪在工件表面滾動(dòng)，將附著于該工件表面的灰塵 除去，同時(shí)將工件推壓向繪圖工作臺(tái)表面，從而使該工件伸展而密貼于 繪圖工作臺(tái)。其結(jié)果是，通過抽吸口將工件完全真空密貼。此時(shí)，如上 面所述，因?yàn)榭杀ＷC即使在清潔滾輪滾動(dòng)前的狀態(tài)，工件也以某種程度 密貼于繪圖工作臺(tái)表面，所以不會(huì)發(fā)生由于清潔滾輪滾動(dòng)而導(dǎo)致工件翻 巻或工件偏離的情形。
本專利申請(qǐng)發(fā)明的繪圖裝置可進(jìn)一步配設(shè)機(jī)械手，該機(jī)械手與所
述待機(jī)位置的所述繪圖工作臺(tái)的表面對(duì)置配置，并裝卸自如地保持所述
工件；以及離接機(jī)構(gòu)，使所述機(jī)械手與所述繪圖工作臺(tái)，在所述工件接 觸所述繪圖工作臺(tái)表面的位置及所述工件離開所述繪圖工作臺(tái)的位置之 間相對(duì)地移動(dòng)。在該情況下，離接機(jī)構(gòu)可以不移動(dòng)機(jī)械手的位置而移動(dòng) 繪圖工作臺(tái)，來使兩者相對(duì)地離開接觸，還可以通過不移動(dòng)繪圖工作臺(tái) 的位置而移動(dòng)機(jī)械手，來使兩者相對(duì)地離開接觸。無論何種情形，控制 部都應(yīng)只有在繪圖工作臺(tái)位于待機(jī)位置時(shí)，才通過控制離接機(jī)構(gòu)而使所 述機(jī)械手及所述繪圖工作臺(tái)相對(duì)地移動(dòng)至使所述工件接觸所述繪圖工作臺(tái)表面，而只有所述機(jī)械手放開所述工件時(shí)，才使所述抽吸泵動(dòng)作。
此外，為了防止工件脫落，優(yōu)選將繪圖工作臺(tái)表面保持水平，然而， 例如繪圖工作臺(tái)表面為垂直立起時(shí)，也可達(dá)成本專利申請(qǐng)發(fā)明專利的目 的。
在繪圖工作臺(tái)表面單獨(dú)配設(shè)抽吸口也可達(dá)成本申請(qǐng)發(fā)明專利的目 的，然而，本專利申請(qǐng)發(fā)明發(fā)揮最大機(jī)能在于，利用共同的抽吸泵對(duì)多 個(gè)抽吸口進(jìn)行抽吸的情況。因?yàn)樵谠撉闆r下，對(duì)應(yīng)由工件所阻塞的抽吸 口數(shù)，壓力傳感器所檢測(cè)的真空度的值逐漸變化。此外，有可能在相同 繪圖工作臺(tái)上配載各種尺寸的工件時(shí)，如果繪圖裝置構(gòu)成為，以一個(gè)抽 吸泵來抽吸在繪圖工作臺(tái)的整個(gè)上表面分散配置的多個(gè)抽吸口時(shí)，將較 小尺寸的工件配載于繪圖工作臺(tái)時(shí)會(huì)產(chǎn)生不被工件阻塞的抽吸口數(shù)過多 而使真空度無法充分上升的情形。所以，在這種情形下，優(yōu)選將多個(gè)抽 吸口分成多組，通過各組專用的抽吸泵實(shí)施抽吸。.此時(shí)，與某抽吸口的 組連通的壓力傳感器所檢測(cè)到的真空度表示為上限值，但與其他抽吸口 的組連通的壓力傳感器所檢測(cè)到的真空度表示為下限值，有可能產(chǎn)生在 各壓力傳感器相互間是否滿足條件的矛盾。此時(shí)，或設(shè)定為至少一個(gè)壓 力傳感器所檢測(cè)到的真空度為特定閾值以上時(shí)，對(duì)所述清潔單元移動(dòng)所 述清潔滾輪使其接觸所述繪圖工作臺(tái)，或設(shè)定為預(yù)設(shè)數(shù)的壓力傳感器所 檢測(cè)到的真空度全部為特定閾值以上時(shí)，對(duì)所述清潔單元移動(dòng)所述清潔 滾輪使其接觸所述繪圖工作臺(tái)的位置等即可。
依據(jù)如以上所述那樣構(gòu)成的本發(fā)明的繪圖裝置，因?yàn)樵诔スぜ?面的灰塵的同時(shí)，使工件伸展成平面狀而密貼于工作臺(tái)上，故清潔滾輪 接觸工作臺(tái)上的工件表面時(shí)，不會(huì)發(fā)生因?yàn)榍鍧崫L輪接觸工件而導(dǎo)致工 件在工作臺(tái)上偏離或剝離的情形。


圖1是本發(fā)明的實(shí)施方式的組合有繪圖裝置的曝光系統(tǒng)的俯視配置圖。
圖2是繪圖裝置的立體圖。圖3是表示從箭頭X方向觀察到沿圖2中II-II線的縱剖面時(shí)的狀態(tài) 的局部縱剖面圖。
圖4是表示從圖3的箭頭IV方向觀察到清潔單元時(shí)的狀態(tài)的側(cè)視圖。
圖5是表示繪圖裝置的控制系的方框圖。
圖6是表示控制部所執(zhí)行的控制處理內(nèi)容的流程圖。
標(biāo)號(hào)說明
2:第一繪圖裝置
4:第二繪圖裝置 6:控制部 7:繪圖發(fā)動(dòng)機(jī) 10:基臺(tái)
11:繪圖光學(xué)裝置 12:清潔單元 13:繪圖工作臺(tái) 15:機(jī)械手
15b:機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸
15c:吸附部
16:軌道
17:滾珠絲杠
18:繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)
26:基板吸附墊
37:垂下板
40:滑動(dòng)板
41:水平板
43:清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸 48:軸承板 49:清潔滾輪
具體實(shí)施例方式
以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明的實(shí)施方式進(jìn)行說明。 <系統(tǒng)結(jié)構(gòu)>
本實(shí)施方式的繪圖裝置，單體時(shí)，利用直接曝光方式在基板表面描 繪電路圖案，從而依據(jù)該電路圖案使涂布于基板的感光材料固化。因?yàn)?在該基板表面的感光材料層之下形成有金屬薄膜層，因此通過將曝光后 的基板浸漬于光阻液中，從而可依據(jù)描繪后的電路圖案在基板表面上形 成電路配線。
這種基板幾乎都在該基板的表背面分別形成電路配線，因此本實(shí)施 方式的繪圖裝置實(shí)際上，通常會(huì)組裝于對(duì)基板的兩面分別實(shí)施曝光用的 曝光系統(tǒng)中進(jìn)行使用。圖1是表示此種曝光系統(tǒng)的俯視配置的圖，圖中 的2、 4分別相當(dāng)于本實(shí)施方式的繪圖裝置(對(duì)基板表面進(jìn)行曝光用的第
一繪圖裝置2，對(duì)該基板背面進(jìn)行曝光用的第二繪圖裝置4)。
此外，圖1中的1是由作業(yè)者或未圖示的機(jī)器人將未描繪的基板(以
下，稱為工件"w")進(jìn)行載置的載物臺(tái)(基板投入部)，被載置的基板 由構(gòu)成第一繪圖裝置2的后述機(jī)械手來拾取。此外，隔著第一繪圖裝置2 而位于與基板投入部1相反側(cè)的反轉(zhuǎn)部3是這樣的裝置將從構(gòu)成第一 繪圖裝置2的后述機(jī)械手所遞來的基板反轉(zhuǎn)，并交付給第二繪圖裝置4 的后述機(jī)械手。此外，隔著第二繪圖裝置4而位于與反轉(zhuǎn)部3相反側(cè)的 排出部5是供第二繪圖裝置4的后述機(jī)械手放置繪圖完成后的工件W的 工作臺(tái)，作業(yè)者或未圖示的機(jī)器人將放置于該排出部5上的曝光完成后 的工件W取出，并將其移至下一工序。
此處，利用圖1，簡(jiǎn)單地對(duì)各繪圖裝置2、 4的概略構(gòu)造進(jìn)行說明(但， 因?yàn)閮衫L圖裝置2、 4具有完全相同的構(gòu)造，以下，以第一繪圖裝置2為 代表來進(jìn)行說明)。首先，雖然圖l中省略了圖示，然而在連接基板投入 部1及反轉(zhuǎn)部3的直線上鋪設(shè)線性滑動(dòng)件(參照?qǐng)D3)，該線性滑動(dòng)件用 于垂吊上述機(jī)械手并使其移動(dòng)。其次，在繪圖前及繪圖后，繪圖工作臺(tái) 13會(huì)待機(jī)于基板投入部1及反轉(zhuǎn)部3之間的該未圖示的線性滑動(dòng)件正下 方。該繪圖工作臺(tái)13，利用之后敘述詳細(xì)構(gòu)造的真空吸附機(jī)構(gòu)可將基板吸附于其表面，在載置著該基板的狀態(tài)下，向與上述未圖示的線性滑動(dòng) 件正交的方向移動(dòng)，從而從機(jī)械手下方的位置進(jìn)入繪圖光學(xué)裝置11之下。 該繪圖光學(xué)裝置11具備在路徑中組裝有公知的激光掃描光學(xué)系統(tǒng)和光
空間調(diào)制元件的繪圖光學(xué)系統(tǒng)；以及用于拍攝對(duì)位符號(hào)(Alignment Mark) 的相機(jī)9、 9，該對(duì)位符號(hào)描繪在由上述繪圖工作臺(tái)13搬運(yùn)至繪圖光學(xué)系 統(tǒng)下方的工件W的四角。圖1中，處于待機(jī)位置的繪圖工作臺(tái)13及繪 圖光學(xué)裝置11之間配設(shè)有清潔單元12，該清潔單元12用于在由繪圖工 作臺(tái)13將工件W移至繪圖光學(xué)裝置11下方時(shí)進(jìn)行基板表面的除塵。 <繪圖裝置的機(jī)械結(jié)構(gòu)>
以下，具體說明繪圖裝置2的各結(jié)構(gòu)。首先，圖2是從圖1中表示 其俯視配置的繪圖系統(tǒng)只提取第一繪圖裝置2并表示其外觀的立體圖。 而且，在該圖2中也省略了機(jī)械手及線性滑動(dòng)件的圖示。接著，圖3是 從箭頭X方向觀察到沿圖2中n-n線的剖面(通過繪圖工作臺(tái)13且分 別平行于繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng)方向及垂直方向的剖面)的縱剖面圖。然 而，在該圖3中，省略了繪圖光學(xué)裝置ll的圖示。此外，圖4是表示從 圖3的箭頭IV側(cè)觀察到清潔單元12的狀態(tài)的圖。然而，在該圖4中， 省略了對(duì)用以垂吊該清潔單元12的梁14 (參照?qǐng)D3)、線性滑動(dòng)件、機(jī) 械手15、繪圖工作臺(tái)13的驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)以及基臺(tái)(用以載置構(gòu)成繪圖裝置2 的各裝置的框架(參照?qǐng)D2及圖3)) IO的圖示。此外，圖2中，清潔單 元12的側(cè)面覆蓋著罩蓋，但在圖3及圖4中，為了描述清潔單元12的 內(nèi)部構(gòu)造而省略了對(duì)該罩蓋的圖示。
如各圖所示，在繪圖裝置2的基臺(tái)10上，在與上述機(jī)械手15的移 動(dòng)方向(線性滑動(dòng)件的鋪設(shè)方向)相垂直的方向，配設(shè)著互相平行的一 對(duì)軌道16。因?yàn)樵诶L圖工作臺(tái)13的下面，配設(shè)著與這些軌道卡合的車輪 乃至滑塊，該繪圖工作臺(tái)13可以沿著這些軌道16移動(dòng)。并且，基臺(tái)IO 上的這些軌道16之間，滾珠絲杠17平行于這些軌道16并被旋轉(zhuǎn)自如地 軸支撐，故該繪圖工作臺(tái)13由同樣設(shè)置于基臺(tái)IO上的繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng) 馬達(dá)1.8旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)。此外，在繪圖工作臺(tái)13的下面，固定著與滾珠絲杠 17進(jìn)行螺合的滾珠螺母(ball nut) 19。因此，當(dāng)滾珠絲杠17在繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18驅(qū)動(dòng)下進(jìn)行旋轉(zhuǎn)時(shí)，繪圖工作臺(tái)13朝與滾珠絲杠17的旋 轉(zhuǎn)方向相對(duì)應(yīng)的方向移動(dòng)，并且能夠在處于機(jī)械手15正下方的待機(jī)位置 與處于繪圖光學(xué)裝置(繪圖光學(xué)系)11正下方利用該繪圖光學(xué)裝置11進(jìn) 行繪圖的位置之間進(jìn)行移動(dòng)。這些各軌道16、滾珠絲杠17、繪圖工作臺(tái) 驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18以及滾珠螺母19相當(dāng)于繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)。
該繪圖工作臺(tái)13呈具有與軌道16平行的側(cè)面的扁平箱狀形狀，如 圖5所示，在構(gòu)成繪圖工作臺(tái)13表面的頂板27中，貫通形成有多個(gè)抽 吸口 27a。這些抽吸口 27a分別按照設(shè)定于頂板27表面的多個(gè)區(qū)段中的 每個(gè)區(qū)段被分成組。該區(qū)段例如可以為同心圓環(huán)狀的多個(gè)區(qū)段、或同心 矩形狀的多個(gè)區(qū)段。于是，如圖5所示，筒狀連通構(gòu)件28與外部氣密地 固定在頂板27a的背面，該連通構(gòu)件28形成有用以將屬于各組的抽吸口 27a彼此連通起來的槽28a。其次，各連通構(gòu)件28的槽28a通過抽吸管V 借助于分別專門配設(shè)的抽吸泵P1 P3來供給抽吸力，其內(nèi)部的空氣被抽 吸。
分別連接這些連通構(gòu)件28及抽吸泵P1 P3的抽吸管V，在其中途 分支并與單獨(dú)的壓力傳感器S1 S3相連接。這些壓力傳感器S1 S3是 用以檢測(cè)通過抽吸管V連通起來的槽28a及各抽吸口 27a的內(nèi)部空間的 真空度的傳感器。因此，當(dāng)屬于各組的抽吸口 27a全部被阻塞時(shí)，利用 壓力傳感器S1 S3所檢測(cè)到的真空度上升至抽吸泵P1 P3的額定值， 然而當(dāng)一部分抽吸口 27a未被阻塞時(shí)，所檢測(cè)到的真空度會(huì)相應(yīng)地下降， 當(dāng)全部抽吸口 27a被敞開時(shí)，所檢測(cè)到的真空度為幾乎與大氣壓無差異 的值。
此外，屬于各組的全部抽吸口 27a，可以通過一個(gè)連通構(gòu)件28而相 互連通，還可以通過多個(gè)連通構(gòu)件28連通成數(shù)個(gè)小組且通過抽吸管V而 相互連通起來。換言之，只要構(gòu)成各組的全部抽吸口 27a被一個(gè)抽吸泵P 進(jìn)行抽吸即可。
回到圖3，上述梁14通過未圖示的支柱而固定于基臺(tái)10。其次，在 該梁14的前端下面固定有線性滑動(dòng)件用框架20，該線性滑動(dòng)件用框架 20使長(zhǎng)軸朝向機(jī)械手15的移動(dòng)方向(垂直于圖3的紙面的方向)且具有朝下方敞開的箱狀形狀。在該框架20內(nèi)部沿長(zhǎng)度方向?qū)χ玫谋诿骈g，朝
向垂直于圖3的紙面的方向且互相平行地跨設(shè)有一對(duì)軌道21、 21和通過 未圖示的伺服馬達(dá)(機(jī)械手水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8，參照?qǐng)D5)進(jìn)行 旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)的滾珠絲杠23。與滾珠絲杠23螺合的扁平箱狀的滑塊24滑動(dòng) 自如地配載在這些軌道21、 21上。這些軌道21、 21、滾珠絲杠23、機(jī) 械手水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8以及滑塊24構(gòu)成線性滑動(dòng)件。其次，在 該滑塊24的下面四角處，分別固定著用于垂吊機(jī)械手的支柱25。因此， 機(jī)械手水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8使?jié)L珠絲杠23朝任意方向旋轉(zhuǎn)，從而 可使機(jī)械手15沿著線性滑動(dòng)的鋪設(shè)方向而朝任意方向移動(dòng)。
其次，機(jī)械手15由如下部分構(gòu)成使朝向垂直方向且配設(shè)于機(jī)械手 15中心的軸15a從其下面進(jìn)退的電動(dòng)氣缸、油壓氣缸或這些的代替品的 氣缸(機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸)15b;及固定于該軸15a前端的吸附 部15c。該吸附部15c具有各側(cè)面以平行于繪圖工作臺(tái)13的方式配置的 扁平箱形形狀，在其四角處配設(shè)著下方敞開的吸盤狀的基板吸附墊26。 這些基板吸附墊26由另行配設(shè)的抽吸泵P4 (參照?qǐng)D5)供給抽吸力而其 內(nèi)部的空氣被抽吸。因此，在各基板吸附墊26的開口被對(duì)象物(工件W) 的平面所阻塞的狀態(tài)下，使抽吸泵P4動(dòng)作，則各基板吸附墊26可吸附 并保持該對(duì)象物，通過氣缸15b (相當(dāng)于離接機(jī)構(gòu))的動(dòng)作，可以抬起該 對(duì)象物。并且，通過線性滑動(dòng)件的動(dòng)作，可以移動(dòng)該對(duì)象物。
此外，在機(jī)械手15的側(cè)面安裝有沿著機(jī)械手15、框架20及梁14 的形狀彎折成倒L字狀的第一位置檢測(cè)片29。在該第一位置檢測(cè)片29 的前端安裝有長(zhǎng)條狀的第二位置檢測(cè)片30，該第二位置檢測(cè)片30穿過與 線性滑動(dòng)的軌道21平行且形成于梁14的狹縫14a而插入到梁14內(nèi)部空 間。如上面所述，該第二位置檢測(cè)片30當(dāng)機(jī)械手15移動(dòng)時(shí)與其一體地 在上述狹縫內(nèi)移動(dòng)。其次，在梁14內(nèi)部的如下所述的位置上安裝有光傳 感器31，該位置是機(jī)械手15位于處在待機(jī)位置的繪圖工作臺(tái)13的正上 方(與繪圖工作臺(tái)13的表面相對(duì)的位置)的位置時(shí)可檢測(cè)第二位置檢測(cè) 片30的位置。因此，當(dāng)該光傳感器31檢測(cè)到第二位置檢測(cè)片30時(shí)機(jī)械 手15的位置，即是處在待機(jī)位置的繪圖工作臺(tái)13的正上方。此外，在其它如與基板投入部1或排出部5相對(duì)應(yīng)的位置以及與反轉(zhuǎn)部3相對(duì)應(yīng) 的位置上也另行配設(shè)著這種光傳感器。
接下來，詳細(xì)說明清潔單元12的構(gòu)造。即，該清潔單元12由如下
部分構(gòu)成裝設(shè)于梁14的下面的清潔單元位置校正用工作臺(tái)32;垂下板
37，該垂下板37分別與機(jī)械手15的移動(dòng)方向及鉛直方向平行地固定在 構(gòu)成該清潔單元位置校正用工作臺(tái)32的水平移動(dòng)板36的下面； 一對(duì)軌 道38，這一對(duì)軌道38沿鉛直方向鋪設(shè)在該垂下板37的繪圖光學(xué)裝置11 側(cè)的面上；二個(gè)為一組(計(jì)4個(gè))的滑塊39，它們分別相對(duì)于各軌道38 以只可進(jìn)行滑動(dòng)的方式卡合；滑動(dòng)板40，在其背面固定有各滑塊3 9且 滑動(dòng)自如地平行于垂下板37進(jìn)行配設(shè)；水平板41，其朝水平方向固定在 該滑動(dòng)板40的繪圖光學(xué)裝置11側(cè)的面上； 一對(duì)三角形補(bǔ)強(qiáng)肋42，它們 分別固定于該水平板41的各側(cè)緣及滑動(dòng)板40之間以保持該水平板41的 角度；清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43，其固定于水平移動(dòng)板36的下表 面，用以調(diào)整水平板41的高度；兩片作動(dòng)板44，它們固定于滑動(dòng)板40 的上緣，且分別配置為貫通在垂下板37開設(shè)的二處缺口 37a;兩個(gè)配重 45，其固定于垂下板37在機(jī)械手15側(cè)的面上各缺口 37a的下方，且分 別用以限制上述作動(dòng)板44的下降；維護(hù)用工作臺(tái)46，其配設(shè)于水平板的 下面； 一對(duì)軸承板48，它們以從構(gòu)成該維護(hù)用工作臺(tái)46的水平移動(dòng)板 47的兩側(cè)緣垂直地下垂的方式固定；清潔滾輪49及輔助滾輪50，它們 使旋轉(zhuǎn)軸朝向與繪圖工作臺(tái)13的表面平行且與該繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng) 方向垂直的方向且旋轉(zhuǎn)自如地保持在兩軸承板之間；以及清潔滾輪驅(qū)動(dòng) 馬達(dá)51，其經(jīng)由支架51a固定在一方的軸承板48的外側(cè)面上，且通過離 合器51a與清潔滾輪49的旋轉(zhuǎn)軸直接連接。
清潔單元位置校正用工作臺(tái)32由如下部分構(gòu)成朝水平方向固定在 梁14下面的基板33;上述的水平移動(dòng)板36;相互平行地固定于該水平 移動(dòng)板36上表面上的一對(duì)軌道35、 35;兩個(gè)為一組(計(jì)4個(gè))的滑塊 34，使上述各軌道35、 35以平行于機(jī)械手15的移動(dòng)方向(亦即，平行 于線性滑動(dòng)的軌道21)且在該方向上只可滑動(dòng)的方式垂吊在上述基板33 的下表面；以及公知的制動(dòng)器52，其將水平移動(dòng)板36相對(duì)于基板33的相對(duì)位置保持于任意位置。該清潔單元位置校正用工作臺(tái)32用以調(diào)整并
保持清潔滾輪49相對(duì)于繪圖工作臺(tái)13的相對(duì)位置(在清潔滾輪49軸向 上的相對(duì)位置)。
此外，相對(duì)于配設(shè)在垂下板37的一對(duì)軌道38、 38，各滑塊39進(jìn)行 滑動(dòng)時(shí)，固定于該滑塊39的滑動(dòng)板40、固定于該滑動(dòng)板40的水平板41 等構(gòu)件， 一體地上下移動(dòng)。固定于水平移動(dòng)板36下面的清潔單元上下移 動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43，與機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸15b同樣地，使朝向鉛 直方向且在其中心配設(shè)的軸43a從其下面進(jìn)退的電動(dòng)氣缸、油壓氣缸或 這些的代替品，其軸43a的前端卡合于水平板41中。因此，通過該清潔 單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43將軸43a送出，可使與滑動(dòng)板40成一體的 清潔滾輪49等構(gòu)件整體下降，相反的，通過使軸43a縮回，可使這些構(gòu) 件整體上升。
通過以上說明的清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43的動(dòng)作，固定于滑 動(dòng)板40上緣的各作動(dòng)板44，也在形成于垂下板37上的缺口 37a內(nèi)進(jìn)行 上升及下降。固定于垂下板37的各配重45是，利用與滑動(dòng)板40—體上 下移動(dòng)的各構(gòu)件整體重量相等的彈力使活塞45a突出的油壓阻尼器、氣 壓阻尼器等。因此，該配重45被固定為，使活塞朝鉛直方向朝上突出來 而利用前端使各作動(dòng)板44朝上突起，因此作用于滑動(dòng)板41及作動(dòng)板44 的重量與該彈力平衡。因此，即使清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43不作 動(dòng)，也可保持清潔滾輪49的高度，清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43只 要少許力即可使軸43a抽回，從而可使清潔滾輪49上升。此外，借助于 配重45的內(nèi)部構(gòu)造，利用外部的力使活塞45a進(jìn)退時(shí)，產(chǎn)生抵抗，故即 使清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43送出軸43a，也不會(huì)發(fā)生清潔滾輪49 一舉下降而沖突繪圖工作臺(tái)13的情形。
此外，維護(hù)用工作臺(tái)46，具有與清潔單元位置校正用工作臺(tái)32大 致相同的結(jié)構(gòu)。但是，維護(hù)用工作臺(tái)46所具備的鎖銷53，不同于清潔單 元位置校正用工作臺(tái)32所具備的制動(dòng)器52，不具有將水平移動(dòng)板47相 對(duì)于基板的相對(duì)位置保持于任意位置的機(jī)能，而只能將水平移動(dòng)板47固 定于移動(dòng)至圖4最右側(cè)的位置(使用狀態(tài))。因?yàn)?，該維護(hù)用工作臺(tái)46是用于拉出水平移動(dòng)板47以下的構(gòu)件的機(jī)構(gòu)，以便維護(hù)各滾輪49、 50。 通過上述清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43壓下水平板41，從而該 清潔滾輪49在處于待機(jī)位置的繪圖工作臺(tái)13表面的工件W的載置位置 與繪圖光學(xué)裝置11之間下降，并接觸該繪圖工作臺(tái)13的表面。因?yàn)樵?清潔滾輪49的外周面具有黏著性，在該狀態(tài)下與繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng) 同步，由清潔滾輪驅(qū)動(dòng)馬達(dá)51進(jìn)行旋轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)時(shí)，通過在固定于繪圖工作 臺(tái)13上的工件W表面滾動(dòng)，使附著于該工件W表面的灰塵附著于該清 潔滾輪49的外周面。
此外，輔助滾輪50是具有黏著性高于清潔滾輪49表面的外周面的 滾輪。因此，通過該輔助滾輪50接觸清潔滾輪49，附著于清潔滾輪49 外周面的灰塵可轉(zhuǎn)移至輔助滾輪50外周面。該輔助滾輪50例如可以具 有在滾輪體的外周面巻附著黏著面朝向外側(cè)的黏著帶的構(gòu)造。此時(shí)，在 利用上述維護(hù)用工作臺(tái)46進(jìn)行維護(hù)時(shí)，也包含從輔助滾輪50表面上剝 離一圈使用過的黏著帶的作業(yè)。 <繪圖裝置的控制系結(jié)構(gòu)>
接下來，針對(duì)用以控制具有如以上機(jī)械結(jié)構(gòu)的繪圖裝置的各部動(dòng)作 的控制系統(tǒng)結(jié)構(gòu)進(jìn)行說明。如圖5所示，上述各壓力傳感器S1 S3、各 抽吸泵P1 P4、繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18、清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸 43、機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸15b、機(jī)械手水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8 以及清潔滾輪驅(qū)動(dòng)馬達(dá)51，與控制部6相連接，該控制部由依據(jù)序列器 或程序而動(dòng)作的微型電腦或各種驅(qū)動(dòng)電路所構(gòu)成。其次，各壓力傳感器 S1 S3，將所檢測(cè)到的真空度輸入至控制部6，控制部6通過依據(jù)圖6 的流程圖進(jìn)行處理，對(duì)各抽吸泵P1 P4、繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18、清潔 單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43、機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸15b、機(jī)械手 水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8以及清潔滾輪驅(qū)動(dòng)馬達(dá)51供給驅(qū)動(dòng)電流及控 制信號(hào)，來控制它們的動(dòng)作。
此外，該控制部6進(jìn)一步與構(gòu)成繪圖光學(xué)裝置11的繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7連 接，對(duì)該繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7發(fā)出由相機(jī)9進(jìn)行的攝影準(zhǔn)備的完成及繪圖的準(zhǔn) 備完成的通知。該繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7利用相機(jī)9所拍攝的工件表面的圖像檢測(cè)對(duì)位符號(hào)的位置，依據(jù)所檢測(cè)到的對(duì)位符號(hào)位置，對(duì)另行輸入的電路 圖案的繪圖數(shù)據(jù)進(jìn)行對(duì)位調(diào)整(圖像的位置及方向的調(diào)整)，作為繪圖光 學(xué)系使用組合有激光掃描光學(xué)系統(tǒng)的器件時(shí)，依據(jù)對(duì)位調(diào)整后的繪圖數(shù)
據(jù)，實(shí)施來自未圖示的光源的繪圖光的ON/OFF調(diào)制，并且使未圖示的 構(gòu)成繪圖光學(xué)系的多角鏡旋轉(zhuǎn)。此外，使用在繪圖光學(xué)系統(tǒng)組合有DMD 等光空間調(diào)制元件的器件時(shí)，從未圖示的光源射出繪圖光，并依據(jù)對(duì)位 調(diào)整后的繪圖數(shù)據(jù)，驅(qū)動(dòng)該光空間調(diào)制元件。由此，繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7，對(duì)通 過繪圖光學(xué)系統(tǒng)下方的繪圖工作臺(tái)13上的工件W表面，描繪電路圖案。
以下，參照?qǐng)D6的流程圖，詳細(xì)說明由該控制部6進(jìn)行控制的內(nèi)容。 該圖6的流程圖所示的控制，利用未圖示的輸入裝置將在前段載物臺(tái)(第 一繪圖裝置2時(shí)為基板投入部1，第二繪圖裝置4時(shí)為反轉(zhuǎn)部3)進(jìn)行的 作業(yè)完成輸入給控制部6，從而開始。開始后，在最初的SOl，控制部6 通過控制機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸15b，使機(jī)械手5移動(dòng)至前段載物臺(tái) 上，使驅(qū)動(dòng)機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸15b及抽吸泵P4動(dòng)作，從而將放 置于前段載物臺(tái)上的工件W吸附，再次控制機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸 15b及機(jī)械手水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8，來將吸附著工件W的機(jī)械手5 移動(dòng)至繪圖工作臺(tái)13上。
在接下來的S02中，控制部6通過控制機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸 15b來使機(jī)械手15下降，而載置于繪圖工作臺(tái)13上。
在接下來的S03中，控制部6驅(qū)動(dòng)各抽吸泵P1 P3，從形成于繪圖 工作臺(tái)13的頂板27的多個(gè)抽吸口 27a分別進(jìn)行抽吸，嘗試吸附工件W。 同時(shí)，控制部6使抽吸泵P4的動(dòng)作停止，解除各基板吸附墊26利用機(jī) 械手5進(jìn)行的工件W吸附。
在接下來的S04中，控制部6通過控制機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸 15b而使吸附部15c上升。
在接下來的S05中，控制部6監(jiān)視各壓力傳感器S1 S3所輸入的真 空度的檢測(cè)值，等待全部壓力傳感器S1 S3所檢測(cè)到的真空度成為 500mmHg以上。于是，當(dāng)全部壓力傳感器S1 S3所檢測(cè)到的真空度為 500mmHg以上時(shí)，控制部6進(jìn)入S06進(jìn)行處理。此外，工件W的面積小于繪圖工作臺(tái)13上表面的面積時(shí)，有時(shí)會(huì)有屬于某組的全部抽吸口 27a 無法被工件W阻塞的情形，在該情況下，對(duì)應(yīng)該組的壓力傳感器S所檢 測(cè)到的真空度會(huì)無法上升至500mmHg以上。因此，也可放寬S05中的條 件，例如將全部壓力傳感器S中的特定個(gè)數(shù)的壓力傳感器S所檢測(cè)到的 真空度為500mmHg以上時(shí)視為滿足S05的條件。此外，開始S05的檢 查后，經(jīng)過特定時(shí)間也無法滿足S05的條件時(shí)，控制部6判斷成因?yàn)楣?件W產(chǎn)生鈹紋等理由而導(dǎo)致工件W未被正常載置，并發(fā)出警報(bào)。在該 情況下，發(fā)現(xiàn)警報(bào)的作業(yè)者，以手工作業(yè)，實(shí)施使工件W延展或從上方 推壓等矯正。
在S06中，控制部6通過控制清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43，使 清潔單元12中滑動(dòng)板40以下的構(gòu)件下降，而使清潔滾輪49接觸繪圖工 作臺(tái)13的表面上。
接著，控制部6在接下來的S07中，對(duì)繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7發(fā)出攝影準(zhǔn)備 完成的通知，在接下來的S08中，通過控制清潔滾輪驅(qū)動(dòng)馬達(dá)51使清潔 滾輪49同步旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，通過控制繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18使繪圖工作 臺(tái)13朝向掃描光學(xué)裝置11側(cè)的端點(diǎn)前進(jìn)。于是，收到S07中通知的繪 圖發(fā)動(dòng)機(jī)7，驅(qū)動(dòng)相機(jī)9，取得拍攝的動(dòng)畫，進(jìn)行對(duì)位符號(hào)位置的檢測(cè)。 其次，在繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng)途中，繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7從相機(jī)9所輸入的動(dòng) 畫中檢測(cè)到各對(duì)位符號(hào)時(shí)，算出這些位置(即，工件W的位置及傾斜度)， 實(shí)施繪圖數(shù)據(jù)的對(duì)位。此外，通過繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng)，清潔滾輪49 從清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43受到一定的推壓并在工件W整個(gè)表 面滾動(dòng)，所以可除去附著于該工件W表面的灰塵，同時(shí)，使工件W整 個(gè)背面密貼于繪圖工作臺(tái)13上表面，從而由各抽吸口 27a的真空吸附變 得完全(即，通過各檢測(cè)器S1 S3所檢測(cè)到的真空度達(dá)到各抽吸泵Pl P3的額定值以上)。
在繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng)完成后所執(zhí)行的S09中，控制部6通過控制 清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸43而使清潔單元12的滑動(dòng)板40以下的構(gòu) 件上升，并使清潔滾輪49離開繪圖工作臺(tái)13。
接著，控制部6，在接下來的S10中，對(duì)繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7發(fā)出繪圖準(zhǔn)備完成的通知，在接下來的S11中，通過控制繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)18使 繪圖工作臺(tái)13朝機(jī)械手15側(cè)的端點(diǎn)后退。于是，接收到S10中通知的 繪圖發(fā)動(dòng)機(jī)7，使未圖示的繪圖光學(xué)系統(tǒng)中的多角鏡進(jìn)行旋轉(zhuǎn)，而且，與 繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng)同步，依據(jù)已對(duì)位的繪圖數(shù)據(jù)實(shí)施激光的ON/OFF 調(diào)制(使用組合有激光掃描光學(xué)系統(tǒng)的繪圖光學(xué)系統(tǒng)時(shí))。或者，在繪圖 工作臺(tái)13移動(dòng)前，通過驅(qū)動(dòng)光空間調(diào)制元件(使用組合有光空間調(diào)制元 件的繪圖光學(xué)系時(shí))，在工件W上繪圖電路圖案后，移動(dòng)繪圖工作臺(tái)13。 由此，在工件W上描繪了電路圖案。
在繪圖工作臺(tái)13的移動(dòng)完成后所執(zhí)行的S12中，控制部6通過控制 機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸15b使吸附部15c下降，從而使各基板吸附 墊26接觸工件W表面。同時(shí)，控制部6通過驅(qū)動(dòng)抽吸泵P4將工件W吸 附于各基板吸附墊26。
在接下來的S13中，控制部6，通過使各抽吸泵P1 P3的動(dòng)作停止， 使工件W可脫離繪圖工作臺(tái)13，同時(shí)，通過控制機(jī)械手上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用 氣缸15b及機(jī)械手水平移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用伺服馬達(dá)8，使吸附著工件W的機(jī)械 手5移至下一段載物臺(tái)(第一繪圖裝置2時(shí)為反轉(zhuǎn)部3，第二繪圖裝置4 時(shí)為排出部5)。此后，將工件W載置于下一段的載物臺(tái)時(shí)，機(jī)械手W 解除工件W的吸附，回到繪圖工作臺(tái)13上的始點(diǎn)。
<實(shí)施方式的效果>
按如上所述那樣構(gòu)成及動(dòng)作的本實(shí)施方式的繪圖裝置，在繪圖工作 臺(tái)13的頂板27形成的多個(gè)抽吸口 27a，按照于繪圖工作臺(tái)13上表面所 分隔開的各區(qū)段而被分成組，各組由專用的抽吸泵P進(jìn)行抽吸。因此， 即使全部抽吸口 27a未同時(shí)被工件W所阻塞，各個(gè)組只要屬于該相同組 的全部抽吸口 27a被阻塞，利用與屬于該組的抽吸口 27a連通的泵P的 額定真空度(例如650mmHg)，就可使工件W真空吸附于繪圖工作臺(tái)13 的上表面。
此外，屬于相同組的抽吸口 27a當(dāng)中的某程度數(shù)的抽吸口 27a被阻 塞時(shí)，即使全部抽吸口 27a未都被阻塞，也能以某種程度的真空度實(shí)施 真空吸附。此情形例如為，工件W發(fā)生皺紋、或成波浪狀。所以，對(duì)本實(shí)施方式來說，在S05中，各組的抽吸口 27a所承受到的真空度皆為 500mmHg以上時(shí)(如上面所述，可以放寬該條件)，雖然并不完全，然 而，也應(yīng)視為工件W真空吸附于繪圖工作臺(tái)13，而使機(jī)械手15的吸附 部15c離開工件W (上升)，同時(shí)，使清潔滾輪49下降并使其接觸繪圖 工作臺(tái)13的表面。在該狀態(tài)下，因?yàn)槔L圖工作臺(tái)13進(jìn)行水平方向移動(dòng)， 相對(duì)地，清潔滾輪49在工件W表面上滾動(dòng)。由此，附著于工件W表面 的灰塵，可以由清潔滾輪49的外周面的黏著質(zhì)除去，同時(shí)，工件W的 鈹紋或彎曲伸展而密貼于繪圖工作臺(tái)13的表面。由此，能以各抽吸泵的 額定真空度來實(shí)現(xiàn)完全真空吸附。
此時(shí)，如上面所述，因?yàn)楦鞒槲谒惺艿降恼婵斩葹?00mmHg 以上，所以可保證工件以某種程度的強(qiáng)度吸附于繪圖工作臺(tái)13，通過清 潔滾輪49的滾動(dòng)而不會(huì)發(fā)生工件W翻巻，也不會(huì)發(fā)生繪圖工作臺(tái)13上 的位置或方向偏離。
權(quán)利要求
1.一種繪圖裝置，該繪圖裝置是利用基于繪圖數(shù)據(jù)而調(diào)制的光線對(duì)工件的表面描繪出與繪圖數(shù)據(jù)對(duì)應(yīng)的圖案的直接曝光方式的繪圖裝置，其特征在于，該繪圖裝置具備繪圖光學(xué)裝置，該繪圖光學(xué)裝置利用基于繪圖數(shù)據(jù)而調(diào)制的光線來描繪像；繪圖工作臺(tái)，該繪圖工作臺(tái)在其表面形成有抽吸口；繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述繪圖工作臺(tái)在待機(jī)位置與利用所述繪圖光學(xué)裝置描繪像的位置之間往復(fù)移動(dòng)；抽吸泵，該抽吸泵通過抽吸管而與所述繪圖工作臺(tái)的各抽吸口連通，通過該抽吸管從所述抽吸口進(jìn)行抽吸；壓力傳感器，該壓力傳感器用以檢測(cè)所述抽吸管內(nèi)的真空度；清潔單元，該清潔單元在處于待機(jī)位置的所述繪圖工作臺(tái)上的所述工件的載置位置與所述繪圖光學(xué)裝置之間，使旋轉(zhuǎn)軸面向與所述繪圖工作臺(tái)的表面平行且與該繪圖工作臺(tái)的移動(dòng)方向正交的方向，旋轉(zhuǎn)自如地保持著清潔滾輪，并且，使其在接觸所述繪圖工作臺(tái)表面的位置與離開該繪圖工作臺(tái)的位置之間移動(dòng)；以及控制部，該控制部只有在所述壓力傳感器檢測(cè)到的真空度為特定閾值以上時(shí)，才對(duì)所述清潔單元使所述清潔滾輪朝接觸所述繪圖工作臺(tái)的位置移動(dòng)，在該狀態(tài)下利用所述繪圖工作臺(tái)移動(dòng)機(jī)構(gòu)使所述繪圖工作臺(tái)從所述待機(jī)位置移動(dòng)至利用所述繪圖光學(xué)裝置描繪像的位置。
2. 如權(quán)利要求1所述的繪圖裝置，其特征在于， 該繪圖裝置還具備機(jī)械手，該機(jī)械手與所述待機(jī)位置的所述繪圖工作臺(tái)的表面對(duì)置配 置，并裝卸自如地保持所述工件；以及離接機(jī)構(gòu)，該離接機(jī)構(gòu)使所述機(jī)械手與所述繪圖工作臺(tái)，在所述工 件接觸所述繪圖工作臺(tái)表面的位置及所述工件離開所述繪圖工作臺(tái)的位置之間相對(duì)地移動(dòng)，并且所述控制部只有在所述繪圖工作臺(tái)處于所述待機(jī)位置時(shí)，才通過控 制所述離接機(jī)構(gòu)，讓所述機(jī)械手及所述繪圖工作臺(tái)相對(duì)移動(dòng)至使所述工 件接觸所述繪圖工作臺(tái)表面的位置，只有在所述機(jī)械手放開所述工件時(shí) 才使所述抽吸泵動(dòng)作。
3. 如權(quán)利要求2所述的繪圖裝置，其特征在于，所述離接機(jī)構(gòu)使所述機(jī)械手相對(duì)于處在所述待機(jī)位置的繪圖工作臺(tái) 表面接近或離開。
4. 如權(quán)利要求1所述的繪圖裝置，其特征在于，在所述繪圖工作臺(tái)表面形成有多個(gè)抽吸口，這些多個(gè)抽吸口被分成 多組，針對(duì)每一組，屬于相同組的抽吸口經(jīng)由該組專用的抽吸泵所抽吸， 所述壓力傳感器分別配設(shè)于與各抽吸泵連通的每一抽吸管。
全文摘要
本發(fā)明提供一種繪圖裝置，使清潔滾輪接觸工作臺(tái)上的工件表面時(shí)，防止因?yàn)榍鍧崫L輪接觸工件而導(dǎo)致工件在工作臺(tái)上偏離或剝離。在繪圖工作臺(tái)(13)表面形成的多個(gè)抽吸口通過抽吸管(V)分別由對(duì)應(yīng)的抽吸泵(P)進(jìn)行抽吸。利用壓力傳感器(S)檢測(cè)該抽吸管內(nèi)的真空度。繪圖工作臺(tái)驅(qū)動(dòng)馬達(dá)(18)可使繪圖工作臺(tái)往復(fù)移動(dòng)于從待機(jī)位置至超過由繪圖光學(xué)系統(tǒng)確定的繪圖位置的位置。清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸(43)使清潔滾輪(49)在機(jī)械手(5)及繪圖光學(xué)系統(tǒng)之間相對(duì)于繪圖工作臺(tái)上下移動(dòng)?？刂撇?6)只有在由壓力傳感器檢測(cè)到的真空度超過特定值時(shí)，利用清潔單元上下移動(dòng)驅(qū)動(dòng)用氣缸，使該清潔滾輪下降并接觸繪圖工作臺(tái)，并在該狀態(tài)下使繪圖工作臺(tái)移動(dòng)。
文檔編號(hào)G03F7/20GK101315523SQ200810099348
公開日2008年12月3日 申請(qǐng)日期2008年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2007年5月29日
發(fā)明者松田政昭, 森田亮, 清水修一 申請(qǐng)人:株式會(huì)社Orc制作所