專利名稱：光圈片、光圈片的制造方法及使用該光圈片的鏡頭模組的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光圈片及其制造方法，尤其涉及一種采用微機電制程制造的光圈片及制 造方法。本發(fā)明還涉及一種使用該光圈片的鏡頭模組。
背景技術(shù)：
目前，小型化鏡頭模組采用的光圈片為固定光圈片，光圈片采用的材料有金屬、薄膜或 塑料等?，F(xiàn)在有通過聚對苯二甲酸乙二醇酯屬線型飽和聚酯(PET)生產(chǎn)的光圈片，但其厚 度相對于目前的小型化鏡頭模組而言還是較厚，而且光圈片形狀分辨率不高，大批量生產(chǎn)時 均一性較差。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，提供一種薄型的適用于小型化鏡頭模組的光圈片以及制造該光圈片的方法十 分必要。
一種光圈片，該光圈片具有中心透光區(qū)和圍繞該中心透光區(qū)的遮光區(qū)，該遮光區(qū)的材料 為黑化的聚二甲基硅氧烷。
一種光圈片的制造方法，該制造方法包括以下步驟 一種光圈片的制造方法，該制造方 法包括以下步驟提供一個基底，該基底具有一個表面；垂直于該基底表面形成若干個圓柱 體；于該若干個圓柱體之間均勻填滿黑化的聚二甲基硅氧烷材料；固化該聚二甲基硅氧烷材 料；翻模，使該聚二甲基硅氧烷材料與該基底、該若干個圓柱體分離；切割該聚二甲基硅氧 烷材料層，得到若干個光圈片。
進一步地，本發(fā)明利用旋轉(zhuǎn)涂布法將該聚二甲基硅氧烷材料均勻填滿至該若干個圓柱體之間。
一種鏡頭模組，其包括光圈片，該光圈片具有中心透光區(qū)和圍繞該中心透光區(qū)的遮光區(qū) ，該遮光區(qū)的材料為黑化的聚二甲基硅氧烷。
相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明采用黑化的聚二甲基硅氧烷材料制造光圈片，原材料成本低， 在制造過程中，旋轉(zhuǎn)涂布法可以有效地控制聚二甲基硅氧烷材料的厚度，從而降低光圈片厚 度；由于光圈片厚度降低，本發(fā)明提供的鏡頭模組的體積也隨之小型化。
圖l是本發(fā)明第一實施例提供的光圈片示意圖。圖2是本發(fā)明第二.實施例提供的光圈片的制造方法流程示意圖。
圖3是本發(fā)明第二.實施例提供的涂布了負光阻的基底示意圖。
圖4是本發(fā)明第二.實施例提供的曝光示意圖。
圖5是本發(fā)明第二.實施例提供的顯影示意圖。
圖6是本發(fā)明第二.實施例提供的在基底上涂布聚二甲基硅氧烷材料后的示意圖。
圖7是本發(fā)明第二.實施例提供的翻模后的聚二甲基硅氧烷材料層。
圖8是本發(fā)明第二.實施例提供的切割效果示意圖。
圖9是本發(fā)明第三:實施例提供的鏡頭模組示意圖。
具體實施例方式
下面將結(jié)合附圖，對本發(fā)明作進一步詳細說明。
請參閱圖l，本發(fā)明第一實施例提供的光圈片10包括中心透光區(qū)101和圍繞中心透光區(qū) 101的遮光區(qū)102。遮光區(qū)102的材料為聚二甲基硅氧烷， 一般稱PDMS。遮光區(qū)102的邊緣形狀 不限于圖中所示的正方形，還可以是圓形、三角形等適合小型化鏡頭模組裝配的各種形狀。
請參閱圖2，本發(fā)明第二實施例提供的制作光圈片的步驟包括
提供一個基底，該基底具有一個表面；
垂直于該基底表面形成若干個圓柱體；
于該若干個圓柱體之間均勻填滿黑化的聚二甲基硅氧烷材料； 固化該聚二甲基硅氧烷材料；
翻模，使該聚二甲基硅氧烷材料與該基底、該若干個圓柱體分離； 切割該聚二甲基硅氧烷材料層，得到若干個光圈。
請參閱圖3，本發(fā)明第二實施例提供的基底30具有一個表面302，在表面302涂布光阻層
304。
其中，基底30的材料為硅，在硅片上涂布光阻之前，需要先對硅片表面進行烘烤、清洗 。通過烘烤將硅片表面吸收的水分去除，通過清洗使硅片表面更容易與光阻結(jié)合。
光阻層304為負光阻，負光阻的特點為曝光后，其感光部分不與顯影液發(fā)生反應(yīng)因而得 以保留，未感光部分被顯影液去除。本實施例采用的負光阻是環(huán)氧基紫外負性光刻膠(一般 稱SU-8光刻膠)，因為此種負光阻能夠符合一定的厚度要求。
請參閱圖4，光罩40具有預(yù)定圖案，紫外光通過光罩40照射到負光阻層304上。
光圈片的透光區(qū)一般為圓形孔，因此光罩40的圖案是一個圓形孔陣列。
曝光完成后，要對負光阻層304進行曝后烤，其作用在于使被曝光的光阻分子加速鍵結(jié)，增加被曝光光阻和基板的附著性。
請參閱圖5，使用顯影劑與負光阻層發(fā)生反應(yīng)，使得未曝光的部分被顯影液洗掉，使負
光阻呈現(xiàn)預(yù)定的圖案，S卩，成為一個圓柱體陣列306。每個圓柱體的的直徑及高度相同，本
實施例要求在此時圓柱體的高度大于等于50微米小于等于100微米。
請參閱圖6，在基底表面302及圓柱體陣列306中涂布聚二甲基硅氧烷材料308。 由于聚二甲基硅氧烷本身為具有良好彈性的透明材料，不具有遮光功能，因此要在聚二
甲基硅氧烷的前驅(qū)物中添加黑化劑使其黑化。黑化劑包括碳黑和甲苯。另外，還可以根據(jù)需
要添加硬化劑，使得聚二甲基硅氧烷材料容易硬化。
為了使光圈片的厚度盡可能地降低，本實施例采用的涂布法為旋轉(zhuǎn)涂布法，基底30將被
置于旋轉(zhuǎn)臺上，旋轉(zhuǎn)臺轉(zhuǎn)速越快，聚二甲基硅氧烷材料308涂布得越薄越均勻。因此，可通
過控制旋轉(zhuǎn)臺的轉(zhuǎn)速來控制聚二甲基硅氧烷材料的厚度。
將聚二甲基硅氧烷材料308涂布均勻后，對其進行固化處理。可采用熱固化的方式。 請參閱圖7，接著進行翻模，將固化后的聚二甲基硅氧烷材料層308從基底30上剝離。由
于聚二甲基硅氧烷材料固化后仍具有良好的彈性，剝離不會對聚二甲基硅氧烷材料層造成結(jié)
構(gòu)上的破壞。
請參閱圖8，最后一步是對聚二甲基硅氧烷材料層308進行切割，從而得到若干個光圈片 20。光圈片20的周邊也可以在進行適當(dāng)?shù)奶幚砗笮纬扇绫景l(fā)明第一實施例所示形狀的光圈片 10。
請參閱圖9，本發(fā)明第三實施例提供的鏡頭模組90包括鏡筒902，第一透鏡904，第二透 鏡906和光圈片10。
其中，鏡筒902收容第一透鏡904和第二透鏡906。光圈片10置于第一透鏡904和第二透鏡 906之間，其中心透光區(qū)101的中心與第一透鏡904和第二透鏡906的中心對準。
另外，對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)方案和技術(shù)構(gòu)思做出其 他各種相應(yīng)的變化，而所有這些變化都應(yīng)包含在本發(fā)明所要求保護的范圍之內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種光圈片，該光圈片具有中心透光區(qū)和圍繞該中心透光區(qū)的遮光區(qū)，其特征在于該遮光區(qū)的材料為黑化的聚二甲基硅氧烷材料。
2.一種鏡頭模組，其包括光圈片，該光圈片具有中心透光區(qū)和圍繞 該中心透光區(qū)的遮光區(qū)，其特征在于該遮光區(qū)的材料為黑化的聚二甲基硅氧烷材料。
3.一種光圈片的制造方法，其特征在于該制造方法包括以下步驟提供一個基底，該基底具有一個表面； 垂直于該基底表面形成若干個圓柱體；于該若干個圓柱體之間均勻填滿黑化的聚二甲基硅氧烷材料； 固化該聚二甲基硅氧烷材料；翻模，使該聚二甲基硅氧烷材料與該基底、該若干個圓柱體分離； 切割該聚二甲基硅氧烷材料，得到若干個光圈片。
4.如權(quán)利要求3所述的一種光圈片的制造方法，其特征在于該聚 二甲基硅氧烷材料的高度低于該圓柱體的高度。
5.如權(quán)利要求3所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于該若干 個圓柱體的形成包括以下步驟于該基底表面涂布一負光阻層； 對該負光阻層進行軟烤；于該負光阻層上方加光罩，紫外光通過該光罩所限定的透光區(qū)域?qū)υ撠摴庾杵毓?，?中，該光罩所限定的透光區(qū)域為一個圓形陣列； 對該負光阻層進行曝后烤；對該負光阻層進行顯影，去除未曝光區(qū)域的負光阻，形成若干個圓柱體。
6.如權(quán)利要求5所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于該負 光阻為環(huán)氧基紫外負性光刻膠。
7.如權(quán)利要求5所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于該若 干個圓柱體的高度大于等于50微米小于等于100微米。
8.如權(quán)利要求3所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于禾IJ用旋 轉(zhuǎn)涂布法將該聚二甲基硅氧烷材料均勻填滿至該若干個圓柱體之間。
9.如權(quán)利要求3、 4、 8中任一項所述的一種制造光圈片的方法，其 特征在于該聚二甲基硅氧烷材料包括黑化劑和硬化劑。
10.如權(quán)利要求9所述的一種制造光圈片的方法，其特征在于該黑化劑包括碳黑和甲苯。
全文摘要
一種光圈片，該光圈片具有中心透光區(qū)和圍繞該中心透光區(qū)的遮光區(qū)，該遮光區(qū)的材料為黑化的聚二甲基硅氧烷。本發(fā)明還涉及一種光圈片的制造方法，該制造方法包括以下步驟一種光圈片的制造方法，該制造方法包括以下步驟提供一個基底，該基底具有一個表面；垂直于該基底表面形成若干個圓柱體；于該若干個圓柱體之間均勻填滿黑化的聚二甲基硅氧烷材料；固化該聚二甲基硅氧烷材料；翻模，使該聚二甲基硅氧烷材料與該基底、該若干個圓柱體分離；切割該聚二甲基硅氧烷材料層，得到若干個光圈片。本發(fā)明還涉及一種使用該光圈片的鏡頭模組。
文檔編號G03F7/00GK101566700SQ20081030131
公開日2009年10月28日 申請日期2008年4月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年4月25日
發(fā)明者莊信弘 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司