專(zhuān)利名稱(chēng)：空氣清潔系統(tǒng)的凈化室的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種安裝在空氣清潔系統(tǒng)中的凈化室，更具體地講，涉及這 樣一種空氣清潔系統(tǒng)的凈化室，其中，由垂直的層流產(chǎn)生的壓力在整個(gè)內(nèi)部 空間中均勻地分布，以使在內(nèi)角處出現(xiàn)的漩渦最小化，并且沿著裝載有工件 的傳遞單元最大限度地抑制氣流流動(dòng)，以使雜質(zhì)的傳播最小化并防止由于雜 質(zhì)的滲入而產(chǎn)生的產(chǎn)品缺陷。
背景技術(shù)：
通常，相機(jī)模塊封裝主要被構(gòu)造為膜上芯片(COF )型、板上芯片(COB ) 型和芯片尺度封裝(CSP)型。這些類(lèi)型的相機(jī)模塊封裝按照與傳統(tǒng)半導(dǎo)體 生產(chǎn)線類(lèi)似的工藝被制造。即，這種相機(jī)模塊封裝在保持高度清潔環(huán)境的空 氣清潔系統(tǒng)中高精度地制造。
圖1是示出傳統(tǒng)的相機(jī)模塊封裝的縱向截面圖。圖1的相機(jī)模塊封裝1 包括透鏡鏡筒10、外殼20和板40。透鏡鏡筒IO具有放置在其內(nèi)部空間中的 透鏡L，并且設(shè)置有帽13,該帽13在其中形成有透鏡孔13a。外殼20具有 與透鏡鏡筒10的外螺紋11螺紋結(jié)合的內(nèi)螺紋21。此外，板40具有安裝在 一端的圖像傳感器30,該圖像傳感器30的一端通過(guò)粘結(jié)材料緊固到外殼20 的底端。
紅外線(IR)濾光器被粘結(jié)在外殼20的內(nèi)側(cè)。窗口 42形成在板40的所 述一端，以將圖像傳感器30的圖像區(qū)域暴露到外部。此外，連接器45設(shè)置 在板40的另一端，以電連接到未示出的顯示裝置。
同時(shí)，在制造這種相機(jī)模塊封裝1的過(guò)程中，滲入到封裝1中的雜質(zhì)(例 如微小灰塵)會(huì)粘結(jié)到IR濾光器25或者圖像傳感器30的圖像區(qū)域。這在圖 像檢測(cè)期間引起黑點(diǎn)缺陷或者色斑缺陷，從而導(dǎo)致封裝的圖像缺陷，并產(chǎn)生大量的封裝廢品。 因此，在空氣清潔系統(tǒng)中執(zhí)行精確的制造工藝，從而使得滲入到工件按 中的雜質(zhì)的量最小化，在空氣清潔系統(tǒng)中，通過(guò)從外部引入到其內(nèi)部空間中 的空氣中去除灰塵來(lái)保持清潔。這里，制造工藝包括通過(guò)芯片倒裝焊接在 基底40的一端安裝圖像傳感器；引線鍵合固定結(jié)合的圖像傳感器30;通過(guò) 粘結(jié)材料將基底粘結(jié)到外殼20的底端并固化粘結(jié)材料；將透鏡裝配到透鏡鏡 筒10中；將IR濾光器35黏附到外殼20上；將透鏡鏡筒10螺紋裝配到外殼 20上；在完成調(diào)焦之后通過(guò)粘結(jié)材料將透鏡鏡筒10固定到外殼20上。
空氣清潔系統(tǒng)具有設(shè)置在其內(nèi)部空間中的多個(gè)凈化室90。凈化室90每 個(gè)均具有設(shè)置在其中的加工機(jī)73,以單獨(dú)地執(zhí)行各種精確的制造工藝。
如圖2A和圖2B以及圖3A至圖3C所示，凈化室卯包括工作室70, 具有設(shè)置在其內(nèi)部的加工機(jī)；風(fēng)扇過(guò)濾單元80,設(shè)置在工作室70的內(nèi)頂表 面上，以將清潔空氣提供到工作區(qū)域。因此，無(wú)灰塵的清潔空氣被強(qiáng)制地供 應(yīng)以能夠準(zhǔn)確地工作，并且形成層流以確保清潔。
工作室70包括傳遞單元72、加工機(jī)73和前門(mén)76。傳遞單元72沿著一 個(gè)方向?qū)⒀b載的工件傳遞到工作位置或者使工件停在工作位置。加工機(jī)73執(zhí)
行以下工藝，例如粘結(jié)、固化、部件裝配和工件檢測(cè)。此外，前門(mén)76設(shè)置在 凈化室的前側(cè)，以可滑動(dòng)地打開(kāi)和關(guān)閉內(nèi)部工作區(qū)域。
此外，通道74a和74b形成在工作室70的兩個(gè)側(cè)部，以使傳遞單元72 穿過(guò)所述通道。這種通道可以由安裝在裝載平臺(tái)上的導(dǎo)軌形成，工件被裝載 到該裝載平臺(tái)上。
風(fēng)扇過(guò)濾單元80包括空氣供應(yīng)風(fēng)扇82,被可旋轉(zhuǎn)地驅(qū)動(dòng)以將干凈空 氣強(qiáng)制地供應(yīng)到工作室70;過(guò)濾器81，從被強(qiáng)制供應(yīng)的空氣中過(guò)濾灰塵。
因此，工件(例如，薄膜和相機(jī)封裝)被傳遞到加工機(jī)73，以被粘結(jié)、 裝配和固化。同時(shí)，由風(fēng)扇過(guò)濾單元過(guò)濾的干凈空氣從上到下被供應(yīng)到工作 室70內(nèi)部，以確保清潔。這允許在沒(méi)有雜質(zhì)滲入的情況下執(zhí)行各種精確工藝。
但是，在以下的情況下，即在工作室70內(nèi)，經(jīng)風(fēng)扇過(guò)濾單元80被強(qiáng)制 向下供應(yīng)的空氣經(jīng)過(guò)的空氣供應(yīng)區(qū)域相對(duì)小于工作室的頂部區(qū)域，并且偏向 側(cè)面，從而妨礙了有效的供應(yīng)，在工作室70的整個(gè)頂表面之下不能直接均勻 地形成層流。因此，如圖2B以及圖3A至圖3C所示，在工作室的上角處產(chǎn) 生渦流，即旋渦現(xiàn)象。
由于這種渦流，在傳遞單元72或者加工4幾73中的雜質(zhì)(例如殘余的灰 塵)不能被排放到外部，而是向上漂浮。這種漂浮的雜質(zhì)滲入到工件中，從 而增加了缺陷比例。
此外，從風(fēng)扇過(guò)濾單元80被強(qiáng)制地直接向下供應(yīng)的層流L撞擊到傳遞 單元72上，并被引導(dǎo)到工作室70的兩側(cè)，通過(guò)延伸穿過(guò)工作室70的通道 74a和74b被排放到外部。這是因?yàn)橥ǖ?4a和74b都按照比傳遞單元的橫截 面面積相對(duì)大的尺寸形成。
這里，當(dāng)層流L沿著傳遞單元72被引導(dǎo)并通過(guò)通道74a和74b被排放到 外部時(shí)，雜質(zhì)(例如殘留在傳遞單元中的灰塵)向上漂浮，并且漂浮的雜質(zhì) 被引導(dǎo)到傳遞單元72上的工件，從而加大了缺陷比例。
而且，在操作者打開(kāi)設(shè)置在工作室70的前側(cè)上的前門(mén)76的情況下，工 作室70內(nèi)的壓力平衡被破壞，從而導(dǎo)致渦流影響的區(qū)域中的殘留的雜質(zhì)被引 導(dǎo)到傳遞單元72的工件上。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的一方面在于提供一種空氣凈化系統(tǒng)的凈化室，其中，由垂直的 層流產(chǎn)生的壓力在整個(gè)內(nèi)部空間中均勻地分布，以使在內(nèi)角處出現(xiàn)的旋渦最 小化，并且沿著裝載有工件的傳遞單元最大限度地抑制氣流流動(dòng)，以使雜質(zhì) 的傳播最小化并防止由于雜質(zhì)的滲入而產(chǎn)生的產(chǎn)品缺陷。
根據(jù)本發(fā)明的一方面，提供了一種空氣清潔系統(tǒng)的凈化室，該凈化室包 括工作室和風(fēng)扇過(guò)濾單元.該工作室包括加工^L，設(shè)置在工作區(qū)域中，在所 述工作區(qū)域中，放置有傳遞工件的傳遞單元；通道，延伸穿過(guò)工作室的兩側(cè)， 以允許傳遞單元穿過(guò)所述通道；滑動(dòng)門(mén)，可滑動(dòng)地打開(kāi)和關(guān)閉工作區(qū)域。風(fēng) 扇過(guò)濾單元安裝在工作室的頂表面上。風(fēng)扇過(guò)濾單元將清潔空氣強(qiáng)制地供應(yīng) 到工作室中，以產(chǎn)生垂直的層流，其中，風(fēng)扇過(guò)濾單元具有與工作室的頂表 面的整個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的空氣供應(yīng)區(qū)域，并且工作室包括分別設(shè)置在工作室的前 側(cè)上的前出風(fēng)口和后側(cè)上的后出風(fēng)口 ，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口朝著相對(duì)于傳遞 單元的傳遞方向的兩個(gè)方向引導(dǎo)并排放從風(fēng)扇過(guò)濾單元產(chǎn)生的垂直層流。
前出風(fēng)口和后出風(fēng)口可分別形成在與傳遞單元相同高度的位置或者低于 傳遞單元的位置。
前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的一個(gè)可由吸入器形成，所述吸入器包括當(dāng)通電
時(shí)產(chǎn)生吸入力的吸入風(fēng)扇。
前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的每個(gè)均可由吸入器形成，所述吸入器包括當(dāng)通
電時(shí)產(chǎn)生吸入力的吸入風(fēng)扇。
前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的每個(gè)均可由至少一個(gè)開(kāi)口形成，所述開(kāi)口在工
作室的前側(cè)和后側(cè)形成為預(yù)定尺寸。
前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的每個(gè)均可由具有多個(gè)孔的多孔板形成，所述多
個(gè)孔沿著與傳遞單元平行的方向布置在工作室的前側(cè)和后側(cè)。
風(fēng)扇過(guò)濾單元可包括至少一個(gè)過(guò)濾器和至少一個(gè)空氣供應(yīng)風(fēng)扇，所述過(guò)
濾器被設(shè)置為橫跨工作室的頂表面的整個(gè)區(qū)域，所述空氣供應(yīng)風(fēng)扇設(shè)置在所
述過(guò)濾器的上面，以將清潔的空氣強(qiáng)制地供應(yīng)到工作室中。
每個(gè)通道的尺寸可與裝載有工件的傳遞單元的縱向截面的面積相等。 滑動(dòng)門(mén)可安裝在工作室的設(shè)置有前出風(fēng)口的前側(cè)或者工作室的設(shè)置有后
出風(fēng)口的后側(cè)。


通過(guò)下面結(jié)合附圖進(jìn)行的詳細(xì)描述，本發(fā)明的上述和其它方面、特點(diǎn)和
其它優(yōu)點(diǎn)將會(huì)變得更加易于理解，其中
圖1是示出傳統(tǒng)的相機(jī)模塊封裝的縱向截面圖2A和圖2B示出了傳統(tǒng)的空氣清潔系統(tǒng)的凈化室，其中，圖2A是結(jié) 構(gòu)視圖，圖2B是示出氣流流動(dòng)的視圖3A至圖3C是示出傳統(tǒng)的空氣清潔系統(tǒng)的凈化室的截面圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的空氣清潔系統(tǒng)的凈化室的結(jié)構(gòu)
視圖5是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的凈化室中的層流的視圖6A至圖6C示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的凈化室，其中，圖6A
是從頂部觀看的橫向截面圖，圖6B是從前面觀看的縱向截面圖，圖6C是從
側(cè)面3見(jiàn)看的纟從向截面圖。
具體實(shí)施方式
現(xiàn)在，將參照附圖詳細(xì)描述本發(fā)明的示例性實(shí)施例。 圖4是示出根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例的空氣清潔系統(tǒng)的凈化室的結(jié)構(gòu)
視圖。圖5是示出根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的凈化室中的層流的視圖。圖6A 和圖6B示出了根據(jù)本發(fā)明示例性實(shí)施例的凈化室，其中，圖6A是從頂部觀 看的橫向截面圖，圖6B是從前面觀看的縱向截面圖，圖6C是從側(cè)面觀看的 縱向截面圖。
如圖6A至圖6C所示，本實(shí)施例的凈化室100包括工作室110和風(fēng)扇過(guò) 濾單元120。工作室110設(shè)置有執(zhí)行相應(yīng)工作的預(yù)定尺寸的工作區(qū)域。風(fēng)扇 過(guò)濾單元120供應(yīng)過(guò)濾后的空氣，以確保工作室110的內(nèi)部空間保持清潔。
工作室110包括頂表面111和底表面112、前表面113和后表面114以及 左側(cè)表面116和右側(cè)表面115，以限定其中設(shè)置有加工機(jī)117和傳遞單元118 的預(yù)定尺寸的內(nèi)部空間。這里，頂表面111和底表面112分別由基本平坦的 頂棚和底板限定，前表面113和后表面114以及左側(cè)表面116和右側(cè)表面115 垂直地形成，以將頂表面111和底表面112連接在一起。
傳遞單元118可以由在導(dǎo)軌上運(yùn)動(dòng)的滾輪(trolley)形成，以沿著一個(gè) 方向?qū)⒐ぜ鬟f到加工機(jī)117，并將由加工機(jī)117完成的工件傳遞到下一個(gè)工 藝的另一個(gè)相鄰的工作室。
而且，工作室110在前側(cè)113設(shè)置有用于自由地打開(kāi)和關(guān)閉工作區(qū)域的 滑動(dòng)門(mén)119,但本發(fā)明不限于此?；瑒?dòng)門(mén)119可設(shè)置在工作室110的后表面 114上。
此外，預(yù)定尺寸的通道115a和116a形成為延伸穿過(guò)工作室110的兩側(cè) 115和116， 乂人而用于傳遞工件的傳遞單元118可以自由地穿過(guò)通道115a和 116a。
這里，通道115a和116a每個(gè)的橫向截面的尺寸基本都與傳遞單元118 的縱向截面的尺寸相等，從而確保裝載有工件的傳遞單元不受妨礙地穿過(guò)通 道115a和116a。
也就是說(shuō)，傳遞單元118與通道115a和116a之間的間隔分別被最小化， 以最大化地防止供應(yīng)到工作室110的工作區(qū)域中的氣流通過(guò)所述間隔被排放 到外部。因此，這抑制了層流沿著傳遞單元118被引導(dǎo)到工作室110的形成 有通道115a和116a的兩側(cè)。
風(fēng)扇過(guò)濾單元120安裝在限定工作室110的頂棚的頂表面111上，以將 沒(méi)有雜質(zhì)的清潔空氣強(qiáng)制地供應(yīng)到工作室110內(nèi)，從而產(chǎn)生層流。
該風(fēng)扇過(guò)濾單元120包括與工作室110的頂表面111的整個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的
空氣供應(yīng)區(qū)域，以允許層流從工作室110的整個(gè)頂表面lll被直接向下引導(dǎo)。 這就確保在工作室110的工作區(qū)域中形成均勻的壓力分布。結(jié)果，這樣從根 本上防止了由于壓力分布不均勻而導(dǎo)致的在工作室110的內(nèi)角處出現(xiàn)渦流， 即氣流的旋渦。
這里，風(fēng)扇過(guò)濾單元120包括至少一個(gè)過(guò)濾器122和至少一個(gè)空氣供應(yīng) 風(fēng)扇124。過(guò)濾器122設(shè)置在工作室110的整個(gè)頂表面111上。空氣供應(yīng)風(fēng)扇 124設(shè)置在過(guò)濾器122之上，以強(qiáng)制地將沒(méi)有雜質(zhì)的清潔空氣供應(yīng)到工作室 110中。
同時(shí)，前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132分別設(shè)置在工作室110的前側(cè)113 和后側(cè)114,以將從風(fēng)扇過(guò)濾單元120引導(dǎo)到工作室110中的層流引導(dǎo)并排放 到傳遞單元118的兩側(cè)。
這里，前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132可形成在與傳遞單元118基本相同 高度的位置或者低于傳遞單元118的位置，從而碰撞到傳遞單元118的頂表 面的層流L可以被自然地引導(dǎo)到相對(duì)于傳遞單元118的傳遞方向的兩側(cè)。
而且，前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132的每個(gè)可以分別由延伸穿過(guò)工作室 110的前側(cè)113和后側(cè)114的預(yù)定尺寸的至少一個(gè)開(kāi)口形成。因此，沿著傳遞 單元118的兩側(cè)被分開(kāi)并被引導(dǎo)的分開(kāi)的氣流L1和L2通過(guò)內(nèi)外之間的壓差 可以被自然地排;改。
在這種情況下，前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132按照與傳遞單元118的傳 遞方向平行地打孔形成，并且形狀為方形。但是本發(fā)明不限于此。前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132每個(gè)可由具有多個(gè)通孔(未顯示)的多孔板形成，所述 多個(gè)通孔沿著與傳遞單元118平行的方向布置在工作室110的前側(cè)和后側(cè)。
此外，前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132設(shè)置有吸入風(fēng)扇133和134,分別 當(dāng)通電時(shí)產(chǎn)生吸入力，并分別將分開(kāi)的氣流L1和L2強(qiáng)制地排放到外部。因
流Ll和L2可以被強(qiáng)制地排放到工作室110的外部。吸入風(fēng)扇133和134被 設(shè)置在分別從前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132延伸的吸入器133a和134a上。
在操作設(shè)置在如上構(gòu)造的凈化室100中的風(fēng)扇過(guò)濾單元120的情況下， 外部空氣通過(guò)空氣供應(yīng)風(fēng)扇124被強(qiáng)制地吸入到工作室110中，并且當(dāng)經(jīng)過(guò) 過(guò)濾器122時(shí)被去除了雜質(zhì)，然后被強(qiáng)制地供應(yīng)到工作室110中形成層流L。
這里，風(fēng)扇過(guò)濾單元120具有與工作室110的頂表面111的整個(gè)區(qū)域?qū)?br> 應(yīng)的空氣供應(yīng)區(qū)域。因此，層流L允許在工作室100的內(nèi)部空間壓力均勻地
分布，并且形成垂直的氣流。
在這種情況下，供應(yīng)到工作室110中的層流L的均勻的壓力分布從根本 上防止了在工作室110的內(nèi)角出現(xiàn)渦流，并且防止雜質(zhì)漂浮在工作室110的 內(nèi)角附近。結(jié)果，這就防止雜質(zhì)滲入到裝載在傳遞單元118上的工件中，從 而造成缺陷。
接下來(lái)，被均勻地供應(yīng)到工作室110的整個(gè)內(nèi)部空間的層流L在工作室 110內(nèi)與傳遞工件的傳遞單元118發(fā)生碰撞，然后沿著相對(duì)于傳遞單元118 的傳遞方向的兩側(cè)單獨(dú)地形成分開(kāi)的氣流L1和L2。
如圖5所示，這些分開(kāi)的氣流L1和L2朝著穿透工作室110的前側(cè)113 和后側(cè)114形成的前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132被自然地引導(dǎo)，并且通過(guò)作 為僅有的排放出口的前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132被排放到工作室110的外 部。
而且，通過(guò)分別安裝在前出風(fēng)口 131和后出風(fēng)口 132上的吸入風(fēng)扇133 和134,分開(kāi)的氣流L1和L2可以被強(qiáng)制地排放到外部，以確保高效地排放 空氣。
也就是說(shuō)，沿著相對(duì)于傳遞單元18的傳遞方向的兩側(cè)分開(kāi)的分開(kāi)的氣流 Ll和L2僅通過(guò)前出風(fēng)口和后出風(fēng)口被排放到外部。這是因?yàn)榇┩腹ぷ魇?10 的兩側(cè)115和116形成的通道115a和116a的每個(gè)的截面尺寸與裝載有工件 的傳遞單元118的縱向截面的尺寸基本相同，傳遞單元118自由地穿過(guò)通道 115a和116a的每個(gè)。這使傳遞單元118與通道115a和116a之間的間隔最小 化，以充分阻擋大部分層流L通過(guò)該間隔^L排^:。此外，前出風(fēng)口131和后 出風(fēng)口 132形成為在工作室110的前側(cè)和后側(cè)上低于傳遞單元118,所述的工 作室110的前側(cè)和后側(cè)與沿著相對(duì)于傳遞單元18的傳遞方向的兩側(cè)分開(kāi)的分 開(kāi)的氣流L1和L2相對(duì)。
因此，殘留在傳遞單元118的頂表面上的雜質(zhì)沒(méi)有沿著傳遞單元118的 傳遞方向漂浮，而是與沿著兩側(cè)分開(kāi)的分開(kāi)的氣流L1和L2 —起通過(guò)前出風(fēng) 口和后出風(fēng)口被排放到外部。這確保漂浮的雜質(zhì)很少滲入到工件中，從而防 止在工作和傳遞過(guò)程中出現(xiàn)的缺陷。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施例，將層流供應(yīng)到工作室中的風(fēng)扇 過(guò)濾單元具有與工作室的頂表面的整個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的空氣供應(yīng)區(qū)域。此外，前
出風(fēng)口和后出風(fēng)口被設(shè)置在工作室的前側(cè)和后側(cè)，即，設(shè)置在相對(duì)于傳遞單 元的傳遞方向的兩側(cè)，以將從風(fēng)扇過(guò)濾單元供應(yīng)的層流排放到外部。這允許 在工作室的整個(gè)內(nèi)部空間中從工作室的頂表面向下供應(yīng)的層流的壓力分布均 勻。因此，確保了在工作室的內(nèi)角處渦流的出現(xiàn)最小化。此外，通過(guò)設(shè)置在 沿著相對(duì)于傳遞單元的傳遞方向的兩側(cè)的前出風(fēng)口和后出風(fēng)口 ，層流被排放 到外部。因此，當(dāng)層流沿著傳遞單元被引導(dǎo)時(shí)，可以使漂浮的雜質(zhì)最小化。 這就顯著地減少了由于引入到工件中的雜質(zhì)而導(dǎo)致的產(chǎn)品缺陷并提高了產(chǎn)品 的可靠性。
雖然已經(jīng)結(jié)合示例性實(shí)施例顯示并描述了本發(fā)明，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員 應(yīng)該理解，在不脫離由權(quán)利要求限定的本發(fā)明的范圍和精神的情況下，可以 進(jìn)行》f改和變形。
權(quán)利要求
1、一種空氣清潔系統(tǒng)的凈化室，包括工作室，包括加工機(jī)，設(shè)置在工作區(qū)域中，在所述工作區(qū)域中，放置有傳遞工件的傳遞單元；通道，延伸穿過(guò)工作室的兩側(cè)，以允許傳遞單元穿過(guò)所述通道；滑動(dòng)門(mén)，可滑動(dòng)地打開(kāi)和關(guān)閉工作區(qū)域；風(fēng)扇過(guò)濾單元，安裝在工作室的頂表面上，風(fēng)扇過(guò)濾單元將清潔空氣強(qiáng)制地供應(yīng)到工作室中，以產(chǎn)生垂直的層流，其中，風(fēng)扇過(guò)濾單元具有與工作室的頂表面的整個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的空氣供應(yīng)區(qū)域，并且，工作室包括分別設(shè)置在工作室的前側(cè)上的前出風(fēng)口和后側(cè)上的后出風(fēng)口，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口朝著相對(duì)于傳遞單元的傳遞方向的兩個(gè)方向引導(dǎo)并排放從風(fēng)扇過(guò)濾單元產(chǎn)生的垂直層流。
2、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口分別形成在 與傳遞單元相同高度的位置或者低于傳遞單元的位置。
3、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的一個(gè)由 吸入器形成，所述吸入器包括當(dāng)通電時(shí)產(chǎn)生吸入力的p太入風(fēng)扇。
4、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的每個(gè)均 由吸入器形成，所述吸入器包括當(dāng)通電時(shí)產(chǎn)生吸入力的吸入風(fēng)扇。
5、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的每個(gè)均 由至少一個(gè)開(kāi)口形成，所述開(kāi)口在工作室的前側(cè)和后側(cè)形成為預(yù)定尺寸。
6、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，前出風(fēng)口和后出風(fēng)口中的每個(gè)均 由具有多個(gè)孔的多孔板形成，所述多個(gè)孔沿著與傳遞單元平行的方向布置在 工作室的前側(cè)和后側(cè)。
7、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，風(fēng)扇過(guò)濾單元包括至少一個(gè)過(guò)濾 器和至少一個(gè)空氣供應(yīng)風(fēng)扇，所述過(guò)濾器被設(shè)置為橫跨工作室的頂表面的整 個(gè)區(qū)域，所述空氣供應(yīng)風(fēng)扇設(shè)置在所述過(guò)濾器的上面，以將清潔的空氣強(qiáng)制 地供應(yīng)到工作室中。
8、 如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，每個(gè)通道的尺寸與裝載有工件的傳遞單元的縱向截面的面積相等。
9、如權(quán)利要求1所述的凈化室，其中，滑動(dòng)門(mén)安裝在工作室的設(shè)置有前 出風(fēng)口的前側(cè)或者工作室的設(shè)置有后出風(fēng)口的后側(cè)。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種空氣清潔系統(tǒng)的凈化室，該凈化室包括工作室和風(fēng)扇過(guò)濾單元。該工作室包括加工機(jī)，設(shè)置在工作區(qū)域中，在所述工作區(qū)域中，放置有傳遞工件的傳遞單元；通道，延伸穿過(guò)工作室的兩側(cè)，以允許傳遞單元穿過(guò)所述通道；滑動(dòng)門(mén)，可滑動(dòng)地打開(kāi)和關(guān)閉工作區(qū)域。風(fēng)扇過(guò)濾單元安裝在工作室的頂表面上，風(fēng)扇過(guò)濾單元將清潔空氣強(qiáng)制地供應(yīng)到工作室中，以產(chǎn)生垂直的層流，其中，風(fēng)扇過(guò)濾單元具有與工作室的頂表面的整個(gè)區(qū)域?qū)?yīng)的空氣供應(yīng)區(qū)域，并且工作室包括分別設(shè)置在工作室的前側(cè)上的前出風(fēng)口和后側(cè)上的后出風(fēng)口。
文檔編號(hào)G03B17/02GK101338930SQ200810128109
公開(kāi)日2009年1月7日 申請(qǐng)日期2008年7月3日 優(yōu)先權(quán)日2007年7月3日
發(fā)明者尹貞?zhàn)? 崔昌煥, 張斗泳, 柳達(dá)鉉 申請(qǐng)人:三星電機(jī)株式會(huì)社