專利名稱：一種正向投影屏及其制造方法
技術領域：
本發(fā)明涉及正向投影屏及其制造方法，尤其涉及強環(huán)境光條件下實現(xiàn)高亮度和高 對比度的正向投影屏及其制造方法。
背景技術：
正向投影能夠從很小的投影儀圖像獲得所需的大屏幕圖像，原則上投影出的圖像 大小不受限制。然而隨著投影圖像的增大，來自投影儀的光能量被分散到與尺寸成平方關 系增大的面積中，造成圖像亮度急劇下降。另外，由于環(huán)境光的影響，圖像的對比度也會大 大降低。單純增加投影儀的光能量輸出，可以改善投影圖像的亮度，但會要求投影燈的功 率輸出增大，隨之帶來散熱問題及投影燈的壽命問題，投影儀的體積和電功率消耗也會增 加。提高投影儀的光能量輸出也不能有效解決強環(huán)境光對投影圖像的對比度影響問題。如圖1所示，普通的白屏幕(101)基于朗伯散射，將來自投影儀(102)的光能量 分散到屏幕前半球的所有方向，其中許多是不需要的，如朝上方向(103)、朝下方向(104)、 朝左方向(105)、朝右方向(106)，而有用的方向只在屏幕前方觀眾眼睛(107)所在的一條 觀察帶(108)內(nèi)(相對于屏幕角度而言，上下約30度，水平約100度一依應用環(huán)境而不 同)，所述的觀察帶的水平寬度(109)大于垂直寬度(110)。從投影屏的光學性能著手是解決正向投影屏亮度和對比度的一條捷徑，現(xiàn)有技術 采用多種方案達到改善屏幕亮度和對比度的目的。很常見的是玻璃微珠屏，在屏幕上分散 了大量微小的具有溯源反射性能的玻璃微珠，這些玻璃微珠將投影光反射回投影儀方向， 大大增加了投影圖像亮度。但這種屏幕有其局限性，如果投影儀偏離觀眾所在方向(如上 掛式或地落式的情形)，觀眾看到的屏幕亮度會大大降低。另外，玻璃微珠反射的發(fā)散角為 圓形，與前述之水平帶有較大差距，故不能充分利用光能。此外，玻璃微珠之間的間隙仍舊 具有朗伯散射的特征，不能充分抑制環(huán)境光的影響(降低屏幕的對比度)。美國專利發(fā)明6842282B2采用了玻璃微珠(201)與光柵(202)結(jié)合的結(jié)構(gòu)，利用 了微珠屏溯源反射的特征，并用光柵的涂黑側(cè)壁(203)吸收了部分環(huán)境光，提高了投影圖 像的對比度。然而，微珠屏固有的局限性使得這種屏仍然不能解決投影儀和觀眾不在同一 方向時亮度下降的問題。如果觀察者(205)偏離溯源反射光線(204)的方向，其觀察到的 屏幕亮度大大降低。圖3是中國專利(申請?zhí)?5105808)采用二維反射微透鏡陣列(301)所發(fā)明的 一種投影屏，可實現(xiàn)如前所述的帶狀反射，即在水平和垂直方向具有不同的發(fā)散角(α和 β )，此特征是反射微透鏡單元(302)在水平和垂直方向的光焦度不同形成的；另外，反射 微透鏡單元的低散射特性使得環(huán)境光不能散射，并偏離水平觀察帶，減少了環(huán)境光造成的 對比度損失。然而該種屏幕有一個局限性，那就是屏幕上各處反射出的觀察帶并不重合， 這是由于來自投影儀的投影光到達屏幕上各點的角度不同造成的。如圖3b中來自投影儀 (309)的光線到達屏幕(303)中間處，經(jīng)微透鏡單元(304)反射后形成一觀察帶(306)；而投影到屏幕左下方處的光線，經(jīng)微透鏡單元(305)反射后形成另一觀察帶(307)，只有在兩 個帶交叉處(308)才能同時看到微透鏡單元(304)和(305)處的圖像。如需看到屏幕的整 體圖像，觀察者需處在屏幕所有各點反射形成的所有觀察帶交疊處，由于屏幕上各點反射 形成的觀察帶中間位置都有不同，交疊面積會遠小于每個透鏡所生成的觀察帶面積，限制 了觀察者的視場范圍。由于微透鏡陣列反射屏具有較高的屏幕增益，在制造方法上，有許多現(xiàn)有技術致 力于制造出此種屏幕。美國專利US7239445B2發(fā)明了一種使用變形板來制造微透鏡陣列反射屏的技術， 如圖4所示，預先成型的具有許多尖緣的刀具模(401)用于支撐可變形板(402)，當適當?shù)?外力施加于可變形板(402)上時，可變形板依據(jù)刀具模的形狀變形，形成透鏡列陣的弧面。 可變形板預先作過拋光處理，因此由此方法制造出的微透鏡陣列反射屏具有光學表面，背 景光的散射和影響被有效抑制。此項技術對于制造透鏡單元相同的屏幕是合適的，然而，由 于刀具模(401)制作的復雜度，對于制造每個反射單元都不同的反射屏將極為困難。熱熔法也是一種制造微透鏡列陣的常用技術，首先在光刻材料表面用光刻的方法 形成所需的預形狀，再使用加溫熔融形成透鏡形狀。如美國專利US5718830提供了一種在 有機玻璃上形成微透鏡列陣的方法。這種方法的缺點是制作的透鏡之間有盲區(qū)，會成為朗 伯散射的區(qū)域，因而投影圖像的對比度會受環(huán)境光的影響而降低。另外，這種方法也不能制 造透鏡單元各不相同的列陣，也不能制造在兩個方向具有不同光焦度的透鏡及列陣。用連續(xù)光刻方法也可在光敏材料表面產(chǎn)生所需的微透鏡列陣。有兩種常見的光敏 材料，如大規(guī)模集成電路中的正性和負性光刻膠。對于正性光刻膠，感光使得高分子之間的 交聯(lián)化學鍵打開，易于顯影劑的刻蝕，曝光量愈大，刻蝕速度愈快，刻蝕深度愈深；反之，曝 光量愈小，刻蝕速度愈慢，刻蝕深度愈淺。對于負性光刻膠，正好相反，感光使得高分子交 聯(lián)，不利于顯影劑的進一步刻蝕，曝光量愈大，刻蝕速度愈慢，刻蝕深度愈淺；曝光量愈小， 刻蝕速度愈快，刻蝕深度愈深。因此，只要在光刻材料表面各點獲得不同的曝光量，通過濕 法刻蝕后即可獲得與曝光分布相對應的浮雕深度分布。在現(xiàn)有技術中有多種方法可以在光刻膠上各點獲得所需要的曝光分布，如激 光逐點掃描曝光，通過控制各點的曝光時間或光強來獲得所需的曝光量，如美國專利 US6410213B1所提供的方法。也可以用灰度掩模的方法，首先制作一個具有所需透過率分布 的灰度光掩模版，將光掩模版與光刻膠版緊密接觸，均勻光束透過所述的光掩模模版對光 刻膠版上的光刻材料曝光。如美國專利US5285517及美國專利US6524756B1采用高能電子 束敏感玻璃制作灰度光掩模版。但現(xiàn)有技術對設備的復雜程度要求很高，且所曝光的面積 受限。如高能電子束敏感玻璃技術所能曝光的最大尺寸為5英寸X5英寸左右。未見有用 現(xiàn)有技術制作本發(fā)明提供正向反射屏的報道。

發(fā)明內(nèi)容
基于以上背景，本發(fā)明提供一種正向投影屏幕，尤其提供一種具有高增益，高對比 度，對環(huán)境光不敏感的正向投影屏幕，所述屏幕還具有高均勻性，無眩光，無莫爾條紋，超 薄，高色彩飽和度特征。本發(fā)明還提供了采用光刻技術制造所述屏幕的方法，尤其提供了一 種利用二元圖案在光敏材料上掃描曝光，通過濕法刻蝕在光敏材料表面形成大面積微浮雕結(jié)構(gòu)的方法，尤其是大面積非球面微透鏡列陣的方法。本發(fā)明提供的投影屏，由非球面微透鏡列陣組成，所有光學功能由非球面微透鏡 列陣實現(xiàn)，所述的非球面微透鏡列陣由許多(可多至幾百萬到幾千萬個)非球面微透鏡單 元組成，每個非球面微透鏡單元在一個方向(如水平方向)上有較大的光焦度，在另外一個 方向上(如垂直方向)有較小的光焦度。眾所周知，光焦度是焦距的倒數(shù)，光焦度越大，焦 距越短，光線越發(fā)散；反之，光焦度越小，焦距越長，光線越集中。兩個方向不同的光焦度形 成了帶狀反射，最大程度地利用了光能量。且每個透鏡單元的光軸有不同幅度的傾斜，使反 射形成的觀察帶重合，消除了由觀察帶不重合帶來的視場狹小問題。圖5是本發(fā)明提供的一種投影屏的示意圖，由非球面微透鏡列陣(501)組成，包含 有許多凹面微透鏡單元。在一個方向上，微透鏡列陣(502)具有較大的光焦度，對應可得到 較大的觀察帶水平寬度(圖1，109)；在與之垂直的方向上，微透鏡列陣(503)具有較小的 光焦度，對應可得到較小的觀察帶垂直寬度(圖1，110)。圖5b是非球面微透鏡列陣(501) 一個方向上的剖面圖，具有較大的光焦度。透鏡(504) (505) (506)位置不同，其光軸的傾斜 也不同。圖5c是非球面微透鏡列陣(501)在另一垂直方向上的剖面圖，光焦度比圖5b所 示要小，透鏡(507) (508) (509)位置不同，其光軸的傾斜也不同。為了說明和示例方便，圖 5所示的透鏡列陣只包含了較少數(shù)目的透鏡單元，實際透鏡數(shù)目要大得多。圖6a表述了本發(fā)明提供的一個非球面微透鏡單元在水平方向上反射投影儀光線 的情況。該微透鏡(602)在水平方向上有較大的光焦度，即可獲得較短的焦距(608)。投 影儀(601)發(fā)出的光線(604)到達所述微透鏡后反射，形成的反射光線(605)到達水平觀 察帶(603)的一端；投影儀(601)發(fā)出的光線(606)到達微透鏡后反射，形成的反射光線 (607)到達水平觀察帶(603)的另一端；投影儀發(fā)出的介于光線(606)和(607)的光線經(jīng) 微透鏡反射后，均勻分布在所述水平觀察帶(603)上，保證了觀察帶內(nèi)觀眾所看到的微透 鏡反射的光在水平方向上是均勻的；圖6b表述了本發(fā)明提供的一個非球面微透鏡單元在垂直方向上反射投影儀光線 的情況。該微透鏡(609)在垂直方向上有較小的光焦度，即可獲得較長的焦距(615)。投 影儀(601)發(fā)出的光線(611)到達微透鏡后反射，形成的反射光線(612)到達垂直觀察帶 (610)的一端；投影儀發(fā)出的光線(613)到達微透鏡后反射，形成的反射光線(614)到達垂 直觀察帶的另一端；投影儀發(fā)出的介于光線(611)和(613)的光線經(jīng)微透鏡反射后，均勻分 布在垂直觀察帶(610)上，保證了在觀察帶內(nèi)觀眾所看到的微透鏡反射的光在垂直方向上 是均勻的。本發(fā)明提供的投影屏還有另外一個重要特征，就是每個非球面微透鏡單元是不同 的，每個透鏡單元的光軸有不同幅度的傾斜，使得每個透鏡反射形成的觀察帶在觀眾眼睛 所在的位置上重合，如圖7所示。這一特征主要來自于如下事實，每一個微透鏡單元在屏幕 (702)上的位置不同，來自于投影儀(701)的光線在每個微透鏡處與屏幕法線(706)具有不 同的入射角度(707)，透鏡單元光軸(705)與屏幕法線(706)的傾斜角(708)補償了入射光 線角度的不同，從而獲得單一的觀察帶(703)。另外，微透鏡單元在水平或垂直方向上光焦 度(704) —致，使得所有微透鏡單元反射形成的觀察帶(703)具有同樣的寬度或高度，保證 了觀察者看到的屏幕亮度是均勻的。本發(fā)明提供的投影屏，其非球面微透鏡單元可以是凹面鏡，也可以是凸面鏡。對
6凹面鏡情形，焦點在投影屏的前方，靠近觀察者；對凸面鏡情形，反射光線的虛焦點在投影 屏的后方，遠離觀察者；透鏡材料可采用高反射的金屬材料，使之高效率反射光線?；蛘咴?透鏡材料表面鍍高反射薄膜，如多層介質(zhì)膜或鋁膜。最有效的方式是用真空鍍膜在透鏡列 陣表面鍍高反射金屬鋁膜，厚度在幾十到一百納米之間，在可見光譜范圍內(nèi)有均勻的接近 80%的反射效率。進一步，可在非球面微透鏡列陣上附著一層基底材料，以增加投影屏的剛性。非球 面微透鏡列陣可以在基底和觀察者之間，也可以在基底的另一面。如果是前者，只需在透鏡 列陣表面鍍上高反射材料，不必要求透鏡和基底材料是透明的；如果是后者，除要求透鏡和 基底材料是透明的以外，還要求在基底材料的另一面鍍增透膜，以消除該面的菲涅爾反射 造成的眩光。本發(fā)明提供的投影屏，其非球面微透鏡單元的排布使得填充率為1，即投影屏面積 全部為微透鏡所用，反射能量全部集中到觀察帶內(nèi)，沒有其它散射或反射單元。來自遠離投 影儀方向的背景光被偏離觀察帶方向，因此，所提供的投影屏對環(huán)境光不敏感，也沒有鏡面 反射造成的眩光問題。非球面微透鏡單元的尺寸(如幾十到幾百微米)可遠小于所投影的 像素尺寸，因此不會產(chǎn)生當微透鏡單元的尺寸與像素尺寸接近時產(chǎn)生的莫爾條紋。透鏡的 反射在可見光譜范圍內(nèi)是均勻的，有很好的色彩再現(xiàn)能力；另外，屏幕的光學功能是在微透 鏡列陣表面實現(xiàn)的，投影屏可做得很薄，可彎曲，利于攜帶。該屏幕的高增益和高對比度特 性，使得大屏幕投影所需要的光能量和投影儀功率要求大為降低，符合現(xiàn)在的綠色節(jié)能環(huán) 保趨勢。本發(fā)明還提供了一種該屏幕的制造方法，尤其涉及在光刻材料上通過光刻方法制 作所需非球面微透鏡列陣原始模版的方法。利用光刻材料的連續(xù)刻蝕特性，首先在光刻材 料每點上獲得與其設計深度成比例的曝光，然后通過顯影劑(刻蝕劑)濕法刻蝕，在光刻材 料表面獲得所設計的浮雕深度。關鍵是如何獲得大面積的連續(xù)曝光分布。本發(fā)明提供的方法是通過二元(黑白) 圖案與光刻膠板的相對移動獲得的。本發(fā)明提供的非球面微透鏡列陣原始模版制作步驟如 下1.在基底上涂敷感光材料，形成光刻膠版；2.第一次曝光用第一個二元圖案在光刻膠版上通過接觸或投影曝光，曝光過程 中，二元圖案與光刻膠版間相對移動至少一個周期，移動方向稱為X方向。3.第二次曝光用第二個二元圖案在光刻膠版上通過接觸或投影曝光，曝光過程 中，二元圖案與光刻膠版間相對移動至少一個周期，移動方向稱為y方向，y方向與χ方向垂直。4.在顯影劑中顯影(刻蝕)所曝光的光刻膠板，在光刻材料上獲得所需要的表面 微結(jié)構(gòu)(非球面微透鏡列陣)。第一次曝光所用的二元圖案的設計依賴于在y方向上所要獲得的一維柱狀非球 面微透鏡列陣的參數(shù)，在移動方向(X方向)上具有周期性，曝光過程中，二元圖案與光刻膠 版相對移動1到多個周期；在與移動方向垂直的方向，圖案的形狀與將要或得的浮雕深度 成比例，柱狀列陣的每一條與y方向其它所有條可以相同也可以不同；第二次曝光所用的 二元圖案的設計依賴于在χ方向上所要獲得的一維柱狀非球面微透鏡列陣的參數(shù)，在移動
7方向(y方向)上具有周期性，曝光過程中，二元圖案與光刻膠版相對移動1到多個周期；在 與移動方向垂直的方向，圖案的形狀與將要或得的浮雕深度成比例，柱狀列陣的每一條與χ 方向其它所有條可以相同也可以不同；兩次曝光的疊加就獲得了一個兩維列陣，由許多方 形或長方形單元組成。對于要制作本發(fā)明提供的正向反射屏，二元圖案在與移動方向垂直的方向上，圖 案單元將隨者位置的不同而不同，不具有周期性，用于產(chǎn)生如前所述之光軸傾斜略有不同 的微透鏡列陣。顯影后可得到一個表面浮雕型非球面微透鏡列陣。圖8表示了刻蝕深度與曝光量 的關系?？梢岳脠D8a和圖8b中曲線接近線性的一段，以獲得理想的浮雕圖樣。但嚴格 的線性是不需要的，可以用曝光量的控制(即二元圖案的修正)在一定程度上補償非線性。可采用掩模版與光刻膠版直接貼合的方式，通過均勻的光束照射獲得所需要的二 元圖案。也可以用光學系統(tǒng)投影將二元圖像源成像在光刻膠版上獲得。用上述方法制作的原始模版，可進一步通過電鍍工藝復制出金屬工作版，用于注 塑成型或模壓方法批量生產(chǎn)投影屏；也可以用聚合物材料(如硅橡膠)復制出聚合物工作 版，再用樹脂材料(如光敏樹脂，熱固化樹脂，常溫固化樹脂)涂敷在聚合物工作版表面，通 過光照，加熱或常溫使樹脂固化獲得所需之投影屏。在投影屏有浮雕結(jié)構(gòu)的一面鍍一層高 反射膜，如幾十到幾百納米的金屬鋁膜。還可再加上支撐材料，特別是可彎曲的形狀記憶材 料，不用時可彎曲，需要顯示時打開，使投影屏呈平直狀。


圖1普通白屏幕的散射情況，光能量沒有被全部反射到觀察帶內(nèi)圖2現(xiàn)有技術一帶有溯源反射玻璃微珠和吸收光柵的一種正向投影屏圖3a現(xiàn)有技術一用微透鏡列陣作反射的一種正向投影屏圖3b現(xiàn)有技術一用微透鏡列陣作反射的一種正向投影屏，不同位置的透鏡反射 后形成的觀察帶部分重合圖4現(xiàn)有技術一利用可變形板和刀具模制作微透鏡列陣圖5a本發(fā)明實例1，凹面微透鏡列陣組成的正向投影屏。圖5b本發(fā)明實例1，凹面微透鏡列陣的一個剖面5c本發(fā)明實例1，凹面微透鏡列陣的一個剖面6a本發(fā)明提供的一種正向投影屏，其單元在一個方向的反射形成觀察帶的情 況圖6b本發(fā)明提供的一種正向投影屏，其單元在一個方向的反射形成觀察帶的情 況圖7本發(fā)明提供的一種正向投影屏，其所有單元反射形成的觀察帶重合圖8a正性光刻膠的曝光量_刻蝕深度曲線圖8b負性光刻膠的曝光量_刻蝕深度曲線圖9a本發(fā)明實例2，凸面微透鏡列陣組成的正向投影屏。圖9b本發(fā)明實例2，凸面微透鏡列陣的一個剖面9c本發(fā)明實例2，凸面微透鏡列陣的一個剖面圖
圖IOa本發(fā)明實例3，微透鏡列陣的制作方法，二元掩模接觸曝光示意圖。圖IOb本發(fā)明實例3，微透鏡列陣的制作方法，兩次曝光后形成的網(wǎng)格狀分布
具體實施例方式[實施例1]本發(fā)明提供的正向投影屏的一個實例如圖5所示，由非球面微透鏡列陣(501)組 成，包含有許多凹面微透鏡單元。在一個方向上，非球面微透鏡列陣(502)具有較大的光 焦度，對應可得到較大的觀察帶水平寬度(圖1，109)；在與之垂直的方向上，微透鏡列陣 (503)具有較小的光焦度，對應可得到較大的觀察帶水平寬度(圖1，110)。圖5b是非球面 微透鏡列陣(501) —個方向上的剖面圖，具有較大的光焦度。微透鏡(504) (505) (506)位 置不同，其光軸的傾斜也不同。圖5c是非球面微透鏡列陣(501)在另一垂直方向上的剖面 圖，光焦度比圖5b所示要小，微透鏡(507) (508) (509)位置不同，其光軸的傾斜也不同。為 了說明和示例方便，圖5所示的微透鏡列陣只包含了較少數(shù)目的透鏡單元，實際透鏡數(shù)目 要大得多。[實施例2]本發(fā)明提供的正向投影屏的另一個實例如圖9所示，由非球面微透鏡列陣(901) 組成，包含有許多凸面微透鏡單元。在一個方向上，微透鏡列陣(902)具有較大的光焦度， 對應可得到較大的觀察帶水平寬度(圖1，109)；在與之垂直的方向上，微透鏡列陣(903) 具有較小的光焦度，對應可得到較小的觀察帶垂直寬度(圖1，110)。圖9b是非球面微透鏡 列陣(901) —個方向上的剖面圖，具有較大的光焦度。透鏡(904) (905) (906)位置不同，其 光軸的傾斜也不同。圖9c是非球面微透鏡列陣(501)在另一垂直方向上的剖面圖，光焦度 比圖9b所示要小，微透鏡(907) (908) (909)位置不同，其光軸的傾斜也不同。為了說明和 示例方便，圖9所示的微透鏡列陣只包含了較少數(shù)目的透鏡單元，實際透鏡數(shù)目要大得多。[實施例3]本發(fā)明提供的非球面微透鏡列陣的制作方法的一個實例，如圖10所示。采用二元 掩模作為圖像源，二元掩模可以通過商業(yè)的掩模制作服務機構(gòu)獲得，1米左右的二元掩模已 商業(yè)化，使大面積透鏡列陣的制作成為可能。具體步驟如下1.在玻璃基底(1001)上涂敷感光材料層(1002)，如大規(guī)模集成電路工藝中常用 的正性光刻膠，通過后烘工藝(通常是80°C到120°C，1 2小時)形成光刻膠版(1003)。2.第一次曝光用第一個二元掩模(1004)緊貼在光刻膠版上，使用一個均勻光源 (1005)透過掩模對光刻膠版曝光，曝光過程中，二元掩模與光刻膠版間相對移動一個周期， 移動方向與二元掩模的周期方向相同，移動方向稱為χ方向(1006)。3.第二次曝光用第二個二元掩模接貼在光刻膠版上，通過上述的均勻光源對光 刻膠版曝光，曝光過程中，二元掩模與光刻膠版間相對移動一個周期，移動方向與第二個二 元掩模的周期方向相同。移動方向稱為y方向，y方向與χ方向垂直。4.在顯影劑中顯影(刻蝕)所曝光的光刻膠板，控制顯影時間，在光刻材料上獲得 所需要的表面微結(jié)構(gòu)(非球面微透鏡列陣)。第一次曝光得到一個方向的柱狀曝光分布(1007)，第二次曝光得到另一垂直方向 的柱狀曝光分布(1008)，兩次曝光疊加，就得到一個網(wǎng)狀分布，每個網(wǎng)格(1009)為長方形或正向形，網(wǎng)格的這種排布方式使透鏡的填充率為1。該曝光量分布通過光刻膠板的顯影處 理在光刻膠上得到所需要的非球面微透鏡列陣。 以光刻膠版為原始母版，通過電鑄鎳或電鑄銅轉(zhuǎn)化為金屬工作版，以此金屬工作 版用于注塑成型或模壓成型，在塑料上復制出表面浮雕非球面微透鏡列陣，并鍍一層幾十 納米的金屬鋁膜。進一步可在塑料非球面微透鏡列陣加一層具有形狀記憶特性的支撐材 料，在不用投影顯示時，與屏幕一起彎曲，在需要投影顯示時打開恢復所記憶的平直形狀， 使得屏幕保持平直。
權利要求
一種正向投影屏，由非球面微透鏡列陣組成，含有二個以上微透鏡單元，其特征在于a.所說的所有微透鏡單元在一個方向上具有相同的光焦度。b.所說的所有微透鏡單元在另一垂直的方向上具有相同的光焦度。c.所說的所有微透鏡單元表面浮雕結(jié)構(gòu)不同，其反射形成的觀察帶(108)重合。
2.權利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡單元在一個方向上的光焦度大于 另一方向的光焦度。
3.權利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡為凹面鏡。
4.權利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡為凸面鏡。
5.權利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡列陣其組成材料具有寬帶高反射 特性，以反射光線。
6.權利要求1所說的一種正向投影屏，還可以鍍有寬帶高反射膜，共形附著在所說的 非球面微透鏡列陣上，以反射光線。
7.權利要求4所說的一種正向投影屏，所說的高反射膜是鋁膜或多層介質(zhì)膜。
8.權利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡列陣添充率為1。
9.權利要求1所說的一種正向投影屏，所說的微透鏡單元為方形或長方形。
10.權利要求1所說的一種正向投影屏，還可以有支撐材料以支撐所說的微透鏡列陣， 微透鏡列陣層附著在支撐材料上。
11.權利要求10所說的一種正向投影屏，所說的支撐材料是可彎曲的形狀記憶材料。
12.—種非球面微透鏡列陣的制作方法，步驟包括a.將光敏材料涂敷在基底上，形成光刻膠版。b.第一次曝光用第一個周期性二元圖案在光刻膠版上曝光，曝光過程中，二元圖案 與光刻膠版之間相對移動至少一個周期，移動方向與第一個周期性二元圖案的周期方向一 致。c.第二次曝光用第二個周期性二元圖案在光刻膠版上曝光，曝光過程中，二元圖案 與光刻膠版之間相對移動至少一個周期，移動方向與第二個周期性二元圖案的周期方向一 致。第二次曝光的移動方向在光刻膠版上與第一次曝光的移動方向垂直。d.在顯影液中刻蝕，形成所說的非球面微透鏡列陣。
13.權利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的周期性二元圖案由 二元掩模與光刻膠版緊密貼合，均勻光照透過二元掩模形成。
14.權利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的周期性二元圖案由 光學投影系統(tǒng)在所說的光刻膠版上投影形成。
15.權利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的光敏材料是正性或 負性光刻膠。
16.權利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的周期性二元圖案在 一個方向上有周期性，在另一垂直方向上沒有周期性。
17.權利要求12所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所形成的非球面微透鏡列 陣為原始模版，可用表面浮雕復制技術復制出工作模版或最終產(chǎn)品。
18.權利要求17所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的表面浮雕復制技術為電鍍技術。
19.權利要求17所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的表面浮雕復制技術 為樹脂固化技術。
20.權利要求17所說的一種非球面微透鏡列陣的制作方法，所說的工作模版可用于模 壓成型或樹脂固化，以批量生產(chǎn)浮雕型微透鏡列陣的最終產(chǎn)品。
全文摘要
本發(fā)明提供一種正向投影屏幕，尤其提供一種具有高增益，高對比度，對環(huán)境光不敏感的正向投影屏幕，所述屏幕還具有高均勻性，無眩光，無莫爾條紋，超薄，高色彩飽和度特征。本發(fā)明還提供了采用光刻技術制造所述屏幕的方法，尤其提供了一種利用二元圖案在光敏材料上掃描曝光，通過濕法刻蝕在光敏材料表面形成大面積微浮雕結(jié)構(gòu)的方法。
文檔編號G03B21/26GK101907821SQ200910149608
公開日2010年12月8日 申請日期2009年6月8日 優(yōu)先權日2009年6月8日
發(fā)明者陳波 申請人:陳波