專利名稱:具備噴嘴唇口清洗裝置的狹縫式涂敷裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及一種具備噴嘴唇口清洗裝置的狹縫式涂敷裝置,尤其 涉及一種可應(yīng)用于用于制造平板顯示元件用基板的狹縫涂敷工藝中 的狹縫式涂敷裝置,其具備可以有效去除狹縫噴嘴的噴嘴唇口 (lip) 上粘附的藥液或者異物、并可減少清洗液使用量的噴嘴唇口清洗裝 置。
背景技術(shù):
通常,在平板顯示元件用基板上邊進(jìn)行照相平版印刷 (Photolithography)工藝邊形成電路圖案。照相平版印刷工藝是, 首先在基板上涂敷預(yù)定厚度的感光液,再對(duì)感光液(光刻膠)進(jìn)行曝 光、顯影,然后再進(jìn)行蝕刻工序,從而在基板上形成電路圖案的工程。
這種照相平版印刷工藝中尤其重要的是,涂敷感光液工序中在基 板的薄膜上形成預(yù)定厚度、分布均勻的感光層。若感光層的厚度比標(biāo) 準(zhǔn)厚度厚或者薄,蝕刻就會(huì)進(jìn)行得不均勻。
如此,在基板上涂敷感光液的工序一般可以是使用旋涂裝置 (spin coater)的旋轉(zhuǎn)涂敷方式、以及使用狹縫式涂敷機(jī)(Slit coater)
的非旋轉(zhuǎn)涂敷方式。
如上所述的2種涂敷方式中,由于旋轉(zhuǎn)涂敷方式隨著作業(yè)環(huán)境(基
板的旋轉(zhuǎn)速度和溶劑的蒸發(fā))的不同而形成不規(guī)則表面,因此感光液 涂敷工序中主要使用具備狹縫式涂敷裝置的非旋轉(zhuǎn)涂覆方式。非旋轉(zhuǎn)涂敷方式邊通過(guò)狹縫式涂敷裝置的狹縫噴嘴涂敷感光液,邊在基板的 薄膜上形成具有預(yù)定厚度的照相平版印刷用感光層(光刻膠層)。
這種涂敷工序使狹縫噴嘴的噴嘴唇口 (lip)部分容易粘附感光液
的殘留物,因此只有隨時(shí)去除所述殘留的物質(zhì)才能夠保持均勻的涂覆 質(zhì)量。例如,若狹縫噴嘴的噴嘴唇口部分的感光液殘留物質(zhì)或者異物 在粘附狀態(tài)下凝固,感光液的噴出就會(huì)顯得不規(guī)則,從而會(huì)成為導(dǎo)致 涂敷質(zhì)量下降的因素。
因此,需要利用清洗裝置對(duì)狹縫噴嘴的噴嘴唇口部分進(jìn)行清洗。 所述狹縫噴嘴唇口的清洗裝置,首先通過(guò)清洗液噴射單元向噴嘴噴射 溶劑等清洗液進(jìn)行清洗,然后再通過(guò)干燥氣體噴射單元向噴嘴噴射氣 體,以此來(lái)干燥噴嘴。
上述現(xiàn)有的狹縫噴嘴的清洗裝置將溶劑等清洗液直接噴射到狹 縫噴嘴上而對(duì)狹縫噴嘴進(jìn)行清洗,因此導(dǎo)致清洗液使用量過(guò)多,成本
增加。而且,現(xiàn)有狹縫噴嘴的清洗裝置對(duì)狹縫噴嘴唇口(lip)的清洗
效果有必要實(shí)現(xiàn)最大化,然而現(xiàn)有的清洗裝置未能使清洗效果達(dá)到最
大化,從而會(huì)發(fā)生感光液涂敷不良的現(xiàn)象。
發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述問(wèn)題,本發(fā)明的目的在于提供一種具備可以使狹縫噴嘴 唇口的清洗效果達(dá)到最大化、并以減少清洗液使用量來(lái)降低生產(chǎn)成本 的噴嘴唇口清洗裝置的狹縫式涂敷裝置。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明提供一種狹縫式涂敷裝置,其包括 工作臺(tái);狹縫噴嘴,其設(shè)置于所述工作臺(tái)上部,用于涂敷藥液;移動(dòng)單元,其用于移動(dòng)所述狹縫噴嘴或基板;唇口清洗單元,其將由清洗 液和氣體混合而成的混合流體噴射到所述狹縫噴嘴的唇口上并對(duì)其
進(jìn)行清洗;唇口干燥單元,其將干燥氣體噴射到所述狹縫噴嘴的唇口; 以及驅(qū)動(dòng)單元,其設(shè)置于所述工作臺(tái)的一側(cè),用于移動(dòng)所述唇口清洗 單元及所述干燥單元。
另外,本發(fā)明還提供一種狹縫式涂敷裝置,其包括工作臺(tái),用 于放置基板;第一驅(qū)動(dòng)單元,設(shè)置在所述工作臺(tái)上;移動(dòng)單元,與所 述第一驅(qū)動(dòng)單元相結(jié)合,并進(jìn)行直線移動(dòng);噴嘴支撐單元,與所述移 動(dòng)單元相結(jié)合并進(jìn)行上下移動(dòng);狹縫噴嘴,與所述噴嘴支撐單元相結(jié) 合;第二驅(qū)動(dòng)單元,設(shè)置于所述工作臺(tái)的一側(cè);唇口清洗單元,設(shè)置 在所述第二驅(qū)動(dòng)單元上,并向所述狹縫噴嘴的唇口噴射由清洗液和氣 體混合而成的混合流體,對(duì)唇口進(jìn)行清洗;唇口干燥單元,設(shè)置在所 述第二驅(qū)動(dòng)單元上,并向所述狹縫噴嘴的唇口噴射干燥氣體。
所述唇口清洗單元包括第一供給單元,用于供給清洗液;第二 供給單元,設(shè)置于所述第一供給單元的一側(cè)而供給氣體;以及噴射單 元,將由所述第一供給單元及所述第二供給單元分別供給的清洗液和 氣體混合后,噴射該混合氣體。
所述第一供給單元最好包括第一本體;清洗液供給管道,設(shè)置 在所述第一本體上,并從清洗液供給裝置接收清洗液;清洗液腔室, 與所述清洗液供給管道連接;以及第一連接管道,連接在所述清洗液 腔室和所述噴射單元之間。
所述第二供給單元最好包括第二本體,與第一本體相結(jié)合;氣體供給管道,設(shè)置在所述第二本體上,并從氣體供給裝置接收氣體; 氣體腔室,與所述氣體供給管道相連接;以及第二連接管道,連接在
所述氣體腔室和所述噴射單元之間。
所述唇口清洗單元及所述唇口干燥單元最好是相對(duì)向配對(duì)設(shè)置。 所述驅(qū)動(dòng)單元最好是沿所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向移動(dòng)所述唇口
清洗單元。
具有如上結(jié)構(gòu)的本發(fā)明由于與清洗液腔室相連接的連接管道連 接在噴射單元上,并利用汽化器原理噴射氣體的同時(shí),向狹縫噴嘴的 唇口噴射混合有清洗液的混合流體,因此可以使狹縫噴嘴唇口的清洗 效果達(dá)到最大化,并可以減少用于清洗狹縫噴嘴唇口的清洗液的使用 量,從而達(dá)到降低制造成本的效果。
圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例的整體結(jié)構(gòu)圖。 圖2是顯示圖1中主要部分的放大圖。 圖3是顯示圖2中主要部分的立體圖。 圖4是圖3中IV-IV向剖面圖。
具體實(shí)施例方式
以下結(jié)合附圖詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。
圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明實(shí)施例涉及的狹縫式涂敷裝置的整體結(jié) 構(gòu)圖。狹縫式涂敷裝置包括工作臺(tái)l,用于放置基板;多個(gè)第一驅(qū) 動(dòng)單元3,設(shè)置在工作臺(tái)1的上部?jī)蓚?cè);移動(dòng)單元5,與多個(gè)第一驅(qū) 動(dòng)單元3相結(jié)合;噴嘴支撐單元7,與移動(dòng)單元5相結(jié)合;狹縫噴嘴9,與噴嘴支撐單元7相結(jié)合;第二驅(qū)動(dòng)單元ll (如圖2所示),設(shè)
置在工作臺(tái)1上;以及噴嘴唇口清洗裝置13,用于清洗作為狹縫噴 嘴9的藥液吐出單元使用的唇口 9a (Lip,如圖3所示)。
工作臺(tái)1具有用于對(duì)基板G涂敷光刻膠的工作平面,并且包括下 部支撐架la和設(shè)置在下部支撐架la上的石定盤lb。另外,工作臺(tái)1 上最好配置有基板支撐座lc,從而將基板G放置于基板支撐座lc上 部。所述基板支撐座lc上打有多個(gè)真空孔,從而通過(guò)真空吸附使基 板G呈固定狀態(tài)。
第一驅(qū)動(dòng)單元3最好是在石定盤lb的兩側(cè)上部相隔一定距離配 對(duì)、且并排設(shè)置。并且,本發(fā)明實(shí)施例涉及的第一驅(qū)動(dòng)單元3最好是 直線電動(dòng)機(jī)(Linear motor)。第一驅(qū)動(dòng)單元3最好是與移動(dòng)單元5相 結(jié)合并可以使移動(dòng)單元5直線移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。所述第一驅(qū)動(dòng)單元3只要 是當(dāng)移動(dòng)單元5移動(dòng)時(shí),能夠使振動(dòng)最小化并具有恒定速度的結(jié)構(gòu)均 可使用。
移動(dòng)單元5上連接有沿橫穿基板G的方向布置的噴嘴支撐單元7。 噴嘴支撐單元7通過(guò)以液壓或空壓運(yùn)作的致動(dòng)器15可上下方向移動(dòng) 地連接。
噴嘴支撐單元7的中間部分結(jié)合有可以上下方向移動(dòng)、并向基板 G涂敷光刻膠的狹縫噴嘴9。即,本實(shí)施例涉及的是,在基板G固定 于基板支撐座lc的狀態(tài)下,邊直線移動(dòng)移動(dòng)單元5,邊對(duì)基板G涂 敷光刻膠的一個(gè)示例。
但是,本發(fā)明的實(shí)施例并不局限于上述示例,還可適用于基板移動(dòng)、狹縫噴嘴固定的結(jié)構(gòu)。即,雖然本發(fā)明實(shí)施例和圖中顯示第一驅(qū) 動(dòng)單元3具有能夠使移動(dòng)單元5做直線移動(dòng)的結(jié)構(gòu),但本發(fā)明并不局 限于此。當(dāng)將第一驅(qū)動(dòng)單元3應(yīng)用到用于移動(dòng)基板的結(jié)構(gòu)中時(shí),所述
第一驅(qū)動(dòng)單元3可以作為用于移動(dòng)基板的驅(qū)動(dòng)單元使用。
另外,在石定盤lb的一側(cè)設(shè)置有第二驅(qū)動(dòng)單元ll,而第二驅(qū)動(dòng)
單元11上結(jié)合有噴嘴唇口清洗裝置13。第二驅(qū)動(dòng)單元11可以向與 噴嘴支撐單元7結(jié)合的狹縫噴嘴9的長(zhǎng)度方向移動(dòng)噴嘴唇口清洗裝置 13。
第二驅(qū)動(dòng)單元11可以是與狹縫噴嘴9的長(zhǎng)度方向平行設(shè)置的直 線電動(dòng)機(jī)。該第二驅(qū)動(dòng)單元11可具有與第一驅(qū)動(dòng)單元3相同的結(jié)構(gòu)。 但是,在本發(fā)明的實(shí)施例中第二驅(qū)動(dòng)單元11可以是通過(guò)直線導(dǎo)軌移 動(dòng)的結(jié)構(gòu)、或通過(guò)皮帶等移動(dòng)的結(jié)構(gòu)等。只要是可以沿狹縫噴嘴9的 長(zhǎng)度方向移送噴嘴唇口清洗裝置13的同時(shí),能夠清洗狹縫噴嘴9的 唇口 (Lip)的結(jié)構(gòu)均可使用。
所述第二驅(qū)動(dòng)單元11上結(jié)合有噴嘴唇口清洗裝置13。如圖3所 示,噴嘴唇口清洗裝置13包括與第二驅(qū)動(dòng)單元11相結(jié)合的殼體 101;與殼體101相結(jié)合的固定臺(tái)103;與固定臺(tái)103相結(jié)合的唇口 清洗單元105、 107;以及與固定臺(tái)103相結(jié)合的唇口干燥單元109、 111。
上述固定臺(tái)103及用于固定固定臺(tái)103的殼體101并不局限于本 發(fā)明實(shí)施例中所示的結(jié)構(gòu)。只要是可以固定唇口清洗單元105、 107 和唇口干燥單元109、 lll的結(jié)構(gòu)均可使用,其形狀或者構(gòu)造也可以多種多樣。
唇口清洗單元105、 107相對(duì)向配對(duì)布置。而且,唇口干燥單元 109、 lll也相對(duì)向配對(duì)布置。如上所述,唇口清洗單元105、 107和 唇口干燥單元109、 lll分別配對(duì)布置,這是為了同時(shí)清洗狹縫噴嘴 9的唇口9a的兩側(cè)。
如圖4所示,唇口清洗單元105包括第一供給單元121,用于 供給溶劑等清洗液;第二供給單元141,用于供給氮?dú)獾葰怏w;以及 噴射單元151,用于將由第一供給單元121和第二供給單元141供給 的流體混合后,向基板G噴射該混合流體。該噴射單元151是從唇口 清洗單元105的前端吐出混合流體的結(jié)構(gòu),最好具有狹縫(Slit)形 狀。
第一供給單元121包括清洗液供給管道123,設(shè)置在第一本體 122上,并與未圖示的清洗液供給裝置相連接而接收清洗液;清洗液 腔室125,與清洗液供給管道123相連接;第一連接管道127,連接 在清洗液腔室125和噴射單元151之間。
而且,第二供給單元141包括氣體供給管道143,設(shè)置在與第 一本體122相結(jié)合的第二本體142上,并與未圖示的氣體供給裝置相 連接而接收氮?dú)獾葰怏w;氣體腔室145,與氣體供給管道143相連接; 第二連接管道147,連接在氣體腔室145和噴射單元151之間。
在唇口清洗單元105中,當(dāng)利用噴射單元151噴射由氣體供給管 道143、氣體腔室145、以及第二連接管道147供給的氣體時(shí),經(jīng)由 清洗液供給管道123和清洗液腔室125供給的清洗液邊沿著第一連接管道127流出,邊與上述氣體混合,從而噴射混合流體。該唇口清洗 單元105以使用汽化器原理的結(jié)構(gòu)對(duì)溶劑等清洗液和氮?dú)獾葰怏w進(jìn) 行精細(xì)混合后,在高壓狀態(tài)下噴射霧狀混合流體,從而可以清洗狹縫
噴嘴9的唇口 9a。
下面詳細(xì)說(shuō)明由以上結(jié)構(gòu)構(gòu)成的本發(fā)明狹縫式涂敷裝置的操作 過(guò)程。
首先,狹縫噴嘴9的唇口9a(Lip)需要清洗時(shí),驅(qū)動(dòng)第一驅(qū)動(dòng)單 元9使狹縫噴嘴9的唇口 9a對(duì)應(yīng)配置在噴嘴唇口清洗裝置11上部。
此時(shí),唇口清洗單元105、 107使溶劑等清洗液和氮?dú)獾葰怏w的 混合流體噴射到狹縫噴嘴9的唇口 9a上。g卩,若經(jīng)由氣體供給管道 143、氣體腔室145及第二連接管道147并通過(guò)噴射單元151噴出高 壓狀態(tài)的氮?dú)獾葰怏w,供給到清洗液供給管道123、清洗液腔室125 的清洗液就會(huì)邊沿著第一連接管道127流出,邊與上述氣體混合后以 高壓狀態(tài)噴射。
因此,狹縫噴嘴9的唇口 9a被由唇口清洗單元105、 107噴出的 霧狀混合流體清洗。
接著,通過(guò)唇口干燥單元109、 111噴射氮?dú)獾雀稍餁怏w,從而 對(duì)狹縫噴嘴9的唇口 9a進(jìn)行干燥。所述過(guò)程中,由于噴嘴唇口清洗 裝置13通過(guò)第二驅(qū)動(dòng)單元11沿狹縫噴嘴9的長(zhǎng)度方向移動(dòng),因此在 狹縫噴嘴9的整個(gè)領(lǐng)域中對(duì)唇口 9a進(jìn)行清洗和干燥。
因此,如本發(fā)明的實(shí)施例所述,清洗液和氣體的混合流體以高壓 狀態(tài)噴射,從而可以使狹縫噴嘴9之唇口 9a的清洗效果達(dá)到最大化,并且可以減少清洗液使用量,從而達(dá)到降低成本的效果'
權(quán)利要求
1.一種狹縫式涂敷裝置,其特征在于,包括工作臺(tái);狹縫噴嘴,其設(shè)置在所述工作臺(tái)上部,用于涂敷藥液;移動(dòng)單元,其用于移動(dòng)所述狹縫噴嘴或基板;唇口清洗單元,其將由清洗液和氣體混合而成的混合流體噴射到所述狹縫噴嘴的唇口并對(duì)其進(jìn)行清洗;唇口干燥單元,其將干燥氣體噴射到所述狹縫噴嘴的唇口;以及驅(qū)動(dòng)單元,其設(shè)置于所述工作臺(tái)的一側(cè),用于移動(dòng)所述唇口清洗單元及所述干燥單元。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫式涂敷裝置,其特征在于,所述 唇口清洗單元包括第一供給單元,用于供給清洗液;第二供給單元,設(shè)置于所述第一供給單元的一側(cè),用于供給氣體;以及噴射單元,將由所述第一供給單元及所述第二供給單元分別供給 的清洗液混合后,噴射該混合氣體。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的狹縫式涂敷裝置,其特征在于,所述 第一供給單元包括第一本體;清洗液供給管道,設(shè)置在所述第一本體上,并從清洗液供給裝置 接收清洗液;清洗液腔室,與所述清洗液供給管道連接;以及第一連接管道,連接在所述清洗液腔室和所述噴射單元之間。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的狹縫式涂敷裝置,其特征在于,所述第二供給單元包括第二本體,與第一本體相結(jié)合;氣體供給管道,設(shè)置在所述第二本體上,并從氣體供給裝置接收 氣體;氣體腔室,與所述氣體供給管道相連接;以及第二連接管道,連接在所述氣體腔室和所述噴射單元之間。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫式涂敷裝置,其特征在于所述唇口清洗單元及所述唇口干燥單元相對(duì)向配對(duì)設(shè)置。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的狹縫式涂敷裝置,其特征在于所述 驅(qū)動(dòng)單元沿所述狹縫噴嘴的長(zhǎng)度方向移動(dòng)所述唇口清洗單元。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具備噴嘴唇口清洗裝置的狹縫式涂敷裝置,所述噴嘴唇口清洗裝置在進(jìn)行用于制造平板顯示元件用基板的光刻膠等藥液涂覆工藝之后,可以有效去除狹縫噴嘴的噴嘴唇口(lip)上粘附的藥液或者異物、并可以減少清洗液使用量。本發(fā)明包括工作臺(tái);狹縫噴嘴,其設(shè)置在所述工作臺(tái)上部,用于涂敷藥液;移動(dòng)單元,用于移動(dòng)所述狹縫噴嘴或基板;唇口清洗單元,其將由清洗液和氣體混合而成的混合流體噴射到所述狹縫噴嘴的唇口上并進(jìn)行清洗;唇口干燥單元,其將干燥氣體噴射到所述狹縫噴嘴的唇口;以及驅(qū)動(dòng)單元,其設(shè)置于所述工作臺(tái)的一側(cè),用于移動(dòng)所述唇口清洗單元及所述干燥單元。
文檔編號(hào)G03F7/16GK101614960SQ20091012934
公開日2009年12月30日 申請(qǐng)日期2009年3月23日 優(yōu)先權(quán)日2008年6月27日
發(fā)明者吳相澤, 李尚洙 申請(qǐng)人:顯示器生產(chǎn)服務(wù)株式會(huì)社