專(zhuān)利名稱(chēng)：在反射襯底上制造可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵的方法和相關(guān)裝置的制作方法
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在反射襯底上制造可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵的方法和相關(guān)裝置
優(yōu)先權(quán)要求在其它實(shí)施例中，可以通過(guò)穿過(guò)在其中包含所述全息圖案 的掩模層傳播紫外(UV)光來(lái)光刻圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層使得所述掩
準(zhǔn)層中創(chuàng)建所述周期性對(duì);條件。所述uv光可以是弱相干的'，并且
所述掩模層可以具有這樣的厚度，所述厚度被配置成為所述紫外光的 波長(zhǎng)范圍提供半波延遲。將被理解的是，盡管術(shù)語(yǔ)第一、第二、第三等等在此可以 被用來(lái)描述多種元件、部件、區(qū)域、層和/或剖面，但是這些元件、 部件、區(qū)域、層和/或剖面不應(yīng)當(dāng)受這些術(shù)語(yǔ)限制。這些術(shù)語(yǔ)僅被用 來(lái)區(qū)別一個(gè)元件、部件、區(qū)域、層或剖面與另一個(gè)區(qū)域、層或剖面。 因此，在不脫離本發(fā)明的教導(dǎo)的情況下，以下討論的第一元件、部件、 區(qū)域、層或剖面可以被稱(chēng)作第二元件、部件、區(qū)域、層或剖面。在此參考截面圖描述本發(fā)明的實(shí)施例，所述截面圖是本發(fā) 明的理想化實(shí)施例(和中間結(jié)構(gòu))的示意圖。同樣，會(huì)預(yù)料到由于利 用制造技術(shù)和/或容差導(dǎo)致的圖示形狀的變型。因此，本發(fā)明的實(shí)施 例不應(yīng)當(dāng)被解釋為局限于在此所示區(qū)域的特定形狀，而是將包括例如 由制造所導(dǎo)致的形狀偏離。因此，附圖
中所示的區(qū)域本質(zhì)上是示意性 的并且它們的形狀并不旨在示出裝置的實(shí)際形狀并且不想限制本發(fā) 明的范圍。根據(jù)本發(fā)明的 一 些實(shí)施例的包括退化平面錨定條件的村 底的透射特性的實(shí)例在圖2A-2D中被進(jìn)一步示出。特別地，圖2A-2D 示出根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例的五個(gè)不同退化平面液晶偏振光柵 (LCPG)實(shí)例050921A、 050921B、 050921C、 050921E、以及050921F 的透射特性。例如，圖2A示出所述050921C、 050921E、和050921F 實(shí)例的透射率與電壓特性的關(guān)系曲線。實(shí)例050921C是這樣的結(jié)構(gòu)， 其中液晶層被設(shè)置在包含退化平面錨定條件的涂有氧化銦錫(ITO) 的玻璃襯底和包含線性可光聚合的聚合物(LPP)作為對(duì)準(zhǔn)層的涂有 ITO的玻璃襯底之間。實(shí)例050921E是包含液晶層的類(lèi)似結(jié)構(gòu)，所述 液晶層在包含退化平面錨定條件的涂有ITO的玻璃襯底和LPP/涂有 ITO的玻璃襯底之間，其中所述ITO玻璃利用甲醇進(jìn)行清潔。實(shí)例 050921F是包含液晶層的結(jié)構(gòu)，所述液晶層在LPP/涂有ITO的玻璃 襯底和具有退化平面錨定條件的(3-縮水甘油醚氧基丙基)三曱氧基 硅烷((3-Glyddyl漏oxypropyl) trimethoxysilane ) ( 3GPS ) /涂有ITO 的玻璃襯底之間。圖2B示出所述050921A和050921B實(shí)例的透射率 與波長(zhǎng)特性的關(guān)系曲線。實(shí)例050921A和050921B包括在具有退化 平面錨定條件的棵玻璃襯底和LPP/涂有ITO的玻璃襯底之間的液晶 層。圖2C示出所述050921C和050921E實(shí)例的透射率與波長(zhǎng)特性的 關(guān)系曲線，并且圖2D示出所述050921F實(shí)例的透射率與波長(zhǎng)特性的 關(guān)系曲線。
0044圖3A-3E示出根據(jù)本發(fā)明的其它實(shí)施例的在反射襯底上 制造偏振光柵的方法以及這樣制造的裝置?，F(xiàn)在參考圖3A,在所述 反射襯底310上形成吸收紫外(UV)光的薄膜320。所述吸收UV光的薄膜320可以透過(guò)可見(jiàn)光，但也可以被配置為吸收UV波長(zhǎng)范圍內(nèi) 的光，例如小于大約380nm。如圖3B中所示，光對(duì)準(zhǔn)層315b形成 在所述吸收UV的膜上。光對(duì)準(zhǔn)層315a也形成在透射或透明襯底305 上。所述反射襯底310和透明襯底305以緊密間隔的關(guān)系組裝在一起 以在其間提供單元間隙321,如圖3C中所示。所述單元間隙321可 以基本一致，并且可以是所述偏振光柵的工作波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光的大約 半波延遲厚度，例如大約2微米(jim)。換句話說(shuō)，所述單元間隙 321可以被配置成提供所述偏振光柵操作中使用的光的半波延遲。在 組裝所述透明襯底305和反射襯底310之后，所述光對(duì)準(zhǔn)層315a和 315b被圖案化以在所述光對(duì)準(zhǔn)層315a和315b中提供相應(yīng)的周期性 對(duì)準(zhǔn)條件316a和316b，如圖3D中所示。例如，所述光對(duì)準(zhǔn)層315a 和315b可以利用UV激光束301進(jìn)行爆光。在一些實(shí)施例中，所述 光對(duì)準(zhǔn)層315a和315b可以被圖案化使得層315a和315b具有相同的 周期性對(duì)準(zhǔn)條件。因此，在反射襯底310上的所述吸收UV的薄膜320 減少和/或消除了反射襯底310對(duì)所述全息記錄光束的反射，由此減 小或避免對(duì)所述光對(duì)準(zhǔn)層315a和315b的有害影響。在所述圖案化工 藝之后，所述反射襯底310和透明襯底305之間的間隙321被填充液 晶材料，如圖3E中所示，以在其間形成液晶層325。所述液晶層325 的分子根據(jù)所述光對(duì)準(zhǔn)層315a和315b中的所述對(duì)準(zhǔn)條件316a和 316b被對(duì)準(zhǔn)從而提供對(duì)準(zhǔn)很好的平面偏振光柵。因此，本發(fā)明的一 些實(shí)施例可以在最小改變的情況下容易地整合到當(dāng)前制造工藝中去 以獲得期望的液晶配置。
[0045圖4A-4C示出根據(jù)本發(fā)明的其它實(shí)施例的在反射襯底上 制造偏振光柵的方法以及這樣制造的裝置。更具體地，圖4A-4C示 出在各向異性"掩模"中捕獲全息圖案的"掩模轉(zhuǎn)移"技術(shù)，隨后利 用不相干光將所述各向異性"掩模"用來(lái)直接圖案化所述反射襯底。 現(xiàn)在參考圖4A，制造可聚合液晶偏振光柵430 (在此也被稱(chēng)作活性 液晶元(RM )光柵)?？梢岳?一個(gè)玻璃#于底(one-glass substrate ) 技術(shù)制造所述可聚合液晶偏振光柵430，這是本領(lǐng)域公知的。所述可 聚合液晶偏振光柵430在選擇的UV波長(zhǎng)處可以具有半波延遲。例如， 在一些實(shí)施例中，所述可聚合液晶偏振光柵430可以是透明和雙折射 的。然而，在其它實(shí)施例中，所述可聚合液晶偏振光柵430可以是部分吸收的和二色性的。同樣，所述可聚合液晶偏振光柵430可以用作 用來(lái)圖案化襯底上的光對(duì)準(zhǔn)層的各向異性"掩模"。在一些實(shí)施例中， 所述掩?？梢赃B同手性摻雜劑一起形成。這樣的手性摻雜劑在Escuti 等人的PCT公開(kāi)號(hào)No.WO 2006/092758中被進(jìn)一步討論，在此通過(guò) 引用并入其全部公開(kāi)作為參考。
[0046更具體地，如圖4B中所示，所述可聚合液晶偏振光柵430 緊密鄰近在其上包括光對(duì)準(zhǔn)層415b的目標(biāo)襯底410放置，并且利用 UV光401進(jìn)行照射。所述UV光401可以是非偏振的和/或弱相干的 以減小和/或最小化任何反射光的強(qiáng)度。同樣，所述"掩模"的空間 變化近場(chǎng)輸出可以利用光刻技術(shù)被直接轉(zhuǎn)移到所述目標(biāo)襯底410上 的光對(duì)準(zhǔn)層415b以在其中創(chuàng)建周期性對(duì)準(zhǔn)條件416。盡管在圖4B中 被示為反射襯底，但是所述目標(biāo)襯底410也可以是透明或透射襯底。 因此，對(duì)于在其上包括光對(duì)準(zhǔn)層415a的透明襯底405而言可以類(lèi)似 地執(zhí)行圖4B的過(guò)程，并且所述透明和反射襯底405和410可以被組 裝并且在其間的間隙421中被填充液晶材料425，如圖4C中所示。 如上所述，所述液晶層425的分子才艮據(jù)所述光對(duì)準(zhǔn)層415a和/或415b 中的所述對(duì)準(zhǔn)條件被對(duì)準(zhǔn)從而提供對(duì)準(zhǔn)良好的平面偏振光柵。因此， 可以以能夠避免在目標(biāo)襯底上使用全息術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)期望的液晶配置。更 確切地說(shuō)，全息術(shù)可以被用來(lái)創(chuàng)建各向異性掩模，所述各向異性掩模 隨后被用來(lái)光刻圖案化所述目標(biāo)襯底。同樣，本發(fā)明的一些實(shí)施例可 以被用來(lái)更快速和容易地由更大的硅晶片尺寸實(shí)現(xiàn)更高的產(chǎn)量。
[0047因此，根據(jù)本發(fā)明的一些實(shí)施例，可以在能夠調(diào)制非偏振 光的反射襯底上制造液晶調(diào)制器。因此，本發(fā)明的一些實(shí)施例可以尤 其有利于便攜式投影顯示器、消費(fèi)電視機(jī)、實(shí)時(shí)全息照相、和/或其 中可以使用空間光調(diào)制器的其它裝置。
[0048前述說(shuō)明了本發(fā)明并且不被解釋為其限制。盡管本發(fā)明的 一些示范性實(shí)施例已經(jīng)被描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員將容易理解，在 不本質(zhì)上脫離本發(fā)明的新穎教導(dǎo)和優(yōu)點(diǎn)的情況下，在所述示范性實(shí)施 例中許多修改是可能的。例如，盡管沒(méi)有示出，但是在此描述的襯底 可以在其表面上包括一個(gè)或多個(gè)電極，所述一個(gè)或多個(gè)電極例如由涂 在襯底上的透明氧化銦錫(ITO)提供。因此，所有這樣的修改旨在 被包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。因此，將被理解的是，前述說(shuō)明了本發(fā)明并且不被解釋為局限于公開(kāi)的特定實(shí)施例，并且對(duì)所述公開(kāi)的實(shí)施例 以及其它實(shí)施例的修改旨在被包含在本發(fā)明的范圍內(nèi)。
權(quán)利要求
1.一種制造可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵的方法，所述方法包括在反射襯底的表面上創(chuàng)建退化平面錨定條件；以及在包括所述退化平面錨定條件的反射襯底的表面上形成液晶層。
2. 如權(quán)利要求l所述的方法，進(jìn)一步包括 在襯底上形成對(duì)準(zhǔn)層；圖案化所述對(duì)準(zhǔn)層以在其中創(chuàng)建周期性對(duì)準(zhǔn)條件；以及組裝在其上;括所述圖案化的對(duì)準(zhǔn)層的^底以在所述圖案化的對(duì)準(zhǔn) 層和所述反射襯底的表面之間限定間隙，其中形成所述液晶層包括在所述間隙中形成所述液晶層。
3. 如權(quán)利要求2所述的方法，其中形成所述液晶層進(jìn)一步包括 直接在所述圖案化的對(duì)準(zhǔn)層上在所述間隙中形成所述液晶層使得所述液晶層的分子根據(jù)所述圖案化的對(duì)準(zhǔn)層中的所述周期性對(duì)準(zhǔn) 條件被對(duì)準(zhǔn)。
4. 如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述襯底包括透射襯底，其 中所述對(duì)準(zhǔn)層包括在其中包含可光聚合的聚合物的光對(duì)準(zhǔn)層，并且其 中圖案化所述對(duì)準(zhǔn)層包括在組裝所述透射和反射襯底之前通過(guò)所述透射襯底傳播激光束 以圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層來(lái)在其中創(chuàng)建所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
5. 如權(quán)利要求1所述的方法，其中所述退化平面錨定條件包括 相對(duì)于所述反射襯底的表面的固定傾角。
6. 如權(quán)利要求5所述的方法，其中所述固定傾角小于大約5度 使得所述退化平面錨定條件基本上不影響所述液晶層的分子的對(duì)準(zhǔn)。
7. 如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述對(duì)準(zhǔn)層包括光對(duì)準(zhǔn)層， 并且其中圖案化所述對(duì)準(zhǔn)層包括形成可聚合液晶層；利用相干光全息圖案化所述可聚合液晶層以限定在其中包括全 息圖案的掩模層；以及利用所述掩模層光刻圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層以根據(jù)所述掩模層中 的全息圖案在所述光對(duì)準(zhǔn)層中創(chuàng)建所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
8. 如權(quán)利要求2所述的方法，其中所述對(duì)準(zhǔn)層包括光對(duì)準(zhǔn)層，并且進(jìn)一步包括在其上形成所述對(duì)準(zhǔn)層之前在所述襯底上形成光吸收膜，所述光 吸收膜被配置成吸收一定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光，其中圖案化所述對(duì)準(zhǔn)層包括利用包含所述波長(zhǎng)范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的 相干光圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層以在所述光對(duì)準(zhǔn)層中創(chuàng)建所述周期性對(duì) 準(zhǔn)條件。
9. 一種可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵裝置，包括 在其表面上包括退化平面錨定條件的反射襯底；以及 在包括所述退化平面錨定條件的所述反射襯底的表面上的液晶層。
10. 如權(quán)利要求9所述的裝置，進(jìn)一步包括 透射襯底；以及所述透射襯底上的對(duì)準(zhǔn)層，所述對(duì)準(zhǔn)層在其中包括周期性對(duì)準(zhǔn)條件，其中所述對(duì)準(zhǔn)層位于所述液晶層上，與包括所述退化平面錨定條 件的所述反射襯底的所述表面相對(duì)。
11. 如權(quán)利要求10所述的裝置，其中所述液晶層直接在所述對(duì) 準(zhǔn)層上，并且其中所述液晶層的分子的對(duì)準(zhǔn)對(duì)應(yīng)于所述對(duì)準(zhǔn)層的所述 周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
12. 如權(quán)利要求11所述的裝置，其中所述液晶層直接在包括所 述退化平面錨定條件的所述反射襯底的所述表面上，并且其中所述退 化平面錨定條件包括相對(duì)于所述反射襯底的所述表面的固定傾角。
13. 如權(quán)利要求12所述的裝置，其中所述固定傾角小于大約5 度使得所述退化平面錨定條件基本上不影響所述液晶層的分子的對(duì) 準(zhǔn)。
14. 一種制造可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵的方法，所述方法包括 在反射襯底上形成光吸收膜，所述光吸收膜被配置成吸收一定波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光；在所述光吸收膜上形成光對(duì)準(zhǔn)層；利用包括所述波長(zhǎng)范圍內(nèi)的波長(zhǎng)的相干光圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層 以在所述光對(duì)準(zhǔn)層中創(chuàng)建周期性對(duì)準(zhǔn)條件；以及在所述圖案化的光對(duì)準(zhǔn)層上形成液晶層使得所述液晶層的分子根據(jù)所述光對(duì)準(zhǔn)層中的所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件被對(duì)準(zhǔn)。
15. 如權(quán)利要求14所述的方法，進(jìn)一步包括 在透明襯底上形成第二光對(duì)準(zhǔn)層；鄰近在其上包括所述第一光對(duì)準(zhǔn)層的所述反射襯底組裝在其上 包括所述第二光對(duì)準(zhǔn)層的透明襯底以在所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層之 間限定間隙，其中圖案化包括利用激光束圖案化所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層以 在組裝所述透明和反射襯底之后在其中創(chuàng)建相應(yīng)的周期性對(duì)準(zhǔn)條件， 并且其中形成所述液晶層包括在圖案化所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層之 后在所述間隙中形成所述液晶層。
16. 如權(quán)利要求15所述的方法，其中形成所述液晶層進(jìn)一步包括直接在所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層上在所述間隙中形成所述液晶 層使得所述液晶層的分子根據(jù)所述笫一和第二光對(duì)準(zhǔn)層的相應(yīng)周期 性對(duì)準(zhǔn)條件被對(duì)準(zhǔn)。
17. 如權(quán)利要求15所述的方法，其中所述光吸收膜包括被配置 成吸收紫外線波長(zhǎng)范圍中的光的紫外(UV)光吸收膜，并且其中圖案 化所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層包括(u v)激光束以同時(shí)圖案化所述第 一 和第二光對(duì)準(zhǔn)層以在'其中創(chuàng)建相應(yīng)的周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
18. 如權(quán)利要求15所述的方法，其中對(duì)于在所述偏振光柵裝置 的工作波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光而言，所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層之間的間隙是 大約半波延遲厚度。
19. 一種可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵裝置，包括 反射襯底；在所述反射襯底上的光吸收膜，所述光吸收膜被配置成吸收一定 波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光；在所述光吸收膜上的在其中包括周期性對(duì)準(zhǔn)條件的光對(duì)準(zhǔn)層；以及在所述光對(duì)準(zhǔn)層上的液晶層，其中所述液晶層的分子的對(duì)準(zhǔn)對(duì)應(yīng) 于所述光對(duì)準(zhǔn)層的所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
20. 如權(quán)利要求19所述的裝置，進(jìn)一步包括 透明襯底；以及在所述透明襯底上的在其中包括第二周期性對(duì)準(zhǔn)條件的第二光 對(duì)準(zhǔn)層，其中所述第二光對(duì)準(zhǔn)層在所述液晶層上，與所述第一光對(duì)準(zhǔn)層相對(duì)。
21. 如權(quán)利要求20所述的裝置，其中所述液晶層直接在所述第 一和第二光對(duì)準(zhǔn)層上，其中所述第一和第二周期性對(duì)準(zhǔn)條件包括相同 的周期性對(duì)準(zhǔn)條件，并且其中所述液晶層的分子的對(duì)準(zhǔn)對(duì)應(yīng)于所述第 一和第二光對(duì)準(zhǔn)層的所述相同的周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
22. 如權(quán)利要求19所述的裝置，其中所述光吸收膜包括被配置 成吸收紫外線波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光的紫外(UV)光吸收膜。
23. 如權(quán)利要求20所述的裝置，其中對(duì)于所述偏振光柵裝置的 工作波長(zhǎng)范圍內(nèi)的光而言，所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層之間的距離是大 約半波延遲厚度。
24. —種制造可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵的方法，所述方法包括 制造在其中包括全息圖案的掩模層； 在襯底上形成光對(duì)準(zhǔn)層；利用所述掩模層光刻圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層以根據(jù)所述全息圖案 在所述光對(duì)準(zhǔn)層中創(chuàng)建周期性對(duì)準(zhǔn)條件；以及在所述圖案化的光對(duì)準(zhǔn)層上形成液晶層使得所述液晶層的分子 根據(jù)所述光對(duì)準(zhǔn)層中的所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件被對(duì)準(zhǔn)。
25. 如權(quán)利要求24所述的方法，其中所述掩模層包括可聚合液 晶偏振光柵，并且其中制造所述掩模層包括形成可聚合液晶層；以及利用相干光全息圖案化所述可聚合液晶層以限定在其中包括所 述全息圖案的掩模層。
26. 如權(quán)利要求25所述的方法，其中制造所述掩模層進(jìn)一步包括在全息圖案化所述可聚合液晶層之前，添加手性摻雜劑到所述可 聚合液晶層。
27. 如權(quán)利要求24所述的方法，其中光刻圖案化所述光對(duì)準(zhǔn)層包括穿過(guò)在其中包含所述全息圖案的掩模層傳播紫外(UV)光使得所 述掩模層的空間變化近場(chǎng)輸出被轉(zhuǎn)移到所述光對(duì)準(zhǔn)層以在所述光對(duì) 準(zhǔn)層中創(chuàng)建所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件。
28. 如權(quán)利要求27所述的方法，其中所述UV光是弱相干的，并 且其中所述掩模層具有這樣的厚度，所述厚度被配置成為所述紫外光 的波長(zhǎng)范圍提供半波延遲。
29. 如權(quán)利要求24所述的方法，其中所述襯底包括反射襯底， 并且進(jìn)一步包括在透射襯底上形成第二光對(duì)準(zhǔn)層；利用所述掩模層光刻圖案化所述第二光對(duì)準(zhǔn)層以根據(jù)所述全息 圖案在所述第二光對(duì)準(zhǔn)層中創(chuàng)建所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件；以及鄰近所述反射襯底組裝所述透射襯底以在所述第一和第二光對(duì) 準(zhǔn)層之間限定間隙，其中形成所述液晶層包括直接在所述笫一和第二 光對(duì)準(zhǔn)層上在所述間隙中形成所述液晶層使得所述液晶層的分子根 據(jù)所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層的所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件被對(duì)準(zhǔn)。
30. 如權(quán)利要求29所述的方法，其中對(duì)于紫外線波長(zhǎng)范圍內(nèi)的 光而言，所述第一和第二光對(duì)準(zhǔn)層之間的所述間隙為大約半波延遲厚 度。
全文摘要
一種制造可轉(zhuǎn)換的液晶偏振光柵的方法包括在反射襯底的表面上創(chuàng)建退化平面錨定條件。對(duì)準(zhǔn)層可以形成在透射襯底上并且可以被圖案化以在其中創(chuàng)建周期性對(duì)準(zhǔn)條件。在其上包括所述圖案化對(duì)準(zhǔn)層的所述透射襯底可以鄰近在其上包括所述退化平面錨定條件的所述反射襯底的所述表面被組裝以在其間限定間隙。液晶層形成在包括所述退化平面錨定條件的所述反射襯底的所述表面上?？梢灾苯釉谒鰧?duì)準(zhǔn)層上在所述間隙中形成所述液晶層使得所述液晶層的分子根據(jù)所述對(duì)準(zhǔn)層中的所述周期性對(duì)準(zhǔn)條件被對(duì)準(zhǔn)，相關(guān)制造方法和偏振光柵也被討論。
文檔編號(hào)G02F1/1337GK101681064SQ200880012188
公開(kāi)日2010年3月24日 申請(qǐng)日期2008年4月16日 優(yōu)先權(quán)日2007年4月16日
發(fā)明者M·J·埃斯庫(kù)蒂 申請(qǐng)人:北卡羅萊納州立大學(xué)