專利名稱：調(diào)色劑接受組合物的制作方法
扭旦 冃足
隨著數(shù)字成像技術(shù)的快速發(fā)展，傳統(tǒng)的單色電子照相印刷逐漸被高圖 像質(zhì)量的全色電子照相印刷取代。電子照相印刷技術(shù)能夠按照需要制備本 身質(zhì)量良好的印刷物而不需要專業(yè)技能，例如在印刷廠進(jìn)行常規(guī)膠版印刷 (平版印刷)所需的技能。
全色電子照相印刷操作的印刷質(zhì)量通常受到印刷介質(zhì)性質(zhì)的限制，所 述印刷介質(zhì)通常是非涂布紙。為了提高彩色電子照相印刷的圖像質(zhì)量，使 用為電子照相印刷所設(shè)計(jì)的帶涂層印刷介質(zhì)，例如涂布紙。這些帶涂層印 刷介質(zhì)通常涂布有用于促進(jìn)調(diào)色劑轉(zhuǎn)移和總體圖像質(zhì)量的無(wú)機(jī)顏料組合物 和其它功能材料。另外，使用這些和其它傳統(tǒng)的印刷介質(zhì)涂層和傳統(tǒng)的涂 布方法提高非涂布印刷介質(zhì)的光澤度和表面平滑度。對(duì)于帶涂層印刷介質(zhì)， 常常使用砑光操作來(lái)向介質(zhì)施加壓力和熱量，從而獲得高光澤度和表面平 滑度。但是，這些類型的涂布介質(zhì)的薄片光澤度低于照相印刷應(yīng)用的要求, 而且在調(diào)色劑被電子照相打印機(jī)中的熔化機(jī)構(gòu)固定時(shí)薄片光澤度往往減
通常，為了獲得所需的高光澤度和表面平滑度，可以用功能材料如聚 丙烯酸類和聚酯聚合物涂布印刷介質(zhì)的圖像接受側(cè)。在一些情況中，這類 材料不適合一些采用高溫和高壓熔化的高端電子照相印刷機(jī)。因?yàn)楦呷刍?溫度時(shí)，介質(zhì)最外層上的熱塑性涂層發(fā)生改變，造成光澤度下降。此外， 這些材料可能具有較低的硬度，因而常常導(dǎo)致在印刷過(guò)程和后使用階段中 出現(xiàn)表面刮擦問(wèn)題。而且，許多傳統(tǒng)的成膜涂料是基于溶劑的，在制造業(yè) 中并非環(huán)境友好。
發(fā)明概述在本發(fā)明體系和方法的一個(gè)方面，電子照相介質(zhì)包括支撐基材、無(wú)機(jī) 次層和圖像接受層，其中所述圖像接受層包括可交聯(lián)樹(shù)脂涂層結(jié)構(gòu)。
附圖簡(jiǎn)要說(shuō)明
以下


了本發(fā)明體系和方法的各種實(shí)施方式，是本說(shuō)明書(shū)的一 部分。所述的實(shí)施方式僅僅是本發(fā)明體系和方法的例子，不限制本發(fā)明的 范圍。
圖1是依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式的印刷介質(zhì)的截面圖。 圖2是依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式的包括任選的背面支撐層的印刷介質(zhì) 的截面圖。
圖3是說(shuō)明依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式的形成印刷介質(zhì)的方法的流程圖。
在所有附圖中，相同的附圖標(biāo)記表示類似但不必完全相同的要素。
發(fā)明詳述
本發(fā)明說(shuō)明書(shū)揭示了一種可用于制備電子照相印刷所用介質(zhì)的示例性 介質(zhì)涂料組合物。更具體而言，本發(fā)明體系和方法提供一種調(diào)色劑接受組 合物，該組合物包含能在環(huán)境條件或升高溫度下交聯(lián)的聚合物材料。所得 介質(zhì)具有高光澤外觀、穩(wěn)定的光澤水平和極佳的抗刮擦性。依據(jù)一個(gè)示例
性實(shí)施方式，由可交聯(lián)苯乙烯馬來(lái)酸酐(SMA)(包括其水解酸和偏酯形式) 或可交聯(lián)聚氨酯形成調(diào)色劑接受組合物。在下文中將更詳細(xì)地描述本發(fā)明 介質(zhì)涂料組合物及其使用方法。
在揭示和描述本發(fā)明體系和方法的具體實(shí)施方式
之前，應(yīng)該理解，本 發(fā)明的體系和方法不局限于本文揭示的具體方法和材料，因而它們可以在 一定程度上變化。也應(yīng)該理解，本文使用的術(shù)語(yǔ)僅僅是出于說(shuō)明具體實(shí)施 方式的目的，無(wú)意對(duì)發(fā)明進(jìn)行限制，因?yàn)楸景l(fā)明體系和方法的范圍僅僅由 所附權(quán)利要求及其等同項(xiàng)限定。
本說(shuō)明書(shū)和所附權(quán)利要求中使用的術(shù)語(yǔ)"電子照相印刷"應(yīng)廣義理解 為包括利用光使靜電荷分布發(fā)生變化從而形成照相圖像的任何方法，包括但不限于激光印刷。
可以以范圍形式顯示濃度、數(shù)量和其它用數(shù)字表示的數(shù)據(jù)。應(yīng)該理解， 使用這種范圍形式只是為了方便和簡(jiǎn)潔，應(yīng)該靈活地將其解釋成不僅包括 作為范圍界限明確列舉的數(shù)值，而且包括所有包含在該范圍內(nèi)的單個(gè)數(shù)值或 子范圍，就如同各數(shù)值和子范圍都已明確列舉。例如，應(yīng)該將約1重量％至
約20重量％的重量范圍解釋為不僅包括明確列舉的1重量％至約20重量％ 的濃度界限，還包括諸如2重量％、 3重量％、 4重量％之類的單個(gè)濃度和 諸如5重量％至15重量％、 10重量％至20重量％等之類的子范圍。
在以下說(shuō)明中，為了解釋的目的，各種具體的詳細(xì)描述僅僅是為了提 供對(duì)本發(fā)明體系和方法的透徹的理解所給出的，本發(fā)明體系和方法是為了
形成用于電子照相印刷的介質(zhì)涂料組合物。但是，對(duì)本領(lǐng)域技術(shù)人員顯而 易見(jiàn)的是，本發(fā)明方法可以在沒(méi)有這些具體細(xì)節(jié)的情況下進(jìn)行。說(shuō)明書(shū)中 提及的"一個(gè)實(shí)施方式"或"一種實(shí)施方式"指關(guān)于該實(shí)施方式中描述的 具體特征、結(jié)構(gòu)或性質(zhì)包括在至少一個(gè)實(shí)施方式中。在說(shuō)明書(shū)中不同地方 出現(xiàn)的術(shù)語(yǔ)"在一個(gè)實(shí)施方式中"不一定需要涉及所有相同的實(shí)施方式。
示例性結(jié)構(gòu)
圖1是依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式的電子照相介質(zhì)(100)的截面圖。如圖 l所示，該示例性電子照相介質(zhì)(100)至少包括三層本文中稱為基底介質(zhì) (IIO)的支撐基材，設(shè)置在所述基底介質(zhì)上的一個(gè)或多個(gè)次層(120)，在一個(gè) 或多個(gè)次層上形成的圖像接受層(130)。依據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，次 層(120)為基底介質(zhì)(110)的表面提供足夠的平滑度，從而在所得介質(zhì)(IOO) 上產(chǎn)生所需的光澤水平。下面將更詳細(xì)地描述基底介質(zhì)(IIO)、次層(120)和 圖像接受層(130)。
如圖1所示，基底介質(zhì)(110)形成電子照相介質(zhì)的支撐結(jié)構(gòu)。僅僅是為 了解釋，本文中將本發(fā)明示例性電子照相介質(zhì)(100)描述為以聚合物膜為基 底的介質(zhì)。但是，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員應(yīng)理解，各種基底介質(zhì)材料可用于 本發(fā)明體系和方法，包括但不限于聚合物膜，例如聚酯白膜或聚酯透明 膜，在一側(cè)或兩側(cè)都具有擠出聚合物樹(shù)脂的纖維素紙，纖維素紙料和/或它們的組合。此外，基材可包括第一和第二相反的面，在這些面上可形成各
種本發(fā)明實(shí)施方式的層。在一個(gè)示例性實(shí)施方式中，基底介質(zhì)(iio)沿著基 本整個(gè)長(zhǎng)度方向的厚度約為0.025毫米至0.5毫米。
另外，在形成原料基底介質(zhì)(110)的過(guò)程中，可以在上述基底介質(zhì)材料 中引入各種填料。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，可引入控制基底介質(zhì)(110)
的物理性質(zhì)的填料包括但不限于研磨碳酸^、沉淀碳酸轉(zhuǎn)、二氧化鈦、
高嶺粘土和硅酸鹽。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，填料的含量約為原料基底
介質(zhì)(110)的0-20重量％。依據(jù)另一個(gè)示例性實(shí)施方式，填料的含量約為原 料基底介質(zhì)(110)的5-15重量％。
繼續(xù)看圖l，用一個(gè)或多個(gè)無(wú)機(jī)次層(120)覆蓋基底介質(zhì)(110)。依據(jù)一 個(gè)示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層(120)建立在基底介質(zhì)(110)和頂部圖像接受層 (130)之間，以提高基底介質(zhì)(110)的表面光潔度。另外，依據(jù)一個(gè)示例性實(shí) 施方式，無(wú)機(jī)次層(120)可以有利地增強(qiáng)介質(zhì)的不透明性、亮度、表面平滑 度和/或色調(diào)。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層包括占無(wú)機(jī)次層(120)約 5-95重量％的無(wú)機(jī)顏料干燥涂層。合適的無(wú)機(jī)顏料包括但不限于二氧化鈦、 水合氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化硅、高亮度高嶺粘土、氧化鋅和/或它 們的組合。
另外，依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層(120)還包含5-95重量％的 粘結(jié)劑。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層(120)中的粘結(jié)劑部分用于結(jié) 合無(wú)機(jī)顏料，從而在基底介質(zhì)(110)上形成粘著單層。另外，依據(jù)一個(gè)示例 性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層(120)中的粘結(jié)劑組分將次層與基底介質(zhì)(110)和圖像 接受層(130)結(jié)合在一起。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層(120)中的粘 結(jié)劑部分可包括但不限于水溶性粘結(jié)劑、水分散性粘結(jié)劑、對(duì)基材和顏料 具有高粘結(jié)能力的聚合物乳液、和/或它們的組合。適用于無(wú)機(jī)次層(120) 的粘結(jié)劑的具體例子包括但不限于聚乙烯醇、淀粉衍生物、明膠、纖維素 衍生物、丙烯酰胺聚合物、丙烯酸類聚合物或其共聚物、乙酸乙烯酯膠乳、 聚酯、偏二氯乙烯膠乳、苯乙烯-丁二烯、丙烯腈-丁二烯共聚物、苯乙烯丙 烯酸類共聚物以及它們的共聚物和/或組合。
繼續(xù)看圖1，在無(wú)機(jī)次層(120)上形成圖像接受層(130)，形成所得介質(zhì)(IOO)的最外層。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，圖像接受層(130)包括可交聯(lián)聚 合物樹(shù)脂涂布的結(jié)構(gòu)。特別地，依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，圖像接受層(130) 包括可交聯(lián)聚氨酯或可交聯(lián)SMA樹(shù)脂。在下文中將更詳細(xì)地描述示例性的 可交聯(lián)聚合物樹(shù)脂。
依據(jù)第一示例性實(shí)施方式，可交聯(lián)聚合物樹(shù)脂包括可交聯(lián)聚氨酯樹(shù)脂。 依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，可交聯(lián)聚合物樹(shù)脂包括親水性聚氨酯低聚物， 例如具有兩個(gè)或更多個(gè)反應(yīng)性官能團(tuán)(例如羥基或胺)的水溶性或水分散性 聚氨酯低聚物，具有兩個(gè)或更多個(gè)可能被封閉的異氰酸酯官能團(tuán)的交聯(lián)劑。 適用于本發(fā)明示例性圖像接受層(130)的聚氨酯低聚物具體包括通過(guò)異氰酸 酯或封端異氰酸酯化合物和二醇、三醇或多元醇/多胺預(yù)聚物或它們的組合 進(jìn)行加聚反應(yīng)得到的具有氨基甲酸酯鍵的化合物。
可用于制備本發(fā)明示例性圖像接受層(130)的聚氨酯低聚物的異氰酸酯 化合物包括但不限于異氰酸酯；甲苯二異氰酸酯；1,6-己二異氰酸酯；二苯 基甲烷二異氰酸酯；1,3-二(異氰酸甲酯基)環(huán)己垸；1,4-環(huán)己基二異氰酸酯； 對(duì)亞苯基二異氰酸酯；2,2,4(2,4，4)-三甲基-1,6-己二異氰酸酯；4，4'-二環(huán)己基 甲烷二異氰酸酯；3,3'-二甲基二苯基-4，4'-二異氰酸酯；間二甲苯二異氰酸 酯；四甲基二甲苯二異氰酸酯；1,5-萘二異氰酸酯；二甲基三苯基甲烷四異 氰酸酯；三苯基甲垸三異氰酸酯；和/或三(異氰酸苯酯基)鹵代磷酸酯/鹽。
用于制備本發(fā)明示例性圖像接受層(130)的聚氨酯低聚物的二醇、三醇 和多元醇可包括但不限于以下1,4-丁二醇；1，3-丙二醇；1,2-乙二醇；1,2-丙二醇；1，6-己二醇；2-甲基-l,3-丙二醇；2，2-二甲基-l,3-丙二醇或新戊二 醇；環(huán)己垸二甲醇；1,2,3-丙三醇；2-乙基-2-羥甲基-l,3-丙二醇和/或聚環(huán)氧
乙烷、聚環(huán)氧丙垸和/或它們的組合。另外，可使用含兩個(gè)或多個(gè)選自下組
的官能團(tuán)的化合物制備聚氨酯低聚物羥基、胺或它們的組合。
依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，所得聚氨酯分散體是基于在NCO/OH的當(dāng) 量比為1.2-2.2、優(yōu)選1.4-2.0的條件下制備的聚氨酯低聚物。因此，所得聚 氨酯分散體是無(wú)異氰酸酯的化合物。通過(guò)凝膠滲透色譜(GPC)測(cè)量的聚氨酯 低聚物的分子量為20,000至200,000。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式， 一些商品 化的水分散性聚氨酯可用于本發(fā)明的示例性體系和方法。例如，依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，以下商品可用作本發(fā)明示例性體系和方法中的低聚物
聚酯基聚氨酯U910、 U938 U2101和U420;聚醚基聚氨酯U205、 U410、 U500和U400N;聚碳酸酯基聚氨酯U930、 U933、 U915和U911;和蓖麻 油基聚氨酯CUR21、 CUR69、 CUR99和CUR991 ，所有這些都可購(gòu)自阿伯 德克公司(Alberdingk Inc.)。
依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，上述聚氨酯低聚物交聯(lián)形成交聯(lián)聚氨酯樹(shù) 脂的反應(yīng)通過(guò)低聚物材料與水分散性交聯(lián)劑反應(yīng)來(lái)實(shí)現(xiàn)。在一個(gè)示例性實(shí) 施方式中，交聯(lián)劑是具有兩個(gè)或多個(gè)被封閉的反應(yīng)性異氰酸酯基團(tuán)的封端 多異氰酸酯。封端多異氰酸酯可選自脂族或脂環(huán)族或芳族多異氰酸酯。脂 族多異氰酸酯的例子是1，4-丁二異氰酸酯和1,6-己二異氰酸酯的聚合物，環(huán) 狀多異氰酸酯的例子是異佛爾酮二異氰酸酯和4,4'-亞甲基-二-(環(huán)己基異氰 酸酯)的聚合物。芳族異氰酸酯聚合物的例子是對(duì)亞苯基二異氰酸酯、二苯 基甲垸-4,4'-二異氰酸酯和2,4-或2,6-甲苯二異氰酸酯的聚合物。其它多異 氰酸酯如三苯基甲烷-4，4',4"-三異氰酸酯、1,2,4-苯三異氰酸酯和多亞甲基 多苯基異氰酸酯也是合適的例子。
要使這些多異氰酸酯交聯(lián)劑可分散在水中，則將反應(yīng)性異氰酸酯基完 全封閉，這樣在涂料干燥過(guò)程中多異氰酸酯在較高溫度下解封閉，產(chǎn)生能 與聚氨酯低聚物的活性氫原子反應(yīng)的游離異氰酸酯基，從而進(jìn)行與聚氨酯 低聚物的交聯(lián)反應(yīng)。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，可用于封閉反應(yīng)性異氰酸 酯基的化合物包括但不限于脂族、脂環(huán)族、芳族單醇、二醇醚、酚類化 合物、胺和聚烯烴二醇、或它們的混合物。
可用于本發(fā)明示例性體系和方法的商品封端多異氰酸酯交聯(lián)劑包括但 不限于可從羅迪阿公司(Rhodia AG)購(gòu)得的Rhodocoat WT 2102;可從巴斯 夫公司(BASF)購(gòu)得的BasonatLR 8878;和可從拜爾公司(Bayer)購(gòu)得的 Desmodur DA和Bayhydur 3100， Bayhydur VP LS 2306。任選地，可使用現(xiàn) 有技術(shù)中已知的交聯(lián)催化劑如液體有機(jī)金屬化合物(例如有機(jī)錫)來(lái)加快交 聯(lián)反應(yīng)。
依據(jù)另一個(gè)示例性實(shí)施方式，用于形成圖像接受層(130)的可交聯(lián)聚合 物樹(shù)脂由苯乙烯馬來(lái)酸酐(SMA)化合物(包括SMA的水解酸、酯和半酯形式和它們的組合)形成。依據(jù)該示例性實(shí)施方式，使用苯乙烯馬來(lái)酸酐(SMA)， 特別是較高分子量的變體，例如來(lái)自喬治亞州-太平洋公司(Georgia-Pacific) 的Novacote2000(僅僅是例舉)，在涂布到以支撐原料基底介質(zhì)(l IO)為基礎(chǔ) 的無(wú)機(jī)次層(120)上時(shí)形成高光澤度和非常平滑的層。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施 方式，在用來(lái)自拜克-加德納(Byk-Gardner)的光澤計(jì)以20度的角度測(cè)量時(shí)， 這些SMA圖像接受層(130)的光澤度可以高達(dá)50個(gè)光澤度單位。類似地，SMA 在照片基底基材、PET膜等其它平滑基材上也將形成高光澤度層。但是，SMA 可能產(chǎn)生較脆的介質(zhì)(IOO)，在將原料基底介質(zhì)(110)彎曲或扭曲時(shí)，往往造 成其破裂。
如果存在復(fù)合膜，則該復(fù)合膜可以形成在原料基底介質(zhì)和無(wú)機(jī)次層 (120)上，以改善SMA層的性質(zhì)。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，通過(guò)形成復(fù)合 膜，可以減輕易碎性質(zhì)，而且不會(huì)降低高光澤度性質(zhì)，所述復(fù)合膜由SMA 與以下之一的組合制備胺端接的聚環(huán)氧乙垸(PEO)、聚環(huán)氧丙烷(PPO)或 它們的共聚物或組合。依據(jù)該示例性實(shí)施方式，加入胺端接的PEO/PPO化 合物能夠加強(qiáng)膜的韌性，原因在于在交聯(lián)結(jié)構(gòu)中引入了脆性較低的組分。 SMA通過(guò)其羧酸官能團(tuán)與胺端接的PEO/PPO化合物的胺官能團(tuán)的交聯(lián)反應(yīng) 可以在熔化時(shí)保持薄片光澤度?？梢詫?duì)線型PEO/PPO鏈的兩端都進(jìn)行端接， 或者PEO/PPO可以通過(guò)PEO/PPO鏈的支化具有更高的胺官能度。交聯(lián)的 聚合物膜的PEO/PPO鏈段可以在保持高光澤度性質(zhì)的同時(shí)消除SMA的脆 性特征。
依據(jù)本發(fā)明的示例性實(shí)施方式，SMA與胺端接的PEO/PPO的比例可 以為100:1至約2.5:1。 SMA與胺端接的PEO/PPO的比例更高也不足以消 除破裂的問(wèn)題，而更低的比例造成發(fā)粘，不能進(jìn)給通過(guò)打印機(jī)。依據(jù)本發(fā) 明示例性體系和方法可與SMA組合的胺端接的PEO/PPO化合物的可商購(gòu) 例子包括但不限于可從亨斯曼公司(Huntsman Corporation)購(gòu)得的 Jeffamine XTJ-500、 Jeffamine XTJ-502和Jeffamine XTJ D-2000。
依據(jù)本發(fā)明的示例性體系和方法，本發(fā)明技術(shù)證明了與傳統(tǒng)電子照相 體系相比，光澤度和平滑度以及光澤度持久性得到改善。依據(jù)一個(gè)示例性 實(shí)施方式，用本發(fā)明示例性層技術(shù)開(kāi)發(fā)的基材在75度的光澤水平大于90
10%，在20度的光澤水平大于30%。另外，與傳統(tǒng)砑光涂布介質(zhì)、澆注涂布
介質(zhì)等相比，本發(fā)明技術(shù)在類似或更低的成本下實(shí)施。
圖2顯示了依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式的另一種電子照相介質(zhì)(200)的結(jié) 構(gòu)。如圖2所示，該示例性電子照相介質(zhì)(200)結(jié)構(gòu)至少包括四個(gè)組件支 撐基底介質(zhì)(IIO)，設(shè)置在該基底介質(zhì)上的多個(gè)次層(120)，形成在次層上的 圖像接受層(130)，形成在支撐基底介質(zhì)(110)背面上的任選的背面支撐層 (140)。
依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，支撐基底介質(zhì)(IIO)、次層(120)和圖像接受 層(130)與圖1中所述的完全相同。但是，與圖1中所述的結(jié)構(gòu)不同的是， 圖2所示的示例性結(jié)構(gòu)包括背面支撐層(140)。依據(jù)該示例性實(shí)施方式，背 面支撐層(140)可包括各種無(wú)機(jī)顏料、聚合物顆粒、聚合物粘結(jié)劑、增滑劑、 功能添加劑和/或它們的組合。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，在支撐基底層(110) 的背面上形成的無(wú)機(jī)顏料可包括但不限于碳酸鈣顆粒。此外，可用于形成 背面支撐層(140)的示例性聚合物顆粒包括但不限于聚乙烯珠粒。另外，可 用于本發(fā)明示例性結(jié)構(gòu)的增滑劑包括但不限于聚合蠟。
通常，依據(jù)圖2所示的本發(fā)明示例性實(shí)施方式，背面支撐層(140)可有
利地促進(jìn)片與片之間和/或片與印刷裝置的上料輥之間的摩擦控制。此外， 背面支撐層(140)可在介質(zhì)中形成開(kāi)放結(jié)構(gòu)，這樣在調(diào)色劑熔化的高濕度條 件下，水蒸氣可以從介質(zhì)中釋放而不會(huì)產(chǎn)生氣泡。而且，上述背面涂層有 利于平衡在基材相反面上建立的層的內(nèi)應(yīng)力，從而可以最大程度地減少巻 曲。
示例性形成方法
圖3顯示了依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式形成本發(fā)明示例性電子照相介質(zhì) (IOO)的示例性方法。如圖3所示，本發(fā)明的示例性方法首先從提供所需的 基底介質(zhì)(步驟300)開(kāi)始。然后，在所需基底介質(zhì)的至少一側(cè)上涂布無(wú)機(jī)次 層(步驟310)。在涂布后，可以在新沉積的無(wú)機(jī)次層上涂布圖像接受層(步驟 320)。最后，在所需基底基質(zhì)的背面上形成任選的背面支撐層(步驟300)。 下面將更詳細(xì)地描述上述介質(zhì)形成方法。如上所述，本發(fā)明示例性方法的第一步包括提供所需的基底介質(zhì)(步驟 300)。如上所述，所需的基底介質(zhì)可包括但不限于聚合物膜，例如聚酯 白膜或聚酯透明膜，在一側(cè)或兩側(cè)都具有擠出聚合物樹(shù)脂的纖維素紙，纖 維素紙料和/或它們的組合。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，所需基底介質(zhì)作為 整巻材料提供?；蛘?，所需基底介質(zhì)可以各種形式提供，包括但不限于切 割基材、條帶和/或巻。
在提供所需基底介質(zhì)后，在所需基底介質(zhì)的至少一側(cè)上涂布無(wú)機(jī)次層 (步驟310)。依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，使用各種涂布方法將無(wú)機(jī)次層涂布 在所需基底介質(zhì)的至少一側(cè)上，所述涂布方法包括但不限于刮涂法、棒 涂法、氣刀涂布法、簾式涂布法、縫模涂布法、澆注涂布法、擠出涂布法、 轉(zhuǎn)移涂布法、施膠壓制涂布法、噴射涂布法或它們的組合。
在將無(wú)機(jī)次層涂布在所需基底介質(zhì)的至少一側(cè)(步驟310)后，可以在
新沉積的無(wú)機(jī)次層上涂布圖像接受層(步驟320)。類似于上述無(wú)機(jī)次層，可
以使用各種涂布方法將圖像接受層涂布在無(wú)機(jī)次層上，所述涂布方法包括
但不限于刮涂法、棒涂法、氣刀涂布法、簾式涂布法、縫模涂布法、澆 注涂布法、擠出涂布法、轉(zhuǎn)移涂布法、施膠壓制涂布法、噴射涂布法或它
們的組合。另外，依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，可使用在線(on-machine)或離 線(off-machine)涂布機(jī)將無(wú)機(jī)次層和圖像接受層施加到所需基底介質(zhì)上。
最后，在所需基底介質(zhì)的背面上形成任選的背面支撐層(步驟300)。同 樣，可以使用各種涂布方法形成任選的背面支撐層，所述涂布方法包括但 不限于刮涂法、棒涂法、氣刀涂布法、簾式涂布法、縫模涂布法、澆注 涂布法、擠出涂布法、轉(zhuǎn)移涂布法、施膠壓制涂布法、噴射涂布法或它們 的組合。
依據(jù)一個(gè)示例性實(shí)施方式，無(wú)機(jī)次層、圖像接受層和任選的背面支撐 層可獨(dú)立地形成，并且在之后的層形成之前先干燥。所沉積的層可使用任 何已知的干燥方法獨(dú)立地固化或干燥，所述干燥方法包括但不限于對(duì)流、 傳導(dǎo)、紅外輻射、暴露于大氣或它們的組合。
或者，可以使用濕施涂方法在所需基材上同時(shí)形成無(wú)機(jī)次層、圖像接 受層和任選的背面支撐層中的兩個(gè)或更多個(gè)層。依據(jù)該示例性實(shí)施方式，可以在前面的層完全固化之前先施加后面的層。在施涂和固化后，對(duì)所得基材結(jié)構(gòu)進(jìn)行切割、包裝，用于運(yùn)輸和之后的應(yīng)用。
總體而言，本發(fā)明示例性體系和方法提供一種調(diào)色劑接受組合物，該組合物包含能在環(huán)境條件或升高溫度下交聯(lián)的聚合物材料。所得介質(zhì)在整個(gè)電子照相印刷過(guò)程中具有穩(wěn)定的高光澤外觀，以及極佳的抗刮擦性。
上述說(shuō)明僅僅是闡述和描述了本發(fā)明體系和方法的示例性實(shí)施方式。這些說(shuō)明不旨在以任何精確揭示的形式窮盡或限制本發(fā)明的體系和方法。
根據(jù)上述說(shuō)明，可以進(jìn)行許多修改和變化。本發(fā)明體系和方法的范圍旨在通過(guò)所附權(quán)利要求限定。
權(quán)利要求
1.一種電子照相介質(zhì)(100，200)，其包括基底介質(zhì)(110)；在所述基底介質(zhì)(110)的第一側(cè)上形成的至少一個(gè)次層(120)；和在所述至少一個(gè)次層(120)上形成的圖像接受層(130)；其中所述圖像接受層(130)包括交聯(lián)的樹(shù)脂涂層結(jié)構(gòu)。
2. 如權(quán)利要求1所述的電子照相介質(zhì)(100,200)，其特征在于，所述至 少一個(gè)次層(120)包含5-95重量％的無(wú)機(jī)顏料。
3. 如權(quán)利要求1所述的電子照相介質(zhì)(100,200)，其特征在于，所述圖 像接受層(130)包含交聯(lián)的聚氨酯樹(shù)脂。
4. 如權(quán)利要求1所述的電子照相介質(zhì)(100，200)，其特征在于，所述可 交聯(lián)的樹(shù)脂涂層結(jié)構(gòu)包含苯乙烯馬來(lái)酸酐(SMA)化合物。
5. 如權(quán)利要求1所述的電子照相介質(zhì)(100,200)，其特征在于，還包括 與所述基底介質(zhì)(110)結(jié)合的背面支撐層(140)。
6. 如權(quán)利要求1所述的電子照相介質(zhì)(100,200)，其特征在于，所述介 質(zhì)在75度的光澤水平大于90%，在20度的光澤水平大于30%。
7. —種電子照相介質(zhì)(100,200)，其包括 基底介質(zhì)(110);在所述基底介質(zhì)(110)的第一側(cè)上形成的至少一個(gè)次層(120)，其中所 述至少一個(gè)次層(120)包含5-95重量％的無(wú)機(jī)顏料；和在所述至少一個(gè)次層(120)上形成的圖像接受層(130);其中所述圖像接受層(130)包括交聯(lián)的樹(shù)脂；所述介質(zhì)(110)在75度的光澤水平大于90個(gè)光澤度單位，在20度的 光澤水平大于30個(gè)光澤度單位。
8. 如權(quán)利要求7所述的電子照相介質(zhì)(100,200)，其特征在于，所述交 聯(lián)的樹(shù)脂包含可交聯(lián)聚氨酯低聚物或可交聯(lián)SMA樹(shù)脂中的一種。
9. 一種形成電子照相介質(zhì)(IOO, 200)的方法，其包括 生產(chǎn)基底介質(zhì)(110);和在所述基底介質(zhì)(110)的第一側(cè)上涂布次層(120);在所述次層(120)上沉積圖像接受層(130); 其中所述圖像接受層(130)包括交聯(lián)的樹(shù)脂。
10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，還包括在所述基底介質(zhì) (110)的第二側(cè)上沉積背面支撐層(140)。
全文摘要
在本發(fā)明體系和方法的一個(gè)方面，電子照相介質(zhì)(100，200)包括基底介質(zhì)(110)，在所述基底介質(zhì)(110)的第一側(cè)上形成的至少一個(gè)次層(120)，在所述至少一個(gè)次層(120)上形成的圖像接受層(130)，其中所述圖像接受層(130)包括交聯(lián)的樹(shù)脂涂層結(jié)構(gòu)。
文檔編號(hào)G03G5/10GK101600996SQ200880003266
公開(kāi)日2009年12月9日 申請(qǐng)日期2008年1月10日 優(yōu)先權(quán)日2007年1月30日
發(fā)明者R·J·麥克馬納斯, X·周 申請(qǐng)人:惠普發(fā)展公司，有限責(zé)任合伙企業(yè)