專利名稱：采用涂有紫外線輻射反應材料的結構進行印刷的方法
技術領域：
本公開一般涉及到接觸印刷，更具體地說，本公開涉及對壓印 模的表面處理，該表面處理可以協(xié)助印刷材料從壓印模轉移到基板 上。
背景技術：
現(xiàn)有兩種主要的方法用來降低電子設備的成本一提高設備的集 成電路(IC)部件的封裝效率，以及通過采用大批量生產(chǎn)方法來增加 成本效益。為了成本有效地大量生產(chǎn)更薄的柔性聚合物電子設備，大 面積圖像成像法可以作為經(jīng)濟生產(chǎn)方法的一個選擇，并且最有可能會 在聚合物電子制造中發(fā)揮重要作用。
這樣的電子設備可以包括基板-.印刷電路部件(如電路走線) 和印刷電路元件(如電阻)、以及離散部件(如電極)和其它有源或 無源電路元件。在許多情況下，通過利用能夠將印刷材料從壓印模轉 移至基板上的壓印模來印刷所述的設備，以在基板上建立印刷電路部 件(如電路走線)和印刷電路元件。
基于低成本的柔性基板的柔性，高分辨率圖像成像方法在界定 電子設備中連接點之間的相互距離方面是重要的。雖然接觸印刷簡單 有效，但是它仍存在一些問題，這些問題通常與柔軟聚合物壓印模的 使用相關。為確保高效率地從壓印模上轉移印刷材料，控制壓印模的 表面潤濕性是主要的關注點。圖1A-D為顯示出理想的接觸印刷的印刷過程的圖。在壓印模蘸取印刷材料過程中，壓印模應具有相對于印 刷材料更高的表面能量而使印刷材料被輕松地蘸起。而在印刷到基板 上的過程中，壓印模應具有相對于印刷材料更低的表面能量而使印刷 材料轉移到基板上。為了促進這種印刷材料轉移機制，控制壓印模表 面的表面潤濕性是一個關鍵的過程。
應激反應性表面能夠實現(xiàn)可逆地控制表面的潤濕性，這已被各 種刺激法(包括光照射法)所證明。在控制表面潤濕性的各種方法中， 以光照射法最有效，在用于大批量生產(chǎn)時尤其是如此。
美國專利No.7，361，724披露了通過運用自組裝單層來進行表面 處理。根據(jù)此專利披露的內容，經(jīng)處理的表面不能被紫外源所激發(fā)， 而這在印刷過程中是改變其性質所必需的。美國專利No. 6,951,666 披露了運用前體來處理壓印模的表面；但該前體只限于導電功能并且 其應用是有限的。美國專利No.7，368，163披露了在用于印刷的聚合 物表面上進行共價鍵合的改性。根據(jù)此專利披露的內容，吸附在其表 面上的改性劑不是感光的，或者不能夠在紫外線輻射下更改其狀態(tài)。 美國專利No. 6,884,628披露了用于聚合物表面上的多功能涂層，但 其應用僅限于傳感器裝置，并且其描述的涂層無法被紫外線輻射所激 發(fā)。

發(fā)明內容
本發(fā)明提供一種用于印刷具有電性能的圖案的設備，該設備包
括壓印模，其包括圖案化的轉移表面，該圖案化的轉移表面能夠將 印刷材料從所述壓印模轉移到基板上，以在所述基板上建立印刷電路 部件和印刷電路元件，所述印刷電路部件例如為電路走線；用于按照
對應于電路設計的圖案、將紫外線輻射反應材料施加到所述圖案化的
轉移表面上的機構；用于將印刷材料施加到所述圖案化的轉移表面上 作為涂層的機構；光化光源；及用于使用所述壓印模將所述圖案化的 轉移表面上的所述印刷材料轉移到工件上的機構。
本發(fā)明還提供一種使用具有圖案化的轉移表面的壓印模來印刷 具有電性能的圖案的印刷方法。壓印模和圖案化的轉移表面能將印刷材料從壓印模轉移到基板上，以在基板上建立印刷電路部件(如電路 走線)和印刷電路元件。按照對應于電路設計的圖案將紫外線輻射反 應材料施加到所述圖案化的轉移表面上。然后將印刷材料涂在圖案化 的轉移表面上的紫外線輻射反應材料之上。然后使用壓印模將印刷材 料轉移到接受轉移圖案的工件表面上，同時采用光化光來激發(fā)紫外線 輻射反應材料。


通過附圖中所示的例子來說明本文披露的實施方案，但本發(fā)明 并不限于這些附圖。這些附圖并不一定按比例繪制。以下結合附圖對 本發(fā)明進行更為詳細具體地描述和解釋，其中
附圖1A-1D(現(xiàn)有技術)是接觸印刷的側面橫切面示意圖。
附圖2A-2D是運用經(jīng)處理的壓印模進行印刷的側面橫切面示意圖。
附圖3A-3D是運用經(jīng)處理的壓印模及經(jīng)處理的基板進行印刷的
側面橫切面示意圖。
附圖4是有關運用經(jīng)處理的壓印模的印刷工藝的流程示意圖。 附圖5是有關運用經(jīng)處理的壓印模及經(jīng)處理的基板的印刷工藝
的流程示意圖。
具體實施例方式
本發(fā)明涉及具有紫外線輻射反應材料涂層的壓印模結構的構 造，以及在印刷過程中采用壓印模和基板表面上的紫外線輻射反應材 料進行印刷的方法。在此借助附圖來描述本發(fā)明的細節(jié)，從而使人能 夠透徹地了解本文所述的構造，但是本發(fā)明并不限于此。上述技術的 特征、結構、材料和特性可以以任何適當?shù)姆绞皆谝粋€或多個構造中 進行組合。
概要
紫外線輻射或其它光化光照射被應用于涂有紫外線敏感材料涂 層的表面上。該涂層應能實時轉變其化學結構或表面能量，以協(xié)助印刷過程。
本發(fā)明的策略是基于使用能夠對壓印模進行處理的紫外線輻射 反應材料來涂敷壓印模，使得經(jīng)處理的壓印模可更有效地蘸起印刷材 料。印刷時，紫外光燈照射紫外線輻射反應材料，該材料便更改其化 學結構或化學構型，由此產(chǎn)生了與原始狀態(tài)不同的潤濕行為。這種結 構上的更改會使壓印模與印刷材料之間產(chǎn)生較低的黏附力，從而使印 刷材料從壓印模有效地轉移到基板上。
本發(fā)明通過在壓印模上涂上紫外線輻射反應材料而提供了一種 低成本且簡單的印刷解決方案。紫外光燈用于協(xié)助將印刷材料轉移到 壓印模上，以及將其從壓印模上轉移走。印刷外形的高度可以通過蘸 取和轉移的印刷材料量來進行調整，通過紫外線照射而在壓印模上提 供快速的表面化學變化，這會促進印刷材料從壓印模轉移到基板上。 因此，印刷材料的殘留物可以減少，同時避免需要經(jīng)常清洗壓印?；?用新的壓印模替換該壓印模。為了調整壓印模的表面行為以適合不同 的印刷材料，紫外線敏感涂層材料可以根據(jù)不同的材料系統(tǒng)進行配 制。紫外線敏感涂料被施加于壓印模和/或工件上，但是在壓印過程 中暴露于紫外線照射中。
基板就是將要被印刷的工件?；宓姆窍薅ㄐ岳涌梢允怯?于電子封裝中的電路的導電材料、電路中的半導體材料、用于在設備 中構建機械支撐體或結構的聚合物材料、或者可通過印刷而施加的其 它電路設備。
在一些構造中，紫外線敏感材料僅被涂在壓印模的表面上。印 刷材料可以基于它的質量及經(jīng)紫外線輻射照射后的基板粘附力而從 壓印模轉移到基板上。
在一些其它構造中，壓印模與基板這二者涂有不同的紫外線敏 感材料，以進一步提高印刷材料從壓印模轉移到基板上的效率。
在本專利申請中通篇提及的"壓印模"是指這樣的結構，該結 構具有凸起的特征物或者凸出的壓印特征物，其用于蘸取印刷材料， 并且將該印刷材料轉移到基板上。壓印模最好是能讓紫外線輻射透 過。在本專利申請中通篇提及的"印刷材料"是指被轉移到基板上或在基板上形成圖案的材料，所述基板例如為電子封裝體中的電路所用 的導電材料、電路中的半導體材料、用于在設備中構建機械支撐體或 結構的聚合物材料、或者可通過印刷而施加的其它電路設備等。在本 專利申請中通篇提及的"紫外線輻射反應材料"是指在受紫外線輻射 時便更改其狀態(tài)、化學結構、化學構型或消融的材料。在本專利申請 中通篇提及的"基板"是指可供印刷材料印刷的平臺。它可以由任何 金屬、聚合物或復合物組成。 U-V材料
紫外線輻射反應材料(u-v材料)是對紫外線輻射有反應的材 料。其中一個非限制性的紫外線反應材料的示例對波長小于400納 米的光輻射源有反應，這種材料受紫外線輻射后會更改其狀態(tài)、化學 結構、化學構型或消融。作為非限定性的例子，紫外線反應材料可以 是通過釋放自由基而對紫外線能量起反應的材料。自由基滲透到印刷 材料或用于印刷的涂層材料中，在紫外線照射時導致壓印模的表面能 量降低。這種材料可以是受紫外線輻射時釋放自由基的小分子有機材 料，例如過氧化苯甲?；蚺嫉惗‰妗Ｆ渌贤饩€輻射反應材料的 例子為對紫外線敏感的偶氮苯化合物。合適的材料應對紫外線有反 應，并能夠改變其表面能量或形態(tài)，以在印刷時促進材料的轉移?？?以選擇紫外線輻射反應材料使得該材料能夠在壓印模上形成均勻的 結構。通過利用紫外線激發(fā)，壓印模的表面狀態(tài)在施加紫外線能量前 后可以有明顯不同。該激發(fā)的基礎在于控制紫外線的應用。在紫外線 激發(fā)前，壓印模應能夠在蘸取期間有效地蘸起印刷材料；而在紫外線 激發(fā)后，壓印模釋放印刷材料的能力應被增強。因此，在印刷過程中， 紫外線反應材料的激活進一步有利于釋放印刷材料。
印刷材料適合于轉移到基板上或在基板(即，上述的工件)上 形成圖案。印刷材料的選擇應使其不會直接受紫外線輻射影響。因此， 紫外線輻射應只會影響紫外線反應材料，以更改其化學結構或壓印模 的表面能量，而印刷材料則不受紫外線照射影響。紫外線反應材料依 據(jù)印刷材料的化學成分而調配。
施加到壓印模上的u-v材料附圖2A-2D顯示出具有壓印模結構211的印刷構造，該壓印模 結構211包括凸起形狀的結構213或其它圖案化表面。壓印模211 被涂上紫外線輻射反應材料217，以便對基板221進行印刷(附圖 2C和2D)。在這種構造中，壓印模結構211可以由能讓紫外線輻 射透過的任何材料制成，輻射源通常是波長小于400納米的光源。壓 印模結構211的凸起形狀的結構213都具有從亞微米到毫米(約l納 米到1毫米)大小的高度和間距。在非限制性的示例中，壓印模211 可以由玻璃制造；但是其它材料亦可。玻璃應為可讓紫外線透過的玻 璃，以便讓紫外線激發(fā)紫外線輻射反應材料217?；?21是要被印 上印刷材料的平臺。在非限制性的示例中，它可以由任何金屬、聚合 物或復合物制造，如環(huán)氧樹脂、環(huán)氧復合物、聚酰亞胺、其它塑料樹 脂、陶瓷及玻璃。
紫外線輻射反應材料217通常是對波長小于400納米的輻射源 的紫外線輻射有反應的材料。紫外線輻射反應材料217可以由自由 基引發(fā)劑或偶氮苯材料組成，該自由基引發(fā)劑可在紫外線輻射下更改 其狀態(tài)或結構。紫外線輻射反應材料217可以以任何便利的方式施 加，例如施加氣溶膠或浸在如下針對印刷材料225所述的容器或鍋 中。
紫外線輻射反應材料217的一個功能就是其對紫外線輻射起反 應，從而能夠更改壓印模的表面能量。在這方面，紫外線輻射反應材 料217的表面能量在紫外線照射前應介于壓印模與印刷材料的表面 能量之間，在紫外線照射時其表面能量則下降。
自由基指的是在開殼層組態(tài)上擁有不成對電子的原子或分子。 這些不成對電子通常具有高度的活性，所以自由基可參與化學反應。 因此，自由基引發(fā)劑可優(yōu)選作為紫外線輻射反應材料217。紫外線輻 射反應材料217能通過不同的涂布或沉積方法在壓印模211上形成均 勻的結構。紫外線輻射反應材料217應具有更改壓印模211的表面 能的能力。
在附圖2A中，壓印模211首先受壓浸入裝有印刷材料225的容 器227內。壓力應小于壓印模211的屈服點。浸入的時間不限，但可以是少于一分鐘。當壓印模211被提起(附圖2B)時，其蘸有印刷材 料225，然后壓印模211在壓力下被壓印到基板221上，所述壓力應 小于壓印模211的屈服點(附圖2C)。壓印時間不限，但可以是少于 一分鐘。在壓印期間，波長小于400納米的紫外光源在壓印模211 的上方照射并激發(fā)紫外線輻射反應材料217。紫外線輻射反應材料 217的狀態(tài)或結構的變化會導致印刷材料225的潤濕特性發(fā)生變化。 施加紫外線輻射的時間不限，但輻射時間的長度應足以更改紫外線輻 射反應材料217的狀態(tài)或結構。通過更改紫外線輻射反應材料217 的狀態(tài)或結構，壓印模211上的印刷材料225的潤濕性會降低，以幫 助印刷材料225轉移到基板221上。在印刷完畢后，壓印模211被提 起，帶有所需圖案的印刷材料225被轉移到基板221上(附圖2D)。
紫外線輻射反應材料217可以在每個印刷周期之前施加，或者 可重復使用。在非限制性的示例中，紫外線輻射反應材料可重復使用 超過IO個印刷周期。
壓印模及基板上的U-V材料
附圖3A-3D顯示出具有本發(fā)明的壓印模結構311的印刷構造， 該壓印模結構311包括凸起形狀的結構313或其它圖案化的表面。壓 印模311被涂上紫外線輻射反應材料317，而基板321則被涂上另一 種類型的紫外線輻射反應材料323。在這種構造中，壓印模結構311 可以由能讓紫外線輻射透過的任何材料制成，輻射源通常是波長小于 400納米的光源。壓印模結構311的凸起形狀的結構313都有從亞微 米到毫米(約1納米到1毫米)大小的高度和間距。紫外線反應材料 317通常是對波長小于400納米的輻射源的紫外線輻射有反應的材 料。在非限制性的示例中，壓印模311上的紫外線輻射反應材料317 及基板321上的紫外線輻射反應材料323可以由自由基引發(fā)劑或偶 氮苯材料組成，其可在紫外線輻射下更改其狀態(tài)或結構。除了采用了 另一種類型的紫外線輻射反應材料323之外，其它材料和結構都類 似于附圖2A-2D中描述的那些。
紫外線輻射反應材料317能夠通過不同的涂布或沉積方法在壓 印模311上形成均勻的結構。涂布方法的例子包括旋涂法、浸涂法及其它紫外線輻射反應材料沉積方法。紫外線輻射反應材料317和323 應該能夠分別更改壓印模311和基底321的表面能量。
在附圖3A中，壓印模311首先受壓浸入裝有印刷材料325的 容器327中，所述壓力應小于壓印模311的屈服點。浸入的時間不限， 但可以是少于一分鐘。當壓印模311被提起(附圖3B)時，其蘸有印 刷材料325，然后壓印模311在壓力下被壓印到基板321上，所述壓 力應小于壓印模311的屈服點(附圖3C)。壓印時間不限，但可以是 少于一分鐘。在壓印期間，波長小于400納米的紫外光源在壓印模 311的上方照射并激發(fā)壓印模311上的紫外線輻射反應材料317及基 板321上的紫外線輻射反應材料323。紫外線輻射反應材料317和 323的狀態(tài)或結構的變化會導致印刷材料325的潤濕特性發(fā)生變化。 紫外線輻射時間不限，但輻射時間的長度應足以更改紫外線輻射反應 材料317的狀態(tài)或結構。通過更改紫外線輻射反應材料317的狀態(tài)或 結構，壓印模311上的印刷材料325的潤濕性會降低，而印刷材料 325對基板321的潤濕性會增強，以幫助印刷材料325轉移到基板 321上。印刷完畢后，壓印模311被提起，帶有所需圖案的印刷材料 325被轉移到基板321上(附圖3D)。
功能操作
附圖4是有關運用本發(fā)明主題的經(jīng)處理的壓印模進行印刷的流 程示意圖。準備好具有所需尺寸的壓印模(步驟411)。首先將壓印模 浸到光敏材料(例如紫外線輻射反應材料)的,溶液中(步驟413)。將 經(jīng)紫外線輻射反應材料處理的壓印模浸到包含印刷材料的容器內(步 驟419)。這將導致壓印模從該容器中蘸起印刷材料。然后將具有印 刷材料的壓印模壓到基板上(步驟421)。接觸基板時，在壓印模的上 方應用紫外線或其它用于激發(fā)的光源，從而激發(fā)壓印模上的紫外線輻 射反應材料(步驟423)。然后將壓印模與該基板分隔(步驟425)，從 而使得所需的圖案轉移到基板上。
附圖5是有關運用根據(jù)本發(fā)明主題的經(jīng)處理的壓印模及經(jīng)處理 的基板進行印刷的流程示意圖。準備好具有所需尺寸的壓印模(步驟 511)。首先將壓印模浸到光敏材料(例如紫外線輻射反應材料)的溶
14液中(步驟515)。同時基板表面亦用相同或不同的紫外線輻射反應材 料進行處理。然后將經(jīng)紫外線輻射反應材料處理的壓印模浸到包含印
刷材料的容器內(步驟519)。這將導致壓印模從該容器中蘸起印刷材 料。然后將具有印刷材料的壓印模壓在基板上(步驟521)。接觸基板 時，在壓印模的上方應用紫外線或其它用于激發(fā)的光源，從而激發(fā)壓 印模及基板上的紫外線輻射反應材料(步驟523)。然后將壓印模與該 基板分開(步驟525)，從而使得所需的圖案轉移到基板上。 縫
應當理解，在所附權利要求書表達的本發(fā)明的原理和范圍內， 本領域內的技術人員可以對本文中已經(jīng)描述和闡釋以說明本發(fā)明主 題的細節(jié)、材料、步驟和部件的排列進行多種附加的改變。在一個例 子中，壓印模(例如，附圖2中所描述的壓印模211)的具體構造可 以隨特定的制造技術而變化。所述的變化可以包括使用凸出的結構來 替換凸.起形狀的結構，以便在壓印模上產(chǎn)生所需的轉移表面。因此， 應當理解，在所附權利要求書表達的本發(fā)明的原理和范圍內，本領域 內的技術人員可以對本文中已經(jīng)描述和闡釋以說明本發(fā)明主題的細 節(jié)、材料、步驟和部件的排列進行多種附加的改變。
權利要求
1.一種用于印刷具有電性能的圖案的設備，該設備包括壓印模，其包括圖案化的轉移表面，該圖案化的轉移表面能夠將印刷材料從所述壓印模轉移到基板上，以在所述基板上建立印刷電路部件和印刷電路元件，所述印刷電路部件例如為電路走線；用于按照對應于電路設計的圖案、將紫外線輻射反應材料施加到所述圖案化的轉移表面上的機構；用于將印刷材料施加到所述圖案化的轉移表面上作為涂層的機構；光化光源；及用于使用所述壓印模將所述圖案化的轉移表面上的所述印刷材料轉移到工件的工作表面上的機構。
2. 權利要求l所述的設備，其中所述壓印體的至少一部分由能 夠讓紫外線輻射透過的材料制成。
3. 權利要求l所述的設備，其中所述壓印體的至少一部分由能 夠讓輻射波長小于400納米的紫外線輻射透過的材料制成。
4. 權利要求l所述的設備，其中所述圖案化的轉移表面包含高 度在約1納米到1毫米的范圍內、并且間距在約1納米到1毫米的范 圍內的凸起形狀的結構。
5. 權利要求l所述的設備，其中所述紫外線輻射反應材料對波 長小于400納米的紫外線輻射起反應。
6. 權利要求l所述的設備，其中所述紫外線輻射反應材料包含 至少一種自由基引發(fā)劑或偶氮苯材料。
7. 權利要求l所述的設備，其中所述紫外線輻射反應材料能夠 改變所述壓印模的表面能量，所述紫外線輻射反應材料的表面能量在 紫外線照射前應介于所述壓印模與所述印刷材料的表面能量之間，在 紫外線照射時其表面能量則下降。
8. 權利要求l所述的設備，其中所述紫外線輻射反應材料包含 選自過氧化苯甲酰和偶氮二異丁腈中的至少一種自由基引發(fā)劑、或者 包含至少一種偶氮苯材料。
9. 權利要求l所述的設備，其中所述紫外線輻射反應材料在所 述圖案化的轉移表面印刷表面上形成均勻的結構。
10. 權利要求1所述的設備，還包括在將紫外線輻射反應材料施加到所述圖案化的轉移表面上的同時、用于將與之不同的紫外線輻射 反應材料施加到所述工件的工作表面上的機構。
11. 一種方法，包括以下步驟 提供具有圖案化的轉移表面的壓印模； 將紫外線輻射反應材料施加到所述圖案化的轉移表面上； 將印刷材料施加到所述圖案化的轉移表面上； 使用紫外線來激發(fā)所述的紫外線輻射反應材料，從而使所述紫外線輻射反應材料發(fā)生反應，并且使所述印刷材料接觸該反應的副產(chǎn) 物；及將所述壓印模施加到基板的工作表面上，以使所述印刷材料轉 移到基板上。
12. 權利要求11所述的方法，該方法還包括通過將所述壓印 模浸入容納有所述印刷材料的容器中來施加所述印刷材料。
13. 權利要求ll所述的方法，該方法還包括通過將所述壓印模浸入容納有所述紫外線輻射反應材料的容器 中，來施加所述紫外線輻射反應材料；及通過將所述壓印模浸入容納有所述印刷材料的容器中，來施加 所述印刷材料。
14. 權利要求ll所述的方法，該方法還包括透過所述壓印模的 透明部分來施加紫外線輻射。
15. 權利要求ll所述的方法，該方法包括使用壓印模的步驟， 其中所述壓印模包括.-圖案化的轉移表面，其能把印刷材料從所述壓印模轉移到所述 基板上，以在所述基板上建立印刷電路部件和印刷電路元件，所述印 刷電路部件例如為電路走線；及紫外線輻射反應材料，其涂布在所述圖案化的轉移表面上。
16. 權利要求ll所述的方法，該方法還包括將所述壓印模浸入所述印刷材料中，以蘸起所述印刷材料；及 在蘸起所述印刷材料后，進行紫外線激發(fā)。
17. 權利要求ll所述的方法，該方法還包括 將所述壓印模浸入所述印刷材料中，以蘸起所述印刷材料； 將所述印刷材料施加在工件上；及在將所述印刷材料施加到所述工件之前或期間，進行紫外線激發(fā)。
18. 權利要求ll所述的方法，其中在所述印刷材料轉移到所述 基板期間，紫外線激發(fā)使所述紫外線輻射反應材料的狀態(tài)或結構在紫 外線輻射下發(fā)生變化。
19. 權利要求18所述的方法，該方法包括提供對輻射源起反應的材料作為所述的紫外線輻射反應材料； 其中，所述紫外線輻射反應材料具有在波長小于400納米的輻 射源發(fā)出的紫外線輻射下更改其狀態(tài)或結構的性質。
20. 權利要求18所述的方法，其中所述紫外線輻射反應材料包 含至少一種自由基引發(fā)劑或偶氮苯材料。
21. 權利要求18所述的方法，其中所述紫外線輻射反應材料包含至少一種由至少一種小分子有機物質組成的自由基引發(fā)劑、或者包 含至少一種偶氮苯材料。
22. 權利要求18所述的方法，其中所述紫外線輻射反應材料能 夠改變所述壓印模的表面能量，所述紫外線輻射反應材料的表面能量 在紫外線照射前應介于所 述壓印模與所述印刷材料的表面能量之間， 在紫外線照射時其表面能量則下降。
23. 權利要求18所述的方法，其中通過紫外線輻射而激發(fā)所述 紫外線輻射反應材料能夠在基板上形成均勻的結構。
24. 權利要求ll所述的方法，還包括在將紫外線輻射反應材料 施加到所述圖案化的轉移表面上的同時，將與之不同的紫外線輻射反 應材料施加到所述基板的工作表面上。
25. —種通過在基板上印刷導電或半導體材料而形成的電子電 路，其中所述形成步驟包括提供具有圖案化的轉移表面的壓印模； 將紫外線輻射反應材料施加到所述圖案化的轉移表面上； 將印刷材料施加到所述圖案化的轉移表面上； 使用紫外線激發(fā)所述紫外線輻射反應材料，使得所述紫外線輻 射反應材料發(fā)生反應，并且使得所述印刷材料接觸該反應的副產(chǎn)物；及將所述壓印模施加到基板的工作表面上，以將所述印刷材料轉 移到基板上。
全文摘要
本發(fā)明涉及采用涂有紫外線輻射反應材料的結構進行印刷的方法。通過將紫外線輻射反應材料施加到印刷用的圖案化的轉移表面上，使得所述圖案化的轉移表面的潤濕性和印刷轉移性得到增強。在將印刷材料轉移到基板的過程中，紫外線激發(fā)所述紫外線輻射反應材料。該技術能夠增加印刷精度，并且可用于將印刷材料轉移到基板上，以在印刷基板上建立印刷電路部件(如電路走線)和印刷電路元件。在一個特定的構造中，紫外線輻射反應材料可以由自由基引發(fā)劑或偶氮苯材料組成。
文檔編號G03F7/004GK101598896SQ20091014230
公開日2009年12月9日 申請日期2009年5月27日 優(yōu)先權日2008年5月27日
發(fā)明者誠 楊, 袁銘輝, 陳景朗 申請人:香港科技大學