專利名稱：一種基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種新穎的二維電光開關(guān)陣列結(jié)構(gòu)及其工作原理，屬于光通信的技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)：
光開關(guān)是光交換的核心器件，也是影響光網(wǎng)絡(luò)性能的主要因素之一。光開關(guān)作為新一代全光聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)的關(guān)鍵器件，主要用來實(shí)現(xiàn)光層面上的路由選擇、波長(zhǎng)選擇、光交叉連 接和自愈保護(hù)等功能。在全光網(wǎng)中，光分插復(fù)用器件(OADM)和光交叉連接(OXC)是不可缺少的網(wǎng)絡(luò)節(jié)點(diǎn)設(shè)備，而光開關(guān)和光開關(guān)陣列則是這些設(shè)備中的核心器件。隨著對(duì)器件材料、 器件工作原理、加工工藝等多方面認(rèn)識(shí)和研究的不斷進(jìn)展，光開關(guān)與光開關(guān)列陣的類型也 呈現(xiàn)出多元化發(fā)展趨勢(shì)。就目前的光開關(guān)發(fā)展現(xiàn)狀而言，按照光束在開關(guān)中傳輸?shù)拿劫|(zhì)來 分類，可分為自由空間型和波導(dǎo)型光開關(guān)。按照開關(guān)機(jī)理來分類，主要有機(jī)械光開關(guān)、熱光 開關(guān)和電光開關(guān)。在機(jī)械光開關(guān)中，包括以新型的微機(jī)械工藝為基礎(chǔ)的微機(jī)械光開關(guān)，自由 空間型光開關(guān)主要是利用各種透射鏡、反射鏡和棱鏡等折射鏡的移動(dòng)或旋轉(zhuǎn)來進(jìn)行開關(guān)動(dòng) 作。波導(dǎo)型光開關(guān)主要是利用波導(dǎo)的熱光、電光或磁光的效應(yīng)來改變波導(dǎo)的性質(zhì)，從而實(shí)現(xiàn) 開關(guān)動(dòng)作。光開關(guān)的性能主要表現(xiàn)在開關(guān)的插損、隔離度、消光比、偏振敏感性、開關(guān)時(shí)間、開關(guān)規(guī)模和開關(guān)尺寸等。光交叉連接和光交換對(duì)開關(guān)的要求主要有低插損(IOdb以下)、低 串?dāng)_(_50db以下)、低開關(guān)時(shí)間(幾個(gè)ms以下)以及無阻塞運(yùn)作。機(jī)械開關(guān)在插損、隔離 度、消光比和偏振敏感性方面都有很好的性能。但它的開關(guān)尺寸比較大，開關(guān)動(dòng)作時(shí)間比較 長(zhǎng)，一般為幾十毫秒到毫秒量級(jí)，而且機(jī)械開關(guān)不易集成為大規(guī)模的矩陣陣列，而且價(jià)格昂 貴。對(duì)波導(dǎo)開關(guān)而言，它的開關(guān)速度在毫秒到亞毫秒量級(jí)，體積非常小，而且易于集成為大 規(guī)模的矩陣開關(guān)陣列。但其插損、隔離度、消光比、偏振敏感性等指標(biāo)都比較差。同時(shí)，光開關(guān)器件是技術(shù)含量較高的光無源器件，需要的與之相應(yīng)的制作材料和加工工藝的要求較高。近年來，隨著FTTH技術(shù)的成熟和全光網(wǎng)的興起迫切需要大量性能優(yōu) 良、價(jià)格合理的光開關(guān)、光開關(guān)和交換矩陣，但真正能夠商用化的光開關(guān)產(chǎn)品只有傳統(tǒng)的機(jī) 械式光開關(guān)以及以機(jī)械工藝為基礎(chǔ)的微機(jī)械(MEMS)開關(guān)。而基于電潤(rùn)濕效應(yīng)的電控流體棱鏡具有高的切換速度( ms)、無偏振化影響、良 好的操控性和適應(yīng)性，作為取代光學(xué)元件可應(yīng)用于光開關(guān)和光互連、三維光存儲(chǔ)、光掃描、 光學(xué)雷達(dá)等系統(tǒng)。現(xiàn)有的電潤(rùn)濕效應(yīng)研究和應(yīng)用集中于液體透鏡變焦成像技術(shù)，比較典型 的如荷蘭Philips公司發(fā)布的FluidFocus和法國(guó)Varioptic公司發(fā)布的小型液體變焦透 鏡，這些透鏡的變焦是利用電控方法通過改變液體的界面曲率進(jìn)而調(diào)節(jié)焦距。這種技術(shù)采 用了流動(dòng)的液體作為變焦的透鏡組件，相對(duì)目前的機(jī)械變焦方式將有很多的優(yōu)勢(shì)之處。但 現(xiàn)有的研究和應(yīng)用集中于透鏡變焦成像技術(shù)，對(duì)于應(yīng)用于光通信領(lǐng)域的連接器件涉及很 少?，F(xiàn)有的專利如ZL01132933. 5公開的一種光開關(guān)，包括基板、矩陣形式排列的波導(dǎo)、每個(gè)交叉點(diǎn)均為盛有液體的容器，每個(gè)容器均有相對(duì)應(yīng)的激光器以選擇性加熱液體的 激光加熱裝置。這些裝置一方面在基板上同時(shí)安裝波導(dǎo)、加熱器或激光器和容器就要求非 常精確和復(fù)雜繁瑣的加工工藝，體積也不??；另一方面集成度也不高，相應(yīng)速度較慢，功耗 也不小。本專利將電濕效應(yīng)技術(shù)與現(xiàn)代光通信技術(shù)相結(jié)合，設(shè)計(jì)了一種新穎的電控調(diào)諧的 光開關(guān)陣列裝置，由于未使用電機(jī)等復(fù)雜器件使得制作成本、生產(chǎn)工藝大大降低，具有重要 的技術(shù)價(jià)值和經(jīng)濟(jì)價(jià)值，將會(huì)在光通信領(lǐng)域得到廣泛的應(yīng)用。

發(fā)明內(nèi)容
技術(shù)問題本發(fā)明的目的在于提出一種基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置 結(jié)構(gòu)，解決光開關(guān)陣列的電控調(diào)諧問題。技術(shù)方案本發(fā)明的基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置采用儲(chǔ)氣層+波導(dǎo) 層+儲(chǔ)液層的結(jié)構(gòu)；其中，波導(dǎo)層以平板基底為載體，在平板基底上設(shè)有矩陣形式排列的波 導(dǎo)結(jié)構(gòu)，波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處設(shè)有液腔槽，基底邊緣留有氣液連接通道，電控光開關(guān)單元陣列放 置于波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)液腔槽處；儲(chǔ)氣層為儲(chǔ)存氣體的密封容器，容器邊緣留有氣壓調(diào)節(jié)控制 孔，底部有氣液連接開孔貫穿波導(dǎo)層與儲(chǔ)液層相通，容器上面設(shè)有與波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)一致的 電極開孔便于露出光開關(guān)控制單元電極；儲(chǔ)液層為上端開口的儲(chǔ)存液體的容器，通過與波 導(dǎo)層結(jié)合而密封，其內(nèi)儲(chǔ)存導(dǎo)電液體。所述的波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處液腔槽設(shè)有光開關(guān)控制單元，控制單元為一端封閉另一端 開口的長(zhǎng)方體狀或其他形狀微小容器，容器壁使用與波導(dǎo)材料折射率相同或相近的材料制 作，其內(nèi)側(cè)部分除面對(duì)入射光的一側(cè)外或全部設(shè)有透明導(dǎo)電層和相應(yīng)的絕緣層，與液體接 觸的內(nèi)側(cè)設(shè)有疏水層，微容器上開孔使用導(dǎo)電膜層使之成為密封氣室，導(dǎo)電膜層作為第一 電極并通過儲(chǔ)氣層上端電極開孔與外部電路相連，第二電極為導(dǎo)電液體；控制單元下部開 口延伸入儲(chǔ)液層并與液體直接接觸，導(dǎo)電液體進(jìn)入控制單元微容器內(nèi)部，并在微容器內(nèi)表 面張力和密封氣壓共同作用下保持一定的液柱高度；調(diào)整儲(chǔ)氣層氣體氣壓，使得所述微容 器內(nèi)氣壓與表面張力相互作用時(shí)，其內(nèi)液柱高度被鎖定在波導(dǎo)層上表面，通過電濕效應(yīng)改 變微容器內(nèi)部表面張力以調(diào)整液柱高度，實(shí)現(xiàn)光束的全反射與全透射，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)光的“開” 和“關(guān)”動(dòng)作?？刂茊卧獌?nèi)導(dǎo)電液體的上部還設(shè)有一層厚度與波導(dǎo)層相近的、與導(dǎo)電液體互不相 溶的匹配液。有益效果根據(jù)以上敘述可知，本發(fā)明具有如下特點(diǎn)本發(fā)明將微流控技術(shù)與現(xiàn)代光通信技術(shù)相結(jié)合，設(shè)計(jì)了一種新穎的二維電控的光 開關(guān)陣列裝置，具有非常重要的技術(shù)價(jià)值。本發(fā)明設(shè)計(jì)的光開關(guān)器件具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、容易制 作、成本低廉等優(yōu)點(diǎn)。創(chuàng)新之處在于1)將微流控技術(shù)應(yīng)用于光通信之中，實(shí)現(xiàn)了光開關(guān)陣列器件的電控。這種新穎的 光開關(guān)陣列裝置器件將會(huì)在光通信領(lǐng)域中得到廣泛的應(yīng)用。2)在液體表面張力與氣壓相互作用過程中控制微容器內(nèi)液柱高度，利用電濕效應(yīng) 改變表面張力從而液氣達(dá)到新的平衡而改變微容器內(nèi)液柱高度，進(jìn)而控制光的反射和透射性能。3)利用電控液體高度可方便地構(gòu)造大規(guī)模MXN光開關(guān)。4)基于微流控技術(shù)的光開關(guān)技術(shù)由于是利用氣壓和電容效應(yīng)控制液體運(yùn)動(dòng)，所以能耗極低，響應(yīng)速度較快。5)無波長(zhǎng)選擇和偏振敏感性。


圖1是NXN 二維電光開關(guān)陣列結(jié)構(gòu)說明圖。圖2是光開關(guān)控制單元(微小容器)組成示意圖。圖3是光開關(guān)控制單元(微小容器)組成放大示意圖。圖4是電控光開關(guān)單元陣列11工作時(shí)液體位置示意圖。圖5是用于本發(fā)明光開關(guān)陣列工作平視圖。圖中控制單元液面位置較高時(shí)(圖中 用點(diǎn)填充)光從交叉點(diǎn)透射而過，液面較低時(shí)(圖中無點(diǎn)填充)光從交叉點(diǎn)全反射通過。圖6是用于本發(fā)明光開關(guān)陣列工作平視細(xì)節(jié)放大圖。圖7是本發(fā)明裝置剖視圖。圖8是電光開關(guān)陣列結(jié)構(gòu)導(dǎo)光說明圖。圖中有儲(chǔ)氣層1、光波導(dǎo)層2、儲(chǔ)液層3、氣壓調(diào)節(jié)控制孔4、氣液連接開孔5、光開關(guān) 控制單元電極開孔6、波導(dǎo)層的平板基底7、矩陣形式排列波導(dǎo)結(jié)構(gòu)8、波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處液腔 槽9、氣液連接通道10、電控光開關(guān)單元陣列11 ；儲(chǔ)液層內(nèi)導(dǎo)電液體12、控制單元13、容器 壁14、透明導(dǎo)電層15、相應(yīng)的絕緣層16、疏水層17、導(dǎo)電膜層18、密封氣體19、匹配液20。
具體實(shí)施例方式基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置的內(nèi)芯(波導(dǎo)層)位于儲(chǔ)氣層和儲(chǔ)液層 之間，形成具有氣液共同作用開關(guān)矩陣的三明治夾心結(jié)構(gòu)。波導(dǎo)層包括平板基底，基底上設(shè) 有矩陣形式排列波導(dǎo)結(jié)構(gòu)，波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處排布有液腔槽，基底邊緣留有氣液連接通道，電 控光開關(guān)單元陣列放置于波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處液腔槽；儲(chǔ)氣層為儲(chǔ)存氣體的密封容器，容器上 面設(shè)有與波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)一致的電極開孔便于露出光開關(guān)控制單元頂部導(dǎo)電膜層，容器邊緣 留有氣壓調(diào)節(jié)孔、底部有氣液連接開孔貫穿波導(dǎo)層與儲(chǔ)液層相通；儲(chǔ)液層為上端開口的儲(chǔ) 存液體的容器，通過與波導(dǎo)層結(jié)合而密封，其內(nèi)儲(chǔ)存導(dǎo)電液體。上述的波導(dǎo)層節(jié)點(diǎn)處液腔槽設(shè)有的光開關(guān)控制單元為一端封閉另一端開口的長(zhǎng) 方體狀或其他形狀微小容器(液腔)，容器壁使用與波導(dǎo)材料折射率相同或相近的材料制 作，其內(nèi)側(cè)部分除面對(duì)入射光的一層外或全部設(shè)有透明導(dǎo)電層和相應(yīng)的絕緣層，與液體接 觸的內(nèi)側(cè)設(shè)有疏水層，控制單元上開孔使用導(dǎo)電膜層密封使之成為氣室，導(dǎo)電膜層作為電 極a并通過儲(chǔ)氣層上端電極開孔與外部電路相連，另一電極b為導(dǎo)電液體?？刂茊卧虏?開口延伸入儲(chǔ)液層，導(dǎo)電液體進(jìn)入控制單元微容器內(nèi)部，并在微容器內(nèi)表面張力和密封氣 壓共同作用下保持一定的液柱高度，液柱上部還設(shè)有一層厚度與波導(dǎo)層相近的、與導(dǎo)電液 體互不相溶的折射率匹配液。通過儲(chǔ)氣容器氣壓調(diào)整控制孔調(diào)整其內(nèi)氣壓使液柱上部匹配液高度與波導(dǎo)層一 致，讓波導(dǎo)內(nèi)光束能全部透射通過交叉點(diǎn)；當(dāng)在電極a和b之間施加電壓，通過電濕效應(yīng)改變微容器內(nèi)部表面張力以降低液柱高度，原匹配液高度處被氣體填充，當(dāng)光束從波導(dǎo)內(nèi)進(jìn) 入交叉點(diǎn)處控制單元微容器時(shí)，光從光密介質(zhì)進(jìn)入光疏介質(zhì)，入射角滿足全反射條件時(shí)，光 束能全部反射通過交叉點(diǎn)。從而實(shí)現(xiàn)光束的全反射與全透射，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)光的“開”和“關(guān)”動(dòng)作。具體計(jì)算過程如下設(shè)儲(chǔ)氣容器內(nèi)氣壓為Ptl，密封控制單元微容器可看做毛細(xì)管，重力影響不計(jì)，微容 器內(nèi)氣壓為P1，微容器橫截面積為S，固液間表面張力為Ya;在電極a和b施加電壓V后固
液間表面張力變?yōu)閊^，則<formula>formula see original document page 6</formula>，\為絕緣層介電系數(shù)，d為絕緣層
厚度，單元微容器內(nèi)氣壓為 P2。則 P1S = P0S+ y SL, P2S = P0S + Yslv = P0S + Ysl - ^，F(xiàn)2，由
等溫過程，P1V1 = P2V2，即P1Sh1 = P2Sh2Qll和h2分別為加電壓前后液柱的高度)，所以，<formula>formula see original document page 6</formula>，由此可以計(jì)算出液柱位置變化 Ah =
h2-h10由此，<formula>formula see original document page 6</formula>如果h2數(shù)量級(jí)取匪，d數(shù)量級(jí)取μ m，P。數(shù)量級(jí)取105，S數(shù)
量級(jí)取mm2，則要使Δ h達(dá)到10 μ m量級(jí)(即波導(dǎo)層厚度)，電壓V只需取到30V，進(jìn)一步優(yōu) 化以上參數(shù)可使控制電壓更低。關(guān)于全反射角的計(jì)算如下取微容器器壁折射率為1.45，則其全反射臨界角為
<formula>formula see original document page 6</formula>，微容器單元迎著入射光的一面只要與入射光方向夾45° \njU-45；
即可滿足全反要求。具體實(shí)施例1 波導(dǎo)層制作，采用的BK7光學(xué)玻璃作為波導(dǎo)基底，因其內(nèi)部雜質(zhì)和缺陷都很少，而 且內(nèi)部缺陷尺寸與光波長(zhǎng)相比也很小，所以吸收損耗和散射損耗比較低。矩陣形式排列的 波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的制備方法是通過常規(guī)鍍膜，光刻工藝和Ag+-Na+和K+-Na+離子交換技術(shù)。在波 導(dǎo)節(jié)點(diǎn)處用超聲法制作與開關(guān)單元微容器尺寸一致的液腔槽，并在基板方便處制作氣液連 接孔。選定與波導(dǎo)折射率一樣的玻璃材料制作開關(guān)單元微容器，在其內(nèi)側(cè)除面對(duì)入射光的 一側(cè)外濺射一層透明的ITO導(dǎo)電層。導(dǎo)電層外的絕緣層采用真空鍍膜法生成3微米厚的派 瑞林。疏水層采用聚四氟乙烯聚合物材料(英文縮寫為PTFE，商標(biāo)名特富龍 ，Teflon(MF) 涂層來實(shí)現(xiàn)。以上物質(zhì)均為透光率很高的物質(zhì)。微容器密封導(dǎo)電膜層可以采用金屬片制作， 使用導(dǎo)電膠與微容器粘合，為保證導(dǎo)電性能，在金屬片外鍍上金或鉬。儲(chǔ)液層使用一般的能 耐導(dǎo)電溶液腐蝕的容器即可，導(dǎo)電液體使用鹽溶液，但在低溫使用時(shí)可能會(huì)有冰凍問題。可 以用高濃度的鹽溶液來降低冰點(diǎn)。為了保持鹽水的低密度和折射率，采用低原子量的鹽氯 化鋰。20%濃度的氯化鋰導(dǎo)致冰點(diǎn)低于-40°C，密度P為1. 12kg/m3，折射率為1.38。匹配 液選擇一種和波導(dǎo)層折射率一致、與導(dǎo)電液體互不相溶的折射率匹配油即可。為防止溫度 對(duì)該裝置的影響，可設(shè)置匹配液的厚度比波導(dǎo)層稍大一些。儲(chǔ)氣容器選擇能耐一定氣壓，又 便于打孔加工的材料制作，氣體無其他特殊要求。具體實(shí)施時(shí)，如圖6和7所示，通過儲(chǔ)氣容器氣壓調(diào)整控制孔增加或減少其內(nèi)部氣壓使開關(guān)單元內(nèi)部液柱運(yùn)動(dòng)，調(diào)整匹配液高度與波導(dǎo)層一致，這樣能讓波導(dǎo)內(nèi)光束能全部 透射通過交叉點(diǎn)；當(dāng)在電極a和b之間施加電壓，通過電濕效應(yīng)改變微容器內(nèi)部表面張力 以降低液柱高度，原匹配液位置處被氣體填充，當(dāng)光束從波導(dǎo)內(nèi)進(jìn)入交叉點(diǎn)處控制單元微 容器時(shí)，光從光密介質(zhì)進(jìn)入光疏介質(zhì)，入射角滿足全反射條件時(shí)，光束能全部反射通過交叉 點(diǎn)。從而實(shí)現(xiàn)光束的全反射與全透射，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)光的“開”和“關(guān)”動(dòng)作。具體實(shí)施例2
波導(dǎo)層采用的單晶硅作為波導(dǎo)基底，在波導(dǎo)位置刻上微型溝渠，每條溝渠內(nèi)放置 一段圓柱形透鏡，其中心軸線處于同一水平面，相互之間平行排布或垂直走向。光開關(guān)單元 周圍四段圓柱形透鏡的中軸延長(zhǎng)線交于光開關(guān)單元表面上一點(diǎn)。硅油作為器件的折射率匹 配液，當(dāng)中還摻雜了一些醚類試劑，直至折射率和開關(guān)單元微容器器壁折射率相同。
權(quán)利要求
一種基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置，其特征在于該裝置采用儲(chǔ)氣層+波導(dǎo)層+儲(chǔ)液層的結(jié)構(gòu)；其中，波導(dǎo)層以平板基底(7)為載體，在平板基底(7)上設(shè)有矩陣形式排列的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)(8)，波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處設(shè)有液腔槽(9)，基底邊緣留有氣液連接通道(10)，電控光開關(guān)單元陣列(11)放置于波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)液腔槽(9)處；儲(chǔ)氣層為儲(chǔ)存氣體的密封容器(1)，容器(1)邊緣留有氣壓調(diào)節(jié)控制孔(4)，底部有氣液連接開孔(5)貫穿波導(dǎo)層與儲(chǔ)液層相通，容器上面設(shè)有與波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)一致的電極開孔(6)便于露出光開關(guān)控制單元電極(18)；儲(chǔ)液層為上端開口的儲(chǔ)存液體的容器，通過與波導(dǎo)層結(jié)合而密封，其內(nèi)儲(chǔ)存導(dǎo)電液體(12)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置，其特征在于 所述的波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處液腔槽(9)設(shè)有光開關(guān)控制單元(13)，控制單元(13)為一端封閉另 一端開口的長(zhǎng)方體狀或其他形狀微小容器，容器壁(14)使用與波導(dǎo)材料折射率相同或相 近的材料制作，其內(nèi)側(cè)部分除面對(duì)入射光的一側(cè)外或全部設(shè)有透明導(dǎo)電層(15)和相應(yīng)的 絕緣層(16)，與液體接觸的內(nèi)側(cè)設(shè)有疏水層(17)，微容器上開孔使用導(dǎo)電膜層(18)使之成 為密封氣室(19)，導(dǎo)電膜層(18)作為第一電極并通過儲(chǔ)氣層上端電極開孔與外部電路相 連，第二電極為導(dǎo)電液體(12)；控制單元下部開口延伸入儲(chǔ)液層并與液體直接接觸，導(dǎo)電 液體進(jìn)入控制單元微容器內(nèi)部，并在微容器內(nèi)表面張力和密封氣壓共同作用下保持一定的 液柱高度。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置，其特征 在于控制單元(13)內(nèi)導(dǎo)電液體的上部還設(shè)有一層厚度與波導(dǎo)層相近的、與導(dǎo)電液體互不 相溶的匹配液(20)。
全文摘要
基于微流控技術(shù)的二維電光開關(guān)陣列裝置采用“儲(chǔ)氣層+波導(dǎo)層+儲(chǔ)液層”結(jié)構(gòu)。其中，波導(dǎo)層包括平板基底(7)、基底上設(shè)有矩陣形式排列的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)(8)、波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)處設(shè)有液腔槽(9)、基底邊緣留有氣液連接通道(10)、電控光開關(guān)單元陣列(11)放置于波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)液腔槽(9)處；儲(chǔ)氣層為儲(chǔ)存氣體的密封容器(1)，容器邊緣留有氣壓調(diào)節(jié)控制孔(4)、底部有氣液連接開孔(5)貫穿波導(dǎo)層與儲(chǔ)液層相通，容器上面設(shè)有與波導(dǎo)交叉節(jié)點(diǎn)一致的電極開孔(6)便于露出光開關(guān)控制單元電極(18)；儲(chǔ)液層為上端開口的儲(chǔ)存液體的容器，通過與波導(dǎo)層結(jié)合而密封，通過電濕效應(yīng)改變微容器內(nèi)部表面張力以調(diào)整液柱高度，實(shí)現(xiàn)光束的全反射與全透射，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)光的“開”和“關(guān)”動(dòng)作。
文檔編號(hào)G02B6/35GK101799573SQ200910145198
公開日2010年8月11日 申請(qǐng)日期2009年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2009年10月13日
發(fā)明者徐寧, 梁忠誠(chéng), 江博, 陳陶 申請(qǐng)人:南京郵電大學(xué)