專利名稱：：偏振片和使用該偏振片的液晶顯示裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及使相互正交的偏振光成分的一方透射、另一方反射的所謂的反射型的偏振片以及使用該偏振片的液晶顯示裝置。更詳細(xì)地講，涉及可與構(gòu)成液晶盒的兩片偏振片之中的至少一片偏振片置換的反射型偏振片。
背景技術(shù)：
：裝載于液晶顯示裝置中的液晶盒，至少由液晶層和以?shī)A著該液晶層的方式配置的兩片的偏振片(起偏振片；polarizingplate)構(gòu)成。該偏振片是使聚乙烯醇等的高分子片吸附碘、色素后，通過(guò)拉伸來(lái)進(jìn)行取向，由此得到的利用了吸收各向異性的片。即，通過(guò)吸收入射到偏振片中的光之中的與吸收軸平行的成分的光，并使與吸收軸正交的成分的光透射，來(lái)呈現(xiàn)偏振光特性。因此，這樣的吸收型的偏振片，在原理上入射自然光之類(lèi)的非偏振光時(shí)的透射率不會(huì)超過(guò)50%。從液晶顯示裝置的低耗電化的觀點(diǎn)考慮，要求提高亮度?？墒牵谝酝钠衿难娱L(zhǎng)線上的改良中，在亮度提高方面存在極限。因此，作為實(shí)現(xiàn)進(jìn)一步的高亮度化的手段，提出了使用反射型的偏振片的方法。該方法是將構(gòu)成液晶盒的兩片偏振片之中的至少一個(gè)置換成使一方的偏振光成分透射，使另一方的偏振光成分反射的偏振光分離片，即所謂的反射型的偏振片。由此，通過(guò)將吸收的偏振光成分反射并再利用，來(lái)使亮度提高的方法。作為這樣的反射型的偏振片，已知例如多層疊層型、圓偏振光分離型、線柵(wiregrid)型的偏振片等。5多層疊層型偏振片，是將折射率各向同性層和折射率各向異性層交替地層疊幾層的類(lèi)型。該類(lèi)型的偏振片，"i殳計(jì)成在位于片材面內(nèi)的一個(gè)方向上，不產(chǎn)生各層的折射率差，在與該方向正交的方向上，增大各層的折射率差。根據(jù)該構(gòu)成，使一方的偏振光成分透射，并將與之正交的偏振光成分反射，作為反射型的偏振片發(fā)揮功能(例如，參照專利文獻(xiàn)l)。圓偏振光分離型偏振片，是利用了膽齒型液晶層呈現(xiàn)的圓偏振光二色性的偏振片。膽齒型液晶層，通過(guò)液晶分子在膜厚方向描繪螺旋，可根據(jù)螺旋方向選擇性地反射右旋或左旋的圓偏振光。通過(guò)將該膽齒型液晶層和V4波長(zhǎng)板組合，作為反射型的偏振片發(fā)揮功能(例如，參照專利文獻(xiàn)2)。線柵型偏振片，是具有將細(xì)金屬線平行排列的結(jié)構(gòu)的偏振片。該類(lèi)型的偏振片，使與金屬線垂直地振動(dòng)的偏振光透射，并使與之平行地振動(dòng)的偏振光反射。由此，作為反射型的偏振片發(fā)揮功能(例如，參照專利文獻(xiàn)3~5)。專利文獻(xiàn)1特表2003-511729號(hào)^^才艮專利文獻(xiàn)2特開(kāi)2002-90533號(hào)^S才艮專利文獻(xiàn)3美國(guó)專利第6122103號(hào)公報(bào)專利文獻(xiàn)4特開(kāi)2005-195824號(hào)公才艮專利文獻(xiàn)5特開(kāi)平7-294730號(hào)^^艮
發(fā)明內(nèi)容然而，多層疊層型偏振片的場(chǎng)合，為了適用于可見(jiàn)光區(qū)域全體，必須寬帶域下呈現(xiàn)偏振光特性。因此，多層疊層型偏振片中，必須貼合多個(gè)調(diào)整了疊層比和膜厚的片。由此，膜厚變厚，光程長(zhǎng)度根據(jù)光的入射角度而變化，因此存在偏振光特性產(chǎn)生角度依賴性的問(wèn)題。另外，在利用該方法的偏振光分離中，難以使可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域全域的偏振光特性高于以往的偏振片。因此，實(shí)際上必須并用其他的偏振片，不能夠代替以往的偏振片粘貼用于液晶盒。另外，圓偏振光分離型偏振片的場(chǎng)合，難以在面內(nèi)均勻地形成膽甾型6液晶層。而且，為了在寬帶域呈現(xiàn)偏振光特性，需要貼合多個(gè)螺旋間距不同的層。在采用該方法的偏振光分離中，也難以使可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域全域的偏振光特性高于以往的偏振片。因此，實(shí)際上必須與偏振片并用，難以代替以往的偏振片粘貼用于液晶盒。另一方面，在線柵型偏振片中，不需要上述2個(gè)例子那樣的復(fù)雜形狀。另外，通過(guò)以一定間距形成金屬線，可控制可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域全域的偏振光特性，能夠得到與以往的偏振片同等程度的較高的偏振光特性。然而，實(shí)際上若與偏振片置換來(lái)使用，則金屬特有的色調(diào)、外部光照入而反射。因此，線柵型偏振片存在不能進(jìn)行黑色顯示的問(wèn)題。本發(fā)明的目的在于，克服所述的現(xiàn)有技術(shù)的問(wèn)題，提供能夠與構(gòu)成液晶盒的2片的偏振片之中的至少一個(gè)偏振片置換，并且能夠以高亮度進(jìn)行鮮明的顯示的偏振片、以及使用該偏振片來(lái)呈現(xiàn)較高的亮度提高效果的液晶顯示裝置。本發(fā)明為了解決所述的課題，采用以下的方案。根據(jù)以下的方案，能夠?qū)⑵衿膬擅娴墓鈱W(xué)特性分別控制在特定的范圍。其結(jié)果，使用本發(fā)明的偏振片，能夠提供可兼?zhèn)涓吡炼群王r明的黑色顯示的液晶顯示裝置。即，本發(fā)明的偏振片，是具有基材、以設(shè)定的間隔配置的多個(gè)線狀的金屬層(以下有時(shí)稱為"線狀金屬層"。)、和以設(shè)定的間隔配置的多個(gè)線狀的黑色層(以下有時(shí)稱為"線狀黑色層"。)的偏振片，上述多個(gè)線狀的金屬層和上述多個(gè)線狀的黑色層之中的至少任一方的層設(shè)置于上述基材上。另外，本發(fā)明的液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，上述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面?zhèn)鹊钠衿?A)和面光源側(cè)的偏振片(B)，上述偏振片(B)是前面所述的偏振片，并且該偏振片被設(shè)置成滿足下迷(i)~(iii)的條件。(i)在上迷線狀的金屬層和上述線狀的黑色層形成于基材的不同的面上的偏振片中，設(shè)有上述線狀的金屬層的面與面光源相對(duì)。(ii)在上述線狀的金屬層和上述線狀的黑色層形成于基材的同一面上的偏振片中，相比于與基材面平行的上述線狀的金屬層與上述線狀的黑色層的界面，上述線狀的金屬層位于更接近于面光源的側(cè)。(iii)在與上述(i)或(ii)的任一情況均不符合的情況下，上述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對(duì)。另外，本發(fā)明的偏振片，具有基材；在上述基材表面以設(shè)定的間隔排列的多個(gè)線狀的金屬層；和與上述線狀的金屬層接觸，將上述多個(gè)線狀的金屬層被覆的透明層。本發(fā)明的液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，上述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面?zhèn)鹊钠衿?A)和面光源側(cè)的偏振片(B)，上述偏振片(B)是前面所述的偏振片，并且該偏振片被設(shè)置成滿足下述(i)或(ii)的條件。(0相比于與上述基材面平行的上述線狀的金屬層與上述透明層的界面，上述線狀的金屬層配置于更接近于面光源的側(cè)。(ii)在與上述(i)不符合的情況下，上述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對(duì)。進(jìn)而，本發(fā)明的偏振片，從一面(A面)側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率為30~50%，總光線絕對(duì)反射率或總光線相對(duì)反射率的至少一方為30~50%，透射光的偏振光度為99%以上，從另一面(B面)側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率為30~50%，總光線絕對(duì)反射率為0~30%。本發(fā)明的液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，上述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面?zhèn)鹊钠衿?A)和面光源側(cè)的偏振片(B)，上述偏振片(B)是前面所述的偏振片，并且上述A面與面光源對(duì)置。在本發(fā)明中，在線柵型偏振片中，通過(guò)設(shè)置線狀黑色層、透明層，可將偏振片的兩面的光學(xué)特性分別控制在特定的范圍。并且，控制線柵型偏振片的2個(gè)面的總光線絕對(duì)反射率或總光線相對(duì)反射率的值。由此，能夠有效防止由金屬特有的色調(diào)、外部光的照入所引起的反射。其結(jié)果，能夠提供可與構(gòu)成液晶盒的2片的偏振片之中的至少一個(gè)偏振片置換的偏振片。另外，與使用以往的碘型偏振片的情況相比，能夠提供高亮度且薄型的偏振片。而且，通過(guò)將本發(fā)明的偏振片安裝于液晶顯示裝置等中，能夠兼?zhèn)涓吡炼鹊娘@示和鮮明的黑色顯示。圖l是模式地表示發(fā)明的偏振片(1)以及偏振片(2)的構(gòu)成的圖。圖2是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(l)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖3是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖4是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的立體圖。圖5是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖6是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖7是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖8是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖9是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖IO是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的線狀黑色層、線狀金屬層的立體圖。圖ll是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的線狀金屬層、透明層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖12是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的線狀金屬層的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖13是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的透明層的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖14是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的線狀金屬層、透明層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖15是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的線狀金屬層的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖16是才莫式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的透明層的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖17是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(2)的線狀金屬層、透明層的相對(duì)位置關(guān)系的圖。圖18是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)的表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材的圖。圖19是模式地表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材的優(yōu)選的斷面形狀的圖。圖20是模式地例示在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，線狀凹凸結(jié)構(gòu)的形成工序的圖。圖21是模式地表示在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，金屬層形成工序中的金屬的蒸鍍角度的圖。圖22是說(shuō)明使用具有可改變基材角度的機(jī)構(gòu)的裝置，改變形成角度0的方法的圖。圖23是說(shuō)明使用輥對(duì)輥型蒸鍍裝置，改變形成角度e進(jìn)行蒸鍍的方法的圖。圖24是模式地表示裝有本發(fā)明的偏振片的液晶顯示裝置(側(cè)光型)的構(gòu)成的圖。圖25是模式地表示裝有本發(fā)明的偏振片的液晶顯示裝置(正下型)的構(gòu)成的圖。圖26是對(duì)裝有本發(fā)明的偏振片的液晶顯示裝置的效果進(jìn)行說(shuō)明的圖。圖27是模式地表示裝有本發(fā)明的偏振片的液晶顯示裝置的構(gòu)成的另10一例的圖。圖28是模式地表示在實(shí)施例、比較例中制作的樣品的斷面形狀的圖。附圖標(biāo)號(hào)說(shuō)明1基材2線狀黑色層3線狀金屬層4透明層10線狀凹凸結(jié)構(gòu)11線狀凹凸結(jié)構(gòu)的凸部12線狀凹凸結(jié)構(gòu)的凹部40線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片50模具51模具凸部52模具凹部60蒸發(fā)源61巻狀的基材62輥狀鼓63、66放巻/巻取軸64、65輥67隔板68旋轉(zhuǎn)中心100本發(fā)明的偏振片200熒光管300導(dǎo)光板310擴(kuò)散板400反射片410框體500光擴(kuò)散片600棱鏡片700面光源800液晶盒810下偏振片820液晶層830上偏振片P線狀凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的間距w線狀凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的寬度h線狀凹凸結(jié)構(gòu)的凸部的高度h,基材膜厚或第一層的膜厚h2線狀黑色層2的膜厚h3線狀金屬層3的膜厚h4透明層4的膜厚w21線狀黑色層2的寬度w22線狀黑色層2間的寬度w31線狀金屬層3的寬度w32線狀金屬層3間的寬度Ll與基材面平行并且與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向平行的線與基材面平行并且與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直的線基材面的法線Ml金屬的蒸鍍方向6基材面的法線L3與金屬的蒸鍍方向Ml構(gòu)成的角度XI由面光源射出的從偏振片中透射的方向的偏振光由面光源射出的由偏振片吸收或反射的方向的偏振光;3外部光具體實(shí)施例方式以下先說(shuō)明本發(fā)明的偏振片的功能。其次說(shuō)明獲得該功能的偏振片的結(jié)構(gòu)等。(本發(fā)明的偏振片的功能)本發(fā)明的偏振片，從其一個(gè)面(A面)側(cè)入射時(shí)的總光線透射率為30~50%，總光線絕對(duì)反射率或總光線相對(duì)反射率的至少一方為30~50%，透射光的偏振光度為99%以上，從另一個(gè)面(B面)側(cè)入射時(shí)的總光線透射率為30~50%，總光線絕對(duì)反射率為0~30%。本發(fā)明的偏振片，通過(guò)制成這樣的光學(xué)特性的偏振片，可在利用A面呈現(xiàn)反射型的偏振光分離特性的同時(shí)，利用B面防止外部光的照入。即，向A面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，具有使某一方的偏振光成分透射，并且將與該一方的偏振光成分垂直的偏振光成分反射的偏振光分離功能。另外，從B面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，可具有使某一方的偏振光成分透射，并且使與該一方的偏振光成分垂直的偏振光成分消失的功能。其結(jié)果，在將本發(fā)明的偏振片作為液晶盒的下側(cè)的偏振片，并且設(shè)置成A面?zhèn)扰c光源相對(duì)的場(chǎng)合，可使從面光源側(cè)射出的光之中的、以往不能由下側(cè)偏振片吸收的偏振光成分，由于A面的反射型分離特性而反射到面光源側(cè)，從而進(jìn)行返回再利用。因此，與以往相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。另一方面，在外部光入射進(jìn)來(lái)的場(chǎng)合，可利用B面使外部光消失。其結(jié)果，能夠解決以往的反射型偏振片的、在黑色顯示時(shí)的外部光照入的問(wèn)題。從以上的情況來(lái)看，本發(fā)明的反射型偏振片，通過(guò)一片的偏振片就能夠兼?zhèn)涓吡炼鹊娘@示和鮮明的黑色顯示。本發(fā)明的偏振片，只要從A面入射光時(shí)的總光線透射率Tat為30%~50%即可。在此所說(shuō)的總光線透射率Tat,是使用受光器上具有積分球的分光光度計(jì)，從A面?zhèn)纫匀肷浣?。入射光時(shí)測(cè)定的值。更詳細(xì)地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡來(lái)測(cè)定其透射率時(shí)，測(cè)定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)TAmax、和與其垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)TAmin，由下述式(1)得到的、在波長(zhǎng)550nm下的值。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage13</formula>總光線透射率TAt優(yōu)選為32。/。50。/0，進(jìn)一步優(yōu)選為35~50%，特別優(yōu)選為37~50%。當(dāng)總光線透射率TAt不到30。/。時(shí)，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，不能使由面光源發(fā)出的光充分透射。其結(jié)果，得不到亮度提高效果。另外，總光線透射率TAt超過(guò)50。/。時(shí)，對(duì)比度降低，黑色顯示時(shí)發(fā)生漏光，圖4象變得不鮮明。在本發(fā)明的偏振片中，通過(guò)使從A面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線透射率Tat為30。/。~50%的范圍，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，與以往的偏振片相比，可制成高亮度、并且可鮮明顯示的偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片中，從B面入射光時(shí)的總光線透射率TBt為30%~50%。在此所說(shuō)的總光線透射率TBt，其特征是，在具備積分球的分光光度計(jì)中，從B面?zhèn)纫匀肷浣?。入射光時(shí)的總光線透射率TBt為30%~50%。更詳細(xì)地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡測(cè)定其透射率時(shí)，測(cè)定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)TBmax、和與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)TBmin，由下述式(2)得到的、在波長(zhǎng)550nm下的值。TBt(%)=(TBmax+TBmin)/2(2)總光線透射率TBt優(yōu)選為32%~50%，進(jìn)一步優(yōu)選為35~50%，特別優(yōu)選為37~50%。當(dāng)總光線透射率TBt不到30%時(shí)，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，不能夠使由面光源發(fā)出的光充分透射。其結(jié)果，得不到亮度提高效果。另外，當(dāng)總光線透射率TBt超過(guò)50。/。時(shí)，對(duì)比度降低，在黑色顯示時(shí)發(fā)生漏光，圖像變得不鮮明。在本發(fā)明的偏振片中，通過(guò)使從B面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線透射率TBt為30%~50%的范圍，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，與以往的偏振片相比，可制成高亮度、并且可鮮明顯示的偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片中，從A面入射光時(shí)的總光線絕對(duì)反射率RAt或總光線相對(duì)反射率R，At的至少一方為30%~50%。在此所說(shuō)的總光線絕對(duì)反射率Rat，是使用分光光度計(jì)，在向A面?zhèn)纫匀肷浣?°入射光時(shí)作為正反射測(cè)定的值。更詳細(xì)地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡，測(cè)定其絕對(duì)反射率時(shí)，測(cè)定其反射率最大的偏振光成分的絕對(duì)反射率(最大絕對(duì)反射率)RAmax、和與之垂直的方向的偏振光成分的絕對(duì)反射率(最小絕對(duì)反射率)RAmin，由下述式(3)得到的在波長(zhǎng)550nm下的值。RAt(%)=(RAmax+RAmin)/2(3)另外，所謂總光線相對(duì)反射率，是使用具有內(nèi)面為硫酸鋇制的積分球、10。傾斜間隔件的分光光度計(jì)、作為標(biāo)準(zhǔn)白色板的硫酸鋇，以入射角10°入射光時(shí)的作為擴(kuò)散反射而測(cè)定的值。更詳細(xì)地講，是在光源與樣品(實(shí)際上，光源與積分球)之間插入偏振光鏡測(cè)定其絕對(duì)反射率時(shí)，測(cè)定其反射率最大的偏振光成分的相對(duì)反射率(最大相對(duì)反射率)R，Amax、和與之垂直的方向的偏振光成分的相對(duì)反射率(最小相對(duì)反射率)R，Amin，由下述式(3，)得到的在波長(zhǎng)550nm下的值。R，At(%)=(R，Amax+R，Amin)/2(3，)總光線絕對(duì)反射率RAt或總光線相對(duì)反射率R，At優(yōu)選為32%~50%、進(jìn)一步優(yōu)選為35~50%,特別優(yōu)選為37~50%。總光線絕對(duì)反射率RAt以及總光線相對(duì)反射率R，At兩者不到30%時(shí)，光的利用效率降低，得不到亮度提高效果。另外，總光線絕對(duì)反射率RAt以及總光線相對(duì)反射率R，At兩者超過(guò)50%時(shí)，總光線透射率降低，不能使由面光源發(fā)出的光充分透射，其結(jié)果，得不到亮度提高效果。在本發(fā)明的偏振片中，通過(guò)使從A面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線絕對(duì)反射率RAt或總光線相對(duì)反射率R，At的任一方為30%~50%的范圍，與以往的偏振片相比，可制成更高亮度的偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片中，從B面入射光時(shí)的總光線絕對(duì)反射率RBt為0~25%。在此所說(shuō)的總光線絕對(duì)反射率RBt,是使用分光光度計(jì)，在向B面?zhèn)纫匀肷浣?。入射光時(shí)作為正反射而測(cè)定的值。更詳細(xì)地講，是在光源與樣品之間插入偏振光鏡測(cè)定其絕對(duì)反射率時(shí)，測(cè)定其反射率最大的偏振光成分的絕對(duì)反射率(最大絕對(duì)反射率)RBmax、和與之垂直的方向的偏振光成分的絕對(duì)反射率(最小絕對(duì)反射率)RBmin，由下述式(4)得到的在波長(zhǎng)550nm下的值。RBt(%)=(RBmax+RBmin)/2(4)總光線絕對(duì)反射率RBt優(yōu)選為0~25%，進(jìn)一步優(yōu)選為0~20%，特別優(yōu)選為0~15%，最優(yōu)選為0~10%?？偣饩€絕對(duì)反射率RBt超過(guò)30%時(shí)，在使液晶顯示為黑顯示時(shí)，外部光照入而反射，變得發(fā)白，圖像變得不鮮明。通過(guò)使從B面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線絕對(duì)反射率RBt為0~30%的范圍，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高亮度，一邊進(jìn)行鮮明的黑顯示。另夕卜，在本發(fā)明的偏振片中，從A面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的偏振光度為99%以上。在此所說(shuō)的偏振光度，是使用受光器上具有積分球的分光光度計(jì)，表示從A面?zhèn)纫匀肷浣?。入射光時(shí)的透射光的偏振光成分的比例的值。更詳細(xì)地講，是在樣品與受光器之間插入偏振光鏡，入射無(wú)偏振狀態(tài)的光，一邊使偏振光鏡的角度變化一邊測(cè)定透射率時(shí)，測(cè)定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)T，Amax、和與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)T，Amin,由下述式(5)得到的在波長(zhǎng)550nm下的值。偏振光度P=(T，Amax國(guó)T，Amin)/(T，Amax+T，Amin)xlOO(5)偏振光度優(yōu)選為99.2%以上，更優(yōu)選為99.5%以上。偏振光度不到99%時(shí)，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，不能充分得到亮度提高效果，另夕卜，在使液晶顯示為黑顯示時(shí)，不能充分隱蔽來(lái)自光源的光，發(fā)生漏光，顯示變得不鮮明。在本發(fā)明的偏振片中，通過(guò)使從A面?zhèn)热肷鋾r(shí)的透射光的偏振光度P為99。/o以上，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高亮度一邊進(jìn)行鮮明的黑顯示。本發(fā)明的偏振片，優(yōu)選其總膜厚為150fim以下。通過(guò)為該膜厚，與以往的偏振片相比，可制成薄的液晶顯示裝置。更優(yōu)選為120nm以下，進(jìn)一步優(yōu)選為llOjim以下，特別優(yōu)選為lOOjun以下。在此，所謂偏振片的總膜厚，是將構(gòu)成偏振片的各層全部包括在內(nèi)的厚度。作為本發(fā)明的偏振片的偏振光分離方式，只要是至少含有多層疊層方式、棱鏡方式、液晶排列方式、各向異性擴(kuò)散方式、線柵方式、以及將這些方式組合的方式等具有反射型的偏振光分離功能的方式的偏振光分離方式，則均可使用。其中，優(yōu)選至少含有薄型、單一結(jié)構(gòu)的、在寬的波長(zhǎng)區(qū)域可呈現(xiàn)高的偏振光分離性能的線柵方式。通過(guò)成為含有線柵方式的構(gòu)成，能夠制成對(duì)以往的偏振片而言成為問(wèn)題的對(duì)比度、亮度、耐熱性、薄型化全部兼?zhèn)涞钠衿?。以下基于附圖對(duì)具有上述功能的偏振片的例子進(jìn)行說(shuō)明。圖l是模式地說(shuō)明本發(fā)明的偏振片的圖。本發(fā)明的偏振片至少包括圖l(a)所示的、具有基材l、以設(shè)定的間隔配置的多個(gè)線狀的金屬層3、和以設(shè)定的間隔配置的多個(gè)線狀的黑色層2,并且上述多個(gè)線狀的金屬層3和上述多個(gè)線狀的黑色層2之中的至少任一方的層設(shè)置于上述基材上的結(jié)構(gòu)的偏振片(以下稱為"本發(fā)明的偏振片(1)");和圖1(b)所示的、具有基材l、在上述基材表面以設(shè)定的間隔排列的多個(gè)線狀的金屬層3、和與上述線狀的金屬層3接觸、并且將上述多個(gè)線狀的金屬層3被覆的透明層4的結(jié)構(gòu)的偏振片(以下稱為"本發(fā)明的偏振片(2)")。[本發(fā)明的偏振片(1)]本發(fā)明的偏振片(l)至少具有基材l;隔開(kāi)間隔而形成的多個(gè)線狀金屬層3;和隔開(kāi)間隔而形成的多個(gè)線狀黑色層2。在此，所謂線狀黑色層2，是指后面所定義的呈黑色的層。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)成為上述構(gòu)成，在利用線狀金屬層3來(lái)呈現(xiàn)反射型的偏振光分離特性的同時(shí)，利用線狀黑色層2來(lái)防止外部光的照入。在此，對(duì)于偏振片(l)的各面，1)在線狀金屬層3和線狀黑色層2形成于基材l的不同的面上的偏振片中，將形成有線狀金屬層3的面作為A面，將形成有線狀黑色層2的面作為B面；2)在線狀金屬層3和線狀黑色層2形成于基材1的同一面上的偏振片中，從與基材l面平行的線狀金屬層3與線狀黑色層2的界面起，將線狀金屬層3側(cè)的面作為A面，將線狀黑色層2側(cè)的面作為B面。另外，在與l)、2)的任一情況都不符合的情況下，測(cè)定兩面的反射率，將反射率更高的面作為A面，將反射率更低的面作為B面。從A面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，具有使與線狀金屬層3的縱向垂直的偏振光成分透射，并且將與該偏振光成分垂直的方向(與線狀金屬層3的縱向平行的方向)的偏振光成分反射的偏振光分離功能。而且，從B面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，具有使與線狀黑色層2的縱向垂直的方向的偏振光成分(與線狀黑色層2的縱向垂直的方向)透射，并JU吏與該偏振光成分垂直的方向(與線狀黑色層2的縱向平行的方向)的偏振光成分消失的功能。將本發(fā)明的偏振片(1)作為液晶盒的下側(cè)的偏振片，并且設(shè)置成A面?zhèn)仍诿婀庠磦?cè)的場(chǎng)合，可使從面光源側(cè)入射的光之中的、以往由下側(cè)偏振片吸收的偏振光成分由于線狀金屬層3的反射型分離特性而反射到面光源側(cè)從而進(jìn)行返回再利用。其結(jié)果，與以往相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。另外，在外部光入射的場(chǎng)合，能夠利用線狀黑色層2使外部光消失。其結(jié)果，黑色顯示時(shí)的外部光照入這一以往的反射型偏振片的問(wèn)題消除。即，本發(fā)明的反射型偏振片(1)，通過(guò)一片的偏振片即可一邊保持高亮度一邊進(jìn)行鮮明的黑顯示。(線狀黑色層)作為線狀黑色層2的黑色，表;見(jiàn)上呈黑色即可。作為呈現(xiàn)該黑色的方法，優(yōu)選使用1)在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域吸收光、2)在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域通過(guò)薄膜干涉而使光消失、3)將該1)和2)組合的方法等。在此，所謂l)r在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域吸收光』,是通過(guò)將入射到線狀黑色層2的光轉(zhuǎn)換成熱等的別的能量從而使光消失的方法。所謂2)r在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域通過(guò)薄膜干涉而使光消失J，是使由線狀黑色層2表面反射的光、和入射到線狀黑色層2的內(nèi)部并由背面等反射從而返回來(lái)的光由于相位的不同而相互抵消，由此使之消失的方法。在本發(fā)明的偏振片(1)中，作為構(gòu)成線狀黑色層2的例子，可舉出選自金、銀、銅、鉑、硅、硼、鈀、錸、釩、鋨、鈷、鐵、鋅、釕、鐠、鉻、鎳、鋁、錫、鋅、鈦、鉭、鋯、銻、銦、釔、鑭、鎂、釣、鈰、鉿、鋇等的任一群中的無(wú)機(jī)物、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氧化、亞氧化、次氧化而成的物質(zhì)、或者上述無(wú)機(jī)物群與使上述無(wú)^/L物群氧化、亞氧化、次氧化而成的物質(zhì)的混合物(以后將它們稱為無(wú)機(jī)氧化物(1))、使18以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氮化、亞氮化、次氮化而成的物質(zhì)、或上述無(wú)機(jī)物群與將上述無(wú)機(jī)物群氮化、亞氮化、次氮化而成的物質(zhì)的混合物(以后將它們稱為無(wú)機(jī)氮化物(1))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氮氧化、亞氮氧化、次氮氧化而成的物質(zhì)、或上述無(wú)機(jī)物群與4吏上迷無(wú)機(jī)物群氮氧化、亞氮氧化、次氮氧化而成的物質(zhì)的混合物(以后將它們稱為無(wú)機(jī)氮氧化物(1))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)碳化、亞碳化、次碳化而成的物質(zhì)、或上述無(wú)機(jī)物群與使上述無(wú)機(jī)物群碳化、亞碳化、次碳化而成的物質(zhì)的混合物(以后將它們稱為無(wú)機(jī)碳化物(1))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氟化和/或氯化和/或溴化和/或碘化(以下將這些稱為卣化)、亞卣化、次卣化而成的物質(zhì)、上述無(wú)機(jī)物群與使上述無(wú)機(jī)物群卣化、亞卣化、次囟化而成的物質(zhì)的混合物(以后將它們稱為無(wú)機(jī)卣化物(1))、或上述無(wú)機(jī)物群與使上述無(wú)機(jī)物群硫化、亞硫化、次硫化而成的物質(zhì)的混合物(以后將它們稱為無(wú)機(jī)硫化物(1))、以及石墨狀碳、類(lèi)似金剛石的碳等的碳系化合物(以后將它們稱為碳系化合物(1))等的無(wú)機(jī)物群、酞胥、偶氮化合物、吡啶系化合物、酞菁系化合物、卟啉系化合物、花青系化合物、部花青系化合物、香豆素系化合物、聚次甲基(polymethine)系化合物、紅汞系化合物、曙紅系化合物等與上述無(wú)才幾物群配位形成的有機(jī)金屬配位化合物系化合物、異丐l咪啉酮化合物、蒽醌化合物、次甲基化合物、丙烯酰胺化合物、二酮氯苯酚化合物、喹吖咬酮化合物、萘酚化合物、苯并咪唑啉化合物、硫欷化合物、二萘嵌苯系化合物等的芳香族系有機(jī)化合物等的有機(jī)物群、以及它們的混合物等。其中，特別是無(wú)機(jī)氧化物(1)、無(wú)機(jī)氮化物(1)、無(wú)機(jī)氮氧化物(1)、無(wú)機(jī)碳化物(1)、無(wú)機(jī)閨化物(1)、無(wú)機(jī)硫化物(1)、碳系化合物(1)，從光消失效率高的方面考慮是更優(yōu)選的。另外，上述材料只要在線狀黑色層2中至少含有即可，但更優(yōu)選是主成分。另外，將在線狀黑色層中超過(guò)50重量％的情況定義為主成分。在本發(fā)明的偏振片(1)中，作為線狀黑色層2，可以是至少含有上述材料的單一的層，也可以是由多個(gè)層構(gòu)成的疊層結(jié)構(gòu)。在為疊層結(jié)構(gòu)的場(chǎng)合，通過(guò)控制各層的疊層厚度，可更加提高光的消失效果，或使更寬范圍的波長(zhǎng)區(qū)域的光消失。在本發(fā)明的偏振片(1)中，作為線狀黑色層2，形成于膜厚100nm的鋁的蒸鍍膜(基材表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7))上時(shí)，是以線狀周期性地形成多個(gè)下述層而成的黑色層，所述層為使用該線狀黑色層2形成前的總光線絕對(duì)反射率Ra、線狀黑色層2形成后的總光線絕對(duì)反射率Rb,由下述式(6)求得的光消失率(消光率)L，作為應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域全體的平均值為40%以上的層。光消失率<formula>formulaseeoriginaldocumentpage20</formula>在此，所謂線狀黑色層2形成前的絕對(duì)反射率Ra、線狀黑色層2形成后的絕對(duì)反射率Rb，是采用分光光度計(jì)分別以入射角5。入射無(wú)偏振狀態(tài)的光時(shí)作為正反射而測(cè)定的值。優(yōu)選由上述式(6)得到的消失率為50%以上，更優(yōu)選為60%以上。光消失率L不到40。/。時(shí)，在4吏液晶顯示為黑顯示時(shí)，外部光照入并反射，變得發(fā)白，有時(shí)圖像變得不鮮明，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使光消失率L為40%以上，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高亮度一邊進(jìn)行鮮明的黑顯示。在本發(fā)明的偏振片(1)中，作為線狀黑色層2，優(yōu)選至少含有在使用波長(zhǎng)下吸收光的物質(zhì)。即，在用于液晶顯示裝置的場(chǎng)合，優(yōu)選至少含有具有在400~800nm的可見(jiàn)光區(qū)域吸收光的特性的物質(zhì)。在上述的呈現(xiàn)黑色的方法中，在1)r在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域吸收光J的方法中，含有吸收光的物質(zhì)是必需的要件，但在2)r在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域通過(guò)薄膜干涉而使光消失J的方法中，通過(guò)使材料具有光吸收性，(即，3)將1)和2)組合的方法)，可降低角度依賴性和波長(zhǎng)依賴性。(線狀金屬層)另外，在本發(fā)明的偏振片(1)中，優(yōu)選線狀金屬層3是「由高反射性金屬構(gòu)成的層J、和/或r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層j。另外，可以是它們混合的層，也可以是疊層的結(jié)構(gòu)。在此，「由高反射性金屬構(gòu)成的層J是由單一的金屬構(gòu)成的線狀金屬層3、或以由多種金屬構(gòu)成的合金形成的線狀金屬層3。優(yōu)選是一層或者由不同的材質(zhì)構(gòu)成的二層以上的疊層結(jié)構(gòu)。在為由不同的材質(zhì)構(gòu)成的二層以上的疊層結(jié)構(gòu)的場(chǎng)合，只要至少一層是由高反射性金屬構(gòu)成的層即可。例如，反射性低的金屬氧化物等層疊于線狀金屬層3表面也可以。另外，在使用容易氧化的高反射性金屬的場(chǎng)合，優(yōu)選預(yù)先在線狀金屬層3表面形成由該高反射性金屬的氧化物或其他金屬的氧化物構(gòu)成的透明層來(lái)作為保護(hù)層，以提高隨時(shí)間遷移的穩(wěn)定性。另外，r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J中所含的高反射性金屬粒子以及由高反射性金屬被覆的粒子，其粒徑優(yōu)選為1~100nm，更優(yōu)選為1~50nm。在此所說(shuō)的粒徑，是指中值徑d50。粒徑為100nm以下的金屬粒子，熔合溫度降低，因此即使在例如200-300。C下的低溫?zé)崽幚?，粒子也開(kāi)始連結(jié)，呈現(xiàn)作為金屬的特性，提高光反射性，因此優(yōu)選。另夕卜，當(dāng)粒徑為50nm以下時(shí)，通過(guò)更^f氐溫并且短時(shí)間的熱處理，粒子就熔合，因此更優(yōu)選。這些粒子的形狀不特別限定，無(wú)論是怎樣的形態(tài)都能夠優(yōu)選使用。另外，由高反射性金屬被覆的內(nèi)層的粒子，例如為丙烯酸樹(shù)脂等的交聯(lián)樹(shù)脂粒子、二氧化硅、氧化鋁等的無(wú)機(jī)粒子等、可不特別限定而優(yōu)選使用。這些高反射性金屬粒子、由高反射性金屬粒子被覆的粒子，優(yōu)選通過(guò)單獨(dú)的粒子、或粒子與分散劑的組合、進(jìn)而粒子與分散劑與作為粘合劑的熱塑性樹(shù)脂、光固性樹(shù)脂、熱固性樹(shù)脂中的任一種或以這些樹(shù)脂的混合物為主成分的樹(shù)脂組合物組合，來(lái)形成r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J。在本發(fā)明的偏振片(1)中，作為高反射性金屬，優(yōu)選是選自鋁、鉻、銀、銅、鎳、鉑和金中的金屬以及以這些金屬為主成分的合金。在此，所謂作為主成分，是指線狀金屬層3中的該金屬的含量超過(guò)50重量％。另外，所謂高反射性，是指在使用的光的波長(zhǎng)區(qū)域顯示高反射率。具體地講是指，在表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7)上以100nm的厚度形成金屬層，從該金屬層側(cè)入射時(shí)的反射率在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域全體中為75%以上。更優(yōu)選為80%21以上，進(jìn)一步優(yōu)選為85%以上。使用反射率不到75%的金屬作為線狀金屬層3的場(chǎng)合，光學(xué)損耗增多，不能充分得到光利用效率；有時(shí)即使光學(xué)損耗小，偏振光度也降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使用反射率為75。/。以上的金屬，不僅可提高光利用效率，而且可得到高的偏振光度。上述金屬之中的鋁、鉻、銀，在可見(jiàn)光區(qū)域的全域中反射率高，因此更優(yōu)選。(本發(fā)明的偏振片(1)的形態(tài))本發(fā)明的偏振片(1)，在基材1上，分別隔開(kāi)間隔地形成多個(gè)的、上述的線狀黑色層2和線狀金屬層3。對(duì)于本發(fā)明的偏振片(l)的形態(tài)，用圖2~圖10進(jìn)4亍詳細(xì)說(shuō)明。圖2~4表示使用表面平坦的基材1時(shí)的優(yōu)選的方式的例子。圖5~10是以具有斷面為矩形的凸部11的線狀的凹凸結(jié)構(gòu)(以下稱為線狀凹凸結(jié)構(gòu))10為例，表示線狀黑色層2和線狀金屬層3的優(yōu)選的方式的例子的圖。例如，在使用表面平坦的基材l時(shí)，作為線狀黑色層2和線狀金屬層3的相對(duì)關(guān)系，可舉出下述的情況來(lái)作為優(yōu)選的例子如圖2(a)~(h)那樣，線狀黑色層2和線狀金屬層3相對(duì)于基材1在其相同側(cè)的表面形成的情況；如圖2(i)~(j)那樣，線狀黑色層2和線狀金屬層3相對(duì)于基材l在相反側(cè)形成的情況；等等。在線狀黑色層2和線狀金屬層3相對(duì)于基材1在相同側(cè)的表面形成的情況下，可舉出下述情況作為優(yōu)選的例子在基材1上形成線狀金屬層3,并在該線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的情況(圖2(a));在基材1上形成線狀黑色層2，并在該線狀黑色層2上形成線狀金屬層3的情況(圖2(b));在基材1上直接形成線狀黑色層2和線狀金屬層3兩者的情況(圖2(c)、(d));或者，將這些情況組合的情況(圖2(e)~(h);等等。另外，線狀黑色層2和線狀金屬層3相對(duì)于基材1在反對(duì)側(cè)形成的場(chǎng)合，可舉出下述情況作為優(yōu)選的例子線狀黑色層2和線狀金屬層3存在相對(duì)于膜面對(duì)稱的位置關(guān)系的情況(圖2(i));線狀黑色層2和線狀金屬層3不存在相對(duì)于膜面對(duì)稱的位置關(guān)系的情況(圖2(j));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。但是，在圖2(j)中，線狀黑色層2的線狀寬度w21的寬度小于線狀金屬層3間的寬度w32，或線狀金屬層的寬度w31小于線狀黑色層2間的寬度w22的寬度。在基材1上形成的情況下的線狀黑色層2的斷面形狀，作為優(yōu)選的例子例如可舉出矩形(圖3(a))、梯形(圖3(b))、三角形(圖3(c))或它們的角、側(cè)面為曲線狀的形狀(圖3(d)~(f))、以及將這些形狀的上下顛倒而成的形狀；等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在，另外，并不限于這些形態(tài)，只要是在面內(nèi)隔開(kāi)間隔地形成多個(gè)線狀黑色層2，就可優(yōu)選使用。另外，在基材1上形成的場(chǎng)合的線狀金屬層3的斷面形狀，作為優(yōu)選的例子例如可舉出矩形(圖3(g))、梯形(圖3(h))、三角形(圖3(i))或它們的角、側(cè)面為曲線狀的形狀(圖3(j)~(1))、以及將這些形狀的上下顛倒而成的形狀；等等，但并不限于這些形態(tài)，只要是在面內(nèi)隔開(kāi)間隔地形成多個(gè)線狀金屬層3,就可優(yōu)選使用。另外，圖4(a)表示具有圖3(a)的斷面形狀的基材l的立體圖，圖4(b)表示具有圖3(g)的斷面形狀的基材l的立體圖，分別表另外，在基材1的一側(cè)具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的場(chǎng)合，線狀黑色層2和線狀金屬層3的相對(duì)的關(guān)系，作為優(yōu)選的例子可舉出線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上，線狀金屬層3形成于平坦面?zhèn)鹊那闆r(圖5);線狀黑色層2形成于平坦面?zhèn)?，線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上的情況(圖6);一f壬一方都形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO上的情況(圖7、圖8);任一方都形成于平坦面?zhèn)鹊那闆r(與圖2(a)~(h)同樣)；等等。線狀黑色層2形成于基材1的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10側(cè)，線狀金屬層3形成于基材1的平坦面?zhèn)鹊膱?chǎng)合，對(duì)于其位置關(guān)系，作為優(yōu)選的例子可舉出線狀金屬層3形成于基材1的線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的凸部11的背側(cè)的情況(圖5(a)~(e));線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凹部的背側(cè)的情況(圖5(f)~(j));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。但是，在圖5(f)~(j)中，線狀黑色層2的寬度w21的寬度小于線狀金屬層3間的寬度w32，或線狀金屬層的寬度w31小于線狀黑色層2間的寬度w22的寬度。另外，線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10側(cè)，線狀黑色層2形成于平坦面?zhèn)鹊膱?chǎng)合，對(duì)于其位置關(guān)系，作為優(yōu)選的例子可舉出線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的背側(cè)的情況(圖6(a)~(e));線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凹部的背側(cè)的情況(圖6(f)(j));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。但是，在圖6(e)~(i)中，線狀黑色層2的寬度w21的寬度小于線狀金屬層3間的寬度w32,或線狀金屬層的寬度w31小于線狀黑色層2間的寬度w22的寬度。另外，對(duì)于線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上，接著線狀金屬層3也形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO上的情況下的位置關(guān)系、形態(tài)，以線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的頂部的情況(圖9(a))為例，作為優(yōu)選的例子可舉出線狀黑色層2和線狀金屬層3相接觸而形成的情況(圖7(a)~(d));線狀金屬層3與線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO接觸而形成的情況(圖7(e)~(f));線狀金屬層3與線狀黑色層2和線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO兩者接觸的情況(圖7(g)~(i));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。另外，對(duì)于線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上，接著線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO上的情況下的位置關(guān)系、形態(tài)，以線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的頂部的情況(圖9(f))為例，作為優(yōu)選的例子可舉出線狀金屬層3和線狀黑色層2相接觸而形成的情況(圖8(a)~(d));線狀黑色層2與線狀凹凸結(jié)構(gòu)10接觸而形成的情況(圖8(e)~(f));線狀黑色層2與線狀金屬層3和線狀凹凸結(jié)構(gòu)10兩者接觸的情況(圖8(g)~(i));等等。更優(yōu)選包含在基材表面的法線方向線狀黑色層2和線狀金屬層3層疊的結(jié)構(gòu)(圖8(a)、(c)、(d)、(h)、(0)。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。在此，作為線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10側(cè)的場(chǎng)合的線狀黑色24層2的形態(tài)，除了線狀黑色層2形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的頂部的情況(圖9(a))以外，作為優(yōu)選的例子還可舉出形成于相鄰的凸部11間、即形成于凹部12的情況(圖9(b));形成于凸部ll的側(cè)面的情況(圖9(c));形成于凸部11的周?chē)那闆r(圖9(d));或以將它們組合的形狀形成的情況(例如圖9(e));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。另外，作為線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10側(cè)的場(chǎng)合的線狀金屬層3的形態(tài)，除了線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的頂部的情況(圖9(f))以外，作為優(yōu)選的例子還可舉出形成于相鄰的凸部11間、即形成于凹部12的情況(圖9(g));形成于凸部ll的側(cè)面的情況(圖9(h));形成于凸部11的周?chē)那闆r(圖9(i));或以將它們組合的形狀形成的情況(例如圖9(j));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。圖10(a)表示具有圖9U)的斷面形狀的基材1的立體圖，圖10(b)表示具有圖9(f)的斷面形狀的基材l的立體圖，分別表示出以線狀在基材1表面上形成線狀黑色層2、以及在基材1表面上形成線狀金屬層3的情形。在此，在本發(fā)明的偏振片(1)中，上述的形狀之中的線狀黑色層2和線狀金屬層3的位置關(guān)系，從兼?zhèn)涓咄干渎省⒏吖饫眯屎鸵种仆獠抗夥瓷涞姆矫婵紤]，優(yōu)選如圖2(a)~(b)、(e)~(i)、圖5(a)~(d)、(j)、圖6(a)~(d)、(j)、圖7(a)、(c)(d)、(h)~(i)，圖8(a)、(c)(d)、(h)~(i)那樣，通過(guò)線狀黑色層2，與線狀黑色層2的縱向平行，并且在與膜面垂直的面內(nèi)存在線狀金屬層3(或者，通過(guò)線狀金屬層3，與線狀金屬層3的縱向平行，并且在與膜面垂直的面內(nèi)存在線狀黑色層2)。特別是從加工容易的方面考慮，更優(yōu)選如圖2(a)、(e)、(g)、圖8(a)、(c)、(d)、(h)、(i)那樣在線狀金屬層3上形成線狀黑色層2，或者，如圖2(b)、(f)、(h)、圖7(a)、(c)、(d)、(h)、(i)那樣在線狀黑色層2上形成線狀金屬層3。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)成為上述的構(gòu)成，可在維持作為反射型偏振片的高透射率、高偏振光度、光利用效率的狀態(tài)下抑制外部光的反射。其結(jié)果，可制成能夠以對(duì)于以往的反射型偏振片而言較困難的、與下側(cè)偏振片置換并粘貼成液晶盒的形式使用、并且通過(guò)光的再利用而可提高亮度的偏振片。在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀黑色層2的膜厚h2優(yōu)選為1~200nm。通過(guò)使之為該膜厚，除了由黑色層形成材料進(jìn)行光吸收外，還可利用薄膜干涉效應(yīng)，因此優(yōu)選。在此所說(shuō)的線狀黑色層2的膜厚h2，是沿本發(fā)明的偏振片的膜厚方向測(cè)定的膜厚，只要在基材1上的至少一部分上以滿足上述范圍的膜厚形成線狀黑色層2即可。特別是如圖2U)、(e)、(g)、圖8(a)、(c)、(d)、(h)、(i)那樣在線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的場(chǎng)合，優(yōu)選從線狀金屬層3的頂部上形成上述厚度的線狀黑色層2。線狀黑色層2的膜厚，更優(yōu)選為1~200nm，進(jìn)一步優(yōu)選為1~100nm，特別優(yōu)選為1~50nm。線狀黑色層2的膜厚h2不到lnm時(shí)，不能得到充分的抑制外部光反射的效果，因此不優(yōu)選。另外，當(dāng)線狀黑色層2的膜厚h2超過(guò)200nm時(shí)，會(huì)不必要地吸收透射光，有時(shí)透射率降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使線狀黑色層2的膜厚h2在1~200nm的范圍，可制成兼?zhèn)涓咄干渎屎鸵种仆獠抗夥瓷涞男Ч钠衿Ａ硗?，在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀黑色層2的寬度w21與線狀黑色層2的間距p2之比w21/p2優(yōu)選為0.1~0.7。在此，用于算出該比率的線狀黑色層2的寬度w21、間距p2，是在與線狀黑色層2的縱向垂直的斷面上，在與基材l面平行的方向測(cè)定的線狀黑色層2的寬度以及重復(fù)單位。更優(yōu)選w21/p2為0.2~0.6，進(jìn)一步優(yōu)選為0.3~0.6。當(dāng)該比率超過(guò)0.7時(shí)，光利用效率和透射率降低，因此不優(yōu)選。另外，w21/p2不到0.1時(shí)，不能得到充分的抑制外部光反射的效果，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使線狀黑色層2的寬度w21與間距p2之比w21/p2在0.1~0.7的范圍，能夠得到兼?zhèn)涓咄干渎屎鸵种仆獠抗夥瓷涞男Ч钠衿?。在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀黑色層2的間距p2、寬度w21根據(jù)應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域來(lái)適宜選擇即可。例如，按以下所述來(lái)形成為了應(yīng)用于波長(zhǎng)800~4000nm的近紅外-紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域，間足巨p2=50~800nm、寬度w21=20~780nm，另夕卜，為了應(yīng)用于波長(zhǎng)400~800nm的可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域，間距p2-50400nm、寬度w21=20~380nm，等等。通過(guò)形成該尺寸的線狀黑色層2，在分別應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域，可不降低偏振光特性而呈現(xiàn)抑制外部光反射的效果。特別是應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，對(duì)于間距p2，當(dāng)超過(guò)400nm時(shí)，可見(jiàn)光的短波長(zhǎng)區(qū)域的偏振光度降低，因此不優(yōu)選。另外，當(dāng)間距p2小于50nm時(shí)，變得難以形成線狀黑色層2，因此不優(yōu)選。間距p2更優(yōu)選為70~200nm，進(jìn)一步優(yōu)選為80~160nm，特別優(yōu)選為80~140nm。另外，對(duì)于寬度w21，當(dāng)比20nm狹窄時(shí)，成形變得困難。另外，即使能夠成形，有時(shí)防照入的效果也降低，因此不優(yōu)選。另外，關(guān)于寬度w21，當(dāng)在應(yīng)用于近紅外光區(qū)域的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于780nm、在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于380nm時(shí)，開(kāi)口率變得非常低，光線透射率變低，本來(lái)應(yīng)該透射的方向的偏振光也吸收，有時(shí)偏振光度降低，因此不優(yōu)選。關(guān)于寬度w21，在應(yīng)用于近紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20300nm、最優(yōu)選為20~200nm,在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~150nm、最優(yōu)選為25~100nm。間距p2以及寬度w21，為了在面內(nèi)保持防反射特性、偏振光特性的均一性，優(yōu)選為一定。如果在上述范圍內(nèi)，則各種的間距以及寬度混雜也可以。另外，當(dāng)以應(yīng)用于可見(jiàn)光區(qū)域的形狀制作偏振片時(shí)，不僅可見(jiàn)光區(qū)域，在作為更長(zhǎng)波長(zhǎng)的近紅外線區(qū)域、紅外線區(qū)域也能夠呈現(xiàn)抑制反射效果。因此，也可作為近紅外線用或紅外線用的偏振片使用。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的膜厚h3優(yōu)選為10~200nm。在此所說(shuō)的線狀金屬層3的膜厚h3，是沿本發(fā)明的偏振片(1)的膜厚方向測(cè)定的膜厚，只要在基材1上的至少一部分上以滿足上述范圍的膜厚形成線狀金屬層3即可。線狀金屬層3的膜厚h3，更優(yōu)選為30~200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為40~200nm。線狀金屬層3的膜厚h3不到10nm時(shí)，27有時(shí)得不到充分的偏振光度，未發(fā)揮偏振片的功能；得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優(yōu)選。線狀金屬層3的膜厚h3超過(guò)200nm時(shí)，變得難以形成，通過(guò)形成線狀金屬層3，凸部寬度變大，其結(jié)果，不能確保充分的開(kāi)口率，因此透射率降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使線狀金屬層3的膜厚在10~200nm的范圍，可制成兼?zhèn)漭^高的透射率和偏振光度、光利用效率的偏振片。在此，在本發(fā)明的偏振片(1)中，在基材1表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的場(chǎng)合，為了得到高的光利用效率和高透射率，更優(yōu)選線狀金屬層3只在凸部ll周邊形成(例如，圖7(a)(d)、(g)(i)、圖8等)。該場(chǎng)合下，將在凸部11上形成的線狀金屬層3膜厚和凸部11的高度h合計(jì)的高度更優(yōu)選為400nm以下。合計(jì)的高度超過(guò)400nm時(shí)，有時(shí)偏振光特性依賴于光的入射角度，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使在凸部11上形成的線狀金屬層3膜厚與凸部11的高度h合計(jì)的高度設(shè)為400nm以下，可不依賴于光的入射角度而得到均一的偏振光特性。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的寬度w31與線狀金屬層3的間距p3之比w31/p3優(yōu)選為0.1~0.7。在此，為計(jì)算該比率而需要的線狀金屬層3的寬度w31、間距p3，是在與線狀黑色層2的縱向垂直的斷面上，沿與基材l面平行的方向測(cè)定的線狀黑色層2的寬度以及重復(fù)單位。更優(yōu)選w31/p3為0.2~0.6、進(jìn)一步優(yōu)選為0.3~0.6。w31/p3超過(guò)0.7時(shí)，透射率降低，因此不優(yōu)選。另外，該比率不到0.1時(shí)，得不到充分的偏振光度，得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使線狀金屬層3的寬度w31與間距p3之比w31/p3在0.1~0.7的范圍，可制成兼?zhèn)涓叩耐干渎屎推窆舛?、光利用效率的偏振片。在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的間距p3、寬度w31只要根據(jù)應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域適宜選擇即可。例如，按以下所述來(lái)形成為了應(yīng)用于波長(zhǎng)800~4000nm的近紅外-紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域，間距p3=50~800nm、寬度w31=20~780nm,另外，為了應(yīng)用于波長(zhǎng)400~800nm的可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域，間距p3-50400nm、寬度w31=20~380nm，等等。通過(guò)形成該尺寸的線狀金屬層3，能夠在分別應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域呈現(xiàn)高的偏振光特性。特別是應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，對(duì)于間距p3，當(dāng)超過(guò)400nm時(shí)，可見(jiàn)光的短波長(zhǎng)區(qū)域的偏振光度降低，因此不優(yōu)選。另外，當(dāng)間距p3小于50nm時(shí)，變得難以形成線狀金屬層2，因此不優(yōu)選。間距p3更優(yōu)選為70~200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為80~160nm、特別優(yōu)選為80~140nm。另外，對(duì)于寬度w31，當(dāng)比20nm窄時(shí)，成形變得困難。另外，即使能夠成形，有時(shí)防照入的效果也降低，因此不優(yōu)選。另外，關(guān)于寬度w31，當(dāng)在應(yīng)用于近紅外光區(qū)域的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于780nm、在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于380nm時(shí)，開(kāi)口率變得非常低，光線透射率變低，或本來(lái)應(yīng)該透射的方向的偏振光也反射，有時(shí)偏振光度降低，因此不優(yōu)選。對(duì)于寬度w31，在應(yīng)用于近紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20300nm、最優(yōu)選為20~200nm,在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~150nm、最優(yōu)選為25~100nm。間距p3以及寬度w31，為了在面內(nèi)保持偏振光特性的均一性，優(yōu)選為一定。另外，如果在上述范圍內(nèi)，則也可以各種的間距以及寬度混雜。另外，當(dāng)以應(yīng)用于可見(jiàn)光區(qū)域的形狀制作偏振片時(shí)，不僅可見(jiàn)光區(qū)域，在作為更長(zhǎng)波長(zhǎng)的近紅外線區(qū)域、紅外線區(qū)域也能夠呈現(xiàn)偏振光特性。即，也能夠作為近紅外線用或紅外線用的偏振片使用。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)中，線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31之比h3/w31優(yōu)選為0.5以上。更優(yōu)選為0.6以上、進(jìn)一步優(yōu)選為0.7以上、特別優(yōu)選為0.8以上、最優(yōu)選為1.0以上。h3/w31不到0.5時(shí)，得不到充分的偏振光度，或得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)中，通過(guò)使線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31之比h3/w31為0.5以上，能夠制成兼?zhèn)涓叩耐干渎屎推窆舛?、光利用效率的偏振片。[本發(fā)明的偏振片(2)]本發(fā)明的偏振片(2)至少具有基材l;在上述基材表面以設(shè)定的間隔排列的多個(gè)線狀的金屬層3;與上述線狀的金屬層接觸，并將上述多個(gè)線狀的金屬層被覆的透明層4。在此，所謂透明層4,是指實(shí)質(zhì)上不吸收光的層。在本發(fā)明的偏振片(2)中，連續(xù)的透明層4以與按設(shè)定的間隔排列的多個(gè)線狀金屬層3接觸的方式被覆。通過(guò)該構(gòu)成，可在利用線狀金屬層3呈現(xiàn)反射型的偏振光分離特性的同時(shí)，利用透明層4來(lái)防止外部光的照入。具體地講，在偏振片(2)中，相比于與上述基材l面平行的上述線狀的金屬層3和上述透明層4的界面，線狀金屬層3側(cè)作為A面、透明層4側(cè)作為B面。另外，在無(wú)論如何也不符合的場(chǎng)合，測(cè)定兩面的反射率，反射率更高的面作為A面、反射率更低的面作為B面。從A面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，具有使與線狀金屬層3的縱向垂直的偏振光成分透射、并且將與該偏振光成分垂直的方向(與線狀金屬層3的縱向平行的方向)的偏振光成分反射的偏振光分離功能。進(jìn)而從B面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，由于透明層4透明，因此與線狀金屬層3的縱向垂直的方向的偏振光成分(與線狀金屬層2的縱向垂直的方向)不^^皮阻礙而進(jìn)行透射。另外，在與該偏振光成分垂直的方向(與線狀金屬層3的縱向平行的方向)的偏振光成分^L^射時(shí)，可具有下述功能，即，由于由線狀金屬層2與透明層4的界面反射的光、和由透明層4的表面反射的光的相位不同，從而相互抵消，由此使光消失。其結(jié)果，在作為液晶盒的下側(cè)的偏振片、并且設(shè)置成A面?zhèn)葹槊婀庠磦?cè)的場(chǎng)合，從面光源側(cè)入射的光之中的、以往由下側(cè)偏振片吸收的偏振光成分由于線狀金屬層3的反射型分離特性而反射到面光源側(cè)，可進(jìn)行返回再利用。因此，與以往相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。而且，對(duì)于以往的反射型偏振片成為問(wèn)題的黑色顯示時(shí)的外部光的照入，在外部光入射進(jìn)來(lái)時(shí)，可利用透明層4使外部光消失。即，本發(fā)明的反射型偏振片(1)，通過(guò)一片的偏振片就能夠一邊保持高亮度一邊進(jìn)行鮮明的黑顯示。在本發(fā)明的偏振片(2)中，作為構(gòu)成透明層4的例子，可舉出將選自金、銀、銅、鉑、硅、硼、鈀、錸、釩、鋨、鈷、鐵、鋅、釕、鐠、鉻、30鎳、鋁、錫、鋅、鈦、鉭、鋯、銻、銦、釔、鑭、鎂、釣、鈰、鉿、鋇、等的任一群中的無(wú)機(jī)物群作為主成分的物質(zhì)氧化、亞氧化、次氧化而成的物質(zhì)(以后將它們稱為無(wú)機(jī)氧化物(2))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氮化、亞氮化、次氮化而成的物質(zhì)(以后將它們稱為無(wú)機(jī)氮化物(2))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氮氧化、亞氮氧化、次氮氧化而成的物質(zhì)(以后將它們稱為無(wú)機(jī)氮氧化物(2))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)碳化、亞碳^f匕、次碳化而成的物質(zhì)(以后將它們稱為無(wú)機(jī)碳化物(2))、使以上述無(wú)機(jī)物群為主成分的物質(zhì)氟化和/或氯化和/或溴化和/或碘化(以下將它們稱為鹵化)、亞鹵化、次鹵化而成的物質(zhì)(以后將它們稱為無(wú)機(jī)卣化物(2))、類(lèi)似金剛石的碳等的碳系化合物(以后稱為碳系化合物(2))、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二曱酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二曱酸丙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯系樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸曱酯等丙烯酸系樹(shù)脂、聚乙烯、聚丙烯、聚曱基戊烯、脂環(huán)式聚烯烴樹(shù)脂等的聚烯烴系樹(shù)脂、聚酰胺系樹(shù)脂、聚;友酸酯、聚苯乙烯、聚醚、聚酯酰胺、聚醚酯、聚氯乙烯、聚乙烯醇等的樹(shù)脂化合物、以及它們的混合物。其中，特別是從利用蒸鍍法可高精度地形成均勻的膜的方面考慮，更優(yōu)選無(wú)機(jī)氧化物(2)、無(wú)機(jī)氮化物(2)、無(wú)機(jī)氮氧化物(2)、無(wú)機(jī)碳化物(2)、無(wú)機(jī)囟化物(2)、碳系化合物(2)。另外，上述材料，只要在透明層4中至少含有即可，更優(yōu)選作為主成分。另外，將在該層中超過(guò)50重量％的情況定義為主成分。在本發(fā)明的偏振片(2)中，作為透明層4，可以是至少含有上述材料的單一的層，也可以是由多個(gè)層構(gòu)成的疊層結(jié)構(gòu)。在為疊層結(jié)構(gòu)的場(chǎng)合，通過(guò)控制各層的疊層厚度，可更加提高光消失效果，使更寬范圍的波長(zhǎng)區(qū)域的光消失。在本發(fā)明的偏振片(2)中，透明層4是在使用波長(zhǎng)下實(shí)質(zhì)上不吸收光的層。即，是在用于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，在400~800nm的可見(jiàn)光區(qū)域?qū)嵸|(zhì)上不吸收光的層。在此，所謂實(shí)質(zhì)上不吸收光，是在表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7))表面形成了透明層4時(shí)，采用從其形成面入射光時(shí)的總光線透射率Tp、總光線絕對(duì)反射率RP，由下述式(7)求得的光吸收率A，作為應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域全體的平均值為20%以下。光吸收率A(%)=100-(TP+R卩)(7)在此，所謂總光線透射率Tp，是使用受光器上具有積分球的分光光度計(jì)，以入射角0。入射無(wú)偏振狀態(tài)的光時(shí)測(cè)定的值。所謂總光線絕對(duì)反射率R卩，是在分光光度計(jì)中，以入射角5。入射無(wú)偏振狀態(tài)的光時(shí)作為正反射而測(cè)定的值。優(yōu)選由上述式(7)得到的光吸收率A為15%以下、進(jìn)一步優(yōu)選為10%以下。光吸收率A超過(guò)20。/。時(shí)，偏振片的總光線透射率降低，不能使由面光源發(fā)出的光充分透射，有時(shí)得不到亮度提高效果，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)使透明層4的光吸收率A為20%以下，在組裝于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合，與以往的偏振片相比，可一邊保持高的亮度，一邊進(jìn)行鮮明的黑顯示。另外，在本發(fā)明的偏振片(2)中，線狀金屬層3優(yōu)選是r由高反射性金屬構(gòu)成的層」和/或「含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層」。另外，可以是混合有高反射性金屬和由高反射性金屬被覆的粒子的層，也可以是疊層了的結(jié)構(gòu)。在此，所謂「由高反射性金屬構(gòu)成的層」，是由單一的金屬、或由多種金屬形成的合金構(gòu)成的線狀金屬層3?？蓛?yōu)選使用一層或者由不同的材質(zhì)構(gòu)成的二層以上的疊層結(jié)構(gòu)。在為由不同的材質(zhì)構(gòu)成的二層以上的疊層結(jié)構(gòu)時(shí)，只要至少一層是由高反射性金屬構(gòu)成的層即可，例如，可以將反射性低的金屬氧化物等層疊于線狀金屬層3表面。特別是，在使用容易氧化的高反射性金屬的場(chǎng)合，可優(yōu)選預(yù)先在線狀金屬層3表面形成由該金屬的氧化物構(gòu)成的透明層作為保護(hù)層，來(lái)提高隨時(shí)間遷移的穩(wěn)定性。另外，r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J中所含的高反射性金屬粒子以及由高反射性金屬被覆的粒子，其粒徑優(yōu)選為l~100nm，進(jìn)一步優(yōu)選為l~50nm。在此所說(shuō)的粒徑是指中值徑d50。粒徑為100nm以下的金屬粒子其熔合溫度降低。因此，例如通過(guò)在200300。C下的低溫?zé)崽幚恚Ｗ蛹撮_(kāi)始連結(jié)，呈現(xiàn)作為金屬的特性，并提高光反射性，因此優(yōu)選。另外，粒徑為50nm以下時(shí)，通過(guò)更低溫并且短時(shí)間的熱處理，粒子就熔合，因此是進(jìn)一步優(yōu)選的。這些粒子的形狀不特別限定，無(wú)論是怎樣的形態(tài)都可優(yōu)選^f吏用。另外，由高反射性金屬被覆的內(nèi)層的粒子，例如為丙烯酸樹(shù)脂等的交聯(lián)樹(shù)脂粒子、二氧化硅、氧化鋁等的無(wú)機(jī)粒子等，可不特別限定地優(yōu)選使用。這些高反射性金屬粒子、由高反射性金屬粒子坤皮覆的粒子，優(yōu)選通過(guò)單獨(dú)的粒子、或粒子與分散劑的組合，進(jìn)而通過(guò)粒子與分散劑與作為粘合劑的熱塑性樹(shù)脂、光固性樹(shù)脂、熱固性樹(shù)脂中的任一種或?qū)⑺鼈兊幕旌衔镒鳛橹鞒煞值臉?shù)脂組合物組合，來(lái)形成r含有高反射性金屬粒子、和/或由高反射性金屬被覆的粒子的層J。在本發(fā)明的偏振片(2)中，作為高反射性金屬，優(yōu)選是選自鋁、鉻、銀、銅、鎳、鉑以及金中的金屬以及以它們?yōu)橹饕某煞值暮辖?。在此，所謂作為主要的成分，是指金屬層3中的該金屬的含量超過(guò)50重量％。另外，所謂高反射性，是指在使用的光的波長(zhǎng)區(qū)域顯示高反射率。具體地講是指，在表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7)上以100nm的厚度形成金屬層3，從該金屬層3側(cè)入射時(shí)的反射率，在應(yīng)用的波長(zhǎng)區(qū)域全體中為75%以上。更優(yōu)選為80%以上、進(jìn)一步優(yōu)選為85%以上。在4吏用反射率小于75%的金屬作為金屬層3的場(chǎng)合，光學(xué)損耗增多，不能充分得到光利用效率，或者即使光學(xué)損耗小，有時(shí)偏振光度也降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)^f吏用反射率為75%以上的金屬層3，不僅能夠提高光利用效率，而且能夠得到高的偏振光度。上述金屬之中的鋁、鉻、銀，在可見(jiàn)光區(qū)域的全域反射率高，因此是更優(yōu)選的。本發(fā)明的偏振片(2)至少具有基材l;在上述基材表面以設(shè)定的間隔排列的多個(gè)線狀金屬層3;和與線狀金屬層3接觸，并將上迷多個(gè)線狀的金屬層3凈皮覆的層4。關(guān)于其形態(tài)，用圖11~圖18進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。圖11~12是表示使用表面平坦的基材1的場(chǎng)合的優(yōu)選方式的例子的圖。圖14~16是以具有斷面為矩形的凸部11的線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO為例，表示線狀金屬層3和透明層4的優(yōu)選方式的例子的圖。33例如，在使用表面平坦的基材l的場(chǎng)合，作為線狀金屬層3和透明層4的相對(duì)的關(guān)系，如圖11那樣，在基材1上形成線狀金屬層3后，形成透明層4的情況等為優(yōu)選的例子。另外，作為線狀金屬層3的斷面形狀，以形成于基材l上的情況為例，作為優(yōu)選的例子可舉出例如矩形(圖12(a))、梯形(圖12(b))、三角形(圖12(c))或它們的角、側(cè)面為曲線狀的形狀(圖12(d)~(g))、以及將它們的上下顛倒而成的形狀、以及將它們的上下顛倒而成的形狀等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。另外，并不限于這些例子，只要在面內(nèi)以設(shè)定的間隔配置多個(gè)線狀金屬層3即可。另外，圖12(g)表示具有圖12(a)的斷面形狀的基材l的立體圖。圖12(g)表示在基材1表面上以線狀形成了多個(gè)線狀金屬層3的情形。另外，在基材l上形成透明層4后，形成線狀金屬層3的情況也同樣。在本發(fā)明的偏振片(2)中，透明層4的形態(tài)，以線狀金屬層3的斷面形狀為矩形的情況(圖12(a))為例，可例舉出圖13所示的形態(tài)。除了如圖13(a)那樣在線狀金屬層3上形成了平板狀的透明層的形態(tài)以外，還可舉出在線狀金屬層3間也局部地形成透明層，并且在線狀金屬層3間具有空隙的形態(tài)(圖13(b)、(c));在線狀金屬層3間也形成透明層，并且與線狀金屬層3和基材1兩者接觸，不存在空隙的情況(圖13(d)、(e));等等。另外，在透明層4的表面如圖13(a)、(b)、(d)那樣為平坦的場(chǎng)合，可舉出如圖13(c)、(e)那樣具有反映線狀金屬層3的凹凸結(jié)構(gòu)的情況等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。另外，作為表示在基材l的一側(cè)具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的情況的例子中的線狀金屬層3與透明層4的相對(duì)的關(guān)系的例子，如圖14那樣在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上形成線狀金屬層3，再在線狀金屬層3上形成透明層4的情況等是優(yōu)選的例子。在基材1的一側(cè)具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的場(chǎng)合，作為線狀金屬層13的形態(tài)，除了在凸部11的頂部形成的情況(圖15(a))以外，作為優(yōu)選的例子還可舉出在相鄰的凸部11間即在凹部U形成的情況(圖15(b));在凸部11的側(cè)面形成的情況(圖15(c));在凸部11的周?chē)纬傻那闆r(圖15(d));或以將這些情況組合的形狀形成的情形(例如圖15(e));等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。另外，圖15(f)表示具有圖15(a)的斷面形狀的基材l的立體圖。在圖15(f)中，表示了在基材1表面上以線狀形成線狀金屬層3的情形。另外，作為線狀金屬層3上的透明層4的形態(tài)，若以線狀金屬層3形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的頂部的情況(圖15(a))為例，則可例舉圖16所示的形態(tài)。除了如圖16(a)那樣在線狀金屬層3上形成平板狀的透明層的形態(tài)以外，還可舉出在線狀金屬層3間也局部地形成，并且只與線狀金屬層3接觸，具有空隙的情況(圖16(b)、(c));在線狀金屬層3間也局部地形成，并且與線狀金屬層3和基材1兩者接觸，具有空隙的情況(圖16(d),(e));在線狀金屬層3間也形成，與線狀金屬層3和基材1兩者接觸，不存在空隙的情況(圖16(f)、(g));等等。另外，在透明層4表面如圖16(a)、(b)、(d)、(f)那樣為平坦的場(chǎng)合，可舉出如圖16(c)、(e)、(g)那樣具有反映線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的凹凸結(jié)構(gòu)的情況等等。這些形態(tài)可以是單獨(dú)的，也可以多個(gè)形態(tài)混合存在。在此，在本發(fā)明的偏振片(2)中，上述舉出的形狀之中，線狀金屬層3與透明層4的關(guān)系，優(yōu)選如圖11、圖13(a)~(c)、圖14、圖16(a)~(c)那樣，透明層4只與線狀金屬層3接觸，并且在線狀金屬層3間含有空隙的形態(tài)。原因是當(dāng)為這樣的形態(tài)時(shí)，可得到高的偏振光特性。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)成為上述的構(gòu)成，可在維持作為反射型偏振片的高透射率、高偏振光度、光利用效率的狀態(tài)下抑制外部光的反射。其結(jié)果，能夠制成能夠以對(duì)于以往的反射型偏振片而言較困難的與下側(cè)偏振片置換、貼合成液晶盒的形式使用，并且通過(guò)光的再利用能夠提高亮度的偏振片。另外，本發(fā)明的偏振片(2)，除了如上所迷，在基材上形成線狀金屬層3，并在線狀金屬層3上形成透明層4的情況以外，如圖17所示的、在基材1上形成透明層4后，形成線狀金屬層3的情況等也是優(yōu)選的形態(tài)。在本發(fā)明的偏振片(2)中，透明層4的膜厚h4可根據(jù)進(jìn)行貼合的對(duì)方的材料等來(lái)決定。一般地，優(yōu)選為l~200nm。通過(guò)為該范圍的膜厚，可高效率地使光線消失。在此所說(shuō)的透明層4的膜厚，是沿本發(fā)明的偏振片(2)的膜厚方向測(cè)定的膜厚，優(yōu)選從線狀金屬層3的頂部上形成上述的厚度的透明層4。透明層4的膜厚更優(yōu)選為5~150nm、進(jìn)一步優(yōu)選為10~120nm。特別優(yōu)選為15~100nm。透明層4的膜厚h4不到lnm時(shí)，不能得到充分的抑制外部光反射的效果，因此不優(yōu)選。透明層4的膜厚h4超過(guò)200nm時(shí)，有時(shí)透射光著色，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)使透明層4的膜厚h4在1~200nm的范圍，可制成兼?zhèn)渫干涔獾纳屎鸵种仆獠抗夥瓷涞男Ч钠衿?。另夕卜，在本發(fā)明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的膜厚h3優(yōu)選為10~200mn。在此所說(shuō)的線狀金屬層3的膜厚h3,是沿本發(fā)明的偏振片(2)的膜厚方向測(cè)定的厚度，只要在基材1上的至少一部分上以滿足上述范圍的膜厚形成線狀金屬層3即可。線狀金屬層3的膜厚更優(yōu)選為30~200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為40~200nm。線狀金屬層3的膜厚h3不到10nm時(shí)，有時(shí)得不到充分的偏振光度，未發(fā)揮偏振片的功能，得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優(yōu)選。線狀金屬層3的膜厚h3超過(guò)200nm時(shí)，形成變得困難，通過(guò)線狀金屬層3的形成，凸部寬度擴(kuò)大，其結(jié)果，不能確保充分的開(kāi)口率，因此透射率降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)4吏線狀金屬層3的膜厚在10~200nm的范圍，可制成兼?zhèn)涓叩耐干渎屎推窆舛取⒐饫眯实钠衿?。在此，在本發(fā)明的偏振片(2)中，在基材1表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的場(chǎng)合，為了得到高的光利用效率和高透射率，更優(yōu)選線狀金屬層3只形成于凸部ll周邊(例如，圖15(a)、(c)、(d)、(e)、圖17(b)、(d)、(e)，(f)等。該場(chǎng)合下，在凸部11上形成的線狀金屬層3的膜厚和凸部11的高度h合計(jì)的高度更優(yōu)選為400nm以下。合計(jì)的高度超過(guò)400nm時(shí)，有時(shí)偏振光特性依賴于光的入射角度，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)使在凸部11上形成的線狀金屬層3的膜厚和凸部11的高度h合計(jì)的高度為400nm以下，可不依賴于光的入射角度而得到均一的偏振光特性。另外，在本發(fā)明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的寬度w31與線狀金屬層3的間距p3的比即w31/p3優(yōu)選為0.1~0.7。在此，為計(jì)算該比率而需要的線狀金屬層3的寬度w31、間距p3，是如圖17所示那樣在與線狀金屬層3的縱向垂直的斷面上，沿與基材1面平行的方向測(cè)定的線狀金屬層3的寬度、以及重復(fù)單位。更優(yōu)選w31/p3為0.2~0.6、進(jìn)一步優(yōu)選為0.3~0.6。該比率超過(guò)0.7時(shí)，透射率降低，因此不優(yōu)選。另外，該比率不到0.1時(shí)，得不到充分的偏振光度，因此得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)^f吏線狀金屬層3的寬度w31與間距p3的比w31/p3為0.1~0.7的范圍，可制成兼?zhèn)涓叩耐干渎屎推窆舛?、光利用效率的偏振片。在本發(fā)明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的間距p3、寬度w31根據(jù)應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域適宜選擇即可。例如，按以下所述來(lái)形成為了在波長(zhǎng)800~4000nm的近紅外-紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域應(yīng)用，間距p3=50~別Onm、寬度w31-20780nm，另外，為了在波長(zhǎng)400~800nm的可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域應(yīng)用，間距p3-50400nm、寬度w31=20~380nm，等等。通過(guò)形成該尺寸的線狀金屬層3，可在分別應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域呈現(xiàn)高的偏振光特性。特別是在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，關(guān)于間距p3，當(dāng)超過(guò)400nm時(shí)，可見(jiàn)光的短波長(zhǎng)區(qū)域的偏振光度降低，因此不優(yōu)選。另外，當(dāng)間距p3小于50nm時(shí)，難以形成線狀金屬層2，因此不優(yōu)選。間距p3更優(yōu)選為70~200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為80~160nm、特別優(yōu)選為80~140nm。另外，關(guān)于寬度w31，當(dāng)比20nm窄時(shí)，成形變得困難。另外，即使能夠成形，有時(shí)防照入的效果也降低，因此不優(yōu)選。另外，關(guān)于寬度w31，當(dāng)在應(yīng)用于近紅外光區(qū)域的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于780nm、在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于380nm時(shí)，開(kāi)口率變得非常低，光線透射率變低，本來(lái)應(yīng)該透射的方向的偏振光也反射，有時(shí)偏振光度降低，因此不優(yōu)選。關(guān)于寬度w31,在應(yīng)用于近紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~300nm、最優(yōu)選為20~200nm，在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~150nm、最優(yōu)選為25~100nm。間距p3以及寬度w31，為了在面內(nèi)保持偏振光特性的均一性，優(yōu)選為一定。另外，如果在上述范圍內(nèi)，則也可以各種的間距以及寬度混合。另外，當(dāng)以應(yīng)用于可見(jiàn)光區(qū)域的形狀制作偏振片時(shí)，不僅可見(jiàn)光區(qū)域，在作為更長(zhǎng)波長(zhǎng)的近紅外線區(qū)域、紅外線區(qū)域也能夠呈現(xiàn)偏振光特性。因此，也能夠作為近紅外線用或紅外線用的偏振片使用。另夕卜，在本發(fā)明的偏振片(2)中，線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31的比h3/w31優(yōu)選為0.5以上。更優(yōu)選為0.6以上、進(jìn)一步優(yōu)選為0.7以上、特別優(yōu)選為0.8以上、最優(yōu)選為1.0以上。h3/w31不到0.5時(shí)，得不到充分的偏振光度，或得不到充分的反射率，不能得到高的光利用效率，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(3)中，通過(guò)使線狀金屬層3的膜厚h3與寬度w31的比h3/w31為0,5以上，可制成兼?zhèn)涓叩耐干渎屎推窆舛?、光利用效率的偏振片。[具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材〗在本發(fā)明的偏振片(l)和本發(fā)明的偏振片(2)中，作為使用的基材1，更優(yōu)選在表面形成有線狀的凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。以下說(shuō)明存在線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO所帶來(lái)的效果。首先，第一個(gè)特征是通過(guò)形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10,可呈現(xiàn)雙折射性。若形成以入射的波長(zhǎng)以下的間距具有周期性的凹凸的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，則在圖案縱向和與該縱向正交的方向呈現(xiàn)折射率的各向異性、即雙折射。即，通過(guò)適當(dāng)設(shè)定構(gòu)成圖案的凸部ll的寬度、間距、高度以及材質(zhì)單體的折射率，可控制基材l的雙折射性。在可很適合地安裝本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的液晶顯示裝置中裝入面光源。從面光源射出的光，由于導(dǎo)光板、棱鏡片等的、利用了在界面的反射、折射的構(gòu)件的影響，不是完全的無(wú)偏振狀態(tài)，有時(shí)偏向于偏振光狀態(tài)。因此，即使將反射型的偏振片配置于液晶盒的面光源側(cè)，在該偏移的方向、和反射型的偏振片透射的偏振光軸不一致的場(chǎng)合，反射成分增多，結(jié)果光的利用效率不會(huì)提高。因此，當(dāng)在基材l上形成具有周期的凹凸的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10時(shí)，可使基材l呈現(xiàn)雙折射性。通過(guò)從該基材l側(cè)入射光，可消除由雙折射而偏移的偏振光狀態(tài)，可提高光的利用效率。例如，在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的寬度、間距以及材質(zhì)相同的場(chǎng)合，通過(guò)提高凸部ll的高度，可更加消除偏振狀態(tài)。另外，為了有效利用雙折射性，優(yōu)選只在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11周邊形成線狀金屬層3的結(jié)構(gòu)。另夕卜，該場(chǎng)合下，不僅線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO部分，基材l整體具有雙折射的場(chǎng)合也同樣地優(yōu)選。另外，第二個(gè)特征是金屬的圖案化容易。通過(guò)預(yù)先在基材l表面形成圖案，在本發(fā)明的偏振片(1)中可容易地形成與該圖案形狀相應(yīng)的線狀黑色層2、線狀金屬層3，在本發(fā)明的偏振片(2)中可容易地形成與該圖案形狀相應(yīng)的線狀金屬層3。詳細(xì)情況在說(shuō)明制造方法時(shí)來(lái)說(shuō)明，但不需要利用半導(dǎo)體制造工藝等的抗蝕劑的圖案化和蝕刻處理這些煩雜的工藝。第三個(gè)特征是可提高本發(fā)明的偏振片(1)中的線狀黑色層2、線狀金屬層3的機(jī)械強(qiáng)度、以及本發(fā)明的偏振片(2)中的線狀金屬層3的機(jī)械強(qiáng)度。以往，通過(guò)利用了半導(dǎo)體制造工藝等的抗蝕劑的圖案化和蝕刻處理而制作的偏振片，4吏平面上形成了金屬的細(xì)線。在本發(fā)明的偏振片(l)中的、線狀黑色層2與基材1的界面、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀黑色層2與線狀金屬層3的界面的面積，在本發(fā)明的偏振片(2)中的、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀金屬層3與透明層4的界面的面積很小。因此，當(dāng)用以往的方法制作本發(fā)明的偏振片時(shí)，線狀黑色層2、線狀金屬層3對(duì)外力的抗力較弱，容易地破壞、剝離。另一方面，通過(guò)使基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，本發(fā)明的偏振片(1)中的、線狀黑色層2與基材1的界面、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀黑色層2與線狀金屬層3的界面的面積、以及本發(fā)明的偏振片(2)中的、線狀金屬層3與基材1的界面、線狀金屬層3與透明層4的界面的面積變大。其結(jié)果，不僅線狀黑色層2、線狀金屬層3的粘接性提高，而且圖案凸部ll也具有對(duì)線狀黑色層2、線狀金屬層3進(jìn)行增強(qiáng)的效果，可提高抗外力的強(qiáng)度。這樣，通過(guò)在基材l表面存在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，能夠以容易的工藝形成具有高的光學(xué)特性、機(jī)械強(qiáng)度的偏振片。圖18是表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的、形成有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材1的形狀的一例的圖。圖18(a)是在一個(gè)表面具有含有斷面為矩形狀的凸部11的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材1的斷面圖。圖中分別表示出凸部11的間距p、寬度w、高度h。本發(fā)明中，寬度w是凹凸重復(fù)的方向上的長(zhǎng)度，并且是指在凸部ll的高度h的2分之l，即從基材l面(凹部12底面)起h/2的高度的與基材l面平行的平面上的長(zhǎng)度。圖18(b)例舉了具有周期性地形成有凸部11的平行的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材1的立體圖。圖18(a)以及圖19(a)~(e)表示構(gòu)成本發(fā)明的偏振片(1)或(2)的基材l的優(yōu)選的斷面形狀的例子。凸部ll的斷面形狀，可舉出例如，矩形(圖19(a))、梯形(圖19(a))、或它們的角、側(cè)面為曲線狀的的形狀(圖19(b)、(c))、波形(圖19(d))、三角形(圖19(e))等，但不限于這些，只要是在面內(nèi)形成有線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO就可優(yōu)選使用。另外，在相鄰的凸部11間也可以如圖18(a)以及圖19(a)~(c)那樣形成平坦部，還可以如圖19(d)、(e)那樣形成平坦部。在這些斷面形狀之中，優(yōu)選斷面為矩形、梯形的凸部ll、或它們的角、側(cè)面為曲線狀的形狀的凸部11、相鄰的凸部11在其自身的底部沒(méi)有連接的凸部(例如圖18(a)以及圖19(a)~(c))。本發(fā)明的偏振片(1)的場(chǎng)合，可得到形成了線狀黑色層2時(shí)的透射率和防止外部光反射的效果這兩方面的效果，在形成了線狀金屬層3時(shí)，可呈現(xiàn)高的偏振光分離性能。本發(fā)明的偏振片(2)的場(chǎng)合，在形成了線狀金屬層3時(shí)，可呈現(xiàn)高的偏振光分離性能。另外，關(guān)于基材1表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，相鄰的凸部ll的底部為如圖18(a)、圖19(a)(b)(c)所示那樣不連接的形狀時(shí)，容易只在凸部11周邊形成線狀金屬層3，因此優(yōu)選。在如圖19(d)那樣的斷面形狀為波形的場(chǎng)合，也能夠只在凸部11周邊形成線狀黑色層2、線狀金屬層3?？墒?，凸部ll周邊的斜面多，線狀黑色層2、線狀金屬層3的形成部位容易擴(kuò)大，因此難以控制。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，線狀凹凸結(jié)構(gòu)10以圖18(b)所示的線條形成，即凸部ll平行地形成。在此所說(shuō)的平行，只要實(shí)質(zhì)上平行即可，也可以完全地平行。另外，各線條優(yōu)選是在面內(nèi)最容易呈現(xiàn)光學(xué)的各向異性的直線，但在相鄰的線條不接觸的范圍下也可以是曲線折線。各線條為了容易呈現(xiàn)光學(xué)的各向異性，優(yōu)選是連續(xù)的直線?？墒?，如果至少是應(yīng)用的波長(zhǎng)以上的長(zhǎng)度，則各線條可以是虛線。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO，不僅可以在基材1的一側(cè)形成，也可以在其兩側(cè)形成。當(dāng)在基材1的兩側(cè)形成時(shí)，優(yōu)選以線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的縱向在表面背面平行的方式形成。該場(chǎng)合下，在本發(fā)明的偏振片(l)中，無(wú)論是使線狀黑色層2和線狀金屬層3分別形成于不同的面上，還是在一側(cè)的面上形成線狀黑色層2和線狀金屬層3兩者，還是在兩面上形成線狀黑色層2和線狀金屬層3兩者都可以。在使線狀黑色層2和線狀金屬層3分別形成于各自的面上的場(chǎng)合，可提高防照入的效果。在兩面上形成線狀金屬層3時(shí)，可制成高偏振光度的反射型偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片(2)中，通過(guò)在兩面上形成線狀金屬層3，可制成高偏振光度的反射型偏振片。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，與線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的斷面上的凸部11的尺寸等，根據(jù)應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域適宜選擇即可。例如，可按以下所述來(lái)形成為了應(yīng)用于波長(zhǎng)8004000nm的近紅外-紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域，間距p-50800nm、寬度w=20~780nm，另外，為了應(yīng)用于波長(zhǎng)400800nm的可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域，間距p=50~400nm、寬度w=20~380nm，等等。通過(guò)在具有該尺寸的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材1上形成線狀黑色層2、線狀金屬層3，可得到在分別應(yīng)用的光的波長(zhǎng)區(qū)域，具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片。特別是在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，關(guān)于間距p，若超過(guò)400nm，則可見(jiàn)光的短波長(zhǎng)區(qū)域的偏振光度降低，因此不優(yōu)選。另外，間41距p小于50nm時(shí)，不僅難以在基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，而且難以沿著該線狀凹凸結(jié)構(gòu)10形成線狀金屬層3，因此不優(yōu)選。間距p更優(yōu)選為70~200nm、進(jìn)一步優(yōu)選為80~160nm、特別優(yōu)選為80~140nm。另外，關(guān)于寬度w，當(dāng)比20nm窄時(shí)，成形變得困難。另外，即使能夠成形，機(jī)械強(qiáng)度也低，容易發(fā)生線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的破壞，因此不優(yōu)選。另外，關(guān)于寬度w,當(dāng)在應(yīng)用于近紅外光區(qū)域的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于780nm、在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合大于380nm時(shí)，若考慮到間3巨p的范圍，在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上形成了線狀金屬層3的場(chǎng)合，難以以反映的形狀來(lái)形成。即使能夠形成，開(kāi)口率也非常低，光線透射率變低，因此不優(yōu)選。關(guān)于寬度w，在應(yīng)用于近紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~300nm、最優(yōu)選為20~200nm,在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~150nm、最優(yōu)選為25~100nm。間距p以及寬度w，為了在面內(nèi)保持偏振光特性的均一性，優(yōu)選為一定，但也可以在上述范圍內(nèi)，各種的間距以及寬度混合。另外，當(dāng)以應(yīng)用于可見(jiàn)光區(qū)域的形狀制作偏振片時(shí)，不僅可見(jiàn)光區(qū)域，在作為更長(zhǎng)波長(zhǎng)的近紅外線區(qū)域、紅外線區(qū)域也能夠呈現(xiàn)偏振光特性，也能夠作為近紅外線用或紅外線用的反射型偏振片使用。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，根據(jù)構(gòu)成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的凸部ll的高度h，有時(shí)偏振光特性依賴于光的入射角度。作為線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部ll的高度h，在應(yīng)用于近紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，優(yōu)選為10800nm，在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，優(yōu)選為10400nm。在應(yīng)用于近紅外光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~600nm、最優(yōu)選為30~400nm，在應(yīng)用于可見(jiàn)光的波長(zhǎng)區(qū)域的場(chǎng)合，進(jìn)一步優(yōu)選為20~300nm、最優(yōu)選為30~300nm。若凸部11的高度h超過(guò)上述范圍，則有時(shí)偏振光度根據(jù)光的入射角度而變化，因此不優(yōu)選。另一方面，高度h小于10nm時(shí)，即使沿著其形成了線狀金屬層3，有時(shí)也得不到充分的光學(xué)各向異性，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過(guò)使線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的凸部11的高度h在上述范圍內(nèi)，可不依賴于光的入射角度而得到均一的偏振光特性。其結(jié)果，特別是在要求寬視野角的用途中可很好地使用。但是，在以狹窄的視野角的范圍使用本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的場(chǎng)合，例如，只利用法線方向的光學(xué)素子、或只利用正面方向的顯示裝置等的場(chǎng)合，可以不考慮光的入射角度，因此高度h可以超出上述范圍。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，優(yōu)選其凸部ll的高度h與寬度w的比h/w在0.55的范圍。更優(yōu)選為1~5、進(jìn)一步優(yōu)選為2~5。h/w不到0.5時(shí)，難以選擇性地形成線狀金屬層3，不能充分發(fā)揮結(jié)構(gòu)的各向異性，有時(shí)得不到充分的偏振光特性，因此不優(yōu)選。另外，h/w超過(guò)5時(shí)，難以形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，蛇行而倒塌，或斷裂，在面內(nèi)，偏振光特性有時(shí)顯現(xiàn)偏差，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過(guò)使基材1表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的高度h與寬度w的比h/w在上述的范圍，可制成具有高的偏振光特性、才幾械強(qiáng)度，并且這些特性的面內(nèi)均一性優(yōu)異的偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO，優(yōu)選其凸部ll的高度h、與凸部ll間的寬度、即與凹部12的寬度(p-w)的比h/(p-w)在1~5的范圍。更優(yōu)選比值h/(p-w)為1.2~5、進(jìn)一步優(yōu)選為1.3~5。h/(p-w)超過(guò)5時(shí)，難以形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO。另外，h/(p-w)不到l時(shí)，難以選擇性地形成線狀黑色層2、線狀金屬層3，不能充分發(fā)揮結(jié)構(gòu)的各向異性，有時(shí)得不到充分的偏振光特性。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過(guò)使基材l表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11高度h與凹部12的寬度(p-w)的比h/(p-w)滿足1~5的范圍，線狀黑色層2、線狀金屬層3的選擇形成性增高，特別是只在凸部11周邊形成線狀黑色層2、線狀金屬層3變得容易，可得到具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，優(yōu)選其凸部11的寬度w與間距p的比w/p在0.10.5的范圍。更優(yōu)選比值w/p為0.1~0.45、進(jìn)一步優(yōu)選為0.1~0.4。w/p超過(guò)0.5時(shí)，在形成線狀金屬層3后不能確保充分的開(kāi)口率，因此有時(shí)透射率降低，因此不優(yōu)選。另夕卜，w/p不到0.1時(shí)，即使形成線狀金屬層3，有時(shí)也不能得到充分的偏振光度，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過(guò)使基材1表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的寬度w與間距p的比w/p在0.10.5的范圍，在形成了線狀金屬層3時(shí)，可制成具備高的偏振光度和透射率的偏振片。在此，在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，線狀凹凸結(jié)構(gòu)10優(yōu)選是容易切削的材質(zhì)、或容易賦形的材質(zhì)。在此，所謂容易切削的材質(zhì)，是指通過(guò)^L械性切削、研磨等、或通過(guò)抗蝕劑圖案等在化學(xué)或物理上容易選擇性除去的材料，可舉出玻璃、金屬等的無(wú)機(jī)基材或樹(shù)脂基材。另外，所謂容易賦形的材質(zhì)，是指通過(guò)才莫具轉(zhuǎn)印可形成凹凸結(jié)構(gòu)的材料。這些材質(zhì)之中，如后述那樣，從生產(chǎn)率等的觀點(diǎn)考慮，為了在基材l表面進(jìn)行線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的賦形，優(yōu)選模具轉(zhuǎn)印法，當(dāng)使用容易賦形的材質(zhì)時(shí)，利用模具轉(zhuǎn)印法可在基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，因此是更優(yōu)選的。具體地講，基材l、以及基材l表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，優(yōu)選由熱塑性樹(shù)脂、光固性樹(shù)脂、熱固性樹(shù)脂中的任一種或以它們的混合物為主成分的樹(shù)脂組合物構(gòu)成。在此，在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10中，樹(shù)脂組合物超過(guò)50重量％的情況定義為主成分。作為熱塑性樹(shù)脂的例子，例如，可舉出聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丙二醇酯、聚對(duì)苯二甲酸丁二醇酯等的聚酯系樹(shù)脂、聚曱基丙烯酸甲酯等丙烯酸系樹(shù)脂、聚乙烯、聚丙烯、聚甲基戊烯、脂環(huán)式聚烯烴樹(shù)脂等的聚烯烴系樹(shù)脂、聚酰胺系樹(shù)脂、聚碳酸酯、聚苯乙烯、聚醚、聚酯酰胺、聚醚酯、聚氯乙烯、聚乙烯醇以及將它們作為成分的共聚物、或它們的混合物等的熱塑性樹(shù)脂。作為光固性樹(shù)脂的例子，可舉出在分子內(nèi)具有至少一個(gè)的自由基聚合性的化合物、或具有陽(yáng)離子聚合性的化合物等。作為具有自由基聚合性的化合物，是在利用活化能量射線產(chǎn)生自由基的聚合引發(fā)劑的存在下，通過(guò)活化能量射線照射進(jìn)行高分子化或交聯(lián)反應(yīng)的化合物。例如，可舉出在結(jié)44構(gòu)單元中至少舍有l(wèi)個(gè)烯性不飽和鍵的化合物、除了單官能的乙烯基單體以外還含有多官能乙烯基單體的化合物、或這些化合物的低聚物、聚合物、混合物等。另外，作為在分子內(nèi)具有至少一個(gè)的陽(yáng)離子聚合性的化合物，可舉出從選自下迷化合物的一種或兩種以上的化合物中選擇的化合物具有環(huán)氧乙烷環(huán)的化合物、具有氧雜環(huán)丁烷環(huán)的化合物、乙烯基醚化合物。作為熱固性樹(shù)脂的例子，可舉出丙烯酸樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、不飽和聚酯樹(shù)脂、酚樹(shù)脂、脲-三聚氰胺樹(shù)脂、聚氨酯樹(shù)脂、有機(jī)硅樹(shù)脂等，可使用從這些樹(shù)脂中選擇的1種或2種以上的混合物等。在光固性樹(shù)脂以及熱固性樹(shù)脂中可配合聚合引發(fā)劑。在光固性樹(shù)脂的場(chǎng)合，優(yōu)選相應(yīng)于感光波長(zhǎng)以及聚合形式，使用通過(guò)活化能量射線的照射來(lái)產(chǎn)生自由基種或陽(yáng)離子種的光聚合引發(fā)劑，另外，在熱固性樹(shù)脂的場(chǎng)合，優(yōu)選使用與工藝溫度相應(yīng)的熱聚合引發(fā)劑。這些樹(shù)脂，優(yōu)選在使用波長(zhǎng)下、即在用于液晶顯示裝置中的場(chǎng)合在400~800nm的可見(jiàn)光區(qū)域是透明的，不能看到特定波長(zhǎng)下的吸收峰。另外，優(yōu)選是實(shí)質(zhì)上不將光線散射的樹(shù)脂，優(yōu)選是在形成為膜厚10(Hmi的平坦的片狀時(shí)的濁度值大約為30%以下的樹(shù)脂。更優(yōu)選濁度為20%以下、進(jìn)一步優(yōu)選濁度為10%以下。另外，在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，在構(gòu)成基材l以及基材1的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的樹(shù)脂，以熱塑性樹(shù)脂為主要的成分的場(chǎng)合，其玻璃轉(zhuǎn)變溫度可通過(guò)示差掃描量熱測(cè)定(以下稱為DSC)得到。升溫過(guò)程(升溫速度10°C/min)中的玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg優(yōu)選為70~160。C、更優(yōu)選為100~160°C、最優(yōu)選為110150。C的范圍。在此，玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg是采用依據(jù)了JISK-7121(1999)的方法求得的值，在以升溫速度1(TC/min掃描時(shí)得到的示差掃描量熱測(cè)定圖的玻璃轉(zhuǎn)變的階梯狀的變化部分中，根據(jù)從各基線的延長(zhǎng)的直線在縱坐標(biāo)方向等距離的直線、與玻璃轉(zhuǎn)變的階梯狀的變化部分的曲線相交的點(diǎn)求得的值。玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg大于該范圍時(shí)，為了形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10即使按壓模具50，也難以形成充分的形狀，即使形成線狀金屬層3，有時(shí)也難以得到充分的光學(xué)特性，因此不優(yōu)選，另外，當(dāng)小于該范圍時(shí)，在接續(xù)的黑色層形成工序、以及線狀金屬層形成工序等工序中，有時(shí)由于熱負(fù)荷而導(dǎo)致基材或圖案變形，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在構(gòu)成基材l以及基材1的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的樹(shù)脂，以熱塑性樹(shù)脂為主要的成分的場(chǎng)合，通過(guò)使其玻璃轉(zhuǎn)變溫度在上述范圍，可兼?zhèn)淞己玫膱D案形成性、線狀黑色層2、線狀金屬層3形成工序中的圖案形狀保棒性。其結(jié)果，可得到具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在構(gòu)成基材l以及基材1的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的樹(shù)脂以熱固性樹(shù)脂或光固性樹(shù)脂為主要的成分的場(chǎng)合，玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg也可以在上述范圍以外。該場(chǎng)合下，熱分解開(kāi)始溫度優(yōu)選為150。C以上、更優(yōu)選為200。C以上、最優(yōu)選為250。C。當(dāng)小于該范圍時(shí)，在接續(xù)的線狀黑色層2、線狀金屬層3的形成工序中，有時(shí)基材或圖案發(fā)生變形等。另外，在線狀金屬層形成工序中，大量釋放出低分子量有機(jī)成分，阻礙金屬原子的致密排列。因此，形成的線狀金屬層3的金屬性降低。其結(jié)果，有時(shí)光學(xué)特性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，在構(gòu)成基材l以及基材l的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的樹(shù)脂以熱固性樹(shù)脂或光固性樹(shù)脂為主要的成分的場(chǎng)合，通過(guò)使其熱分解開(kāi)始溫度在上述范圍，可較高地保持在線狀金屬層形成工序中形成的線狀金屬層3的金屬性。其結(jié)果，可得到具有抑制外部光反射的效果，并且具有高的偏振光特性的偏振片另外，在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，基材l以及構(gòu)成基材1的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的樹(shù)脂為熱塑性樹(shù)脂的場(chǎng)合，其在25。C下的光彈性系數(shù)k優(yōu)選為50xlO"Pa"以下、更優(yōu)選為40xlO"Pa"以下、最優(yōu)選為30xlO^Pa"以下。在此所說(shuō)的光彈性系數(shù)k，是在將樹(shù)脂通過(guò)熔融制膜、溶液制膜等公知的方法進(jìn)行片化，對(duì)于該片，在25。C、65RH。/。的氣氛下，對(duì)厚度d(nm)的片不施加張力的時(shí)的相位差設(shè)為ri(nm)、施加張力F(Pa)時(shí)產(chǎn)生的相位差設(shè)為r2(nm)時(shí)，由k=(r2-ri)/(dxF)定義的值。另外，相位差r的測(cè)定如以下那樣進(jìn)行，即，在對(duì)膜施加lkg/mm2(9.81xl06Pa)的張力的狀態(tài)下，采用具有正交尼科耳(Nicol)偏光鏡、作為光源的鈉D線(波長(zhǎng)589nm)的偏振光顯微鏡，在25。C的氣氛下進(jìn)行。所述的光彈性系數(shù)k大于SOxlO^Pa"時(shí)，在基材1以及基材1的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO加工時(shí)殘留光學(xué)畸變，在形成了線狀金屬層3的場(chǎng)合，有時(shí)在面內(nèi)光學(xué)特性發(fā)生變化，發(fā)生色調(diào)的不勻等，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，構(gòu)成基材l以及基材l的表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的樹(shù)脂，通過(guò)將所述的光彈性系數(shù)k控制在上述的特定的范圍，在加工時(shí)不會(huì)殘留光學(xué)畸變，并能夠形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)。其結(jié)果，在形成了線狀金屬層3時(shí)，在面內(nèi)可得到均一的光學(xué)特性。也優(yōu)選在這些樹(shù)脂中根據(jù)需要添加各種成分。作為所述的添加劑，例如，可優(yōu)選使用表面活性劑、交聯(lián)劑、紫外線吸收劑、光穩(wěn)定劑、熱穩(wěn)定劑、增塑劑、粘度調(diào)節(jié)劑、抗氧化劑、抗靜電劑等。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在基材l由樹(shù)脂構(gòu)成的場(chǎng)合，出于提高線狀黑色層2、線狀金屬層3的選擇形成性和粘接性、提高線狀金屬層3的特性的目的，也可以在基材l表面形成以無(wú)機(jī)物為主要的成分的層。該場(chǎng)合下，若在基材1表面形成由無(wú)機(jī)物構(gòu)成的層，則在金屬層3的形成工序中可防止從基材1釋放低分子量有機(jī)成分。由此，在基材l上沉積金屬時(shí)，可抑制低分子量有機(jī)成分進(jìn)入，能夠提高基材與金屬層的界面附近的金屬的結(jié)晶排列等，因此可在樹(shù)脂制的基材1上形成致密的結(jié)晶性高的線狀金屬層3。其結(jié)果，可利用線狀金屬層3提高反射特性、偏振光特性、光利用效率。另外，在采用后述的方法在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上選擇性地形成線狀黑色層2、線狀金屬層3的場(chǎng)合，與從基材釋放的低分子量有機(jī)成分的碰撞概率降低，可提高線狀黑色層2、線狀金屬層3的選擇形成性。其結(jié)果，可得到兼?zhèn)淦衿母咄干涮匦浴⒏咂窆馓匦院鸵种仆獠抗夥瓷涞男Ч钠衿?。另外，在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，優(yōu)選基材l至少為由樹(shù)脂構(gòu)成的第一層與由支持體構(gòu)成的第二層的疊層結(jié)構(gòu)。通過(guò)制成疊層結(jié)構(gòu)，可由作為支持體的第二層確保機(jī)械強(qiáng)度、耐熱性，并且在基材l表面平坦的場(chǎng)合，可提高其平面性。另外，在使基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的場(chǎng)合，第一層可使用容易賦形的材質(zhì)，可在基材l表面容易地形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO，因此是優(yōu)選的。另外，作為支持體的第二層，其本身可以是單層，也可以是多個(gè)層的疊層結(jié)構(gòu)。在此，在使基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的場(chǎng)合，第一層中使用的容易賦形的材質(zhì)是指前面所述的熱塑性樹(shù)脂、光固性樹(shù)脂、熱固性樹(shù)脂。如后所述，從生產(chǎn)率等的觀點(diǎn)出發(fā)，為了在基材l表面賦形出線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO，優(yōu)選模具轉(zhuǎn)印法。通過(guò)將這些樹(shù)脂用于第一層，可利用^^莫具轉(zhuǎn)印法在基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10，因此優(yōu)選。另外，作為支持體的第二層，可使用玻璃、金屬等的無(wú)機(jī)基材、聚酯樹(shù)脂、聚甲基丙烯酸甲酯等的丙烯酸樹(shù)脂、脂環(huán)族聚烯烴等的聚烯烴樹(shù)脂、聚碳酸酯等所代表的樹(shù)脂基材等的各種材質(zhì)。在使用玻璃、金屬等的無(wú)機(jī)基材作為支持體的場(chǎng)合，可制成平坦性、機(jī)械強(qiáng)度、耐熱性優(yōu)異的偏振片。另外，在使用聚酯樹(shù)脂、丙烯酸樹(shù)脂、聚烯烴樹(shù)脂、聚碳酸酯等所代表的具有撓性的樹(shù)脂基材的場(chǎng)合，能夠進(jìn)一步賦予柔軟性、輕量化、薄膜化、操作性，因此更優(yōu)選。在上述材質(zhì)中，優(yōu)選以聚酯樹(shù)脂為主成分的熱塑性樹(shù)脂片，為了提高機(jī)械強(qiáng)度、耐熱性，特別優(yōu)選單軸拉伸或雙軸拉伸的聚酯樹(shù)脂片。當(dāng)使用雙軸拉伸的聚酯樹(shù)脂片時(shí)，可確保機(jī)械強(qiáng)度以及耐熱性，并且實(shí)現(xiàn)薄膜化、柔軟性以及輕量化，因此是更優(yōu)選的支持體。特別是與作為無(wú)機(jī)基材的玻璃相比，薄膜化后的耐沖擊性優(yōu)異。另外，通過(guò)進(jìn)行拉伸，呈現(xiàn)出雙折射性，因此如前面所述那樣往往可消除入射光的偏振光狀態(tài)的偏移，可提高液晶顯示裝置等的亮度，因此優(yōu)選。在此使用的聚酯樹(shù)脂，可優(yōu)選使用聚對(duì)苯二曱酸乙二醇酯、聚2，6-萘二甲酸乙二醇酯、或以這些樹(shù)脂為基礎(chǔ)的與其他成分的共聚物等的聚酯樹(shù)脂。另外，也優(yōu)選使用以該聚酯樹(shù)脂為主成分、并添加了其他的相容性和/或非相容性的成分的樹(shù)脂組合物。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，在基材l為由樹(shù)脂構(gòu)成的第一層與作為支持體的第二層的疊層結(jié)構(gòu)的場(chǎng)合，優(yōu)選盡可能地減小含有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的第一層的折射率Nl與作為支持體的第二層的折射率n2之差A(yù)n=INl-N2I，優(yōu)選折射率差A(yù)n為0~0.15、更優(yōu)選為0~0.10、進(jìn)一步優(yōu)選為0~0.06、最優(yōu)選為0~0.03。在此所說(shuō)的折射率，是按照J(rèn)IS-K7105(1999年版)，使用阿貝式折射率計(jì)在20'C下測(cè)定的基材面內(nèi)的折射率，在基材的折射率根據(jù)面內(nèi)的方向而不同(具有雙折射性)的場(chǎng)合，采用其折射率最大的方向的折射率N2max與折射率最小的方向的折射率N2min的平均值，即(N2max+N2min)/2來(lái)作為基材的折射率N2。當(dāng)折射率差A(yù)n在上述范圍以外時(shí)，起因于與基材1的折射率差、以及線狀凹凸結(jié)構(gòu)的高度h、第一層的膜厚h，等的薄膜干涉增大。由于該薄膜干涉，會(huì)使本來(lái)應(yīng)該進(jìn)行反射、再利用的光消失。特別是，在基材l側(cè)入射時(shí)，該影響顯著地呈現(xiàn)，反射率大大降低。其結(jié)果，會(huì)使光的利用效率降低，不能充分得到亮度提高效果。另外，該光利用效率的降低有時(shí)根據(jù)光的波長(zhǎng)而變化，液晶顯示裝置的色彩根據(jù)面內(nèi)的位置以及觀察角度而顯現(xiàn)為不勻，有時(shí)色均一性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過(guò)使含有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的第一層的折射率nl與作為支持體的第二層的折射率n2的差A(yù)n=INl-N2I在上述的范圍，可制成色均一性良好，并且光線的利用效率優(yōu)異的偏振片。具體地講，在使用雙軸拉伸了的聚酯膜作為第二層的場(chǎng)合，構(gòu)成第一層的樹(shù)脂的折射率nl優(yōu)選1.50~1.7，更優(yōu)選為1.55~1.7，進(jìn)一步優(yōu)選為1.58~1.7，特別優(yōu)選為1.60~1.68。為了達(dá)到上述折射率nl，可通過(guò)向該樹(shù)脂的分子骨架引入環(huán)己烷、異冰片、金剛烷等的脂環(huán)族基、苯、萘、蒽、芘、聯(lián)苯、雙酚等的芳香環(huán)、溴、氯、碘等的卣素原子、硫等而得到。其中，從環(huán)境問(wèn)題等考慮，優(yōu)選引入脂環(huán)族基、芳香族基。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，基材l表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凹部最下部與相反側(cè)的表面之間的厚度(以下作為基材1膜厚)h，優(yōu)選為1~lOOOjun，更優(yōu)選基材1膜厚h，為1~500fim，進(jìn)一步優(yōu)選為1~200拜。另外，在基材1為由樹(shù)脂構(gòu)成的第一層與作為支持體的第二層的疊層結(jié)構(gòu)的場(chǎng)合，具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的第一層的凹部最下部、與第一層和第二層界面間的厚度(以下作為第一層的膜厚)h，優(yōu)選為02jim，更優(yōu)選第一層的膜厚h，為0~ljim，進(jìn)一步優(yōu)選為0~500nm。另外，在該場(chǎng)合下第二層的厚度不特別限定，從機(jī)械強(qiáng)度以及薄膜化的觀點(diǎn)考慮，例如，在無(wú)機(jī)基材的場(chǎng)合，優(yōu)選為0.1~3mm，在樹(shù)脂基材的場(chǎng)合，優(yōu)選為50jim~3mm。在本發(fā)明的偏振片(l)中，在將線狀黑色層2和線狀金屬層3只形成于同一面?zhèn)鹊囊幻嫔系膱?chǎng)合，優(yōu)選在沒(méi)有形成線狀黑色層2、線狀金屬層3的側(cè)的基材l表面形成防反射層；在本發(fā)明的偏振片(2)中，優(yōu)選在沒(méi)有形成線狀金屬層3的側(cè)的基材1表面形成防反射層，所述防反射層防止由來(lái)于空氣-基材l界面的折射率差而產(chǎn)生的光反射。通過(guò)形成防反射層，在沒(méi)有形成線狀黑色層2、線狀金屬層3、透明層4的面?zhèn)鹊谋砻妫梢种平缑嫣幍牟恍枰姆瓷?。其結(jié)果，可進(jìn)一步提高光線的利用效率。作為防反射層，既可以由具有防止反射的性質(zhì)的材料形成，從而發(fā)揮防反射功能，也可以通過(guò)以特定的形狀形成該層來(lái)發(fā)揮防反射功能。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，也可以使用顯示光擴(kuò)散性的材質(zhì)作為成為支持體的第二層。由此，可實(shí)現(xiàn)偏振片與光擴(kuò)g的功能綜合，從該點(diǎn)來(lái)看是優(yōu)選的構(gòu)成。另外，為了呈現(xiàn)光擴(kuò)散性，例如，可以通過(guò)使粒子等分散于支持體內(nèi)部、在沒(méi)有形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的面?zhèn)葍鬗含有微粒子的材料、賦形出凹凸形狀等等來(lái)實(shí)現(xiàn)。在通過(guò)^^材1內(nèi)部分散粒子等來(lái)對(duì)基材l自身賦予光擴(kuò)散性的場(chǎng)合，主要能夠呈現(xiàn)各向同性的光擴(kuò)散效果。另一方面，在基材1表面設(shè)置光擴(kuò)散層的場(chǎng)合，可任意地設(shè)計(jì)表面的形狀，因此除了各向同性的擴(kuò)散性以外，還能夠容易地控制任意的光擴(kuò)散性。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，在使用顯示光擴(kuò)散性的材質(zhì)作為成為支持體的第二層的場(chǎng)合，第二層的濁度Ht，只要根據(jù)安裝本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的液晶顯示裝置的構(gòu)成來(lái)適當(dāng)選擇最佳的范圍從而使用即可。例如，在液晶顯示裝置為使用棱鏡片的構(gòu)成的場(chǎng)合，濁度Ht更優(yōu)選570。/。。進(jìn)一步優(yōu)選為10~70%、特別優(yōu)選為15~60%、最優(yōu)選為20~55%?；?的濁度Ht不到5%時(shí)，可辨認(rèn)出干擾條紋、閃爍等，有時(shí)顯示品質(zhì)降低，因此不優(yōu)選，另外，Ht超過(guò)70%時(shí)，通過(guò)棱鏡片在正面方向指向的光大大地?cái)U(kuò)散，其結(jié)果，有時(shí)得不到亮度提高效果，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，通過(guò)使第二層的濁度Ht為5~70%，可不增加面光源的厚度，并且不損害顯示品質(zhì)而制成與以往的面光源相比亮度更高的面光源。另外，在液晶顯示裝置為不使用棱鏡片的構(gòu)成，并含有側(cè)光型的面光源的場(chǎng)合，濁度Ht優(yōu)選為5。/。以上。更優(yōu)選濁度Ht為10%以上，進(jìn)一步優(yōu)選為15~95%，特別優(yōu)選為20~卯％。基材1的濁度Ht不到5%時(shí)，有時(shí)亮度提高效果降低，或者有時(shí)可辨認(rèn)出導(dǎo)光板的點(diǎn)印刷圖案等，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過(guò)使第二層的濁度Ht為5。/。以上，可不增加面光源的厚度，并且不損害顯示品質(zhì)而制成與以往的面光源相比亮度更高的面光源。另外，在液晶顯示裝置為不使用棱鏡片的構(gòu)成，并含有正下型的面光源(2)的場(chǎng)合，濁度Ht優(yōu)選為40%以上。更優(yōu)選濁度Ht為50%以上，進(jìn)一步優(yōu)選為60~95%，特別優(yōu)選為70~92%。濁度Ht不到40。/。時(shí)，有時(shí)亮度提高效果降低，有時(shí)可辨認(rèn)出熒光管像等，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)中，通過(guò)使第二層的濁度Ht為40%以上，可不增加面光源的厚度，并且不損害顯示品質(zhì)而制成與以往的面光源相比亮度更高的面光源。另外，在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)中，也優(yōu)選對(duì)作為支持體的第二層賦予1/4波長(zhǎng)板的功能。該場(chǎng)合下，若從基材1側(cè)入射光，則由偏振片反射的偏振光同時(shí)地轉(zhuǎn)換成圓偏振光。該圓偏振光返回到面光源，可消除一部分的偏振光狀態(tài)，但在含有較多的、通過(guò)反射而反轉(zhuǎn)地轉(zhuǎn)換的圓偏振光的狀態(tài)下再次返回至偏振片。當(dāng)該反轉(zhuǎn)的圓偏振光通過(guò)基材1時(shí)，轉(zhuǎn)換成從偏振片透射的直線偏振光，因此可提高光的利用效率。另外，作為第二層，也可使用顯示光吸收性的材質(zhì)、顯示光反射性的材質(zhì)。在該場(chǎng)合下，可作為反射特定的偏振光成分的偏振光反射板使用。[偏振片的制造]本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)可采用至少包括以下工序的方法制造。本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法，在基材l平坦時(shí)，可采用包括以下的(a-l)~(a-6)工序的工序制造。工序(a-l):制作基材l的工序(基材形成工序)工序(a-2):形成黑色層2的工序(黑色層形成工序)工序(a-3):形成金屬層3的工序(金屬層形成工序)工序(a-4):在由工序(b-2)形成的黑色層上和/或由(工序b-3)形成的金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序(抗蝕劑圖案形成工序)工序(a-5):局部地除去黑色層2的工序(黑色層選擇性除去工序)工序(a-6):局部地除去金屬層3的工序(金屬層選擇性除去工序)。在此，在線狀黑色層2和線狀金屬層3相對(duì)于基材1形成于同一側(cè)的表面上的場(chǎng)合，在基材1上形成線狀金屬層3，并在線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的情形(圖2(a)等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序l:工序(a-l)基材形成工序工序2:工序(a-3)金屬層形成工序工序3:工序(a-2)黑色層形成工序工序4:工序(a-4)在黑色層上形成抗蝕劑圖案的工序工序5:工序(a-5)黑色層選擇性除去工序工序6:工序(a-6)金屬層選擇性除去工序。另外，在基材1上形成線狀黑色層2，在該線狀黑色層2上形成線狀金屬層3的情形(圖2(b)等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(a-l)基材形成工序工序2:工序(a-2)黑色層形成工序工序3:工序(a-3)金屬層形成工序工序4:工序(a-4)在金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序工序5:工序(a-6)金屬層選擇性除去工序工序6:工序(a-5)黑色層選擇性除去工序。另外，在線狀黑色層2和線狀金屬層3相對(duì)于基材1形成于相反側(cè)的場(chǎng)合(圖2(i)、(j)等)，例如可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序l:工序(a-l)基材形成工序工序2:線狀黑色層形成工序工序2-l:工序(a-2)黑色層形成工序工序2-2:工序(a-4)在黑色層上形成抗蝕劑圖案的工序工序2-3:工序(a-5)黑色層選擇性除去工序工序3:線狀金屬層形成工序工序3-1:工序(a-3)金屬層形成工序工序3-2:工序(a-4)在金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序工序3-3:工序(a-6)金屬層選擇性除去工序另夕卜，只要工序2中的工序2-1~工序2-3、以及工序3中的工序3-1~工序3-3分別按該次序進(jìn)行，則也可以工序3比工序2先施行，也可以將工序2和工序3并4于地施行。另外，在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，在基材l的表面形成了線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的場(chǎng)合，雖然也可以采用上述制法來(lái)形成，但也優(yōu)選使用包括以下的工序的方法。在線狀黑色層2、線狀金屬層3的任一方形成于基材的形成有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的側(cè)，另一方形成于基材的平坦面上的場(chǎng)合，可采用包括以下的工序(b-l)~工序(b-4)的工序來(lái)形成。本方法容易形成線狀黑色層2和/或線狀金屬層3，從該點(diǎn)出發(fā)是優(yōu)選的。工序(b-l):制作基材l的工序(基材形成工序)工序(b-2):在基材1表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的工序(圖案形成工序)工序(b-3):在基材1的具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的面?zhèn)刃纬删€狀黑色層2或線狀金屬層3的工序(線狀黑色層形成工序或線狀金屬層形成工序)工序(b-4):在基材1的平坦面?zhèn)刃纬山饘賹?或黑色層2的工序(金屬層3形成工序或黑色層形成工序)工序(b-5):在金屬層3或黑色層2上形成抗蝕劑圖案的工序(抗蝕劑圖案形成工序)工序(b-6):局部地除去金屬層3或黑色層2的工序(選擇性除去工序)。在此，當(dāng)線狀黑色層2在基材1的形成有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的面?zhèn)刃纬?、線狀金屬層3在基材1的平坦面?zhèn)刃纬傻那樾?圖5)，例如可通過(guò)按以下順序施4于上述工序來(lái)形成。工序l:工序(b-l)基材形成工序工序2:線狀黑色層形成工序工序2-l:工序(b-2)圖案形成工序工序2-2:工序(b-3)線狀黑色層形成工序工序3:線狀金屬層形成工序工序3-l:工序(b-4)金屬層形成工序工序3-2:工序(b-5)在金屬層上形成抗蝕劑圖案的工序工序3-3:工序(b-6)金屬層選擇性除去工序另夕卜，只要工序2中的工序2-1~工序2-2、以及工序3中的工序3-1~工序3-3分別按該次序施行，則也可以工序3比工序2先施行，也可以將工序2和工序3并行地施行。另外，線狀金屬層3在基材1的形成有線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的面?zhèn)刃纬?、線狀黑色層2在基材1的平坦面?zhèn)刃纬傻那樾?圖6),例如可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。。工序l:工序(b-l)基材形成工序工序2:線狀黑色層形成工序工序3-l:工序(b-4)黑色層形成工序工序3-2:工序(b-5)在黑色層上形成抗蝕劑圖案的工序工序3-3:工序(b-6)黑色層選擇性除去工序工序3:線狀金屬層形成工序工序3-l:工序(b-2)圖案形成工序工序3-2:工序(b-3)線狀金屬層形成工序另夕卜，只要工序2中的工序2-1~工序2-3、以及工序3中的工序3-1~工序3-2分別按該次序施行，則也可以工序3比工序2先施行，也可以將工序2和工序3并行地施行。另外，在線狀黑色層2、線狀金屬層3都形成于線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO上的場(chǎng)合，可采用包括以下的工序(c-l)~工序(c-4)的工序的方法制造，從可更加減少工序數(shù)，并且生產(chǎn)率優(yōu)異的方面考慮，是更優(yōu)選的。工序(c-l):制作基材l的工序(基材制作工序)工序(c-2):在基材1表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的工序(圖案形成工序)工序(c-3):在基材1的具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的面?zhèn)刃纬删€狀黑色層2的工序(線狀黑色層形成工序)工序(c-4):在基材1的具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的面?zhèn)刃纬删€狀金屬層3的工序(線狀金屬層形成工序)在此，在基材1上形成線狀黑色層2，并在該線狀黑色層2上形成線狀金屬層3的情形(圖7等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(c-l)基材制作工序工序2:工序(c-2)圖案形成工序工序3:工序(c-3)線狀黑色層形成工序工序4:工序(c-4)線狀金屬層形成工序另外，在基材1上形成線狀金屬層3，并在該線狀金屬層3上形成線狀黑色層2的情形(圖8等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(c-l)基材制作工序工序2:工序(c-2)圖案形成工序工序3:工序(c-4)線狀金屬層形成工序工序4:工序(c-3)線狀黑色層形成工序另外，本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法，在基材l平坦時(shí)，可釆用包括以下的工序(d-l)~工序(d-5)的工序制造。工序(d-l):制作基材l的工序(基材形成工序)工序(d-2):形成金屬層3的工序(金屬層形成工序)工序(d-3):在金屬層3上形成抗蝕劑圖案的工序(抗蝕劑圖案形成工序)工序(d-4):局部地除去金屬層3的工序(金屬層選擇性除去工序)工序(d-5):形成透明層4的工序(透明層形成工序)。在此，在基材1上形成線狀金屬層3，并在該線狀金屬層3上形成透明層4的情形(圖ll等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(d-l)基材制作工序工序2:工序(d-2)金屬層形成工序工序3:工序(d-3)抗蝕劑圖案形成工序工序4:工序(d-4)金屬層選擇性除去工序工序5:工序(d-5)透明層形成工序另外，在基材1上形成透明層4，并在該透明層4上形成線狀金屬層3的情形(圖17(a)等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(d-l)基材制作工序工序2:工序(d-5)透明層形成工序工序3:工序(d-2)金屬層形成工序工序4:工序(d-3)抗蝕劑圖案形成工序工序5:工序(d-4)金屬層選擇性除去工序另外，在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，在基材l的表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO,并在該基材1上形成線狀金屬層3后，形成透明層4的情形，也可采用上述制法來(lái)形成，但也優(yōu)選采用包括以下工序(e-l)~工序(e-4)的工序的方法。本方法容易形成線狀金屬層3，從該點(diǎn)來(lái)考慮是優(yōu)選的。工序(e-l):制作基材1的工序(基材制作工序)工序(e-2)在基材1表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的工序(圖案形成工序)工序(e-3):在基材1的具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的面?zhèn)刃纬删€狀金屬層3的工序(線狀金屬層形成工序)工序(e-4):形成透明層4的工序(透明層形成工序)在此，在基材1上形成線狀金屬層3，并在該線狀金屬層3上形成透明層4的情形(圖14等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(e-l)基材制作工序工序2:工序(e-2)圖案形成工序工序3:工序(e-3)線狀金屬層形成工序工序4:工序(e-4)透明層形成工序另夕卜，在基材1上形成透明層4，并在該透明層4上形成線狀金屬層3的情形(圖17(b)等)，可通過(guò)按以下順序施行上述工序來(lái)形成。工序1:工序(e-l)基材制作工序工序2:工序(e-2)圖案形成工序工序3:工序(e-4)透明層形成工序工序4:工序(e-3)線狀金屬層形成工序以下對(duì)各工序的詳細(xì)情況進(jìn)行說(shuō)明。<工序(a-l)、工序(b誦l)、工序(c國(guó)l)、工序U-l)、工序(e國(guó)l):基材制作工序>在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)制造方法中，作為基材l的形成方法，例如，可采用將基材1形成用材料在擠出機(jī)內(nèi)加熱炫融，由噴口擠出到冷卻的流延鼓上，加工為片狀的方法(熔融流延法)。作為其他的方法，也可^f吏用使基材l形成用材料溶解于溶劑中，將其溶液從噴口擠出到流延鼓、環(huán)形帶(endlessbelt)等的支持體上形成為膜狀，接著從該膜層干燥除去溶劑，從而加工為片狀的方法(溶液流延法)等。另外，作為在基材l上形成用于形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO的樹(shù)脂層的方法，可使用下述的方法在該樹(shù)脂層為熱塑性樹(shù)脂的場(chǎng)合，將兩種不同的熱塑性樹(shù)脂投入兩臺(tái)擠出機(jī)中，進(jìn)行熔融，由噴口共擠出到冷卻的流延鼓上，加工為片狀，從而同時(shí)地形成基材l和樹(shù)脂層的方法(共擠出法)；一邊將樹(shù)脂層的原料投入擠出機(jī)中進(jìn)行熔融擠出，從噴口擠出到以單膜制作的基材1上，一邊進(jìn)行層壓的方法(熔融層壓法)；分別分開(kāi)地以單膜制作基材l和樹(shù)脂層，利用加熱了的輥組等進(jìn)行熱壓接的方法(熱層壓法)；通過(guò)粘接劑進(jìn)行貼合的方法(粘接法)；此外，使樹(shù)脂層用材料溶解于溶劑中，將其溶液涂布于基材l上的方法(涂覆法)；等等。另外，在樹(shù)脂層的材料為光固性樹(shù)脂、熱固性樹(shù)脂時(shí)，可優(yōu)選使用上述的方法之中的粘接法、涂覆法。作為基材1,從與樹(shù)脂層的粘接力方面出發(fā)，可優(yōu)選使用形成易粘接層等的涂布層的基材。該場(chǎng)合下，作為構(gòu)成涂布層的樹(shù)脂，可相應(yīng)于使用的基材1、樹(shù)脂層，適宜選擇使用例如聚酯系樹(shù)脂、聚酰胺系樹(shù)脂、聚苯乙烯系樹(shù)脂、聚氨酯系樹(shù)脂、聚烯烴系樹(shù)脂、丙烯酸系樹(shù)脂、酚樹(shù)脂、環(huán)氧樹(shù)脂、三聚氰胺樹(shù)脂、硅樹(shù)脂等的熱塑性樹(shù)脂、以及它們的混合物等。在使用雙軸拉伸聚酯膜作為基材l時(shí)，從粘接性方面考慮，優(yōu)選使用以聚酯系樹(shù)脂為主要的成分的樹(shù)脂。在此所說(shuō)的主要的成分，是表示構(gòu)成涂布層的熱塑性樹(shù)脂之中的聚酯系樹(shù)脂優(yōu)選為50重量％以上、更優(yōu)選為60重量％以上、最優(yōu)選為70重量％以上。另外，從提高基材l與涂布層的密著性、抗粘連等方面考慮，優(yōu)選在涂布層中含有交聯(lián)劑。作為這樣的交聯(lián)劑，可優(yōu)選使用與構(gòu)成涂布層的樹(shù)脂中存在的官能團(tuán)例如羥基、羰基、縮水甘油基、酰胺基等進(jìn)行交聯(lián)反應(yīng)的樹(shù)脂、化合物，作為其例子，可使用羥甲基化或者烷?；哪蛩叵怠⑷矍璋废?、丙烯酰胺系、聚酰胺系樹(shù)脂以及環(huán)氧化合物、異氰酸酯化合物、偶聯(lián)劑(couplingagent)、氮丙咬化合物、喁唑啉化合物等、以及它們的混合物等。該交聯(lián)劑的種類(lèi)以及含有量，可根據(jù)構(gòu)成基材l、樹(shù)脂層、涂布層的樹(shù)脂、交聯(lián)劑的種類(lèi)等來(lái)適宜選擇，通常相對(duì)于樹(shù)脂固體成分100重量份，優(yōu)選為0.01~50重量份、更優(yōu)選為0.230重量份的范圍。另夕卜，也優(yōu)選在該交聯(lián)劑中并用催化劑來(lái)促進(jìn)交聯(lián)反應(yīng)。另外，作為交聯(lián)反應(yīng)方式，可以是加熱方式、電磁波照射方式、吸濕方式等的任一方式，通常優(yōu)選寸吏用利用加熱的方法。另外，在涂布層中，為了改善涂布層的滑動(dòng)性、抗粘連性，優(yōu)選含有微粒子。作為其例子，可使用無(wú)機(jī)微粒子、有機(jī)微粒子等。作為該無(wú)機(jī)微粒子，例如，可使用金、銀、銅、鉑、釔、錸、釩、鋨、鈷、鐵、鋅、釕、鐠、鉻、鎳、鋁、錫、鋅、鈦、鉭、鋯、銻、銦、釔、鑭等的金屬、氧化鋅、氧化鈦、氧化銫、氧化銻、氧化錫、銦錫氧化物、氧化釔、氧化鑭、氧化鋯、氧化鋁、氧化硅等的金屬氧化物、氟化鋰、氟化鎂、氟化鋁、水晶石等的金屬氟化物、磷酸鈣等的金屬磷酸鹽、碳酸釣等的碳酸鹽、硫酸鋇等的硫酸鹽、以及滑石和高嶺土等。另外，作為有機(jī)微粒子，除了交聯(lián)苯乙烯、交聯(lián)丙烯酸等的交聯(lián)微粒子以外，與構(gòu)成涂布層的熱塑性樹(shù)脂不相容，但進(jìn)行微分散從而形成海島結(jié)構(gòu)的熱塑性樹(shù)脂也能夠作為微粒子使用。作為所述^:粒子的形狀，可使用圓球狀、旋轉(zhuǎn)橢圓體狀、扁平體狀、念珠狀、板狀或針狀等的微粒子，但并不特別限定。從分散性、滑動(dòng)性、抗粘連性方面考慮，所述微粒子的平均粒徑優(yōu)選0.05~15jim，更優(yōu)選0.1~10|tm。另外，所述微粒子的添加量是任意的，但通常相對(duì)于樹(shù)脂固體成分100重量份，優(yōu)選為0.1重量份~50重量份、更優(yōu)選為130重量份。另外，在涂布層中，可在不喪失效果的范圍內(nèi)根據(jù)需要添加各種的添加劑。作為能夠添加配合的添加劑的例子，例如，可使用分散劑、染料、熒光增白劑、抗氧化劑、耐氣候劑、抗靜電劑、阻聚劑、增粘劑、消泡劑、紫外線吸收劑、流平劑、pH調(diào)節(jié)劑以及鹽等。作為上述的在基材l上形成涂布層的方法，可優(yōu)選使用將構(gòu)成上述的涂布層的材料溶解/分散于溶劑中，將所得到的涂液涂布于基材1上并進(jìn)行干燥的方法。此時(shí)，使用的溶劑是任意的，但從安全性考慮優(yōu)選將水作為主要的成分來(lái)使用。該場(chǎng)合下，為了改善涂布性、溶解性等，也可以少量添加溶于水的有機(jī)溶劑。作為所述有機(jī)溶劑的例子，可使用甲基醇、乙基醇、異丙基醇、正丙基醇、正丁基醇等的脂肪族或脂環(huán)族醇類(lèi)、乙二醇、丙二醇、二甘醇等的二醇類(lèi)、甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、丙二醇單甲基醚等的二醇衍生物、二嗜、烷、四氫呋喃等的醚類(lèi)、乙酸曱酯、乙酸乙酯、乙酸戊酯等的酯類(lèi)、丙酮、甲乙酮等的酮類(lèi)、N-甲基吡咯烷酮等的酰胺類(lèi)等、以及它們的混合物，但并不限于這些物質(zhì)。作為在基材1上涂布設(shè)置涂布層的方法，可舉出在基材l的制膜中進(jìn)行涂布設(shè)置的在線涂覆法、對(duì)制膜后的巻筒膜進(jìn)行涂布設(shè)置的離線涂覆法，哪一種方法都能夠使用。更優(yōu)選在線涂覆法，理由是可與基材l制膜同時(shí)地進(jìn)行，效率高，并且涂布層與基材l的粘接性高。另外，在涂布設(shè)置時(shí)，從涂布液在支持體上的潤(rùn)濕性提高、粘接力提高的觀點(diǎn)考慮，也優(yōu)選對(duì)基材1表面進(jìn)行電暈處理等。另外，作為基材1，選擇單軸或雙軸拉伸了的膜基材的場(chǎng)合，作為樹(shù)脂層的形成方法，可舉出上述的熔融層壓法、熱層壓法、涂覆法等的方法。在樹(shù)脂層由熱塑性樹(shù)脂構(gòu)成的場(chǎng)合，也優(yōu)選實(shí)行下述方法，即向二臺(tái)擠出機(jī)分別投入樹(shù)脂層用材料和基材l形成用的聚酯材料，進(jìn)行熔融，從噴口共擠出到冷卻了的流延鼓上，進(jìn)行雙軸拉伸后，實(shí)施熱處理的方法(共擠出雙軸拉伸法)。作為進(jìn)行雙軸拉伸的方法，可以是分開(kāi)地進(jìn)行縱向和橫向的拉伸的逐次雙軸拉伸方法、同時(shí)地進(jìn)行縱向和橫向的拉伸的同時(shí)雙軸拉伸方法中的任一方法。另外，熱處理工序中的熱處理溫度Ta，在樹(shù)脂層的熔點(diǎn)(或軟化點(diǎn))設(shè)為T(mén)ml、基材1的熔點(diǎn)設(shè)為T(mén)m2時(shí)，優(yōu)選為T(mén)m2>Ta>Tml。通過(guò)在該溫度范圍進(jìn)行熱處理，能夠在將基材l熱固定、賦予機(jī)械強(qiáng)度的同時(shí)，使樹(shù)脂層熔融從而進(jìn)行均一化，賦予易成形性。<工序(b-2)、工序(c-2)、工序(e-2):圖案形成工序〉所謂圖案形成工序，是通過(guò)工序(b-l)、工序(c-l)、工序(e-l)的工序得到的、在基材1的至少一側(cè)表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的工序。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，作為線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的形成方法，也可使用在半導(dǎo)體制造工藝等中使用的光刻、蝕刻法?？墒?，由于這些方法工藝復(fù)雜，因此在生產(chǎn)率以及成本方面，優(yōu)選采用模具轉(zhuǎn)印法的賦形。即，通過(guò)采用加熱-加壓或電磁波照射的模具轉(zhuǎn)印，在基材l表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10。在采用加熱-加壓的方法中，如圖20(a)所示，將基材(線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40)和模具50重疊，進(jìn)行加熱-加壓，脫模，由此將模具形狀轉(zhuǎn)印至基材(線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40)表面上。此時(shí)，優(yōu)選至少基材(線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40)表面由熱塑性樹(shù)脂或熱固性樹(shù)脂構(gòu)成。另外，在采用電磁波照射的方法中，如圖20(b)所示，向模具50直接填充光固性樹(shù)脂，或通過(guò)將模具50按壓在涂覆有上述樹(shù)脂的基材(線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40)上來(lái)向模具50填充上述樹(shù)脂，使之與基材重疊，進(jìn)行電磁波照射，使樹(shù)脂固化，脫模，由此轉(zhuǎn)印模具50形狀。優(yōu)選至少基材表面采用利用電磁波例如紫外線、可見(jiàn)光、電子束進(jìn)行固化的樹(shù)脂構(gòu)成。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，為了形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10而使用的模具50的制作方法，并不特別限定。優(yōu)選根據(jù)本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的尺寸，使用X射線、電子束、紫外線或紫外線激光等，將在^^莫具材質(zhì)上形成的抗蝕劑層圖案化，然后經(jīng)由蝕刻等的工序來(lái)制作。模具50的材質(zhì)，并不特別限定，可使用玻璃、硅、不銹鋼(SUS)、或者鎳(Ni)等各種材料。從模具50的可加工性方面考慮，優(yōu)選硅、玻璃，從脫模性、耐久性考慮，優(yōu)選不銹鋼(SUS)、鎳(Ni)等的金屬材質(zhì)。模具50可以原樣地使用上述的材質(zhì)。優(yōu)選采用表面處理劑對(duì)模具50的表面進(jìn)行處理、賦予易滑性，以使得在模具轉(zhuǎn)印后，能夠容易地將成形品脫模。表面處理后的模具50的表層的接觸角優(yōu)選為80。以上、更優(yōu)選為100°以上。作為模具50的表面處理的方法，可使用使表面處理劑與模具50表面化學(xué)結(jié)合的方法(化學(xué)吸附法)、使表面處理劑物理性地吸附于模具50表面的方法(物理吸附法)等。其中，從表面處理效果的反復(fù)使用耐久性、以及防止對(duì)成形品污染的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選利用化學(xué)吸附法進(jìn)行表面處理。作為用于化學(xué)吸附法的表面處理劑的優(yōu)選例子，可使用氟系硅烷偶聯(lián)劑。作為使用該表面處理劑的表面處理方法，可使用首先通過(guò)在有機(jī)溶劑(丙酮、乙醇等)中進(jìn)行超聲波處理、在硫酸等的酸、過(guò)氧化氫等的過(guò)氧化物的溶液中進(jìn)行煮沸等，將模具50的表面洗滌后，浸漬于將氟系硅烷偶聯(lián)劑溶解于氟系溶劑中而成的溶液中的方法(濕式法)；進(jìn)行真空蒸鍍，從而在模具50表面進(jìn)行析出的方法(干式法)；等等。在濕式法的場(chǎng)合，優(yōu)選在浸漬時(shí)將溶液加熱。優(yōu)選在浸漬時(shí)將溶液加熱。另外，優(yōu)選在浸漬后進(jìn)4于加熱處理。利用圖20i兌明使用上述模具50在基材1表面形成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的方法的例子。圖20(a)是表示使用加熱-加壓進(jìn)行模具賦形的場(chǎng)合的例子的圖。將用于形成基材1的線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40和模具的至少一方加熱至片的玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg2(疊層片的場(chǎng)合，為樹(shù)脂層的熱塑性樹(shù)脂的玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg21，以后將其稱為T(mén)g2)以上、且小于熔點(diǎn)Tm的溫度范圍內(nèi)(圖20(a-l))，使線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40和模具50接近，原樣地以設(shè)定壓力進(jìn)行壓制(加壓)，保持設(shè)定時(shí)間(圖20(a-2))。接著在保持壓制的狀態(tài)下降溫。最后釋放壓制壓力，從模具50將片脫模(圖20(a-3))。在采用加熱-加壓進(jìn)行模具賦形的場(chǎng)合，加熱溫度以及壓制溫度(Tl)優(yōu)選為T(mén)g2Tg2+60。C的范圍內(nèi)。小于該范圍時(shí)，線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40或樹(shù)脂層未充分軟化，因此在對(duì)模具50加壓時(shí)難以引起變形，成形所需的壓力非常高。另外，大于該范圍時(shí)，加熱溫度以及壓制溫度Tl高，在能量上無(wú)效率。另外，模具50與片的加熱/冷卻時(shí)的體積變動(dòng)量的差過(guò)大，線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40咬入模具50，不能脫模，另外，即使能夠脫模，圖案的精度也降低，局部性地欠缺圖案等等，由于上述理由而不優(yōu)選。通過(guò)使加熱溫度以及壓制溫度(Tl)為該范圍，可兼?zhèn)淞己玫某尚涡院兔揯莫性。另外，在采用加熱-加壓進(jìn)行模具賦形的場(chǎng)合，壓制壓力可才艮據(jù)在壓制溫度T1下的線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40或樹(shù)脂層的彈性模量的值等來(lái)適當(dāng)調(diào)整。優(yōu)選為0.5~50MPa、更優(yōu)選為l30MPa。小于該范圍時(shí)，向模具50內(nèi)填充樹(shù)脂會(huì)不充分，圖案精度降低。另外，大于該范圍時(shí)，需要的載荷增大，對(duì)模具50的負(fù)荷大，反復(fù)使用耐久性降低，因此不優(yōu)選。通過(guò)使壓制壓力為該范圍，可得到良好的轉(zhuǎn)印性。另外，在采用加熱-加壓進(jìn)行模具賦形的場(chǎng)合，壓制壓力保持時(shí)間可根據(jù)在壓制溫度T1下的線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40或樹(shù)脂層的彈性模量的值等和成形壓力來(lái)適當(dāng)調(diào)整。在平板壓制的場(chǎng)合，優(yōu)選10秒10分。小于該范圍時(shí)，向模具50內(nèi)填充樹(shù)脂會(huì)不充分，圖案精度降低，或者面內(nèi)均一性降低。另外，大于該范圍時(shí)，由于樹(shù)脂的熱分解而引起劣化等，存在成形品的機(jī)械強(qiáng)度降低的可能性，因此不優(yōu)選。通過(guò)使保持時(shí)間為該范圍，可兼?zhèn)淞己玫霓D(zhuǎn)印性和成形品的機(jī)械強(qiáng)度。但是，在輥對(duì)輥成形的場(chǎng)合，壓制時(shí)間也可以為IO秒以下。另外，在采用加熱-加壓進(jìn)行模具賦形的場(chǎng)合，優(yōu)選壓制壓力釋放溫度T2為T(mén)g2-10°C~Tg2+30。C的溫度范圍內(nèi)，并比壓制溫度Tl低，更優(yōu)選為T(mén)g2-l(TC~Tg2+30°C。小于該范圍時(shí)，壓制時(shí)的樹(shù)脂的變形作為殘留應(yīng)力殘留，脫模時(shí)圖案破壞，即使能夠脫模，成形品的熱學(xué)穩(wěn)定性也降低，因此不優(yōu)選。另外，大于該范圍時(shí)，壓力釋放時(shí)的樹(shù)脂的流動(dòng)性高，因此圖案變形，或轉(zhuǎn)印精度降低，因此不優(yōu)選。通過(guò)使壓制壓力釋放溫度T2為該范圍，能夠兼?zhèn)淞己玫霓D(zhuǎn)印性和脫模性。另外，在采用加熱-加壓進(jìn)行模具賦形的場(chǎng)合，優(yōu)選脫模溫度T3為20。CT2。C的溫度范圍內(nèi)，更優(yōu)選為2(TCTg2。C的溫度范圍、最優(yōu)選為20°C~Ts°C(其中Ts〈Tg2)的溫度范圍。大于該范圍時(shí)，脫模時(shí)的樹(shù)脂的流動(dòng)性高，表面軟化，具有粘著性等，在脫模時(shí)有時(shí)圖案變形、精度降低，因此不優(yōu)選。通過(guò)使脫模時(shí)的溫度為該范圍，可圖案精度良好地脫模。圖20(b)是表示采用電磁波照射進(jìn)行模具賦形時(shí)的例子的圖，使用于形成基材l的線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40、和具有與應(yīng)該轉(zhuǎn)印的圖案相顛倒的凹凸的模具50接近(圖20(b-l))。原樣地以設(shè)定壓力進(jìn)行壓制后，從模具50側(cè)或線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40的任一方照射電磁波，使樹(shù)脂固化(圖20(b-2))。接著釋放壓制壓力，將線狀凹凸結(jié)構(gòu)形成用片40從模具50進(jìn)行脫模(圖20(a-3))。通過(guò)采用電磁波照射的模具轉(zhuǎn)印來(lái)進(jìn)行賦形的場(chǎng)合，壓制壓力依賴于在賦形溫度下賦形的材料的粘度。優(yōu)選為0.05~10MPa、更優(yōu)選為0.1~5MPa。小于該范圍時(shí)，樹(shù)脂向模具50內(nèi)的填充不充分，圖案精度降低。另外，大于該范圍時(shí)，需要的載荷增大，對(duì)模具50的負(fù)荷大，反復(fù)使用耐久性降低，因此不優(yōu)選。通過(guò)使壓制壓力為該范圍，可得到良好的轉(zhuǎn)印性。通過(guò)采用電磁波照射的模具轉(zhuǎn)印來(lái)進(jìn)行賦形的場(chǎng)合，電磁波的照射量依賴于累積能量照射的波長(zhǎng)下的吸光率等。優(yōu)選為10-5000mJ/cm2。小于該范圍時(shí)，樹(shù)脂的固化不充分，圖案精度降低，在脫模時(shí)強(qiáng)度不足，由于脫才莫應(yīng)力而斷裂等，因此成形面內(nèi)均一性降低。另外，大于該范圍時(shí)，過(guò)于固化，存在由于固化收縮而引起巻曲的可能性，因此不優(yōu)選。通過(guò)使電磁波的照射量為該范圍，可兼?zhèn)淞己玫霓D(zhuǎn)印性和成形品的機(jī)械強(qiáng)度。通過(guò)采用電磁波照射的模具轉(zhuǎn)印來(lái)進(jìn)行賦形的場(chǎng)合，一系列的工序中的溫度沒(méi)有特別限制。壓制溫度為10~200'C、更優(yōu)選為10~150。C、最優(yōu)選為10~100°C。高于該溫度時(shí)，樹(shù)脂的流動(dòng)性過(guò)高，在壓制前流動(dòng)，或者在壓制前樹(shù)脂固化，成形不充分，因此不優(yōu)選。另外，脫模溫度T3優(yōu)選在固化物的玻璃轉(zhuǎn)變溫度Tg3以下，更優(yōu)選為T(mén)g3-10。C、最優(yōu)選為T(mén)g3-20。C。大于該范圍時(shí)，脫模時(shí)的樹(shù)脂的流動(dòng)性變高，或者表面軟化，具有粘著性，因此脫模時(shí)有時(shí)圖案變形、精度降低，因此不優(yōu)選。通過(guò)使脫模時(shí)的溫度為該范圍，可圖案精度良好地進(jìn)行脫模。通過(guò)采用電磁波照射的模具轉(zhuǎn)印來(lái)進(jìn)行賦形的場(chǎng)合，通過(guò)對(duì)進(jìn)行模具賦形而得到的基材1實(shí)施熱處理，可進(jìn)一步提高固化度。作為其方法，下述的方法均可優(yōu)選地使用在前述的模具50壓制時(shí)對(duì)模具50或基材1的至少一方加熱的方法；在利用電磁波照射進(jìn)行固化后、脫模前，對(duì)模具50或基材l的至少一方加熱的方法；在圖案形成工序后進(jìn)行熱處理的方法。其中，將模具壓制時(shí)的模具溫度T1或疊層體1的溫度T2的至少一方加熱的方法，能夠減少工序數(shù)，因此優(yōu)選地進(jìn)行。另外，為了進(jìn)一步提高固化度，也可以將這些方法組合來(lái)進(jìn)行。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，作為圖案形成方法，可舉出上述的方法。除了如圖20所示的將平版進(jìn)行加壓的方法(平版壓制法)以外，還可以是使用在表面形成了凹凸的輥狀模具，成型為巻狀片，得到巻狀的成形體的輥對(duì)輥的連續(xù)成形。輥對(duì)輥連續(xù)成形的場(chǎng)合、從生產(chǎn)率方面考慮，平版壓制法更優(yōu)異。<工序(a-2)、工序(b-4)黑色層形成工序>在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，在表面平坦的基材l上形成線狀黑色層2的場(chǎng)合，在基材的平坦面?zhèn)热嫔闲纬珊谏珜?。作為其方法，可?yōu)選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法等的濕式法等。蒸鍍法以及濺射法等的干式法，是用于在面內(nèi)形成均一的黑色層的有效的手段。涂覆法是通過(guò)在基材1上涂布含有黑色層形成用的材料的涂劑來(lái)形成黑色層的方法。另外，關(guān)于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)黑色層的電解鍍法；化學(xué)還原析出黑色層的無(wú)電解鍍法；等等。關(guān)于鍍覆法，可舉出在基材l上通過(guò)蒸鍍等形成金屬等之后，使鍍層生長(zhǎng)，或在基材l上涂覆銀、鈀等的成為催化劑的微粒子后，使鍍層生長(zhǎng)等等。在上述這些方法中，形成的黑色層的控制容易、并且均一性優(yōu)異的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優(yōu)選的形成方法。在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，作為由干式法形成黑色層的方法，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應(yīng)加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應(yīng)性濺射法、離子束濺射法、ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學(xué)氣相沉積法(CVD法)等。在此，在形成黑色層的材料使用以無(wú)機(jī)氧化物(1)、無(wú)機(jī)氮化物(1)、無(wú)機(jī)氮氧化物(1)、無(wú)機(jī)鹵化物(1)、無(wú)機(jī)硫化物(1)等為主要的成分的材料的場(chǎng)合，可使與形成的黑色層的組成相同的材料直接揮發(fā)，從而沉積于基材l表面上?？墒牵诶迷摲椒ㄟM(jìn)行的場(chǎng)合，在揮發(fā)中組成發(fā)生變化，其結(jié)果，有時(shí)形成的膜未呈現(xiàn)黑色。因此，使用下述等等的方法1)作為揮發(fā)源，4吏用與形成的黑色層相同的組成的材料，一邊分別向系統(tǒng)內(nèi)輔助性地導(dǎo)入氣體，一邊使之揮發(fā)的方法，所述的導(dǎo)入氣體，在無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣，在無(wú)機(jī)氮化物(1)的場(chǎng)合為氮?dú)?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在無(wú)機(jī)囟化物(1)的場(chǎng)合為卣素系氣體，在無(wú)機(jī)硫化物(1)的場(chǎng)合為硫系氣體；2)作為揮發(fā)源，使用無(wú)機(jī)物群，一邊使之揮發(fā)，一邊分別向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入氣體，使無(wú)機(jī)物和導(dǎo)入的氣體反應(yīng)，在基材l表面沉積的方法，所述的導(dǎo)入氣體，在無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣，在無(wú)機(jī)氮化物(1)的場(chǎng)合為氮?dú)?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在無(wú)機(jī)卣化物(1)的場(chǎng)合為卣素系氣體，在無(wú)枳^充化物(1)的場(chǎng)合為硫系氣體；3)作為揮發(fā)源，使用無(wú)機(jī)物群，使其揮發(fā)，形成無(wú)機(jī)物群的層后，將該層在下述氣體氣氛下保持，由此使無(wú)機(jī)物層和導(dǎo)入的氣體反應(yīng)的方法，所述氣體氣氛，在無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣氣氛，在無(wú)機(jī)氮化物(1)的場(chǎng)合為氮?dú)鈿夥?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w氣氛，在無(wú)機(jī)卣化物(1)的場(chǎng)合為卣素系氣體氣氛，在無(wú)才;u克化物(i)的場(chǎng)合為硫系氣體氣氛。在這些方法中，從容易從揮發(fā)源揮發(fā)的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選使用2)的方法或3)的方法。進(jìn)而，從膜質(zhì)的控制容易的觀點(diǎn)出發(fā)，進(jìn)一步優(yōu)選使用2)的方法。另外，在黑色層2為無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合，使用無(wú)機(jī)物群作為揮發(fā)源，使其揮發(fā)，形成無(wú)機(jī)物群的層。從容易形成的方面考慮，此后通過(guò)在空氣中放置而使無(wú)機(jī)物群自然氧化的方法也被優(yōu)選使用。另夕卜，由PVD法形成黑色層的場(chǎng)合，在揮發(fā)前進(jìn)行減壓時(shí)，優(yōu)選提高系統(tǒng)內(nèi)的真空度。通過(guò)提高系統(tǒng)內(nèi)的真空度，可形成致密、缺陷少的黑色層2，可均勻地形成黑色層。另外，在黑色層由疊層結(jié)構(gòu)構(gòu)成的場(chǎng)合，在無(wú)機(jī)物群不同時(shí)，只要使用具有多個(gè)揮發(fā)源的裝置，形成第一層后，改變揮發(fā)源形成為第二層、第三層即可，另外，在為同一無(wú)機(jī)物群，只U應(yīng)的程度和/或反應(yīng)氣體的種類(lèi)不同的場(chǎng)合，只要形成第一層后，變更導(dǎo)入氣體的流量和/或?qū)霘怏w的種類(lèi)形成為第二層、第三層...即可。<工序(d-5)、(e-4):透明層形成工序>在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，作為形成透明層4的方法，可優(yōu)選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法等的濕式法等。關(guān)于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，是用于形成在面內(nèi)均一的透明層4的有效手段。涂覆法是通過(guò)涂布含有透明層4形成用的組合物的涂劑來(lái)形成透明層的方法。在這些上迷方法中，對(duì)形成的透明層4的控制容易、并且均一性優(yōu)異的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優(yōu)選的形成方法。在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，由干式法形成透明層4的方法，可列舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應(yīng)加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應(yīng)性'減射法、離子束濺射法、ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學(xué)氣相沉積法(CVD法)等。在此，在形成透明層4的材料使用以無(wú)機(jī)氧化物(2)、無(wú)機(jī)氮化物(2)、無(wú)機(jī)氮氧化物(2)、無(wú)機(jī)鹵化物(2)等為主要的成分的材料的場(chǎng)合，可使與形成的透明層4的組成相同的材料直接揮發(fā)，從而沉積于基材1表面上。可是，在利用該方法進(jìn)行的場(chǎng)合，在揮發(fā)中組成發(fā)生變化，其結(jié)果，有時(shí)形成的膜未作為透明層4發(fā)揮作用。因此，可舉出下述等等的方法1)作為揮發(fā)源，使用與形成的透明層4相同的組成的材料，一邊分別向系統(tǒng)內(nèi)輔助性地導(dǎo)入氣體，一邊使之揮發(fā)的方法，所述的導(dǎo)入氣體，在無(wú)機(jī)氧化物(2)的場(chǎng)合為氧氣，在無(wú)機(jī)氮化物(2)的場(chǎng)合為氮?dú)猓跓o(wú)機(jī)氮氧化物(2)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在無(wú)機(jī)囟化物(2)的場(chǎng)合為閨素系氣體；2)作為揮發(fā)源，使用無(wú)機(jī)物群，一邊使之揮發(fā)，一邊分別向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入氣體，使無(wú)機(jī)物和導(dǎo)入的氣體反應(yīng)，在基材l表面沉積的方法，所述的導(dǎo)入氣體，在無(wú)機(jī)氧化物(2)的場(chǎng)合為氧氣，在無(wú)機(jī)氮化物(2)的場(chǎng)合為氮?dú)?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(2)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在無(wú)機(jī)卣化物(2)的場(chǎng)合為卣素系氣體；3)作為揮發(fā)源，4吏用無(wú)才幾物群，使其揮發(fā)，形成無(wú)機(jī)物群的層后，將該層在下述氣體氣氛下保持，由此使無(wú)機(jī)物層和導(dǎo)入的氣體反應(yīng)的方法，所述氣體氣氛，在無(wú)機(jī)氧化物(2)的場(chǎng)合為氧氣氣氛，在無(wú)機(jī)氮化物(2)的場(chǎng)合為氮?dú)鈿夥?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(2)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w氣氛，在無(wú)機(jī)卣化物(2)的場(chǎng)合為卣素系氣體氣氛。在這些方法中，從容易從揮發(fā)源揮發(fā)的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選使用2)的方法或3)的方法，從形成的膜的透明性優(yōu)異的方面考慮，進(jìn)一步優(yōu)選^f吏用2)的方法。另外，由PVD法形成透明層4的場(chǎng)合，在揮發(fā)前進(jìn)行減壓時(shí)，優(yōu)選提高系統(tǒng)內(nèi)的真空度。通過(guò)提高系統(tǒng)內(nèi)的真空度，可形成致密、缺陷少的透明層4，可均勻地形成透明層4。另外，在透明層4由疊層結(jié)構(gòu)構(gòu)成的場(chǎng)合，在無(wú)機(jī)物群不同時(shí)，只要使用具有多個(gè)揮發(fā)源的裝置，形成第一層后，改變揮發(fā)源形成為第二層、第三層即可。另外，在為同一無(wú)機(jī)物群，只是反應(yīng)的程度和/或反應(yīng)氣體的種類(lèi)不同的場(chǎng)合，只要形成第一層后，變更導(dǎo)入氣體的流量和/或?qū)霘怏w的種類(lèi)依次形成為第二層、第三層..即可。在此，在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，為了在線狀金屬層3上形成透明層4，通過(guò)改變蒸鍍角度e即蒸鍍時(shí)的基材1的法線方向與揮發(fā)源的方向構(gòu)成的角度、材料的沉積量，可形成任意的形態(tài)的透明層4。在此所說(shuō)的蒸鍍角度e，是蒸鍍時(shí)的基材1的法線方向與揮發(fā)源的方向構(gòu)成的角度。例如，在上述的蒸鍍角度e(。)設(shè)為tanG^(p-w)/h的場(chǎng)合，會(huì)難以向凹部表面形成透明層4。在減少材料的沉積量的場(chǎng)合，可形成如圖13(c)、圖16(c)、(e)那樣的形態(tài)，當(dāng)材料的沉積量增多時(shí)，可形成如圖13(a)、(b)、圖16(a)、(b)、(d)那樣的形態(tài)。另夕卜，在蒸鍍角度設(shè)為0°時(shí)，當(dāng)減少材料的沉積量的場(chǎng)合，可形成如圖13(e)、圖16(g)那樣的形態(tài)，當(dāng)材料的沉積量增多時(shí)，可形成如圖13(d)、圖16(f)那樣的形態(tài)。<工序(a-3)、工序(b-4)工序(d-2):金屬層形成工序>在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，在基材l的平坦面上形成線狀金屬層3的場(chǎng)合，在基材1的平坦面全面上形成金屬層。作為其方法，優(yōu)選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法、等的濕式法等。關(guān)于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，是用于形成在面內(nèi)均一的金屬層的有效手段。涂覆法是通過(guò)在基材1上涂布含有金屬粒子或由金屬被覆的粒子的涂劑來(lái)形成金屬層的方法。另外，關(guān)于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)金屬等的電解鍍法；化學(xué)還原析出線狀金屬層的無(wú)電解鍍法；等等。關(guān)于鍍覆法，可舉出在基材l上通過(guò)蒸鍍等形成金屬之后，使鍍層生長(zhǎng)，或在基材1上涂覆^L、鈀等的成為催化劑的孩t粒子后，使鍍層生長(zhǎng)等等。在這些上述方法中，形成的金屬層的金屬性高的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優(yōu)選的形成方法。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，作為形成金屬層方法，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應(yīng)加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應(yīng)性賊射法、離子束濺射法ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學(xué)氣相沉積法(CVD法)、溶膠-凝膠法等的涂布法等。其中，從可均勻地形成致密的膜的方面出發(fā)，優(yōu)選PVD法或CVD法。在利用真空蒸鍍法形成金屬層時(shí)，系統(tǒng)內(nèi)的真空度越高越好，優(yōu)選為8.0xl(T4Pa以下，更優(yōu)選為1.0xlO-4Pa以下，進(jìn)一步優(yōu)選為5.0xl(TsPa以下。當(dāng)不到該范圍時(shí)，從揮發(fā)源揮發(fā)的金屬原子沉積時(shí)，會(huì)一邊混入系統(tǒng)內(nèi)殘存的氣體分子一邊在基材l上析出，從而金屬性降低，有時(shí)光學(xué)特性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，通過(guò)使蒸鍍時(shí)的真空度在上述的范圍內(nèi)，可形成致密的膜。其結(jié)果，可制成偏振光分離特性優(yōu)異的偏振片。在利用真空蒸鍍法形成金屬層時(shí)，蒸鍍速度優(yōu)選為0.2nm/秒以上，更優(yōu)選為0.5nm/秒以上，進(jìn)一步優(yōu)選為lnm/秒以上。當(dāng)不到該范圍時(shí)，會(huì)成為在沉積時(shí)系統(tǒng)內(nèi)殘存的氣體分子容易進(jìn)入的狀態(tài)，形成的金屬層的金屬性降低，有時(shí)光學(xué)特性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，通過(guò)使蒸鍍速度在上述的范圍內(nèi)，可形成致密的膜。其結(jié)果，可制成偏振光分離特性優(yōu)異的偏振片。<工序(b-3)、工序(c-4):線狀黑色層形成工序>在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，在基材l表面形成的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上形成線狀黑色層2的場(chǎng)合，作為其方法，優(yōu)選使用蒸鍍法、、減射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法等的濕式法等。關(guān)于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，通過(guò)控制基材1與揮發(fā)源所成的角度，能夠只在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11周邊形成線狀黑色層2。這是用于位置選擇性地形成線狀黑色層2的有效手段。在此，控制基材l與金屬源的角度是指控制金屬源相對(duì)于基材l面的法線方向的角度，例如如圖21所示，優(yōu)選從相對(duì)于法線方向傾斜的方向，并且相對(duì)于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的方向進(jìn)行蒸鍍或賊射。其次，涂覆法是通過(guò)在基材1上涂布含有黑色層形成用的材料的涂劑來(lái)形成線狀黑色層2。通過(guò)控制涂膜厚度、溶劑的極性、涂布條件，可局部地形成線狀黑色層2。另外，關(guān)于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)線狀黑色層2等的電解鍍法；化學(xué)還原析出線狀黑色層2的無(wú)電解鍍法；等等。關(guān)于鍍覆法，可舉出在基材l上通過(guò)蒸鍍等形成金屬等之后，使鍍層生長(zhǎng)，或在基材l上涂覆銀、鈀等的成為催化劑的微粒子后，使鍍層生長(zhǎng)等等。例如，向線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凹部12填充作為催化劑的金屬粒子后，若進(jìn)行無(wú)電解鍍，則可只在凹部12形成線狀黑色層2。在上述這些方法中，線狀黑色層2的形成位置容易控制、并且形成的線狀金屬層3的控制容易、且均一性優(yōu)異的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優(yōu)選的形成方法。作為利用千式法形成線狀黑色層2的方法的例子，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應(yīng)加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應(yīng)性濺射法、離子束濺射法ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學(xué)氣相沉積法(CVD法)等。在此，在形成線狀黑色層2的材料使用以無(wú)機(jī)氧化物(1)、無(wú)機(jī)氮化物(1)、無(wú)機(jī)氮氧化物(1)、無(wú)機(jī)卣化物(1)、無(wú)機(jī)硫化物(1)等為主要的成分的材料的場(chǎng)合，可使與形成的線狀黑色層2的組成相同的材料直接揮發(fā)，從而沉積于基材l表面上?？墒?，在利用該方法進(jìn)行的場(chǎng)合，在揮發(fā)中組成發(fā)生變化，其結(jié)果，有時(shí)形成的膜未呈現(xiàn)黑色。因此，可舉出下述等等的方法l)作為揮發(fā)源，使用與形成的線狀黑色層2相同的組成的材料，一邊分別向系統(tǒng)內(nèi)輔助性地導(dǎo)入氣體，一邊使之揮發(fā)的方法，所述的導(dǎo)入氣體，在無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣，在無(wú)機(jī)氮化物(1)的場(chǎng)合為氮?dú)猓跓o(wú)機(jī)氮氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在無(wú)機(jī)卣化物(1)的場(chǎng)合為鹵素系氣體，在無(wú)機(jī)硫化物(1)的場(chǎng)合為硫系氣體；2)作為揮發(fā)源，使用無(wú)機(jī)物，一邊使之揮發(fā)，一邊分別向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入氣體，使無(wú)機(jī)物和導(dǎo)入的氣體反應(yīng)，在基材l表面進(jìn)行沉積的方法，所述的導(dǎo)入氣體，在無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣，在無(wú)機(jī)氮化物(1)的場(chǎng)合為氮?dú)?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w，在無(wú)機(jī)鹵化物(1)的場(chǎng)合為卣素系氣體，在無(wú)機(jī)硫化物(1)的場(chǎng)合為硫系氣體；3)作為揮發(fā)源，使用無(wú)機(jī)物群，使其揮發(fā)，形成無(wú)機(jī)物群的層后，將該層在下述氣體氣氛下保持，由此使無(wú)機(jī)物層和導(dǎo)入的氣體反應(yīng)的方法，所述氣體氣氛，在無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣氣氛，在無(wú)機(jī)氮化物(1)的場(chǎng)合為氮?dú)鈿夥?，在無(wú)機(jī)氮氧化物(1)的場(chǎng)合為氧氣與氮?dú)獾幕旌蠚怏w氣氛，在無(wú)機(jī)卣化物(1)的場(chǎng)合為g素系氣體氣氛，在無(wú)機(jī)硫化物(1)的場(chǎng)合為石危系氣體氣氛。在這些方法中，從容易從揮發(fā)源揮發(fā)的觀點(diǎn)出發(fā)，更優(yōu)選使用2)的方法或3)的方法。進(jìn)而，從膜質(zhì)的控制容易的觀點(diǎn)出發(fā)，進(jìn)一步優(yōu)選使用2)的方法。另外，在線狀黑色層2為無(wú)機(jī)氧化物(1)的場(chǎng)合，從容易形成的方面考慮，優(yōu)選采用使用無(wú)機(jī)物群作為揮發(fā)源，使其揮發(fā)，形成無(wú)機(jī)物群的層后，在空氣中放置而使無(wú)機(jī)物群自然氧化的方法。在由真空蒸鍍法形成線狀黑色層2時(shí)，在揮發(fā)前進(jìn)行減壓時(shí)，優(yōu)選提高系統(tǒng)內(nèi)的真空度。通過(guò)提高系統(tǒng)內(nèi)的真空度，可形成致密、缺陷少的線狀黑色層2，可均勻地形成線狀黑色層2。在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，蒸鍍角度e即蒸鍍時(shí)的基材i的法線方向與揮發(fā)源的方向構(gòu)成的角度，在基材1表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10時(shí)，依賴于基材l的凹凸形狀。在此所說(shuō)的蒸鍍角度e是蒸鍍時(shí)的基材1的法線方向與揮發(fā)源的方向構(gòu)成的角度。優(yōu)選如圖21所示，線狀黑色層2的蒸鍍方向Ml包含于由基材面的法線L3、和與基材1面平行并且與線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的線L2構(gòu)成的面內(nèi)。線狀黑色層2的蒸鍍方向M1，包含于由基材面的法線L3、和與基材1面平行并且與線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的線L2構(gòu)成的面內(nèi)的場(chǎng)合，上述的蒸鍍角度e(。)，在線狀黑色層2的形成中可以是一定的，也可以使之變化。在蒸鍍角度e—定的場(chǎng)合，優(yōu)選為tane^(p-w)/h。更優(yōu)選為tan(9-5。)^(p-w)/h、進(jìn)一步優(yōu)選為蒸鍍角度tan(0-10°)^(p-w)/h以上。當(dāng)不到該范圍時(shí)，線狀黑色層2的選擇性形成變得困難，有時(shí)光學(xué)特性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，通過(guò)使蒸鍍角度e為上述范圍，可高選擇性地形成線狀黑色層2。其結(jié)果，可在維持高透射率的狀態(tài)下抑制外部光的照入。另夕卜，在使蒸鍍角度e變化的場(chǎng)合，與使蒸鍍角度e—定的方法相比，可抑制向凹部的附著，并且使線狀黑色層2在厚度方向形成得更高。其結(jié)果，可在維持得到的高透射率的狀態(tài)下更加抑制外部光的照入。該場(chǎng)合下，蒸鍍角度e，只要在形成初期滿足tane^(p-w)/h即可，到形成中期后期時(shí)可以變?yōu)閠an0<(p-w)/h。在使蒸鍍角度e變化的場(chǎng)合，優(yōu)選在形成初期階段，使蒸鍍角度e向變小的方向變〗匕。通過(guò)這樣地變化，在形成初期可抑制向凹部的附著，另外，隨著進(jìn)行形成，可在厚度方向形成較高的線狀黑色層2。另外，在使蒸鍍角度e變化的場(chǎng)合，既可以使之?dāng)嗬m(xù)地變化，也可以使之連續(xù)地變化。作為改變形成角度e的方法，既可以使用具有基材角度可變機(jī)構(gòu)的裝置來(lái)改變形成角度e，也可以使用輥對(duì)輥型蒸鍍裝置，將基材沿著輥狀鼓的外周設(shè)置，通過(guò)使輥旋轉(zhuǎn)，來(lái)改變形成角度e。在此，在使用輥對(duì)輥型蒸鍍裝置的場(chǎng)合，可成為連續(xù)工藝，因此從生產(chǎn)率方面考慮是更優(yōu)選的。圖22是說(shuō)明使用具有基材角度可變機(jī)構(gòu)的裝置改變形成角度e進(jìn)行蒸鍍的方法的圖。使用未圖示的基材角度可變機(jī)構(gòu)，使基板i傾斜成蒸鍍角度e、即蒸鍍時(shí)的基材1的法線方向L3與來(lái)自揮發(fā)源60的金屬的方向mi構(gòu)成的角度。這樣，通過(guò)一邊使用具有基材角度可變機(jī)構(gòu)的裝置改變形成角度e，一邊進(jìn)行蒸鍍，就可高選擇性地形成線狀黑色層2。圖23是說(shuō)明使用輥對(duì)輥型蒸鍍裝置改變形成角度e進(jìn)行蒸鍍的方法的圖。如圖23所示，巻狀的基材通過(guò)放巻/巻取軸63、66、輥狀鼓62的旋轉(zhuǎn)沿著輥狀鼓62的外周旋轉(zhuǎn)。在輥狀鼓62的側(cè)面附近設(shè)置有隔板67。隔板的開(kāi)口部，開(kāi)口成為基材面的法線方向L3與來(lái)自揮發(fā)源60的金屬的方向Mi構(gòu)成的角度e從ei變化為e3(在該圖的例子中，ei>e3)。通過(guò)放巻/巻取軸63、66、輥狀鼓62的旋轉(zhuǎn)，一邊使形成角度9從91向93變化一邊在巻狀的基材61上進(jìn)行蒸鍍。在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，基材l與揮發(fā)源間的距離大為宜，優(yōu)選為15cm以上、更優(yōu)選為20cm以上。當(dāng)不到該范圍時(shí)，在斜向蒸鍍時(shí)，在接近于蒸鍍?cè)吹膫?cè)較多的線狀黑色層2沉積，有時(shí)光學(xué)特性的面內(nèi)均一性惡化，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，通過(guò)使基材1與揮發(fā)源間的距離為上述的范圍，可制成面內(nèi)的光學(xué)特性的均一性優(yōu)異的偏振片。另外，在線狀黑色層2由疊層結(jié)構(gòu)構(gòu)成的場(chǎng)合，在無(wú)機(jī)物群不同時(shí)，只要使用具有多個(gè)揮發(fā)源的裝置，形成第一層后，改變揮發(fā)源形成為第二的程度和/或反應(yīng)氣體的種類(lèi)不同的場(chǎng)合，只要形成第一層后，變更導(dǎo)入氣體的流量和/或?qū)霘怏w的種類(lèi)來(lái)形成為第二層、第三層即可。<工序(b-3)、工序(c-4)、工序(e-4):線狀金屬層形成工序>在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，在基材l表面形成的線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上形成線狀金屬層3的場(chǎng)合，作為其方法，優(yōu)選使用蒸鍍法、濺射法等的干式法、涂覆法、鍍覆法等的濕式法等。關(guān)于蒸鍍法以及濺射法等的干式法，通過(guò)控制基材1與金屬源所成的角度，能夠只在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11周邊形成線狀金屬層3，這是用于位置選擇性地形成線狀金屬層3的有效手段。在此，控制基材l與金屬源的角度是指控制金屬源相對(duì)于基材l面的法線方向的角度，例如如圖21所示，優(yōu)選從相對(duì)于法線方向傾斜的方向，并且相對(duì)于線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的方向進(jìn)行蒸鍍或?yàn)R射。其次，涂覆法是通過(guò)在基材1上涂布含有金屬粒子或由金屬凈皮覆的粒子的涂劑來(lái)形成線狀金屬層3。通過(guò)控制涂膜厚度、溶劑的極性、涂布條件，可局部地形成線狀金屬層3。另外，關(guān)于鍍覆法，可舉出在固體表面，使用外部電源電析出(電沉積)金屬等的電解鍍法；化學(xué)還原析出線狀金屬層3的無(wú)電解鍍法；等等。關(guān)于鍍覆法，可舉出在基材1上通過(guò)蒸鍍等形成線狀金屬層3之后，使鍍層生長(zhǎng)，或在基材l上涂覆銀、鈀等的成為催化劑的微粒子后，使鍍層生長(zhǎng)等等。例如，向線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凹部12填充作為催化劑的金屬粒子后，若進(jìn)行無(wú)電解鍍，則可只在凹部12形成線狀金屬層3。在上述這些方法中，線狀金屬層3的形成位置容易控制、并且形成的線狀金屬層3的金屬性高的蒸鍍法以及濺射法等的干式法是更優(yōu)選的形成方法。作為利用干式法形成線狀金屬層3的方法的例子，可舉出電阻加熱蒸鍍、電子束蒸鍍、感應(yīng)加熱蒸鍍以及在這些方法中利用等離子體、離子束的輔助的方法等的真空蒸鍍法、反應(yīng)性濺射法、離子束濺射法ECR(電子回旋)濺射法等的濺射法、離子鍍法等的物理氣相沉積法(PVD法)、利用熱、光、等離子體等的化學(xué)氣相沉積法(CVD法)等。其中，從可高選擇性地形成金屬性高的致密膜的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選在電子束蒸鍍法、以及電子束法中組合了各種的輔助法的方法。在利用真空蒸鍍法形成線狀金屬層3時(shí)，系統(tǒng)內(nèi)的真空度越高越好，優(yōu)選為8.0xlO"Pa以下，更優(yōu)選為1.0xlO"Pa以下，進(jìn)一步優(yōu)選為5.0xl(TsPa以下。當(dāng)不到該范圍時(shí)，在從揮發(fā)源揮發(fā)的金屬原子到達(dá)基材l的期間，，會(huì)與系統(tǒng)內(nèi)殘存的氣體分子碰撞，失去方向性。因此，在沉積時(shí)，系統(tǒng)內(nèi)殘存的氣體分子會(huì)進(jìn)入，并且在基材l上析出，從而金屬性降低，光學(xué)特性降低，或者在基材1表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的場(chǎng)合，難以選擇性形成線狀金屬層3，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，通過(guò)使蒸鍍時(shí)的真空度在上述的范圍內(nèi)，可高選擇性地形成致密的膜。其結(jié)果，可得到偏振光分離特性優(yōu)異的偏振片。在利用真空蒸鍍法形成線狀金屬層3時(shí)，蒸鍍速度優(yōu)選為0.2nm/秒以上，更優(yōu)選為0.5nm/秒以上，進(jìn)一步優(yōu)選為lnm/秒以上。當(dāng)不到該范圍時(shí)，會(huì)成為在沉積時(shí)系統(tǒng)內(nèi)殘存的氣體分子容易進(jìn)入的狀態(tài)，形成的線狀金屬層3的金屬性降低，有時(shí)光學(xué)特性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，通過(guò)使蒸鍍速度在上述的范圍內(nèi)，可形成致密的膜。其結(jié)果，可得到偏振光分離特性優(yōu)異的偏振片。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)的制造方法中，蒸鍍角度e、即蒸鍍時(shí)的基材1的法線方向與蒸鍍?cè)吹姆较驑?gòu)成的角度，在基材1平坦的場(chǎng)合，可以為任意的角度。在基材1表面具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的場(chǎng)合，依賴于基材i的凹凸形狀。在此所說(shuō)的蒸鍍角度e，是蒸鍍時(shí)的基材i的法線方向與蒸鍍?cè)吹姆较驑?gòu)成的角度。優(yōu)選如圖21所示，金屬的蒸鍍方向Ml包含于由基材面的法線L3、和與基材1面平行并且與線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的線L2構(gòu)成的面內(nèi)。在金屬的蒸鍍方向M1，包含于由基材面的法線L3、和與基材l面平行并且與線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的縱向垂直的線L2構(gòu)成的面內(nèi)的場(chǎng)合，上述的蒸鍍角度e(。)，在線狀金屬層3的形成中可以是一定的，也可以^吏之變化。在蒸鍍角度e—定的場(chǎng)合，優(yōu)選為tan0g(p-w)/h。更優(yōu)選為tan(6-5°)^(p-w)/h、進(jìn)一步優(yōu)選為蒸鍍角度tan(0-10。)^(p-w)/h以上。當(dāng)不到該范圍時(shí)，線狀金屬層3的選擇性形成變得困難，有時(shí)光學(xué)特性降低，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(1)的制造方法中，通過(guò)使蒸鍍角度e為上述范圍，可高選擇性地附著金屬，其結(jié)果，可得到偏振光分離特性優(yōu)異的偏振片。另夕卜，在使蒸鍍角度e變化的場(chǎng)合，與使蒸鍍角度e—定的方法相比，可抑制向凹部的附著，并且使線狀金屬層3在厚度方向形成得更高。其結(jié)果，可在維持得到的高透射率的狀態(tài)下得到偏振光分離特性更優(yōu)異的偏振片。該場(chǎng)合下，蒸鍍角度e，只要在形成初期滿足tane^(p-w)/h即可，到形成中期后期時(shí)可以變?yōu)閠ane<(p-w)/h。在該情況下，使蒸鍍角度e變化時(shí)，優(yōu)選在形成初期階段，使蒸鍍角度e向變小的方向變化。通過(guò)這樣地變化，在形成初期可抑制向凹部的附著，另外，隨著進(jìn)行形成，可在厚度方向形成較高的線狀金屬層3。另外，在使蒸鍍角度e變化的場(chǎng)合，既可以使之?dāng)嗬m(xù)地變化，也可以使之連續(xù)地變化。作為改變形成角度e的方法，可以使用具有基材角度可變機(jī)構(gòu)的裝置來(lái)改變形成角度e。也可以使用蒸鍍?cè)幢慌渲糜诓辉诎仩罟牡男D(zhuǎn)中心軸、并且與水平面垂直的面內(nèi)的位置的輥對(duì)輥型蒸鍍裝置，將基材沿著輥狀鼓的外周設(shè)置，通過(guò)使輥旋轉(zhuǎn)來(lái)改變形成角度e。在此，在使用輥對(duì)輥型蒸鍍裝置的場(chǎng)合，可成為連續(xù)工藝，因此從生產(chǎn)率方面考慮是更優(yōu)選的。一邊改變形成角度e—邊進(jìn)行蒸鍍的方法，采用與上述同樣的方法進(jìn)行。在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的制造方法中，基材i與蒸鍍?cè)撮g的距離大為宜，優(yōu)選為15cm以上、更優(yōu)選為20cm以上。當(dāng)不到該范圍時(shí)，在斜向蒸鍍時(shí)，在接近于蒸鍍?cè)吹膫?cè)沉積較多的金屬，有時(shí)光學(xué)特性的面內(nèi)均一性惡化，因此不優(yōu)選。在本發(fā)明的偏振片的制造方法中，通過(guò)使基材1與蒸鍍?cè)撮g的距離為上述的范圍，可制成在面內(nèi)的光學(xué)特性的均一性優(yōu)異的偏振片。在本發(fā)明的偏振片(1)的制造方法中，在工序(a-2)工序(b-4)黑色層形成工序或者工序(b-3)工序(c-4)線狀黑色層形成工序、以及工序(a-3)工序(b-4)金屬層形成工序或者工序(b-4)工序(c-4)線狀金屬層形成工序的任一工序都釆用蒸鍍、濺射等的物理氣相沉積法進(jìn)行的場(chǎng)合，另夕卜，在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，在工序(d-2)工序(e-3)透明層形成工序以及工序(d-3)金屬層形成工序或者工序(e-4)線狀金屬層形成工序的任一工序都采用蒸鍍、濺射等的物理氣相沉積法進(jìn)行的場(chǎng)合，優(yōu)選使用具有多個(gè)揮發(fā)源的裝置，將這些工序連續(xù)地進(jìn)行。該場(chǎng)合下，與分成一個(gè)個(gè)的工序來(lái)進(jìn)行的情況相比，可減少進(jìn)行真空抽吸的次數(shù)。其結(jié)果，可^f吏工序時(shí)間變?yōu)榧s一半。另外，在將這些工序連續(xù)地進(jìn)行的場(chǎng)合，也能夠使用巻狀的膜基材，采用輥對(duì)輥工序進(jìn)行。該場(chǎng)合下，可以一邊放巻一邊形成一個(gè)層，接著一邊復(fù)巻，或者復(fù)巻后再次放巻，一邊形成另一層，優(yōu)選使用在膜的輸送路徑內(nèi)設(shè)有多個(gè)形成區(qū)的裝置，通過(guò)l次放巻來(lái)連續(xù)地形成兩個(gè)層。<工序(a-4)、工序(b-5)、工序(d-4):抗蝕劑圖案形成工序>在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，在基材l的平坦面上形成線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的場(chǎng)合，在利用工序(a-2)工序(b-4)形成的黑色層和/或利用工序(a-3)工序(b-4)形成的金屬層上形成抗蝕劑圖案，另外，在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，在基材l的平坦面上形成線狀金屬層3的場(chǎng)合，在利用工序(d-3)形成的金屬層上形成抗蝕劑圖案。作為其方法，首先，在黑色層和/或金屬層上，形成由下述材料構(gòu)成的薄膜，所述材料是含有可通過(guò)電磁波照射進(jìn)行交聯(lián)或分解的化合物的材料。接著，在該薄膜上，通過(guò)使用光掩模的曝光、電子束描畫(huà)、干涉膝光等的手法，使其部分地交聯(lián)或分解。接著，使用溶劑，將曝光部或非曝光部選擇性地溶解，從而可形成。另外，作為其他的方法，可通過(guò)在工序(b-2)、工序(c-2)、工序(e-2)中列舉出的采用加熱-加壓或電磁波照射的模具轉(zhuǎn)印來(lái)形成。其具體的方法是，在黑色層和/或金屬層上，形成具有熱塑性的材料、可通過(guò)加熱或電磁波照射進(jìn)行交聯(lián)的材料的薄膜，在該形成的薄膜上，利用與工序(b-2)、工序(c-2)、工序(e-2)同樣的方法轉(zhuǎn)印模具形狀，從而可形成c在此，通過(guò)才莫具轉(zhuǎn)印來(lái)形成抗蝕劑圖案的場(chǎng)合，在形成的樹(shù)脂的凹凸形狀的凹部底面一般殘留樹(shù)脂。因此，在原樣的狀態(tài)下，在接下來(lái)的選擇性除去工序中，難以選擇性除去黑色層和/或金屬層。因此，優(yōu)選除去殘存于凹部的樹(shù)脂，局部地露出黑色層和/或金屬層。作為其方法，可使用干式蝕刻、濕式蝕刻等的/>知的方法進(jìn)行。由上述的方法形成的抗蝕劑圖案，可原樣地直接用于接下來(lái)的工序(a-5)、工序(a-6)、工序(b-6)、工序(d-5)的選擇性除去工序。也優(yōu)選通過(guò)以該抗蝕劑圖案為基礎(chǔ)進(jìn)行光刻，在黑色層和/或金屬層上形成別的金屬等的圖案。該場(chǎng)合下，與將抗蝕劑圖案原樣地直接使用的情況相比，可提高選擇性除去工序中的除去的選擇性。其結(jié)果，能夠形成高光學(xué)特性的偏振片，因此優(yōu)選進(jìn)行。<工序(a-5)、工序(a-6)、工序(b-6)、工序(d-5):選擇性除去工序>在本發(fā)明的偏振片(l)的制造方法中，在基材1的平坦面上形成線狀黑色層2以及線狀金屬層3的場(chǎng)合利用工序(a-4)工序(b-5)、在本發(fā)明的偏振片(2)的制造方法中，在基材1的平坦面上形成線狀金屬層3的場(chǎng)合利用工序(d-4)，以在黑色層和/或金屬層上形成的抗蝕劑圖案(或以抗蝕劑圖案為基礎(chǔ)進(jìn)行光刻而形成的金屬圖案)為基礎(chǔ)，局部地除去黑色層和/或金屬層，由此可形成目標(biāo)的偏振片。作為其方法，可使用干式蝕刻法、濕式蝕刻法、噴砂法等。其中，從能夠高選擇性地除去黑色層和/或金屬層的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選干式蝕刻法。干式蝕刻所使用的氣體，可根據(jù)黑色層和/或金屬層、以及抗蝕劑圖案(或以抗蝕劑圖案為基礎(chǔ)進(jìn)行光刻而形成的金屬圖案)的材質(zhì)來(lái)適宜選擇。本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)可通過(guò)至少包括上述工序的方法來(lái)形成。特別是在本發(fā)明的偏振片(l)的場(chǎng)合、以及在本發(fā)明的偏振片(2)中在基材1上形成透明層4后形成線狀金屬層3的場(chǎng)合，為了提高形成的線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的機(jī)械強(qiáng)度，或者，為了對(duì)表面賦予耐摩擦性，也可以在形成的線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的表面、形成有線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的整個(gè)面上，利用透明樹(shù)脂、金屬氧化膜等形成保護(hù)膜，或者向形成的線狀黑色層2和/或線狀金屬層3之間的凹部填充透明樹(shù)脂，等等。能夠使用的透明樹(shù)脂不特別限定，可優(yōu)選使用熱塑性樹(shù)脂、熱固性樹(shù)脂、光固性樹(shù)脂等。另外，能夠使用的金屬氧化物，只要是透明的就不特別限定。另外，也優(yōu)選在本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)的表面上貼合相位差膜、光學(xué)補(bǔ)償膜、保護(hù)膜等的別的膜。另外，在本發(fā)明的偏振片(1)的基材l的未形成線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的面?zhèn)?、本發(fā)明的偏振片(2)的基材1的未形成線狀金屬層3的面?zhèn)?，可以形成抗靜電層、防反射層、硬涂層等任意的層。另外，也可通過(guò)與具有其他功能的基材1等貼合，來(lái)制成具有多功能的功能綜合高性能片。本發(fā)明的偏振片(1)或偏振片(2)可通過(guò)上述的工序來(lái)形成。得到的偏振片，可在通過(guò)A面呈現(xiàn)反射型的偏振光分離特性的同時(shí)，通過(guò)B面防止外部光的照入。更詳細(xì)地講，在向A面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，具有使某一方的偏振光成分透射，并且將另一方的偏振光成分反射的偏振光分離功能。在從A面?zhèn)热肷涔獾膱?chǎng)合，具有使某一方的偏振光成分透射，并且使另一方的偏振光成分消失的功能。本發(fā)明的偏振片(l)或偏振片(2)，可用于要求該功能的各種用途，作為其用途的一例，可舉出特別是在安裝于液晶顯示裝置中使用的場(chǎng)合，可發(fā)揮亮度提高效果。以下對(duì)該機(jī)理進(jìn)行說(shuō)明。液晶顯示裝置其構(gòu)成大體可分成面光源700和液晶盒800。圖24表示4吏用側(cè)光型面光源作為光源700的液晶顯示裝置的例子。在圖24中，在導(dǎo)光板300的上面?zhèn)扰渲糜袛U(kuò)散片500，而且在擴(kuò)散片500上配置有棱鏡片600,另夕卜，在導(dǎo)光板300的下面?zhèn)扰渲糜蟹瓷淦?00。而且，在導(dǎo)光板300的側(cè)面配置有熒光管200。從熒光管200照射的光，從導(dǎo)光板300的側(cè)面進(jìn)入導(dǎo)光板300內(nèi)，從導(dǎo)光板300的上面經(jīng)由擴(kuò)散片500、棱鏡片600向上方射出。另外，不限于上述構(gòu)成例。作為導(dǎo)光板300，可以使用對(duì)表面和背面實(shí)施了點(diǎn)、棱鏡狀等各種各樣的加工的導(dǎo)光板。也可以設(shè)置多根熒光管200。另外，也可以使用發(fā)光二極管(LED)以代替熒光管200。而且，關(guān)于光擴(kuò)散片500、棱鏡片600，在只使用某一方時(shí)和分別使用多個(gè)片時(shí)等，可優(yōu)選使用各種各樣的構(gòu)件以及構(gòu)成。另外，圖25表示使用正下型面光源作為光源700的液晶顯示裝置的例子。該類(lèi)型的光源為下述構(gòu)成在裝有反射片400的框體410的內(nèi)部，配置有多個(gè)線狀的熒光管200，在熒光管200的上側(cè)配置有擴(kuò)散板310，而且在擴(kuò)散板310上側(cè)按順序配置有光擴(kuò)散片500、棱鏡片600。在正下型面光源的場(chǎng)合，各種構(gòu)成構(gòu)件可分別采用各種的構(gòu)件和構(gòu)成。例如，熒光管的形狀不限于直線狀，另外，也可以使用發(fā)光二極管(LED)來(lái)代替熒光管200。另外，關(guān)于擴(kuò)散板、光擴(kuò)散片、棱鏡片，也可與上述同樣地使用各種的構(gòu)件、構(gòu)成的制品。另外，作為面光源700，不僅可使用上述的面光源，而且能夠使用任意的面光源。本發(fā)明的液晶顯示裝置，在上述的面光源上以線狀金屬層3側(cè)(即A面)處于面光源側(cè)的方式配置了液晶盒，所述液晶盒，在液晶層820的上下至少具備作為上側(cè)偏振片的偏振片、和作為下側(cè)偏振片的本發(fā)明的偏振片亂采用圖26來(lái)說(shuō)明由本發(fā)明的偏振片帶來(lái)的亮度提高效果、和防外部光照入的情況。以往的液晶顯示裝置(圖26(a))中使用的液晶盒800,由2片的偏振片810、830、和i殳置于2片的偏振片810、830之間的液晶層820等構(gòu)成。以往的液晶盒800中使用的偏振片810、830—般是被稱為吸收型的偏振片。該偏振片，吸收與透射軸正交的方向的偏振光成分(X2)。因此，在理論上光的利用效率為50%。另外，以往的使用反射型偏振片的液晶顯示裝置(圖26(b))，代替下側(cè)的偏振片810，使用了以往的反射型偏振片840。由此可使由下側(cè)偏振片810吸收的偏振光成分(k2)反射到面光源700側(cè)進(jìn)行返回再利用，可制成高亮度的液晶顯示裝置?？墒?，實(shí)際上在與偏振片置換來(lái)使用的場(chǎng)合，在黑色顯示時(shí)，外部光(>3)反射從而照入，存在不能進(jìn)行黑色顯示的問(wèn)題。另一方面，如本發(fā)明的液晶顯示裝置(圖26(c))那樣，將本發(fā)明的偏振片設(shè)置成A面與面光源700相對(duì)的場(chǎng)合，與以往的液晶顯示裝置相比，可使由下側(cè)偏振片810吸收的偏振光成分(X2)反射到面光源700側(cè)進(jìn)行返回再利用。其結(jié)果，可制成高亮度的液晶顯示裝置。另外，與以往的使用反射型偏振片的液晶顯示裝置不同，在黑色顯示時(shí)即使外部光(X3)照入，也利用B面(本發(fā)明的偏振片(1)的場(chǎng)合為線狀黑色層2側(cè)，本發(fā)明的偏振片(2)的場(chǎng)合為透明層4側(cè))使光消失。由此，使用本發(fā)明的偏振片的液晶顯示裝置，與以往的液晶顯示裝置相比，可成為高亮度的液晶顯示裝置。而且，在本發(fā)明的偏振片(1)中將線狀黑色層2和線狀金屬層3合計(jì)的高度、在本發(fā)明的偏振片(2)中將線狀金屬層3和透明層4合計(jì)的高度為數(shù)百納米。因此、與以往的液晶顯示裝置中使用的液晶盒相比，可將其厚度減薄。另外，作為本發(fā)明的液晶顯示裝置的例子，示出使下側(cè)偏振片810為本發(fā)明的偏振片而使用的例子。在本發(fā)明的偏振片的B面的總光線反射率小于15%，更優(yōu)選為不到10%、進(jìn)一步優(yōu)選為不到5%的場(chǎng)合，如圖27U)所示那樣，作為液晶盒800的上側(cè)偏振片(830)使用本發(fā)明的偏振片100,如圖27(b)所示那樣，使液晶盒800的兩側(cè)的偏振片(810、820)為本發(fā)明的偏振片100而使用也是優(yōu)選的形態(tài)。另外，上側(cè)偏振片(830)為本發(fā)明的偏振片IOO的場(chǎng)合，進(jìn)行設(shè)置使得B面(本發(fā)明的偏振片(1)的場(chǎng)合為線狀黑色層2側(cè)，本發(fā)明的偏振片(2)的場(chǎng)合為透明層4側(cè))為觀察者側(cè)。特別是，如圖27(b)所示那樣使液晶盒800的兩側(cè)的偏振片(810、830)為本發(fā)明的偏振片IOO而使用的場(chǎng)合，與只一側(cè)為本發(fā)明的偏振片的情況相比，可進(jìn)一步減薄液晶盒的厚度。通過(guò)如以上那樣將本發(fā)明的偏振片安裝于液晶顯示裝置中，光利用效率提高，與以往的液晶顯示裝置相比，可制成高亮度的液晶顯示裝置。本發(fā)明的液晶顯示裝置，可很好地用于便攜式電話、電子記事本、筆記本PC、監(jiān)視器、TV、各種顯示介質(zhì)等中。[特性的評(píng)價(jià)方法]本發(fā)明中的特性的評(píng)價(jià)方法，使用以下所述的方法。測(cè)定裝置，只要是能夠得到與以下的評(píng)價(jià)方法同等或其以上的結(jié)果的測(cè)定裝置，則也可以使用其他的裝置。A.斷面，見(jiàn)察切取制作的偏振片，切取與線狀凹凸結(jié)構(gòu)IO縱向垂直的斷面，蒸鍍柏-鈀后，用日本電子(林)制的場(chǎng)致發(fā)射掃描型電子顯微鏡"JSM-6700F"拍攝照片，以50000倍進(jìn)行斷面觀察。由得到的斷面觀察像，測(cè)量構(gòu)成線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的凸部11的尺寸(間距p(nm)、寬度w(nm)、高度h(nm))、線狀黑色層2的膜厚h2(nm)、線狀金屬層3的膜厚h3(nm)、透明層4的膜厚h4(nm)、線狀黑色層2的寬度w21(nm)、線狀金屬層3的寬度w31(nm)。另外，在線狀凹凸結(jié)構(gòu)10上形成了線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的場(chǎng)合的膜厚h2，h3，在形成有線狀黑色層2和/或線狀金屬層3的部位之中的凸部11上的任意的5處位置，求出沿基材1法線方向測(cè)量時(shí)的厚度，求出它們的平均值。另外，線狀黑色層2的寬度w21、線狀金屬層3的寬度w31，求出任意的5處位置的平均值。另外，在線狀金屬層3上形成有透明層4的場(chǎng)合的膜厚h4，在線狀金屬層3上的任意的5處位置，求出沿基材l法線方向測(cè)量時(shí)的厚度，求出它們的平均值。B.總光線透射率、總光線絕對(duì)反射率、總光線相對(duì)反射率對(duì)于制作的偏振片，使用裝載大型偏振光鏡ASSY，在受光器上具備安裝有10°傾斜間隔件的積分球的分光光度計(jì)UV-3150型(島津制作所(林)制)測(cè)定。關(guān)于透射率，在設(shè)置成光源與A面?zhèn)?線狀金屬層3側(cè))相對(duì)的場(chǎng)合，在設(shè)置成光源與B面?zhèn)?本發(fā)明的偏振片(1)的場(chǎng)合為線狀黑色層2側(cè)，本發(fā)明的偏振片(2)的場(chǎng)合為透明層4側(cè))相對(duì)的場(chǎng)合，對(duì)于上述各場(chǎng)合，求出在波長(zhǎng)400800nm的范圍，以入射角0。入射光時(shí)的透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)TAmax、TBmax、與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)TAmin、TBmin。另外，對(duì)于設(shè)置成光源和A面?zhèn)?線狀金屬層3側(cè))相對(duì)的場(chǎng)合，求出在波長(zhǎng)400~800nm的范圍，以入射角10。入射光時(shí)的透射率最大的偏振光成分的反射率(最大反射率)R，Amax、與之垂直的方向的偏振光成分的反射率(最小反射率)R"Amin。另外，使上述裝置裝載絕對(duì)反射率單元(unit)(5°反射)，以入射角5。入射光時(shí)，分別測(cè)定絕對(duì)反射率最大的偏振光成分的絕對(duì)反射率(最大絕對(duì)反射率)RAmax、RBmax、與之垂直的方向的偏振光成分的絕對(duì)反射率(最小絕對(duì)反射率)RAmin、RBmin。另外，在上述測(cè)定中，使用硫酸鋇作為標(biāo)準(zhǔn)白色板來(lái)實(shí)施測(cè)定。通過(guò)將得到的偏振光透射率TAmax、TBmax、TAmin,TBmin、總光線絕對(duì)反射率RAmax、RBmax、RAmin,RBmin應(yīng)用于下述式(1)~(4)，求得A面?zhèn)鹊目偣饩€透射率Tat、總光線絕對(duì)反射率Rat、線狀金屬層3側(cè)的總光線透射率TBt、總光線絕對(duì)反射率RBt。A面?zhèn)瓤偣饩€透射率TAt(%)=(TAmax+TAmin)/2(1)B面?zhèn)瓤偣饩€透射率TBt(%)=(TBmax+TBmin)/2(2)A面?zhèn)瓤偣饩€絕對(duì)反射率RAt(%)=(RAmax+RAmin)/2(3)A面?zhèn)瓤偣饩€相對(duì)反射率R，At(%)=(R，Amax+R，Amin)/2(3，)B面?zhèn)瓤偣饩€絕對(duì)反射率RBt(%)=(RBmax+RBmin)/2(4)關(guān)于得到的光學(xué)特性，如以下那樣判定。另外，在比較例中，對(duì)兩面進(jìn)行測(cè)定，將其反射率更低的面作為B面。1)A面?zhèn)鹊奶匦?-1)總光線透射率TAt采用在波長(zhǎng)550nm下的透射率，如以下那樣判定。40%以上50%以下時(shí)S35%以上且不到40%時(shí)A30%以上且不到35%時(shí)B不到30%時(shí)C大于50%時(shí)ES或A或B良好，S最優(yōu)異。另夕卜，關(guān)于透射率的波長(zhǎng)依賴性，比較在450nm、550nm、650nm下的透射率，使用這些透射率的最大值與最小值的差，如以下那樣判定。不到20%時(shí)A20%以上且不到30%時(shí)B30%以上時(shí)CA或B良好，A最優(yōu)異。1-2)總光線絕對(duì)反射率RAt、總光線相對(duì)反射率R，At使用在波長(zhǎng)550nm下的值如以下那樣判定。40%以上50%以下時(shí)S35。/。以上且不到40%時(shí)A30%以上且不到35%時(shí)B20。/。以上且不到30%時(shí)C不到20%時(shí)D大于50%時(shí)ES或A或B良好，S最優(yōu)異。另外，關(guān)于線狀金屬層的絕對(duì)反射率的波長(zhǎng)依賴性，比較在450nm、550nm、6S0nm下的絕對(duì)反射率，使用這些透射率的最大值和最小值的差，如以下那樣判定。且不到10%時(shí)A10%以上且不到20%時(shí)B大于20%時(shí)CA或B良好，A最優(yōu)異。2)B面?zhèn)鹊奶匦?-1)總光線透射率TBt使用在波長(zhǎng)550nm下的透射率，如以下那樣判定。35%以上且不到40%時(shí)A30%以上且不到35%時(shí)B不到30%時(shí)C大于50%時(shí)ES或A或B良好，S最優(yōu)異。另夕卜，關(guān)于透射率的波長(zhǎng)依賴性，比較在450nm、550nm、650nm下的透射率，使用這些透射率的最大值和最小值的差，如以下那樣判定。不到20%時(shí)A20。/。以上且不到30%時(shí)B30%以上時(shí)CA或B良好，A最優(yōu)異。2-2)總光線絕對(duì)反射率RBt使用在波長(zhǎng)550nm下的值如以下那樣判定。10%以下時(shí)S10%以上且不到20%:A20%以上30%以下B大于30%且不到35%:C35%以上時(shí)DS或A或B良好，S最優(yōu)異。另外，關(guān)于線狀黑色層的絕對(duì)反射率的波長(zhǎng)依賴性，比較在450iim、550mn、6S0nm下的絕對(duì)反射率，使用這些透射率的最大值和最小值的差，如以下那樣判定。不到20%時(shí)A20%以上且不到30%時(shí)B30%以上時(shí)CA或B良妤，A最優(yōu)異。C.偏振光度(偏光度)對(duì)于制作的偏振片，使用在受光器上具備積分球的分光光度計(jì)，以玻璃偏振光濾光器(工K乇乂K才7。于^夕7-卞八°乂(林)制)與B面(本發(fā)明的偏振片(1)的場(chǎng)合為線狀黑色層2側(cè)，本發(fā)明的偏振片(2)的場(chǎng)合為透明層4側(cè))相對(duì)的方式(比較例的場(chǎng)合，與線狀金屬層3側(cè)相對(duì))進(jìn)行重疊，并設(shè)置成玻璃偏振光濾光器處于受光器側(cè)(光線出射側(cè))，當(dāng)入射無(wú)偏振狀態(tài)的光，在波長(zhǎng)400800nm的范圍一邊改變偏振光鏡的角度一邊測(cè)定其透射率時(shí)，測(cè)定其透射率最大的偏振光成分的透射率(最大透射率)T，Amax、和與之垂直的方向的偏振光成分的透射率(最小透射率)T，Amin，將得到的值應(yīng)用于下述式(5),由此求得偏振光度P。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage86</formula>使用波長(zhǎng)550nm下的偏振光度，如以下那樣判定。99.5%以上時(shí)S99.2%以上且不到99.5%時(shí)A99%以上且不到99.2%時(shí)B95%以上且不到99%時(shí)C不到95%時(shí):DS或A或B良好，S最優(yōu)異。另夕卜，關(guān)于偏振光度的波長(zhǎng)依賴性，比較在450nm、550nm、650nm下的偏振光度，使用這些值的最大值與最小值的差，如以下那樣判定。不到2%時(shí)S2%以上且不到5%時(shí)A5%以上且不到10%時(shí)B10%以上時(shí)CS或A或B良好，S最優(yōu)異。D.光消失率Ll在本發(fā)明的偏振片(1)中，采用以下的方法求得光消失率L。在膜厚100nm鋁膜上(基材表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7))上形成黑色層，使用在受光器上具有積分球的分光光度計(jì)UV-3150型(島津制作所(抹)制)，測(cè)定在波長(zhǎng)400~800nm的范圍從黑色層側(cè)以光的入射角5。入射無(wú)偏振狀態(tài)的入時(shí)的絕對(duì)反射率Rb。另外，同樣地測(cè)定黑色層形成前的鋁蒸鍍膜的絕對(duì)反射率Ra。作為使用得到的值由下述式(6)求出的光消失率的在波長(zhǎng)400800nm下的平均值來(lái)求得。光消失率Ll(%)=(Ra-Rb)/Raxl00(6)對(duì)于得到的光消失率L，如以下那樣判定。60%以上時(shí)S50%以上且不到60%時(shí)A40%以上且不到50%時(shí)B不到40%時(shí)CS或A或B良好，S最優(yōu)異。E.光吸收率A在本發(fā)明的偏振片(2)中，采用以下的方法求得光吸收率A。以表面平滑的硼硅酸玻璃(BK-7)為基材，在其表面形成透明層，使用在受光器上具有積分球的分光光度計(jì)UV-3150型(島津制作所(抹)制)，測(cè)定在波長(zhǎng)400800nm的范圍從透明層側(cè)以入射角0。入射無(wú)偏振狀態(tài)的光時(shí)的總光線透射率Tp、從透明層側(cè)以光的入射角5。入射無(wú)偏振狀態(tài)的光時(shí)的絕對(duì)反射率RP。作為使用得到的值由下述式(7)求得的光吸收率的在波長(zhǎng)400~800nm下的平均值來(lái)求得。光吸收率A(%)-100-(TP+Rp)(7)對(duì)于得到的光吸收率A,如以下那樣判定。不到5%時(shí):S5%以上且不到10%時(shí)A10%以上且不到20%時(shí)B20%以上時(shí)CS或A或B良好，S最優(yōu)異。F.濁度使用濁度儀NDH-5000(日本電色(抹)制)測(cè)定濁度Ht。另外，在測(cè)定中，采用從A面?zhèn)热肷涠鴾y(cè)定的值來(lái)作為濁度Ht。G.亮度、外部光的反射、顯示品質(zhì)(1)面光源(1):為使用棱鏡片的構(gòu)成的面光源的場(chǎng)合在1.5英寸的LED側(cè)光型背光源(LED2燈型，作為反射板裝載了"ESR，，(住友義Ii一工厶(林)制))的導(dǎo)光板上側(cè)，配置光擴(kuò)散片"GM3"(奢t^(株)制)以及棱鏡片BEFIII(住友7y—工厶(林)制)，組裝出側(cè)光型面光源，在其上重疊在下側(cè)具有本發(fā)明的偏振片(設(shè)置成線狀黑色層處于液晶盒側(cè))、在上側(cè)具有多輿型偏振片的液晶盒，在暗室內(nèi)將LED以及、液晶盒立起。使液晶畫(huà)面全面為白色顯示，使用色彩亮度計(jì)BM-5A/FAST(卜7°〕乂(株)制)以視野角0.1。測(cè)定亮燈10分后的中心亮度BM。接著，使液晶全畫(huà)面為黑色顯示，測(cè)定此時(shí)的亮度B32。接著，使用相同的面光源，重疊在下側(cè)兩方具有碘型偏振片的液晶盒，同樣地測(cè)定畫(huà)面全面白色顯示時(shí)的中心亮度B21。(2)面光源(2):為不使用棱鏡片的構(gòu)成，并且為側(cè)光型的面光源的場(chǎng)合在7英寸的CCFL側(cè)光型背光源(〕的字型CCFL，點(diǎn)印刷型，作為反射板裝載了"E6SL"(東麗(林)制))的導(dǎo)光板上側(cè)，配置2片光擴(kuò)散片"CH28T"(SKC制)。接著，在光擴(kuò)散片上重疊在下側(cè)具有本發(fā)明的偏振片B-4G殳置成線狀黑色層處于液晶盒側(cè))、在上側(cè)具有碘型偏振片的液晶盒，在暗室內(nèi)將CCFL、液晶盒立起。使液晶畫(huà)面全面為白色顯示，使用色彩亮度計(jì)BM-5A/FAST(卜:/〕乂(抹)制)以視野角0.1。測(cè)定亮燈10分后的中心亮度B31。接著，使液晶全畫(huà)面為黑色顯示，測(cè)定此時(shí)的亮度B32。接著，卸掉上述的液晶盒，重疊上側(cè)、下側(cè)兩方具有》典型偏振片的液晶盒，同樣地測(cè)定畫(huà)面全面白色顯示時(shí)的中心亮度B21。(3)面光源(3):為不使用棱鏡片的構(gòu)成，并且為側(cè)光型的面光源的場(chǎng)合在20英寸的正下型背光源(CCFL10個(gè)，熒光管徑3mm，焚光管間隔2.5cm。作為乳白板裝載了RM401(住友化學(xué)(林)制)，作為反射板裝載了"E6SL"(東麗(林)制)。乳白板與熒光管的距離1.5cm)的乳白板上側(cè)，配置2片光擴(kuò)散片"，<卜7、乂"7°"(注冊(cè)商標(biāo))GM3(年乇卜(林)制)。接著，在光擴(kuò)散片上重疊在下側(cè)具有本發(fā)明的偏振片(設(shè)置成線狀黑色層處于液晶盒側(cè))、上側(cè)具有碘型偏振片的液晶盒，在暗室內(nèi)將CCFL、液晶盒立起。使液晶畫(huà)面全面為白色顯示，使用色彩亮度計(jì)BM-5A/FAST(卜7。〕乂(林)制)以視野角1。測(cè)定亮燈10分后的中心亮度B31。接著，使液晶全畫(huà)面為黑色顯示，測(cè)定此時(shí)的亮度B32。接著，卸掉上述的液晶盒，重疊在上側(cè)、下側(cè)兩方具有碘型偏振片的液晶盒，同樣地測(cè)定液晶畫(huà)面全面為白色顯示時(shí)的中心亮度B21。使用由上述測(cè)定得到的值，利用下述式(8)算出亮度提高率B，利用下述式(9)算出對(duì)比度C。亮度提高率B(%)=100x(B31-B21)/B21(8)對(duì)比度C(-)=B31/B32(9)另外，在熒光燈下進(jìn)行畫(huà)面黑顯示時(shí)，對(duì)于外部光的照入進(jìn)行肉眼觀察。關(guān)于得到的光學(xué)特性，如以下那樣判定。1)亮度提高率如以下那樣判定。25%以上時(shí)S20%以上且不到25%時(shí)A10%以上且不到20%時(shí)B0%以上且不到10%時(shí)C亮度降低時(shí)DS或A或B良好，S最優(yōu)異。2)對(duì)比度如以下那樣判定。1000以上時(shí)S500以上且不到1000時(shí)A300以上且不到500時(shí)B100以上且不到300時(shí)C不到100時(shí):DS或A或B良好，S最優(yōu)異。3)外部光的照入用肉目M見(jiàn)察在明室(焚光燈下)中進(jìn)行液晶畫(huà)面的黑色顯示時(shí)的情況，如以下那樣判定。深黑色，完全沒(méi)有感到白色A黑色，當(dāng)靠近熒光燈時(shí)，稍感到白色，但在使用上沒(méi)有問(wèn)題B強(qiáng)烈感到白色CA或B良好，A最優(yōu)異。4)顯示品質(zhì)從正面以及斜向肉眼觀察畫(huà)面白色顯示時(shí)的情況，對(duì)此時(shí)的情況如以下那樣判定。(1)面光源(1)的場(chǎng)合完全辨認(rèn)不出千擾條紋、閃爍等A可極微弱地辨認(rèn)出干擾條紋、閃爍等，但在使用上沒(méi)有問(wèn)題B可辨認(rèn)出較強(qiáng)的干擾條紋、閃爍CA或B良好，A最優(yōu)異。(2)側(cè)光型面光源(2)的場(chǎng)合辨認(rèn)不出導(dǎo)光板的點(diǎn)圖案A90可極微弱地辨認(rèn)出的點(diǎn)圖案，但在使用上沒(méi)有問(wèn)題B可明確地辨認(rèn)出點(diǎn)圖案CA或B良好，A最優(yōu)異。(3)正下(直下)型面光源(2)的場(chǎng)合完全辨認(rèn)不出熒光管像A可極微弱地辨認(rèn)出熒光管像，但在使用上沒(méi)有問(wèn)題B可少許地辨認(rèn)出熒光管像，但在使用上沒(méi)有問(wèn)題C可明確地辨認(rèn)出熒光管像DA或B或C良好，A最優(yōu)異。實(shí)施例以下列舉實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明，但本發(fā)明未必限于這些實(shí)施例。(實(shí)施例1-1)將500im厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(cj)100mm)設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，揮發(fā)源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下，從基材面的法線方向進(jìn)行鋁的電子束蒸鍍，形成了膜厚100nm的金屬層。接著除了以0.5sccm向體系內(nèi)導(dǎo)入氧氣以外，在同樣的條件下蒸鍍鋁，制作了在金屬層上具有膜厚lOOnm的由鋁氧化物構(gòu)成的黑色層的疊層體。另外，以同樣的方法制作了只形成lOOrnn的鋁層的制品。對(duì)于金屬層、黑色層各自測(cè)定絕對(duì)反射率Ra、Rb,求出光消失率L。結(jié)果如表l所示。接著，作為基材，使用膜厚100nm的雙軸拉伸聚酯膜"》^，一"(注冊(cè)商標(biāo))U46(東麗(林)制)，釆用上述同樣的方法制作了在聚酯膜上順序形成了金屬層、黑色層的疊層體。接著，將得到的疊層體固定在玻璃板上，在黑色層上采用旋涂機(jī)涂布(lst500rpm10秒、2nd-2000rpm30秒用縫模涂布機(jī)涂布)聚曱基丙烯酸甲酯(、乂夕'77V^Ki;、7于(林)制、重量平均分子量96000)20重量份溶于環(huán)己酮/甲乙酮/曱苯=1/1/1溶液80重量份而成的溶液，在140。C干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚3jim的樹(shù)脂層的疊層體。將得到的疊層體的樹(shù)脂層和下述模具l重疊，設(shè)置于真空室內(nèi)，在到達(dá)50Pa以下的真空度后，在140。C進(jìn)行1分鐘預(yù)熱，在壓制溫度140。C、壓制壓力15Mpa下進(jìn)行5分鐘壓制后，冷卻到100。C后，釋放壓力，然后冷卻到3(TC后，將基材和模具脫模。r模具1J材質(zhì)鎳間距150nm、凸部寬度80nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從才莫具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)在黑色層上形成了具有大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案的樹(shù)脂層。r黑色層上的樹(shù)脂圖案形狀J間距p:150nm、寬度w:70nm、高度h:198nm、凹部底部厚度IOO腿接著，采用^f吏用氧(o2)氣體的干式蝕刻法除去凹部底部的殘膜，采用使用四氯化碳(CC14)氣體的干式蝕刻法選擇性地除去在黑色層上形成樹(shù)脂圖案后在樹(shù)脂圖案間露出的黑色層。接著，采用使用四氯化碳(ccu)氣體的干式蝕刻法選擇性地除去露出的鋁層。最后采用使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去殘留的樹(shù)脂層，得到樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為如圖2(a)所示的形態(tài)，為表1所示的尺寸。從表1來(lái)看，線狀黑色層的寬度w21/間距p2為0.47，線狀金屬層的寬度W31/間距p3為0.47。得到的樣品以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-2)除了使用下述模具2作為模具以外，采用與實(shí)施例1同樣的方法在黑色層上形成了樹(shù)脂圖案。r模具2J材質(zhì)鎳間距130nm、凸部寬度70nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀。觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)形成了具有如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案的樹(shù)脂層。r黑色層上的樹(shù)脂圖案形狀J間距p:130nm、寬度w:60nm、高度h:198nm接著，采用與實(shí)施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖2(a)所示的形態(tài)，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表1所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-3)除了使用下述模具3作為模具以外，采用與實(shí)施例1同樣的方法在黑色層上形成了樹(shù)脂圖案。r模具3J材質(zhì)鎳間距120nm、凸部寬度65nm、凸部高度120nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)形成了具有如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案的樹(shù)脂層。r黑色層上的樹(shù)脂圖案形狀J間距p:120nm、寬度w:55nm、高度h:117nm接著，采用與實(shí)施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為如圖2(a)所示的形態(tài)，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表393所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-4)作為基材，使用500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((M00mm)，除此以外采用與實(shí)施例1同樣的方法得到樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖2(a)所示的形態(tài)，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表1所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-5)作為基材，使用500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(cj)100mm)，在基材上形成黑色層后，形成金屬層，在疊層體的金屬層上成型出樹(shù)脂圖案，選擇性除去黑色層后，選擇性除去金屬層，除此以外與實(shí)施例l同樣地制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖2(b)所示的形態(tài)，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-6)將作為二羧酸成分的環(huán)己烷二羧酸、作為二醇成分的9，9，-雙(4-羥基乙氧基苯基)芴80mol%、乙二醇20moP/。共聚而成的聚酯在100。C真空干燥4小時(shí)后，在擠出機(jī)內(nèi)在280。C使之熔融，從噴口擠出到20。C的流延鼓上進(jìn)行冷卻，得到厚度400pm的片。將得到的片和下述才莫具4重疊，設(shè)置于真空室內(nèi)，在到達(dá)50Pa以下的真空度后，在165。C下進(jìn)行1分鐘預(yù)熱，在壓制溫度165°C、壓制壓力15MPa下進(jìn)行5分鐘壓制后，冷卻到125。C后，釋放壓力，然后冷卻到30。C后，將基材和模具脫模。r模具4J材質(zhì)鎳間距150nm、凸部寬度90nm、凸部高度130nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)形成了如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結(jié)構(gòu)(參照表2)。r基材表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)J間距p:150nm、寬度w:58nm、高度h:128nm使用具有基材角度可變裝置、以及兩個(gè)蒸發(fā)源的電子束蒸鍍機(jī)，兩個(gè)蒸發(fā)源分別設(shè)置了純度99.999%的鋁、純度99.999%的鉻。接著，將500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((M00mm)設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，將系統(tǒng)內(nèi)減壓。在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度0.2nm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成45。的角度形成50nm的鋁。接著使基材旋轉(zhuǎn)，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成40。的角度，除了接著向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入0.2sccm氧氣以外在同樣的條件下，電子束蒸鍍10nm的鉻，制作出在金屬層上具有膜厚20mn的由鉻氧化物構(gòu)成的黑色層的疊層體。另外，采用同樣的方法制作了只形成鋁層100nm的樣品。關(guān)于金屬層、黑色層，各自測(cè)定絕對(duì)反射率Ra、Rb，求出光消失率L。結(jié)果如表l所示。接著，在上述電子束蒸鍍裝置中設(shè)置具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材，將系統(tǒng)內(nèi)減壓，在上述同樣的條件下，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、且與基材面法線方向傾斜45。的斜向，以膜厚50nm電子束蒸鍍鋁。接著使基材旋轉(zhuǎn)，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直的方向、且與基材面法線方向傾斜400的斜向，除了接著向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入0.2sccm氧氣以外在上述同樣的條件下蒸鍍鉻20nm。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28U)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-7)將作為二羧酸成分的環(huán)己烷二羧酸、作為二醇成分的9，9，-雙(4-羥基乙氧基苯基)芴80mol%、乙二醇20mol。/。共聚而成的聚酯溶解于35'C的環(huán)己酮/曱乙酮/甲苯=1.5/1.5/1溶液中，使得成為20重量％的濃度。將得到的溶液使用少夕/《一(#30)涂布于100nm厚的聚酯膜W《，一，(注冊(cè)商標(biāo))U46(東麗(林)制)上，在140。C干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚5pm的樹(shù)脂層的疊層體。除了將模具按壓在得到的疊層體的樹(shù)脂層側(cè)以外，采用與實(shí)施例1-6同樣的方法形成了線狀凹凸結(jié)構(gòu)。觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)形成了如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結(jié)構(gòu)(參照表2)。r基材表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)J間距p:150nm、寬度w:59nm、高度h:128nm接著用與實(shí)施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28U)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-8)除了使用下述^f莫具5作為模具以外，采用與實(shí)施例1-6同樣的方法形成了線狀凹凸結(jié)構(gòu)。r模具5J材質(zhì)鎳間距130nm、凸部寬度80nm、凸部高度130nm96凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)得到了如以下那樣大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結(jié)構(gòu)(參照表2)。r基材表面的凹凸結(jié)構(gòu)J間距p:130nm、寬度w:49nm、高度h:128nm接著用與實(shí)施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28(a)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的殃型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-9)除了使用下述模具6作為模具以外，用與實(shí)施例1-6同樣的方法形成了線狀凹凸結(jié)構(gòu)。r模具6J材質(zhì)鎳間距120nm、凸部寬度75nm、凸部高度120nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從才莫具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)得到了如以下那樣大致將才莫具形狀顛倒的斷面形狀的線狀凹凸結(jié)構(gòu)(參照表l)。r基材表面的線狀凹凸結(jié)構(gòu)J間距p:120nm、寬度w:43nm、高度h:117nm接著，除了〗吏鋁的蒸鍍膜厚為45nm以外，采用與實(shí)施例l-6同樣的方法形成了線狀金屬層、線狀黑色層(參照表2)。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28(a)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-10)使用石墨作為黑色層的材料，在黑色層形成時(shí)不導(dǎo)入氧氣，將黑色層的膜厚設(shè)為20nm，除此以外與實(shí)施例1-6同樣地制作了疊層體、樣品。關(guān)于金屬層、黑色層各自測(cè)定絕對(duì)反射率Ra、Rb,求出光消失率L。結(jié)果如表2所示。另外，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28(a)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-11)在500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(4>100mm)上，采用旋涂機(jī)涂布(lst500rpm10秒、2nd-2000rpm30秒用縫模涂布機(jī)涂布)將聚曱基丙烯酸曱酯(7夕、、77VPK!;、7于(林)制、重量平均分子量96000)20重量份溶解于環(huán)己酮/甲乙酮/曱苯=1/1/1溶液80重量份中而成的溶液，在140。C下干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚3^tm的樹(shù)脂層的疊層體。將得到的疊層體的樹(shù)脂層和下述模具l重疊，設(shè)置于真空室內(nèi)，在到達(dá)50Pa以下的真空度后，在140。C進(jìn)行1分鐘預(yù)熱，在壓制溫度140。C、壓制壓力15MPa下進(jìn)行5分鐘壓制后，冷卻到100。C后，釋放壓力，然后冷卻到30'C后，將基材和模具脫模。r模具U材質(zhì)鎳間距150nm、凸部寬度90nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)在玻璃基板上形成了大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案。r玻璃基板表面的樹(shù)脂圖案的形狀J間距p:150nm、寬度w:60nm、高度h:199mn凹部底部厚度100nm接著，采用使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去凹部底部的殘膜，在黑色層上形成樹(shù)脂圖案后，通過(guò)使用四氟化碳(CF4)氣體的干式蝕刻法以深度150nm選擇性地除去樹(shù)脂圖案間露出的光學(xué)玻璃。接著通過(guò)使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去殘留的樹(shù)脂層，由此制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材。r玻璃表面的線狀的凹凸形狀J間距p:150nm、寬度w:55nm、高度h:150nm接著，用與實(shí)施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28U)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-12)在具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材上形成黑色層后，形成金屬層，并使黑色層的膜厚為20nm，除此以外與實(shí)施例11同樣地制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28(b)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例1-13)使用具有基材角度可變裝置以及兩個(gè)蒸發(fā)源的電子束蒸鍍機(jī)，兩個(gè)蒸發(fā)源分別設(shè)置了純度99.999%的鋁、純度99.999%的鉻。接著，將500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(d)100mm)設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，將系統(tǒng)內(nèi)減壓。在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度0.2nm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下，從與基材面的法線方向成45。的角度以lnm/秒進(jìn)行10秒鐘蒸鍍鋁后，一邊以15。/分鐘向基材面的法線方向側(cè)旋轉(zhuǎn)基材，一邊以lnm/秒蒸鍍鋁，形成了合計(jì)70nm厚。接著，除了使基材旋轉(zhuǎn)，從與基材面的法線方向成40。的角度以6。/分鐘的速度向基材面的法線方向側(cè)旋轉(zhuǎn)基材，并且向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入0.2sccm氧氣體來(lái)進(jìn)行實(shí)施以外，在同樣的條件下電子束蒸鍍出20nm的鉻，制作了在金屬層上具有膜厚20nm的由鉻氧化物構(gòu)成的黑色層的疊層體。另外，采用同樣的方法制作了只形成了100nm的鋁層的樣品。對(duì)于金屬層、黑色層各自測(cè)定絕對(duì)反射率Ra、Rb，求出光消失率L。結(jié)果如表l所示。接著，在上述電子束蒸鍍裝置中設(shè)置具有與實(shí)施例1-9同樣的線狀凹凸結(jié)構(gòu)的基材，將系統(tǒng)內(nèi)減壓。從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成45。的角度以lnm/秒進(jìn)行10秒鐘蒸鍍鋁后，一邊以15。/分鐘的速度向與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且基材面的法線方向側(cè)旋轉(zhuǎn)基材，一邊以lnm/秒蒸鍍鋁，形成了合計(jì)70nm厚，除此以外采用與實(shí)施例1-6同樣的方法形成了線狀金屬層。接著，使基材旋轉(zhuǎn)，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成40。的角度，以6。/分鐘的速度向與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且基材面的法線方向側(cè)旋轉(zhuǎn)基材，并且向系統(tǒng)內(nèi)導(dǎo)入0.2sccm氧氣體，除此以外在同樣的條件下電子束蒸鍍20nm厚的鉻，制作了在線狀金屬層上具有膜厚20nm的由鉻氧化物構(gòu)成的線狀黑色層的疊層體。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層、線狀金屬層的形態(tài)為圖28(a)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-1)將500jim厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((j)100mm)設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，揮發(fā)源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xlO-5Pa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下，一邊以5sccm導(dǎo)入氧氣，一邊蒸鍍鋁，制作了具有膜厚100nm的由鋁氧化物構(gòu)成的透明層的疊層體。關(guān)于得到的疊層體，測(cè)定從透明層側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率Tp、Rp，求出光吸收率A。結(jié)果如表4所示。接著，將作為基材的、膜厚lOOfim的雙軸拉伸聚酯膜"》《，一"(注冊(cè)商標(biāo))U46(東麗(林)制)設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，揮發(fā)源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下，從基材面的法線方向電子束蒸鍍鋁，形成了膜厚100nm的金屬層。接著，將得到的疊層體固定于玻璃板上，在金屬層上，采用4t涂機(jī)涂布(lst500rpm10秒、2nd-2000rpm30秒用縫模涂布機(jī)涂布)將聚曱基丙烯酸曱酯(、乂夕、、^7少Ky:y于(林)制、重量平均分子量96000)20重量份溶解于環(huán)己酮/曱乙酮/甲苯=1/1/1溶液80重量份中而成的溶液，在140'C下干燥30分鐘，制作了具有干燥膜厚3jim的樹(shù)脂層的疊層體。將得到的疊層體的樹(shù)脂層和下述模具l重疊，設(shè)置于真空室內(nèi)，在到達(dá)50Pa以下的真空度后，在140。C進(jìn)行1分鐘預(yù)熱，在壓制溫度140。C、壓制壓力15MPa下進(jìn)行5分鐘的壓制后，冷卻到100。C后，釋放壓力，然后冷卻到30'C后，將基材和模具脫模。r模具U材質(zhì)鎳間距150nm、凸部寬度80nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從模具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)在黑色層上形成了具有大致將^^莫具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案的樹(shù)脂層。接著，采用使用氧(02)氣體的干式蝕刻法除去凹部底部的殘膜，通過(guò)使用四氯化碳(CCl4)氣體的干式蝕刻法，選擇性地除去在金屬層上形成樹(shù)脂圖案后在樹(shù)脂圖案間露出的金屬層。最后通過(guò)使用氧(02)氣體的干式蝕刻法，除去殘留的樹(shù)脂層，形成了線狀金屬層。101接著，設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，揮發(fā)源使用純度99.999%的鋁，在真空度3.4xl0-spa、蒸鍍速度lnm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下，一邊以5sccm導(dǎo)入氧氣，一邊以蒸鍍角度70。蒸鍍鋁，在線狀金屬層上形成膜厚100nm的由鋁氧化物構(gòu)成的透明層，得到了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖13(b)所示的形態(tài)，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-2)除了使用下述模具2作為模具以外，釆用與實(shí)施例2-l同樣的方法在金屬層上形成了樹(shù)脂圖案。r模具2J材質(zhì)鎳間距130nm、凸部寬度70nm、凸部高度200nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從^f莫具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)形成了具有如以下那樣的大致將^^莫具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案的樹(shù)脂層。r金屬層上的樹(shù)脂圖案形狀J間距p:130nm、寬度w:61nm、高度h:198nm接著，采用與實(shí)施例1-1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖13(b)所示的形態(tài)，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-3)除了使用下述模具2作為模具以外，采用與實(shí)施例2-1同樣的方法在金屬層上形成了樹(shù)脂圖案。r模具3J材質(zhì)鎳間距120nm、凸部寬度65nm、凸部高度120nm凹部斷面形狀矩形狀觀察從^=莫具脫模了的基材的形狀，已確認(rèn)形成了如以下那樣的大致將模具形狀顛倒的斷面形狀的線狀樹(shù)脂圖案。r金屬層上的樹(shù)脂圖案形狀J間距p:120nm、寬度w:54nm、高度h:119nm得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-4)除了使用500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板(cj)100mm)作為基材以外，采用與實(shí)施例2-l同樣的方法得到了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖13(b)所示的形態(tài)，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-5)除了將透明層的膜厚設(shè)為50nm以外，與實(shí)施例2-1同樣地制作了疊層體、樣品。關(guān)于得到的疊層體，測(cè)定從透明層側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率Tp、Rp，求出光吸收率A。結(jié)果如表4所示。另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖13(c)所示的形態(tài)，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)^f亍黑色顯示。(實(shí)施例2-6)釆用與實(shí)施例1-6同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。使用具有基材角度可變裝置的電子束蒸鍍機(jī)，兩個(gè)蒸發(fā)源設(shè)置了純度99.999%的鋁。接著，將500nm厚的硼硅酸玻璃(BK-7)制基板((J)100mm)設(shè)置于電子束蒸鍍裝置中，將系統(tǒng)內(nèi)減壓。在真空度3.4xl0—spa、蒸鍍速度0.2nm/秒、蒸鍍?cè)?基材間距離25cm的條件下下，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直的方向且與基材面法線方向成45。的角度形成了50nm厚的鋁。接著，一邊使基材旋轉(zhuǎn)、并向系統(tǒng)內(nèi)以5sccm導(dǎo)入氧氣，一邊以蒸鍍角度700蒸鍍鋁，除此以外在相同的條件下在線狀金屬層上形成膜厚100nm的由鋁氧化物構(gòu)成的透明層，得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(c)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-7)采用與實(shí)施例1-7同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實(shí)施例2-6同樣的方法得到了樣另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(c)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-8)采用與實(shí)施例1-8同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實(shí)施例2-6同樣的方法得到了樣口口o另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(c)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-9)采用與實(shí)施例l-9同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實(shí)施例2-6同樣的方法得到了樣口口。另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(c)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-10)采用與實(shí)施例1-11同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。除了使用得到的基材以外，采用與實(shí)施例2-6同樣的方法得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(c)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-11)除了將透明層的膜厚設(shè)為50nm以外，與實(shí)施例2-6同樣地制作了疊層體、樣品。關(guān)于得到的疊層體，測(cè)定從透明層側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率Tp、RP，求出光吸收率A。結(jié)果如表5所示。采用與實(shí)施例1-11同樣的方法制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。使用得到的基材，并將透明層的膜厚設(shè)為50nm，除此以外采用與實(shí)施例2-6同樣的方法得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(d)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例2-12)除了將透明層的膜厚設(shè)為50nm以外，與實(shí)施例2-6同樣地制作了疊層體、樣品。關(guān)于得到的疊層體，測(cè)定從透明層側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率TP、Rp,求出光吸收率A。結(jié)果如表5所示。接著，采用與實(shí)施例l-9同樣的方法，制作了在表面上具有線狀凹凸結(jié)構(gòu)10的基材。使用得到的基材，從與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且與基材面的法線方向成45。的角度，以0.2nm/秒進(jìn)行60秒鐘蒸鍍鋁后，以3。/分鐘的速度與線狀凹凸結(jié)構(gòu)的縱向垂直、并且向基材面的法線方向側(cè)旋轉(zhuǎn)基材，以0,2mn/秒蒸鍍鋁，形成了合計(jì)70nm厚，除此以外采用與實(shí)施例2-6同樣的方法得到了樣品。另夕卜，觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層、透明層的形態(tài)為圖28(d)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。可知與以往的碘型偏振片相比，呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。(實(shí)施例3-1~3國(guó)3)將作為粘合劑樹(shù)脂的"7口二、;/夕7"(注冊(cè)商標(biāo))M6050(東亞合成制)90重量份、"7口二，夕7"(注冊(cè)商標(biāo))M5700(東亞合成制)10重量份、作為微粒子的"亇$7乂一"(注冊(cè)商標(biāo))SX-130H(綜研化學(xué)(株)制)5重量份、作為分散劑的"7U7y厶，，(注冊(cè)商標(biāo))AKM-0531(日本油脂(林)制)0.5重量份、作為熱聚合引發(fā)劑的"力卞工7亍少"(注冊(cè)商標(biāo))AN(化藥7夕乂(林)制)0.5重量份、作為溶劑的環(huán)己酮/甲乙酮=1/1溶液200重量份進(jìn)行混合、攪拌、分散，制作出涂劑。將該涂劑采用^夕/《一(#15(實(shí)施例3-1)、#20(實(shí)施例3-2)、#30(實(shí)施例3-3))涂布于在實(shí)施例1-13中得到的偏振片的沒(méi)有形成線狀金屬層的側(cè)的面上，涂布后在12(TC進(jìn)行30秒鐘干燥，在20(TC進(jìn)行10秒鐘熱處理，制作了在沒(méi)有形成線狀金屬層、線狀黑色層的側(cè)具有光擴(kuò)散層的偏振片。使用得到的樣品的評(píng)價(jià)結(jié)果如表7所示。將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表8所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，均呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。特別是在實(shí)施例3-1中，可知能夠兼?zhèn)渥罡叩牧炼群妥罡叩娘@示品質(zhì)。將得到的樣品用于面光源(2)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。特別是在實(shí)施例3-2中，可知能夠兼?zhèn)渥罡叩牧炼群妥罡叩娘@示品質(zhì)。將得到的樣品用于面光源(3)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表8所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，均呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。特別是在實(shí)施例3-3中，可知能夠兼?zhèn)渥罡叩牧炼群妥罡叩娘@示品質(zhì)。(實(shí)施例3-4~3-6)除了使用在實(shí)施例2-12中得到的偏振片以外，采用分別與實(shí)施例3-1~3-3同樣的方法制作了在沒(méi)有形成線狀金屬層、線狀黑色層的側(cè)具有光擴(kuò)散層的偏振片。得到的樣品的評(píng)價(jià)結(jié)果如表7所示。將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。特別是在實(shí)施例3-4中，可知能夠兼?zhèn)渥罡叩牧炼群妥罡叩娘@示品質(zhì)。將得到的樣品用于面光源(2)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表8所示?？芍c以往的碘型偏振片相比，均呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。特別是在實(shí)施例3-5中，可知能夠兼?zhèn)渥罡叩牧炼群妥罡叩娘@示品質(zhì)。將得到的樣品用于面光源(3)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表8所示。可知與以往的碘型偏振片相比，均呈現(xiàn)高的亮度提高效果，并且沒(méi)有外部光的照入，可良好地進(jìn)行黑色顯示。特別是在實(shí)施例3-6中，可知能夠兼?zhèn)渥罡叩牧炼群妥罡叩娘@示品質(zhì)。(比較例1-1)除了不形成線狀黑色層以外，采用與實(shí)施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層的形態(tài)為圖2(h)所示的形態(tài)，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時(shí)強(qiáng)烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例1-2)除了不形成線狀金屬層以外，采用與實(shí)施例1同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層的形態(tài)為圖2(b)所示的形態(tài)，為表l所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示，可知得不到亮度提高效果，并且對(duì)比度低，在黑色顯示時(shí)發(fā)生漏光，顯示不鮮明。(比較例1-3)除了不形成線狀黑色層以外，采用與實(shí)施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層的形態(tài)為圖9(j)所示的形態(tài)，108為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時(shí)強(qiáng)烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例1-4)除了不形成線狀金屬層以外，采用與實(shí)施例1-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀黑色層的形態(tài)為圖9(e)所示的形態(tài)，為表2所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表3所示?？芍貌坏搅炼忍岣咝Ч⑶覍?duì)比度低，在黑色顯示時(shí)發(fā)生漏光，顯示不鮮明。(比較例2-1)除了不形成透明層以外，采用與實(shí)施例2-l同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層的形態(tài)為圖12U)所示的形態(tài)，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示?？芍m然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時(shí)強(qiáng)烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例2-2)除了不形成線狀金屬層以外，釆用與實(shí)施例2-l同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，透明層的形態(tài)為圖26(e)所示的形態(tài)，為表4所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。沒(méi)有作為偏振片發(fā)揮功能，不能進(jìn)行顯示。(比較例2-3)除了不形成透明層以外，采用與實(shí)施例2-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，線狀金屬層的形態(tài)為圖15(f)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。可知雖然得到了亮度提高效果，但在黑色顯示時(shí)強(qiáng)烈感到白色，顯示不鮮明。(比較例2-4)除了不形成線狀金屬層以外，采用與實(shí)施例2-6同樣的方法制作了樣品。觀察得到的樣品的形態(tài)，透明層的形態(tài)為圖28(f)所示的形態(tài)，為表5所示的尺寸。得到的樣品、以及將得到的樣品用于面光源(1)的評(píng)價(jià)結(jié)果如表6所示。沒(méi)有作為偏振片發(fā)揮功能，不能進(jìn)行顯示。表1是表示實(shí)施例1-1~1-5的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例1-1的線狀金屬層和比較例1-2的線狀黑色層的形狀的表。表l<table>tableseeoriginaldocumentpage110</column></row><table>表2是表示在基材表面形成了凹凸結(jié)構(gòu)的實(shí)施例1-6~1-13、比較例1-3、1-4的凹凸結(jié)構(gòu)的形狀、實(shí)施例1-6~1-13的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例1-3的線狀金屬層、和比較例1-4的線狀黑色層的形狀的表。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage111</column></row><table>表3是表示評(píng)價(jià)實(shí)施例1-1~1-13、比較例1-1~1-4的偏振片的從A面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線透射率和總光線絕對(duì)反射率、偏振光度、從B面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線透射率和總光線絕對(duì)反射率、亮度提高率、對(duì)比度、外部光的反射的結(jié)果的表。表3<table>tableseeoriginaldocumentpage113</column></row><table>光線透射率(評(píng)價(jià)S以及A)、總光線絕對(duì)反射率(評(píng)價(jià)S、A、B)優(yōu)異。該結(jié)果可知是亮度提高率優(yōu)異的偏振片。另外可知從B面入射光時(shí)的總光線透射率優(yōu)異(評(píng)價(jià)S以及A)、總光線絕對(duì)反射率低(評(píng)價(jià)S、A、B)。該結(jié)果可知對(duì)比度優(yōu)異(評(píng)價(jià)S、A、B)、外部光的反射少(評(píng)價(jià)S、A、B)。由此可知，實(shí)施例1-1~1-13的偏振片可進(jìn)行高亮度和黑色顯示。另一方面可知，沒(méi)有形成線狀黑色層的比較例1-1、l-3的偏振片，從B面入射光時(shí)的總光線絕對(duì)反射率(評(píng)價(jià)D)高。由此可知，比較例l-l、l-3的偏振片將外部光反射(評(píng)價(jià)C),不能進(jìn)行黑色顯示。另外，比較例1-1、1-3的亮度提高率、對(duì)比度良好(評(píng)價(jià)比較例1-1:均為S、比較例1-3:均為B)另外可知，沒(méi)有形成線狀金屬層的比較例1-2、l-4的偏振片，從A面入射光時(shí)的總光線絕對(duì)反射率低(評(píng)價(jià)D)。由此可知，比較例l-2、1-4的偏振片，將入射光吸收，亮度提高率、對(duì)比度差(評(píng)價(jià)均為D)。表4是表示實(shí)施例2-1~2-5的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例2-1的線狀金屬層和比較例2-2的線狀黑色層的形狀的表。表4<table>tableseeoriginaldocumentpage114</column></row><table>表5是表示在基材表面形成了凹凸結(jié)構(gòu)的實(shí)施例2-5~1-12、比較例2-3、2-4的凹凸結(jié)構(gòu)的形狀、實(shí)施例2-5~2-12的線狀黑色層和線狀金屬層的形狀、比較例2-3的線狀金屬層以及比較例2-4的線狀黑色層的形狀的表。<table>tableseeoriginaldocumentpage116</column></row><table>表6是表示評(píng)價(jià)實(shí)施例2-1~2-12、比較例2-1~2-4的偏振片的從A面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線透射率和總光線絕對(duì)反射率、偏振光度、從B面?zhèn)热肷涔鈺r(shí)的總光線透射率和總光線絕對(duì)反射率、亮度提高率、對(duì)比度、外部光的反射的結(jié)果的表。表6<table>tableseeoriginaldocumentpage118</column></row><table>從表6來(lái)看，形成了透明層的實(shí)施例2-1~1-2-12的偏振片，從A面入射光時(shí)的總光線透射率(評(píng)價(jià)S、A)、總光線絕對(duì)反射率(評(píng)價(jià)S、A)優(yōu)異。該結(jié)果可知是亮度提高率優(yōu)異(評(píng)價(jià)S、A、B)的偏振片。另外可知，從B面入射光時(shí)的總光線透射率優(yōu)異(評(píng)價(jià)S、A)，總光線絕對(duì)反射率低(評(píng)價(jià)S、A、B)。該結(jié)果可知對(duì)比度優(yōu)異(評(píng)價(jià)S、A、B),外部光的反射少(評(píng)價(jià)S、A、B)。由此可知實(shí)施例2-1~2-12的偏振片能夠進(jìn)行高亮度和黑色顯示。另一方面可知，沒(méi)有形成透明層的比較例2-l、2-3的偏振片，從B面入射光時(shí)的總光線絕對(duì)反射率高(評(píng)價(jià)D)。由此可知，比較例2-l、2-3的偏振片將外部光反射(評(píng)價(jià)C),不能進(jìn)行黑色顯示。另一方面可知，由于在A面?zhèn)刃纬闪司€狀金屬層，因此亮度提高率(評(píng)價(jià)S、B)、對(duì)比度(評(píng)價(jià)S、B)優(yōu)異。另外可知，沒(méi)有形成線狀金屬層的比較例2-2、2-4的偏振片，從A面入射光時(shí)的總光線絕對(duì)反射率低(評(píng)價(jià)D)。由此可知，比較例2-2、2-4的偏振片，將入射光吸收，亮度提高率(評(píng)價(jià)D)、對(duì)比度差(評(píng)價(jià)D)。表7是表示實(shí)施例1-13、3-1~3-3、2-12、3-4~3-6的偏振片的特性評(píng)價(jià)的結(jié)果的表。<table>tableseeoriginaldocumentpage120</column></row><table>由表7可知，在沒(méi)有形成線狀金屬層、線狀黑色層的面上設(shè)有光擴(kuò)散層的實(shí)施例3-1~3-6的偏振片，具有與沒(méi)有設(shè)置光擴(kuò)散層的實(shí)施例1-3、2-13同等的總光線透射率、總光線相對(duì)反射率、偏振光度、總光線透射率、總光線絕對(duì)反射率。表8是表示使用了實(shí)施例1-13、3-1~3-3、2-12、3-4~3-6的偏振片的液晶顯示裝置的特性評(píng)價(jià)的結(jié)果的表。<table>tableseeoriginaldocumentpage122</column></row><table>由表8可知，使用了沒(méi)有設(shè)置光擴(kuò)散層的實(shí)施例1-3、2-13的液晶顯示裝置，可辨認(rèn)出干擾條紋、閃爍等，顯示品質(zhì)降低(評(píng)價(jià)C)。另一方面，使用了濁度為47%的實(shí)施例3-2、3-5、濁度為80%的實(shí)施例3-3、3-6的液晶顯示裝置，顯示品質(zhì)提高(評(píng)價(jià)B)。另外，由實(shí)施例3-1~3-3、實(shí)施例3-4~3-6可知，濁度值越增加，顯示品質(zhì)越提高。產(chǎn)業(yè)上的利用可能性本發(fā)明的偏振片適合作為在各種顯示裝置中提高液晶顯示裝置的亮度的光學(xué)構(gòu)件。另外，安裝有本發(fā)明的偏振片的液晶顯示裝置，可制成與以往的液晶顯示裝置相比亮度更高的液晶顯示裝置，可很好地用于便攜式電話、電子記事本、筆記本PC、監(jiān)視器、TV、各種顯示介質(zhì)等中。本發(fā)明中表示數(shù)值范圍的"以上，，和"以下，，均包括本數(shù)。權(quán)利要求1、一種偏振片，是具有基材、以設(shè)定的間隔配置的多個(gè)線狀的金屬層、和以設(shè)定的間隔配置的多個(gè)線狀的黑色層的偏振片，所述多個(gè)線狀的金屬層和所述多個(gè)線狀的黑色層之中的至少任一方的層設(shè)置于所述基材上。2、根據(jù)權(quán)利要求1所述的偏振片，所述線狀的黑色層其膜厚h2為1~200nm，寬度w21為20~380nm，相鄰的黑色層間的間距p2為50~400nm。3、根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的偏振片，所述線狀的金屬層和所述線狀的黑色層形成于基材的同一面上。4、根據(jù)權(quán)利要求3所述的偏振片，所述線狀的金屬層和所述線狀的黑色層接觸。5、根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的偏振片，具有形成于所述基材上的所述線狀的金屬層、和形成于該線狀的金屬層上的所述線狀的黑色層。6、根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的偏振片，具有形成于所述基材上的所述線狀的黑色層、和形成于該線狀的黑色層上的所述線狀的金屬層。7、根據(jù)權(quán)利要求1~6的任一項(xiàng)所述的偏振片，所述基材在至少一個(gè)的表面上具有平4亍的線狀的凹凸結(jié)構(gòu)，在所述線狀的凹凸結(jié)構(gòu)的凸部上，設(shè)置有所述線狀的金屬層和/或所述線狀的黑色層。8、一種液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，所述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面?zhèn)鹊钠衿?A)和面光源側(cè)的偏振片(B)，所述偏振片(B)是權(quán)利要求1~7的任一項(xiàng)所述的偏振片，并且該偏振片以滿足下述(i)~(iii)的條件的方式設(shè)置，(i)在所迷線狀的金屬層和所述線狀的黑色層形成于基材的不同的面上的偏振片中，i殳置有所述線狀的金屬層的面與面光源相對(duì)；(ii)在所述線狀的金屬層和所述線狀的黑色層形成于基材的同一面上的偏振片中，相比于與基材面平行的所述線狀的金屬層和所迷線狀的黑色層的界面，所述線狀的金屬層位于更接近于面光源的側(cè)；(iii)在與所述(i)或(ii)的任一情況均不符合的情況下，所述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對(duì)。9、一種偏振片，具有基材；在所述基材表面以設(shè)定的間隔排列的多個(gè)線狀的金屬層；和與所述線狀的金屬層接觸，并將所述多個(gè)線狀的金屬層被覆的透明層。10、根據(jù)權(quán)利要求9所述的偏振片，所述透明層的膜厚h2為1~200nm。11、根據(jù)權(quán)利要求9或10所迷的偏振片，所述透明層只被覆所述金屬層的上部。12、根據(jù)權(quán)利要求9~11的任一項(xiàng)所迷的偏振片，所述基材在至少一個(gè)的表面上具有平行的線狀的凹凸結(jié)構(gòu)，在所述線狀的凹凸結(jié)構(gòu)的凸部上設(shè)置有所述線狀的金屬層。13、一種液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，所述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面?zhèn)鹊钠衿?A)和面光源側(cè)的偏振片(B),所述偏振片(B)是權(quán)利要求9~12的任一項(xiàng)所述的偏振片，并且該偏振片以滿足下述(i)或(ii)的條件的方式設(shè)置，(i)相比于與所述基材面平行的所述線狀的金屬層和所迷透明層的界面，所述線狀的金屬層配置于更接近于面光源的側(cè)；(ii)在與所述(i)不符合的情況下，所述偏振片兩面之中的反射率更高的面與面光源相對(duì)。14、一種偏振片，從一面(A面)側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率為30~50%,總光線絕對(duì)反射率或總光線相對(duì)反射率的至少一方為30~50%,透射光的偏振光度為99%以上，從另一面(B面)側(cè)入射光時(shí)的總光線透射率為30~50%,總光線絕對(duì)反射率為0~30%。15、根據(jù)權(quán)利要求14所述的偏振片，偏振片的總膜厚為150fim。16、根據(jù)權(quán)利要求14或15所述的偏振片，至少為線柵型。17、一種液晶顯示裝置，是至少具有面光源和液晶盒的液晶顯示裝置，所述液晶盒至少具有液晶層、隔著該液晶層而配置的顯示面?zhèn)鹊钠衿?A)和面光源側(cè)的偏振片(B)，所述偏振片(B)是權(quán)利要求14~16的任一項(xiàng)所述的偏振片，并且配置成所迷A面與面光源相對(duì)。全文摘要本發(fā)明是具有基材、隔開(kāi)間隔而形成的多個(gè)線狀的金屬層、隔開(kāi)間隔而形成的多個(gè)線狀的黑色層的振片。根據(jù)本發(fā)明，能夠提供可與構(gòu)成液晶盒的2片偏振片之中的至少一個(gè)偏振片置換，并且能夠以高亮度進(jìn)行鮮明的顯示的偏振片、以及使用該偏振片呈現(xiàn)較高的亮度提高效果的液晶顯示裝置。文檔編號(hào)G02B5/30GK101622557SQ20088000652公開(kāi)日2010年1月6日申請(qǐng)日期2008年1月11日優(yōu)先權(quán)日2007年1月12日發(fā)明者坂本桂太郎,島津綾子,青山滋,高橋宏光,高橋弘造申請(qǐng)人:東麗株式會(huì)社