專利名稱：曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種回位機構(gòu)，特別是涉及一種適用于曝光機曝光基 臺的回《立才幾構(gòu)。
背景技術(shù)：
請參閱圖1，其為現(xiàn)有曝光機的立體圖，于圖式中顯示有一傳統(tǒng)的曝光機9，此曝光機9包括一曝光基臺91，且此曝光基臺91包括一曝光平臺911 及一曝光上蓋912,于使用時，使欲進行曝光的電路板(圖未示)放置于曝光 平臺911上，并將吸附有底片(圖未示)的曝光上蓋912對應(yīng)向下蓋合于曝 光平臺911,并使曝光平臺911吸附于曝光上蓋912,之后，再使整個曝光 基臺91進入內(nèi)部的曝光室(圖未示)并進行曝光作業(yè)，借以將底片上的圖案 (例如線路)借由曝光程序復(fù)制到電路板上。于上述的曝光作業(yè)過程中，曝光基臺91不斷來回并更換不同的電路板， 以將底片上的圖案借由曝光程序復(fù)制到多個電路板上。然而，于進行每一 次的曝光作業(yè)時，皆需有所謂的回位裝置以使曝光基臺91上的底片與電路 板可位于相對正確位置，如此于重復(fù)進行曝光作業(yè)時，才不會因位置的誤 差而使底片上的圖案無法正確復(fù)制到電路板上，但是每次回位都需要再次 校正與調(diào)整，因為曝光的片數(shù)增加，同樣的會拉長生產(chǎn)的時間，造成產(chǎn)能 的下滑，造成生產(chǎn)上極大的困擾。請同時參閱圖1、圖2及圖3，其中的圖2為圖l曝光機曝光基臺的剖 面圖，圖3為圖1曝光機曝光基臺的俯視圖，于圖式中顯示傳統(tǒng)曝光基臺 91的對位方式利用一升降平臺92往上推升曝光平臺911，并再利用多個CCD 攝影機(圖未示)針對曝光平臺911上對位孔進行影像擷取，然后針對所擷 取的影像進行比對，例如擷取圓形孔的影像而以同心圓的方式進行比對，借 以得知曝光平臺911是否位于正確位置。然而，如上所述，傳統(tǒng)的對位方式利用升降平臺92往上推升曝光平臺 911,但于每次往上推升去承接的過程之中，在下降過程中都會需要調(diào)整對 準并歸回起始位置，在回位過程中浪費太多的時間在回位的校正，為了能 讓曝光平臺911都能回到起始位置，目的是不會因為沒有歸位而造成下次 曝光對位的誤差，再者因為震動等因素會使曝光平臺911產(chǎn)生微量的位移 誤差，當(dāng)位移誤差不斷累積之下，后續(xù)的曝光作業(yè)便會產(chǎn)生極大的位移誤 差。此外，當(dāng)曝光平臺911脫離曝光上蓋912的吸附而向下回落至升降平 臺92時，因為無緩沖結(jié)構(gòu)的設(shè)計，相對會使曝光平臺911于向下回落時產(chǎn) 生較大的震動，且并會因此使上述的位移誤差問題變得更為嚴重，甚至?xí)?因為震動而造成曝光平臺911的損害。此外，上述傳統(tǒng)的對位方式利用CCD攝影機以進行回位的方式，于成 本上亦較為耗費，實非十分理想。由此可見，上述現(xiàn)有的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)在結(jié)構(gòu)與使用上，顯 然仍存在有不便與缺陷，而亟待加以進一步改進。為了解決上述存在的問 題，相關(guān)廠商莫不費盡心思來謀求解決之道，但長久以來一直未見適用的 設(shè)計被發(fā)展完成，而一般產(chǎn)品又沒有適切結(jié)構(gòu)能夠解決上述問題，此顯然 是相關(guān)業(yè)者急欲解決的問題。因此如何能創(chuàng)設(shè)一種新型的曝光機曝光基臺 的回位機構(gòu)，實屬當(dāng)前重要研發(fā)課題之一，亦成為當(dāng)前業(yè)界極需改進的目 標。有鑒于上述現(xiàn)有的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)存在的缺陷，本發(fā)明人 基于從事此類產(chǎn)品設(shè)計制造多年豐富的實務(wù)經(jīng)驗及專業(yè)知識，并配合學(xué)理 的運用，積極加以研究創(chuàng)新，以期創(chuàng)設(shè)一種新型的曝光機曝光基臺的回位 機構(gòu)，能夠改進一般現(xiàn)有的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，使其更具有實用 性。經(jīng)過不斷的研究、設(shè)計，并經(jīng)過反復(fù)試作樣品及改進后，終于創(chuàng)設(shè)出確 具實用價值的本實用新型。發(fā)明內(nèi)容本實用新型的主要目的在于，克服現(xiàn)有的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu) 存在的缺陷，而提供一種新型的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，所要解決的 技術(shù)問題是使其可輕易地完成自動回位，縮短曝光作業(yè)的時間與并提高產(chǎn) 能，非常適于實用。本實用新型的目的及解決其技術(shù)問題是采用以下的技術(shù)方案來實現(xiàn) 的。依據(jù)本實用新型提出的一種曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，搭配一曝光 才幾使用，該曝光才幾包括一曝光基臺及一動力源，該動力源位于該曝光基臺 下方并包括一承載部，該曝光基臺包括一曝光平臺及一曝光上蓋，該曝光上蓋對應(yīng)向下蓋合于該曝光平臺，且該曝光平臺包括一下表面；其中，該回位機構(gòu)包括兩個以上的回位裝置，且每一回位裝置包括 一上導(dǎo)引塊，設(shè)置于該曝光平臺的該下表面，且該上導(dǎo)引塊向下形成有一斜導(dǎo)引面，該上導(dǎo)引塊并上下貫設(shè)有一貫孔，該貫孔并對應(yīng)連通該下表面； 一下導(dǎo)引塊，組 設(shè)于該動力源的該承載部，且該下導(dǎo)引塊向上形成有另一斜導(dǎo)引面，該另 一斜導(dǎo)引面并對應(yīng)嵌合于該上導(dǎo)引塊的該斜導(dǎo)引面；以及一緩沖件，包括 一基座、 一桿體、 一頂?shù)謮K及一彈性件，該基座組設(shè)于該下導(dǎo)引塊，該桿體由該基座延伸并容置于該上導(dǎo)引塊的該貫孔內(nèi)，該彈性件組設(shè)于該桿體，該 上下伸縮。本實用新型的目的及解決其技術(shù)問題還可以可采用以下的技術(shù)措施來 進一步實現(xiàn)。前述的爆光機曝光基臺的回位機構(gòu)，其中所述的緩沖件的該彈性件為 一伸縮彈簧。前述的曝光沖兒曝光基臺的回位機構(gòu)，其中所述的動力源為 一氣壓缸。 本實用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比具有明顯的優(yōu)點和有益效果。借由上述技 術(shù)方案，本實用新型曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)至少具有下列優(yōu)點及有益效果可利用上導(dǎo)引塊的斜導(dǎo)引面與下導(dǎo)引塊的另一斜導(dǎo)引面互相對應(yīng)嵌 合，即可輕易地完成自動回位功能，將可以大幅減少回位過程中的時間，亦 可增加曝光作業(yè)的產(chǎn)能。此外，借由緩沖件的設(shè)計，可緩沖曝光平臺回落的沖擊力，亦即曝光 平臺不會因震動而產(chǎn)生位移誤差，且可以避免曝光平臺因震動而發(fā)生損害 的問題。再者，利用上述的回位機構(gòu)，也可以降低曝光機臺成本，相對可增加 產(chǎn)品的竟爭力。本實用新型具有上述諸多優(yōu)點及實用價值，其不論在產(chǎn)品結(jié)構(gòu)或功能 上皆有較大改進，在技術(shù)上有顯著的進步，并產(chǎn)生了好用及實用的效果，且 較現(xiàn)有的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)具有增進的突出功效，從而更加適于 實用，誠為一新穎、進步、實用的新設(shè)計。上述說明僅是本實用新型技術(shù)方案的概述，為了能夠更清楚了解本實 用新型的技術(shù)手段，而可依照說明書的內(nèi)容予以實施，并且為了讓本實用 新型的上述和其他目的、特征和優(yōu)點能夠更明顯易懂，以下特舉較佳實施 例，并配合附圖，詳細說明如下。


圖1是現(xiàn)有曝光機的立體圖。圖2是圖1曝光機曝光基臺的剖面圖。圖3是圖1曝光機曝光基臺的俯視圖。圖4是本實用新型一較佳實施例的曝光基臺的剖面圖。圖5是本實用新型一較佳實施例的曝光基臺的4喿作示意圖。主要元件符號說明I'-曝光機ll曝光基臺111:曝光平臺112:曝光上蓋13動力源131:承載部2:回位裝置3:上導(dǎo)引塊31斜導(dǎo)引面32貫孔4:下導(dǎo)引塊41另一斜導(dǎo)引面51基座52桿體53頂?shù)謮K54彈性件9:曝光機91曝光基臺910:才交正回卩立結(jié)構(gòu)911:曝光平臺912:曝光上蓋92升降平臺說明書第4/5頁具體實施方式
為更進一步闡述本實用新型為達成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)手段及 功效，
以下結(jié)合附圖及較佳實施例，對依據(jù)本實用新型提出的曝光機曝光基 臺的回位機構(gòu)其具體實施方式
、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細說明如后。請先參閱圖1,本實用新型的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)搭配一曝光機 1 (如同圖1所示的曝光機)使用。請同時參閱圖l及圖4，其中的圖4為本實用新型一較佳實施例的曝光 基臺的剖面圖，上述的曝光機l包括一曝光基臺11以及一動力源13，其中 的動力源13位于曝光基臺11下方，且此動力源13包括一承載部131,同 時于本實施例中，此動力源13為一氣壓缸。此外，曝光機1的曝光基臺11包括一曝光平臺111以及一曝光上蓋112, 其中的曝光上蓋112對應(yīng)向下蓋合于曝光平臺lll，且曝光平臺lll會對應(yīng) 吸附于曝光上蓋112，同時，此曝光平臺111包括一下表面。另外，上述的回位機構(gòu)包括多個回位裝置2(每一回位裝置2的位置可 參閱圖3的校正回位結(jié)構(gòu)910位置，亦即每一回位裝置2可組設(shè)于原本傳 統(tǒng)設(shè)置校正回位結(jié)構(gòu)910的位置處，因此在本實施例中是以四個回位裝置2 來加以實施)，且每一回位裝置2包括一上導(dǎo)引塊3、 一下導(dǎo)引塊4以及一 緩沖件。圖式中的上導(dǎo)引塊3設(shè)置于曝光平臺111的下表面，且上導(dǎo)引塊3向 下形成有一斜導(dǎo)引面31,上導(dǎo)引塊3并上下貫設(shè)有一貫孔32,此貫孔32 并對應(yīng)連通曝光平臺111的下表面。此外，圖式中的下導(dǎo)引塊4組設(shè)于動力源13的承載部131，且下導(dǎo)引 塊4向上形成有另一斜導(dǎo)引面41，此另一斜導(dǎo)引面41并對應(yīng)嵌合于上導(dǎo)引 塊3的斜導(dǎo)引面31。再者，圖式中的緩沖件包括一基座51、 一桿體52、 一頂?shù)謮K5 3以及 一彈性件54,其中，基座51組設(shè)于下導(dǎo)引塊4，桿體52由基座51延伸并 容置于上導(dǎo)引塊3的貫孔32內(nèi)，彈性件54組設(shè)于桿體52,頂?shù)謮K53滑設(shè) 于桿體52并以彈性件54的彈性力相對于曝光平臺111的下表面上下伸縮。 于本實施例中，上迷緩沖件5的彈性件54為一伸縮彈簧。請同時參閱圖1、圖4及圖5,其中的圖5為本實用新型一較佳實施例 的曝光基臺的操作示意圖，當(dāng)曝光機1完成每一次曝光作業(yè)時，曝光上蓋 112會解除對曝光平臺111的吸附，使得曝光平臺lll會因為自身的重力而 向下掉落，此時，借由上導(dǎo)引塊3的斜導(dǎo)引面31與下導(dǎo)引塊4的另一斜導(dǎo) 引面41的互相對應(yīng)嵌合，亦即上導(dǎo)引塊3的斜導(dǎo)引面31與下導(dǎo)引塊4的另 一斜導(dǎo)引面41會因斜面的設(shè)計而互相導(dǎo)引嵌合,使得曝光平臺111可輕易 地完成自動對位功能，而不會使曝光平臺111產(chǎn)生位移誤差累積的問題，故 如此的設(shè)計除了可縮短曝光作業(yè)時間外，亦可增加曝光作業(yè)的產(chǎn)品良率。此外，借由上述緩沖件的設(shè)計，可借以緩沖曝光平臺111回落的沖擊 力，如圖5所示，亦即曝光平臺111不會因震動而產(chǎn)生位移誤差，且可以 避免曝光平臺111因震動而發(fā)生損害的問題。再者，利用上述的回位機構(gòu)，亦可大幅降低成本，相對可增加產(chǎn)品的 竟爭力。以上所述，僅是本實用新型的較佳實施例而已，并非對本實用新型作 任何形式上的限制，雖然本實用新型已以較佳實施例揭露如上，然而并非 用以限定本實用新型，任何熟悉本專業(yè)的技術(shù)人員在不脫離本實用新型技 術(shù)方案范圍內(nèi)，當(dāng)可利用上述揭示的技術(shù)內(nèi)容作出些許更動或修飾為等同 變化的等效實施例，但凡是未脫離本實用新型技術(shù)方案的內(nèi)容，依據(jù)本實 用新型的技術(shù)實質(zhì)對以上實施例所作的任何簡單修改、等同變化與修飾，均 仍屬于本實用新型技術(shù)方案的范圍內(nèi)。權(quán)利要求1、一種曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，其特征在于搭配一曝光機使用，該曝光機包括一曝光基臺及一動力源，該動力源位于該曝光基臺下方并包括一承載部，該曝光基臺包括一曝光平臺及一曝光上蓋，該曝光上蓋對應(yīng)向下蓋合于該曝光平臺，且該曝光平臺包括一下表面；其中，該回位機構(gòu)包括兩個以上的回位裝置，且每一回位裝置包括一上導(dǎo)引塊，設(shè)置于該曝光平臺的該下表面，且該上導(dǎo)引塊向下形成有一斜導(dǎo)引面，該上導(dǎo)引塊并上下貫設(shè)有一貫孔，該貫孔并對應(yīng)連通該下表面；一下導(dǎo)引塊，組設(shè)于該動力源的該承載部，且該下導(dǎo)引塊向上形成有另一斜導(dǎo)引面，該另一斜導(dǎo)引面并對應(yīng)嵌合于該上導(dǎo)引塊的該斜導(dǎo)引面；以及一緩沖件，包括一基座、一桿體、一頂?shù)謮K及一彈性件，該基座組設(shè)于該下導(dǎo)引塊，該桿體由該基座延伸并容置于該上導(dǎo)引塊的該貫孔內(nèi)，該彈性件組設(shè)于該桿體，該頂?shù)謮K滑設(shè)于該桿體并以該彈性件的彈性力相對于該曝光平臺的該下表面上下伸縮。
2、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，其特征在于其 中所述的緩沖件的該彈性件為 一 伸縮彈簧。
3、 根據(jù)權(quán)利要求1所述的曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，其特征在于其 中所述的動力源為一氣壓缸。
專利摘要本實用新型是有關(guān)于一種曝光機曝光基臺的回位機構(gòu)，利用設(shè)置于曝光平臺的上導(dǎo)引塊的斜導(dǎo)引面、與組設(shè)于動力源的下導(dǎo)引塊的另一斜導(dǎo)引面的互相對應(yīng)嵌合，即可輕易地完成自動回位功能，如此可縮短曝光作業(yè)的時間與并提高產(chǎn)能。此外，借由緩沖件的設(shè)計，可緩沖曝光平臺回落的沖擊力，亦即曝光平臺不會因震動而產(chǎn)生位移誤差，且可以避免曝光平臺因震動而發(fā)生損害的問題。再者，利用上述的回位機構(gòu)，亦可降低成本，相對可增加產(chǎn)品的競爭力。
文檔編號G03F7/20GK201170838SQ200820003790
公開日2008年12月24日 申請日期2008年2月19日 優(yōu)先權(quán)日2008年2月19日
發(fā)明者張鴻明 申請人:川寶科技股份有限公司