專利名稱：面輻射變換元件及其制造方法和液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及將輻射源輻射的電磁波變換成面輻射的面輻射變換元件。更具 體地說，這是適合用于諸如液晶顯示裝置，將光源輻射的光變換成面輻射的導(dǎo) 光板的發(fā)明。
背景技術(shù)：
以往，在液晶顯示裝置中，例如把導(dǎo)光板用于在其側(cè)方設(shè)置光源的同時(shí)， 在其上表面裝載液晶變換元件，將光源輻射的光引導(dǎo)到液晶顯示元件。
這里，如圖11所示，導(dǎo)光板例如在顯示面(出光面)的相對面進(jìn)行印刷或 形成條紋的加工。于是，光源輻射的光在該相對面散射，此散射光中僅有偏離 全反射角的角度的光從出光面出射。即，散射光中不能偏離全反射角的光不從 出光面出射，而在出光面反射。而且，偏離全反射角的光也并不是在出光面全 部出射。在出光面有許多光反射，返回內(nèi)部。也就是說，能從出光面出射的光 在相對面照到印刷物或條紋而散射的光中，是偏離全反射角的光中的很少的分 量。其結(jié)果是，在出射前重復(fù)這種反射，使光路變長，從而使光衰減，因此存 在不能充分利用光源的光線的問題。
鑒于上述問題，已有的導(dǎo)光板在導(dǎo)光體的表面貼具有多個(gè)凸出部的出射光 片，使該凸出部形成點(diǎn)接觸(例如日本專利公開公報(bào)2000年第249836號和日 本專利公開公報(bào)2001年第338507號)。這種導(dǎo)光板中，光源發(fā)出的光從導(dǎo)光 體通過點(diǎn)接觸部分導(dǎo)入出射光片后，從出光面出射。然而，此專利文獻(xiàn)l記載 的導(dǎo)光板中，不能偏離全反射角的光也在出射光片中重復(fù)反射，因而不能充分 利用光源的光。而且，從出光面出射光時(shí)，需要通過點(diǎn)接觸部分，由于點(diǎn)接觸 中對可通過的面積有精密的界限，許多光不能進(jìn)入點(diǎn)接觸部分，也在導(dǎo)光體中 重復(fù)反射，不能充分解決光損耗的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本申請發(fā)明的課題為提供一種能從輻射面高效輻射由輻射源輻射的電磁 波的面輻射變換元件。
本申請發(fā)明的面輻射變換元件，其特征在于，是一種將輻射源輻射的電磁 波變換成面輻射的面輻射變換元件，其元件主體形成由介電常數(shù)大于外部的材 料構(gòu)成的大致為板狀的形狀，在元件主體的內(nèi)部設(shè)置多個(gè)介電常數(shù)小于構(gòu)成元 件主體的材料的，而且輻射面的相對面大致為平面的封閉空間。借助于此，輻 射源輻射到元件主體的電磁波在元件主體內(nèi)部往輻射面一側(cè)通過封閉空間以 外的部分，從輻射面輻射出。這樣，電磁波往輻射面一側(cè)通過封閉空間以外的 部分，因而與已有的在導(dǎo)光體表面粘貼得出射光片的凸出部形成點(diǎn)接觸的導(dǎo)光
板(例如日本專利公開公報(bào)2000年第249836號等)那樣通過點(diǎn)接觸部分的情 況相比，電磁波由輻射面?zhèn)却罅客ㄟ^，并且能恰當(dāng)縮短電磁波的路由，可使輻 射源的電磁波有效輻射。此外，通過根據(jù)平面位置改變封閉空間的數(shù)量和大小， 能恰當(dāng)控制各平面位置的輻射量。即，例如通過根據(jù)對輻射源的距離減少封閉 空間部，可形成均勻的面輻射。又，由于封閉空間的與輻射面的相對的面大致 為平面，該面不容易產(chǎn)生漫反射，能恰當(dāng)控制各平面位置的輻射量。
還有，作為電磁波的一個(gè)例子，可舉出例如光；又，作為面輻射變換元件 的一個(gè)例子，可舉出導(dǎo)光板。作為上述輻射源，單一輻射源或多個(gè)輻射源均可， 而且可以是進(jìn)行點(diǎn)輻射、線輻射或面輻射。
最好采用設(shè)置多個(gè)所述輻射面的相對側(cè)的面對輻射面大致平行的封閉空間 的結(jié)構(gòu)。這樣就便于控制該相對側(cè)的面的反射，能恰當(dāng)控制各平面位置的輻射
最好采用相鄰設(shè)置所述輻射面的相對側(cè)的面大致相互平行的封閉空間的結(jié) 構(gòu)。這樣就便于控制該相對側(cè)的面的反射，能恰當(dāng)控制各平面位置的輻射量。
本申請發(fā)明的面輻射變換元件可由各種構(gòu)件構(gòu)成，然而，最好采用這樣的 結(jié)構(gòu)，即側(cè)方配置輻射源的第1構(gòu)件和配置在輻射面?zhèn)鹊牡?構(gòu)件通過粘合而 構(gòu)成；第l構(gòu)件與第2構(gòu)件之間形成所述封閉空間。這時(shí)，最好設(shè)置成第l構(gòu) 件或第2構(gòu)件的至少一個(gè)構(gòu)件形成凹陷部，并且通過接合第1構(gòu)件和第2構(gòu)件， 使所述凹陷部構(gòu)成所述封閉空間。采用此結(jié)構(gòu)，能使制造方便，可降低制造成 本。還可采用所述凹陷部不在第2構(gòu)件上形成，僅在第1構(gòu)件上形成的結(jié)構(gòu)、不在第1構(gòu)件上形成，僅在第2構(gòu)件上形成的結(jié)構(gòu)或第1構(gòu)件和的構(gòu)件上都形 成的結(jié)構(gòu)。
最好采用在所述輻射面上設(shè)置散射層等抑制全反射的層的結(jié)構(gòu)。這樣，在 全反射抑制層中使從輻射源到輻射面的電磁波散射，因而即使是不偏離全反射 角的電磁波，也從輻射面輻射，從而能謀求提高輻射源所發(fā)出的電磁波的利用率。
又，設(shè)置成所述封閉空間內(nèi)部為空氣層等氣體層或液體層這樣的設(shè)計(jì)也可 適當(dāng)改變。然而，最好在封閉空間填充介電常數(shù)小于構(gòu)成元件主體的材料的固 體層。這樣，與封閉空間為氣體層的情況相比，具有機(jī)械強(qiáng)度良好的優(yōu)點(diǎn)。采
用在粘合的第l構(gòu)件與第2構(gòu)件之間形成封閉空間的結(jié)構(gòu)時(shí)，第l構(gòu)件與的構(gòu) 件粘合的面積大，具有進(jìn)一步優(yōu)化機(jī)械強(qiáng)度的優(yōu)點(diǎn)。
本申請發(fā)明的面輻射變換元件制造方法，其特征在于，在介電常數(shù)大致相 同的第l構(gòu)件和第2構(gòu)件的至少一個(gè)構(gòu)件的接合面上預(yù)先形成多個(gè)凹陷部，在 形成該凹陷部的面上接合第1構(gòu)件和第2構(gòu)件，由所述凹陷部形成介電常數(shù)小 于第l構(gòu)件和第2構(gòu)件的封閉空間。
采用上述結(jié)構(gòu)組成的制造方法，能方便地制造可有效輻射來自輻射源的電 磁波的面輻射變換元件。利用此方法制造的面輻射變換元件中，從輻射源輻射 到第l構(gòu)件的電磁波又由第l構(gòu)件供給第2構(gòu)件，通過凹陷部構(gòu)成的封閉空間 以外的部分，從第2構(gòu)件的輻射面輻射。還可采用使所述凹陷部不形成于第2 構(gòu)件，僅形成于第l構(gòu)件的方法、不形成于第l構(gòu)件，僅形成于第2構(gòu)件的方 法、或在第l構(gòu)件和第2構(gòu)件上都形成的方法。又，作為第1構(gòu)件或第2構(gòu)件 上形成凹陷部的方法，可采用利用金屬模等模具成型時(shí)形成凹陷部的方法、在 諸如表面為平滑構(gòu)件的表面加層以形成凹陷部的方法、或通過用熱和壓力等將 具有凸出部的模的形狀復(fù)制到構(gòu)件上而形成凹陷部的方法等。采用上述方法能 使制造方便。
此外，本申請發(fā)明的制造方法可考慮各種方法，但最好采用以下的方法， 即第1構(gòu)件由丙烯酸導(dǎo)光體等的板材構(gòu)成，第2構(gòu)件由主材料為聚碳酸酯的擴(kuò) 散片等片狀構(gòu)件構(gòu)成，粘結(jié)所述第1構(gòu)件和第2構(gòu)件，將其加以接合的方法。 這樣，通過粘貼板材構(gòu)成的第l構(gòu)件和片狀構(gòu)件構(gòu)成的第2構(gòu)件，能方便地制 造具有封閉空間的面輻射變換元件。
本申請發(fā)明的制造方法，在第1構(gòu)件或第2構(gòu)件上形成凹陷部，接合形成所述凹陷部的一個(gè)構(gòu)件的另一構(gòu)件的接合面大致形成為一個(gè)平面。
利用這樣的結(jié)構(gòu)形成的制造方法制造的面輻射變換元件，所形成的多個(gè)封 閉空間，其接合側(cè)的面大致相互平行且大致為一個(gè)平面。因此，便于控制該接 合側(cè)的面的反射，可恰當(dāng)控制各平面位置的輻射量。
本申請發(fā)明的制造方法，最好是在第2構(gòu)件的接合面的相對面上，形成擴(kuò) 散層等全反射抑制層。這樣，所制造的面輻射變換元件中，在全反射抑制層中 使輻射源輻射到輻射面的電磁波產(chǎn)生散射，因而即使不偏離全反射角的電磁 波，也從輻射面輻射，從而能謀求提高輻射源發(fā)出的電磁波的利用率。
本申請發(fā)明的制造方法中，設(shè)置成所述封閉空間內(nèi)部為空氣層等氣體層或 液體層的設(shè)計(jì)又可以適當(dāng)改變，然而，最好在接合第1構(gòu)件和第2構(gòu)件前，對 凹部填充介電常數(shù)小于第l構(gòu)件和第2構(gòu)件的固體層。這樣，在所制造的面變 換元件中，在封閉空間充填固體層，具有機(jī)械強(qiáng)度良好的優(yōu)點(diǎn)，而且第l構(gòu)件 與第2構(gòu)件的粘合面積大，具有進(jìn)一步優(yōu)化機(jī)械強(qiáng)度的優(yōu)點(diǎn)。


圖1是包含說明一種本申請發(fā)明實(shí)施方式的液晶顯示裝置的梗概用的部分 剖面的側(cè)視圖。
圖2是圖1中關(guān)鍵部分的放大圖。
圖3是說明該實(shí)施方式的封閉空間(凹陷部)排列用的剖面平面圖。 圖4是說明該實(shí)施方式中可采用的封閉空間(凹陷部)的形狀用的立體圖。 圖5、圖6、圖7分別是包含說明其它本申請發(fā)明實(shí)施方式的液晶顯示裝置
的梗概用的部分剖面的頂ij視圖。
圖8是包含說明其它實(shí)施方式的液晶顯示裝置的梗概用的部分剖面的側(cè)視
圖，是正照明式的液晶顯示裝置使用本發(fā)明的例子。
圖9、圖IO和圖11分別是包含說明其它本申請發(fā)明實(shí)施方式的液晶顯示裝
置的梗概用的部分剖面的側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式
首先，說明圖1所示的本實(shí)施方式的液晶顯示裝置的概略組成。其中，此 液晶顯示裝置是"背后照明"式的，在導(dǎo)光板100的側(cè)方配置作為輻射源的光 源200，導(dǎo)光板100的上表面承載具有透射模式的液晶顯示板300。在導(dǎo)光板100的底面?zhèn)仍O(shè)置反射片等反射手段，或者在導(dǎo)光板100與液晶顯示板300之 間介入光學(xué)片，這一設(shè)計(jì)可適當(dāng)改變。 —
本實(shí)施方式中，光源200由配置在導(dǎo)光板100兩側(cè)的冷陰極管構(gòu)成，但作 為光源200，也可采用LED等點(diǎn)光源；圖中所示的例子，是其一側(cè)的光源200 并聯(lián)多個(gè)(2個(gè))，但也可由1個(gè)構(gòu)成。
本實(shí)施方式的導(dǎo)光板100用于將光源200輻射的光(電磁波)變換成面輻 射，從出光面123 (輻射面)出射，導(dǎo)光板主體101 (元件主體)形成由折射 率(介電常數(shù))大于外部空氣層的材料構(gòu)成的大致為板狀的形狀。此導(dǎo)光板主 體101的內(nèi)部設(shè)置多個(gè)封閉空間103。
所述導(dǎo)光板IOO劃分為從光源100出射光的第1區(qū)A (導(dǎo)光區(qū))、包含所 述出光面123的第2區(qū)B (出光區(qū))、以及使光從所述第1區(qū)A通過到所述第 2區(qū)B的第3區(qū)C (通過區(qū))，并且在第3區(qū)C設(shè)置所述封閉空間103。位于 所述第2區(qū)B的出光面123上設(shè)置抑制光的反射用的全反射抑制層125。
具體地說，粘合兩側(cè)配置光源200的第1構(gòu)件110和具有出光面123的第2 構(gòu)件120，從而構(gòu)成導(dǎo)光板主體101。然后，第2構(gòu)件120在一個(gè)面上形成多 個(gè)凹陷部121。通過在形成此凹陷部121的面將第2構(gòu)件120緊貼到1構(gòu)件110 上，使其接合，由凹陷部121構(gòu)成封閉空間103。即由第1構(gòu)件IIO構(gòu)成所述 第1區(qū)A，由形成第2構(gòu)件120的凹陷部121的層構(gòu)成第3區(qū)C，由第2構(gòu)件 120的比第2區(qū)B更靠近出光面123的一側(cè)構(gòu)成第2區(qū)B。
所述第1構(gòu)件110由板狀構(gòu)件構(gòu)成，例如由丙烯酸導(dǎo)光體構(gòu)成。第2構(gòu)件 120由片狀構(gòu)件構(gòu)成，例如由聚碳酸酯基材的擴(kuò)散片構(gòu)成。此第1構(gòu)件110和 第2構(gòu)件120由具有大致相同的折射率的材料構(gòu)成，因而全部第1至第3區(qū)A、 B、 C中，導(dǎo)光板主體101具有大致相同的折射率。
第1構(gòu)件IIO在一個(gè)面上形成與第2構(gòu)件120的接合面，因而由第2構(gòu)件 120的凹陷部121形成的多個(gè)封閉空間103，其底面(與出光面123相對的面) 相互平行且設(shè)置在一個(gè)面上。將所述第2構(gòu)件120的厚度設(shè)置得大致均勻，因 而使封閉空間103設(shè)置得其底面與所述出光面123大致平行。
將多個(gè)封閉空間103 (凹陷部121)的上表面(出光面123—側(cè)的面)設(shè)置 成相互平行且在一個(gè)面上，同時(shí)還設(shè)置得大致平行于所述出光面123和封閉空 間103的底面。
此封閉空間103設(shè)置得上表面比下表面窄，具體地說，使封閉空間103形成底面比上表面寬度窄的大致梯形剖面的形狀。所圖示的例子中，封閉空間103
的剖面形成其斜邊往相互不同的方向以大致相同的角度傾斜的梯形。本實(shí)施方
式的封閉空間103的形狀設(shè)置成俯視為圓形(上表面和下表面為圓形)(參考 圖3)。本申請發(fā)明中，封閉空間103 (凹陷部121)可采用各種形狀。即使本 實(shí)施方式這樣使封閉空間103 (凹陷部121)形成梯形剖面的形狀的情況下， 也可采用各種形狀。即可采用俯視為具有直線部分和圓弧部分的形狀、俯視為 橢圓的形狀、俯視為具有曲線的形狀、俯視為方形的形狀，分別如圖4 (A)、 (B) 、 (C) 、 (D)所示。
還將此封閉空間103設(shè)置成其折射率小于構(gòu)成導(dǎo)光板主體101的材料的折 射率。具體地說，可使結(jié)構(gòu)上形成讓空氣介入所述凹陷部121的狀態(tài)下粘合第 1構(gòu)件IIO和第2構(gòu)件120，從而封閉空間103可形成空氣層，或者形成讓折 射率小于構(gòu)成導(dǎo)光板主體101的材料的固體層介入所述凹陷部121，從而在封 閉空間103填充固體層。
所述凹陷部121的形成方法，可采用在利用例如具有多個(gè)凸出部的金屬模 進(jìn)行成型時(shí)在第2構(gòu)件上形成的方法、在平滑薄片上添加形成凹陷部用的層的 方法、通過對薄片加熱和加壓在薄片上復(fù)制具有多個(gè)凸出部的模具的形狀的方 法等。
如圖3所示(俯視)那樣配置該多個(gè)凹陷部121 (封閉空間103)，使中央 部附近比配置光源200的側(cè)方凹陷部121的數(shù)量較少(稀疏)。
所述第2構(gòu)件120在所述接合面以外的面(即出光面123)形成所述全反射 抑制層125。這里，全反射抑制層125可由進(jìn)行過光擴(kuò)散處理的擴(kuò)散層(參考 圖2(A))、將第2構(gòu)件120的表面做成粗糙面的粗糙化處理層(參考圖2(B)) 構(gòu)成，還可由旨在達(dá)到第2構(gòu)件120表面的全反射抑制目的和出射角度特性控 制目的等的棱鏡處理層構(gòu)成。形成擴(kuò)散層的情況下，可適當(dāng)選擇在第2構(gòu)件120 成型時(shí)在出光射面?zhèn)然烊霐U(kuò)散劑的方法或在第2構(gòu)件120的表面粘附擴(kuò)散劑的 方法。
出于輔助或添加光學(xué)特性的目的，在導(dǎo)光板100的底面(出光面123的相 對面)，即第1構(gòu)件IIO的底面進(jìn)行印刷、條紋處理、棱鏡處理等，這些事項(xiàng) 可適當(dāng)改變設(shè)計(jì)。
下面概述上述導(dǎo)光板的制造方法。
首先，準(zhǔn)備例如丙烯酸導(dǎo)光體構(gòu)成的板狀的第1構(gòu)件IIO和例如聚碳酸酯基底的擴(kuò)散片構(gòu)成的片狀的第2構(gòu)件。這里，使第2構(gòu)件120的接合面上預(yù)先 形成多個(gè)凹陷部121。該凹陷部121形成為開口側(cè)(接合面?zhèn)?展寬的形狀。 第1構(gòu)件110的接合面大致形成為一個(gè)平面。
在上述準(zhǔn)備好的第1構(gòu)件110的接合面上粘接第2構(gòu)件120的形成凹陷部 121的面。這里，進(jìn)行粘接時(shí)，可將例如紫外線硬化性樹脂用作粘結(jié)劑，采用 對其照射紫外線使兩者接合的方法。
也可在進(jìn)行該粘合前，預(yù)先在所述第2構(gòu)件120的凹陷部121設(shè)置折射率 大于第1構(gòu)件110和第2構(gòu)件120的固體層。
具有上述結(jié)構(gòu)組成的導(dǎo)光板100的液晶顯示裝置中，光源200發(fā)出的光通 過導(dǎo)光板IOO從導(dǎo)光板IOO的出光面123向液晶顯示板300輻照。
該光通過導(dǎo)光板100時(shí)，光源200發(fā)出的光從導(dǎo)光板100的第1區(qū)A (第1 構(gòu)件110)通過第3區(qū)C (第2構(gòu)件120的下層)，從第2區(qū)B的出光面123 出射。這樣，導(dǎo)光板100內(nèi)的光在第3區(qū)C通過封閉空間103以外的部分，通 往第2區(qū)B，因而與已有技術(shù)那樣通過點(diǎn)接觸部分的情況相比，光恰當(dāng)?shù)赝ㄟ^ 到出光面123—側(cè)，可縮短光路，能高效輻射從光源200發(fā)出的光。此外，與 進(jìn)行點(diǎn)接觸的已有裝置相比，第1構(gòu)件110和第2構(gòu)件120的接合面積大，因 而具有兩者的接合力強(qiáng)、機(jī)械強(qiáng)度高的優(yōu)點(diǎn)。而且，通過在凹陷部121設(shè)置固 體層，具有進(jìn)一步提高機(jī)械強(qiáng)度的優(yōu)點(diǎn)。
又在第2區(qū)B (第2構(gòu)件120)的出光面123上設(shè)置全反射抑制層125，因 而在全反射抑制層125，到達(dá)出光面123的光受到散射，即使不偏離全反射角 的光也從出光面123出射，能謀求提高光源200所發(fā)光的利用率。
而且，將多個(gè)凹陷部121 (封閉區(qū)103)配置成中央部分比光源200附近側(cè) 數(shù)量較少，使中央附近的光比附近側(cè)的光容易通過到第2區(qū)B，因而可從出光 面123均勻地面輻射。
通過第1區(qū)A的光中的一部分在封閉空間103的底部向下方反射，但該封 閉空間103的底部設(shè)置成平面，因而不發(fā)生漫反射，容易對光進(jìn)行控制。又由 于多個(gè)封閉空間103的底部相互平行且大致形成為一個(gè)平面，具有更容易進(jìn)行 該控制的優(yōu)點(diǎn)。
還有， 一部分光在第2區(qū)B的出光面123被反射，并且在封閉空間103的 上表面反射該反射光，但此封閉空間103的上表面設(shè)置成平面，因而不發(fā)生漫 反射，容易對光進(jìn)行控制。又由于多個(gè)封閉空間103的上表面相互平行且大致形成為一個(gè)平面，具有更容易進(jìn)行該控制的優(yōu)點(diǎn)。
本實(shí)施方式采用上述結(jié)構(gòu)，因而具有上述優(yōu)點(diǎn)，但本申請發(fā)明不限于上述 實(shí)施方式，而可在本申請發(fā)明原意的范圍內(nèi)適當(dāng)改變設(shè)計(jì)。
也就是說，上述實(shí)施方式中，作為電磁波的一個(gè)例子，舉出光進(jìn)行了說明， 但除光外，還可用于對X射線等的面輻射。
對全部電磁波實(shí)施的本申請發(fā)明，構(gòu)成面輻射變換元件的構(gòu)件的相不限于 晶體或非晶等，狀態(tài)不限于固體狀態(tài)或液體狀態(tài)，可適當(dāng)改變設(shè)計(jì)。
再者，在上述實(shí)施方式那樣用于液晶顯示裝置的情況下，例如，如圖5所
示，也可用于所謂"前方照明"式的液晶顯示裝置。該圖5所示的液晶顯示裝 置在導(dǎo)光板100的兩側(cè)配置光源200，導(dǎo)光板100的下表面承載具有反射模式 的液晶顯示板300。也就是說，將導(dǎo)光板的出光面123設(shè)置在底面?zhèn)?，因而圖 中所示的裝置，上述實(shí)施方式說明的上表面?zhèn)瘸闪说酌鎮(zhèn)?，底面?zhèn)瘸闪松媳砻?側(cè)。對圖5所示的導(dǎo)光板IOO的上表面(出光部123的相對面)也可進(jìn)行條紋 加工、粗糙化處理、棱鏡處理等。
上述實(shí)施方式中，說明了在導(dǎo)光板100的兩側(cè)配置光源200的情況，但是， 例如，如圖6和圖7所示，僅在導(dǎo)光板100的一側(cè)配置光源200的情況也在本 申請發(fā)明原意的范圍內(nèi)。圖6所示的是"背后照明"式的液晶顯示裝置，圖7 所示的是"前方照明"式液晶顯示裝置。該圖6和圖7所示的導(dǎo)光板100形成 從配置光源200的一側(cè)到其相對側(cè)厚度變小的"楔形"。具體地說，將與出光 面123相對的面(圖6的底面，圖7的上表面)設(shè)置成傾斜。還將圖6和圖7 所示的導(dǎo)光板IOO的封閉空間103設(shè)置成出光面123—側(cè)的面(圖6的上表面， 圖7的底面)和與出光面123相對的面(圖6的底面，圖7的上表面)平行于 出光面123。把多個(gè)封閉空間103配置成從配置光源200的一側(cè)到其相對側(cè)該 空間的數(shù)量變少。
上述實(shí)施方式那樣用于液晶顯示裝置時(shí)，例如。如圖8所示，也可用于所 謂"正照明"式的液晶顯示裝置。這時(shí)，可利用多個(gè)封閉空間103改變指向性， 使光源的光效率高，從而作為顯示裝置，可方便地控制恰當(dāng)?shù)闹赶蛐?。而且?這時(shí)還可通過對多個(gè)封閉空間103調(diào)整其俯視(圖3那樣視圖時(shí))面內(nèi)的分布 并進(jìn)行配置，創(chuàng)建恰當(dāng)?shù)墓饬糠植肌?br> 上述實(shí)施方式中，說明了由第2構(gòu)件200上形成的凹陷部121形成封閉空 間103，但本申請發(fā)明不限于此。例如，像上述實(shí)施方式那樣在第1構(gòu)件110上形成用于形成封閉空間的凹陷部，或者可在第1構(gòu)件和第2構(gòu)件之間介入具
有通孔的第3構(gòu)件，并由通孔形成封閉空間，這些也都在本申請發(fā)明原意的范 圍內(nèi)。再者，如圖9或圖10所示，第1構(gòu)件IIO和第2構(gòu)件120雙方都形成 用于形成封閉空間103的凹陷部121的構(gòu)思也在本申請發(fā)明原意的范圍內(nèi)。這 樣在第1構(gòu)件110和第2構(gòu)件120雙方都形成凹陷部121時(shí)，如圖9所示，可 設(shè)置成將第1構(gòu)件110的多個(gè)凹陷部121設(shè)置在與第2構(gòu)件120的多個(gè)凹陷部 121對應(yīng)的位置，由第1構(gòu)件110的一個(gè)凹陷部121和第2構(gòu)件120的一個(gè)凹 陷部121形成一個(gè)封閉空間103。在第1構(gòu)件110和第2構(gòu)件120雙方都形成 凹陷部121時(shí)，還可如圖10所示，改為設(shè)計(jì)成不將第1構(gòu)件110的多個(gè)凹陷 部121設(shè)置在與第2構(gòu)件120的多個(gè)凹陷部121對應(yīng)的位置，而使第1構(gòu)件110 的多個(gè)凹陷部121中存在利用與第2構(gòu)件120的表面形成封閉空間103的凹陷 部121,或使第2構(gòu)件120的多個(gè)凹陷部121中存在利用與第1構(gòu)件110的表 面形成封閉空間103的凹陷部121。
權(quán)利要求
1. 一種將輻射源輻射的電磁波變換成面輻射的面輻射變換元件，其特征在于，元件主體形成由介電常數(shù)大于外部的材料構(gòu)成的大致為板狀的形狀，在元件主體的內(nèi)部設(shè)置多個(gè)介電常數(shù)小于構(gòu)成元件主體的材料的，而且與輻射面相對的面大致為平面的封閉空間，粘合構(gòu)成側(cè)方配置輻射源的第1構(gòu)件和配置在輻射面?zhèn)鹊牡?構(gòu)件，設(shè)置所述第1構(gòu)件和第2構(gòu)件這兩個(gè)構(gòu)件的接合面以分別形成凹陷部，并且通過接合第1構(gòu)件和第2構(gòu)件，使所述凹陷部構(gòu)成所述封閉空間。
2. 如權(quán)利要求l所述的面輻射變換元件，其特征在于，由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置在與由所述第2構(gòu)件形成 的凹陷部的一部分對應(yīng)的位置上。
3. 如權(quán)利要求l所述的面輻射變換元件，其特征在于，由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置為與由所述第2構(gòu)件形成 的凹陷部的一部分部分重疊。
4. 如權(quán)利要求l所述的面輻射變換元件，其特征在于，由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置為偏離于與由所述第2構(gòu) 件形成的凹陷部的一部分對應(yīng)的位置。
5. —種液晶顯示裝置，具有面輻射變換元件，其特征在于， 面輻射變換元件的元件主體形成由介電常數(shù)大于外部的材料構(gòu)成的大致板狀的形狀，在元件主體的內(nèi)部設(shè)置多個(gè)介電常數(shù)小于構(gòu)成元件主體的材料的，而且與輻射面相對的面大致為平面的封閉空間，粘合構(gòu)成側(cè)方配置輻射源的第1構(gòu)件和配置在輻射面?zhèn)鹊牡?構(gòu)件， 設(shè)置所述第1構(gòu)件和第2構(gòu)件這兩個(gè)構(gòu)件的接合面以分別形成凹陷部，并且通過接合第l構(gòu)件和第2構(gòu)件，使所述凹陷部構(gòu)成所述封閉空間。
6. 如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置，其特征在于，由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置在與由所述第2構(gòu)件形成 的凹陷部的一部分對應(yīng)的位置上。
7. 如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置，其特征在于，由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置為與由所述第2構(gòu)件形成的凹陷部的一部分部分重疊。
8. 如權(quán)利要求5所述的液晶顯示裝置，其特征在于，由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置為偏離于與由所述第2構(gòu) 件形成的凹陷部的一部分對應(yīng)的位置。
9. 一種制造將輻射源輻射的電磁波變換成面輻射的面輻射變換元件的制造 方法，其特征在于，在介電常數(shù)大致相同的第1構(gòu)件和第2構(gòu)件這兩個(gè)構(gòu)件的 接合面上分別預(yù)先形成多個(gè)凹陷部，在形成該凹陷部的面上接合第1構(gòu)件和第 2構(gòu)件，由所述凹陷部形成介電常數(shù)小于第1構(gòu)件和第2構(gòu)件的封閉空間。
10. 如權(quán)利要求9所述的面輻射變換元件的制造方法，其特征在于， 由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置在與由所述第2構(gòu)件形成的凹陷部的一部分對應(yīng)的位置上。
11. 如權(quán)利要求9所述的面輻射變換元件的制造方法，其特征在于， 由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置為與由所述第2構(gòu)件形成的凹陷部的一部分部分重疊。
12. 如權(quán)利要求9所述的面輻射變換元件的制造方法，其特征在于， 由所述第1構(gòu)件形成的凹陷部的一部分，被設(shè)置為偏離于與由所述第2構(gòu)件形成的凹陷部的一部分對應(yīng)的位置。
全文摘要
本發(fā)明將諸如導(dǎo)光板等面輻射變換元件中，從輻射面高效輻射由輻射源輻射的電磁波作為課題。本發(fā)明是將輻射源輻射的電磁波變換成面輻射的面輻射變換元件，其元件主體(101)形成由介電常數(shù)大于外部的材料構(gòu)成的大致板狀的形狀，在元件主體(101)的內(nèi)部設(shè)置多個(gè)介電常數(shù)小于構(gòu)成元件主體(101)的材料而且與輻射面(123)相對的面為大致平面的封閉空間(103)。可由構(gòu)成元件主體(101)的第1構(gòu)件(110)或第2構(gòu)件(120)上設(shè)置的凹陷部(121)形成所述封閉空間(103)。
文檔編號G02F1/13357GK101441292SQ200810145450
公開日2009年5月27日 申請日期2004年2月27日 優(yōu)先權(quán)日2003年2月28日
發(fā)明者鷹田良樹 申請人:夏普株式會社