專利名稱：圖案修補方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是與圖案的修補技術(shù)有關(guān)，特別是指通過激光及熱轉(zhuǎn)印的方式 來修補圖案的一種圖案修補方法。
背景技術(shù)：
按，已知的圖案修補技術(shù)，例如中國臺灣公告第1286271號"修補圖 案的缺陷與修補圖案的缺陷的方法"發(fā)明專利，其揭露出利用壓膜工藝來 將一薄膜轉(zhuǎn)印于一圖案以及該圖案所具有的缺陷上，再將位于缺陷上的薄 膜去除，并對該缺陷以一修補涂料涂布之，進(jìn)行固化后，再將薄膜移除， 即完成修補的技術(shù)。
然而，上述的技術(shù)中，在修補時，會有一些缺點有待改進(jìn)。例如在去 除缺陷上的薄膜時，不大容易剛好把薄膜去除得與缺陷的形狀完全相同。 因此在涂布修補涂料時，很有可能造成涂料無法完全覆蓋缺陷。或是例如 在移除薄膜時，是使用撕的方式來將薄膜撕下，此亦可能會損壞該圖案上
的其它正常部位。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種圖案修補方法，其可完整修復(fù)待修補 圖案上的瑕疵點。
本發(fā)明的次一目的在于提供一種圖案修補方法，其修補的過程中不會 有損壞其它正常部位的可能性。
緣是，為了達(dá)成前述目的，依據(jù)本發(fā)明所提供的一種圖案修補方法，
包含有備置一基材，該基材上具有待修補圖案，該待修補圖案具有待修
補的瑕疵點；以激光光將該瑕疵點打掉，而使該待修補圖案的被打掉的部位形成一待修補區(qū)；以熱壓方式將一修補層轉(zhuǎn)印于該待修補區(qū)上，且該修
補層覆蓋于該待修補圖案以及該待修補區(qū)；以紫外線對該修補層于該待修 補區(qū)內(nèi)進(jìn)行曝光；以及移除未被曝光的該修補層。由此，可具有完整修復(fù) 以及不會對圖案造成額外損傷的功效。


為了詳細(xì)說明本發(fā)明的構(gòu)造及特點所在，以下列舉一較佳實施例并配 合

如后，其中
圖1是本發(fā)明一較佳實施例的動作示意圖。
圖2是本發(fā)明一較佳實施例的動作示意圖，顯示激光光打掉瑕疵點的狀態(tài)。
圖3是本發(fā)明一較佳實施例的動作示意圖，顯示修補層轉(zhuǎn)印于待修補
區(qū)的狀態(tài)。
圖4是本發(fā)明一較佳實施例的動作示意圖，顯示以紫外線曝光后的狀態(tài)。
圖5是本發(fā)明一較佳實施例的動作示意圖，顯示未曝光的修補層移除 后的狀態(tài)。
具體實施例方式
本發(fā)明一較佳實施例所提供的一種圖案修補方法，主要具有下列步
驟
首先，如圖1所示，備置一基材11，該基材11上具有待修補圖案12， 該待修補圖案12具有待修補的瑕疵點14。本實施例中，該基材11可為一 光罩，或為一液晶面板，或為一彩色濾光片基板。
其次，如圖2所示，以激光光將該瑕疵點14打掉，而使該待修補圖 案12的被打掉的部位形成一待修補區(qū)16。
再來，如圖3所示，以熱壓方式將一修補層18轉(zhuǎn)印于該待修補區(qū)16 上，且該修補層18覆蓋于該待修補圖案12以及該待修補區(qū)16。
接著，如圖4所示，以紫外線對該修補層18于該待修補區(qū)16域內(nèi)進(jìn) 行曝光。最后，如圖5所示，移除未被曝光的該修補層18。在移除時是通過顯 影液來洗去該修補層18。并且再將該顯影液以純水將之清洗移除，最后再 以烘烤方式將殘留的水烘干。
上述方法，簡單來說，就是先將瑕疵點14打掉而形成一待修補區(qū)16， 之后涂上一層修補層18以紫外線曝光固定的，再把多余的修補層18去除， 即完成對該瑕疵點14的修補。
由于使用紫外線來曝光，其照射區(qū)域容易控制，因此可以有效的對待 修補區(qū)16上的修補層18進(jìn)行曝光，以固定曝光區(qū)域內(nèi)的該修補層18，而 此種方式可確保位于該待修補區(qū)16內(nèi)的該修補層18可以完整的被曝光而 固定，可達(dá)到完整的修補。而在移除該修補層18時，是以洗劑(顯影液、 純水)來進(jìn)行移除或清洗，因此不會傷害到圖案本身。
由上可知，本發(fā)明所可達(dá)成的功效在于
一、 完整的修復(fù)由本發(fā)明所提供的技術(shù)，可以完整的修復(fù)該待修補
圖案上的瑕疵點，不會有修補不全的問題。
二、 不會對正常部位造成損壞由于本發(fā)明在移除多余的修補層時， 是以洗劑(顯影液、純水)來進(jìn)行移除或清洗，因此不會對圖案上其它正常 部位造成損壞。
權(quán)利要求
1.一種圖案修補方法，其特征在于，包含有備置一基材，該基材上具有待修補圖案，該待修補圖案具有待修補的瑕疵點；以激光光將該瑕疵點打掉，而使該待修補圖案的被打掉的部位形成一待修補區(qū)；以熱壓方式將一修補層轉(zhuǎn)印于該待修補區(qū)上，且該修補層覆蓋于該待修補圖案以及該待修補區(qū)；以紫外線對該修補層于該待修補區(qū)內(nèi)進(jìn)行曝光；以及移除未被曝光的該修補層。
2. 依據(jù)權(quán)利要求1所述的圖案修補方法，其特征在于，其中移除未 被曝光的修補層時，是通過顯影液來洗去該修補層。
3. 依據(jù)權(quán)利要求2所述的圖案修補方法，其特征在于，其中再將該顯影液自該基板上移除。
4. 依據(jù)權(quán)利要求3所述的圖案修補方法，其特征在于，其中移除該基板上的顯影液時，是以純水將該顯影液清洗移除。
5. 依據(jù)權(quán)利要求4所述的圖案修補方法，其特征在于，其中再將存留于該基板上的純水以烘烤的方式移除。
全文摘要
一種圖案修補方法，包含有備置一基材，該基材上具有待修補圖案，該待修補圖案具有待修補的瑕疵點；以激光將該瑕疵點打掉，而使該待修補圖案的被打掉的部位形成一待修補區(qū)；以熱壓方式將一修補層轉(zhuǎn)印于該待修補區(qū)上，且該修補層覆蓋于該待修補圖案以及該待修補區(qū)；以紫外線對該修補層于該待修補區(qū)內(nèi)進(jìn)行曝光；以及移除未被曝光的該修補層。由此，可具有完整修復(fù)以及不會對圖案造成額外損傷的功效。
文檔編號G03F1/00GK101609252SQ20081009964
公開日2009年12月23日 申請日期2008年6月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月17日
發(fā)明者王聰諭, 蘇榮瑞, 蔡孟道 申請人:東捷科技股份有限公司