專利名稱：玻璃基板、使用該玻璃基板的檢測方法以及矩陣掩模的制作方法
玻璃基板、使用該玻璃基板的檢測方法以及矩陣掩模
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種玻璃基板及其檢驗方法，特別是涉及在玻璃基板上制作特殊缺
陷，以使檢驗機臺的掃描體對玻璃基板進行監(jiān)督檢驗及檢測檢驗機臺的掃描體的方法。背景技術(shù)：
為了應(yīng)對現(xiàn)代產(chǎn)品高速度、高效能、且輕薄短小的要求，各種電子零件均積極地朝 體積小型化發(fā)展。各種便攜式電子裝置也已漸成主流，例如筆記本電腦(Note Book)、移 動電話(Cell Phone)、電子辭典、個人數(shù)字助理器(PersonalDigital Assistant, PDA)、上 網(wǎng)機(Web Pad)及平板型計算機(Tablet PC)等。對于便攜式電子裝置的圖像顯示面板而 言，為了符合產(chǎn)品趨向小型化的需求，具有空間利用效率佳、高畫質(zhì)、低消耗功率、無輻射等 優(yōu)越特性的液晶顯示面板(Liquid Crystal Display,簡稱LCD)，目前已被廣為使用。
—般而言，在液晶顯示面板的制程當中可概分為前段(Array)、中段 (ColorFilter)、中后段(Cell)、后段(Module Assembly)。其中，在中段制程中通過多道制 程來制成彩色濾光基板，包括黑矩陣制程、紅色濾光膜制程、綠色濾光膜制程以及藍色濾光 膜制程。在量產(chǎn)的過程中，為了兼顧產(chǎn)品的良率以及產(chǎn)出率，除了上述的制程外，必須在各 制程之間適當?shù)卦O(shè)置檢驗站，以實時反應(yīng)生產(chǎn)線的不良并加以補正、或者實時找出問題機 臺加以維護以避免更多的半成品報廢，借此控制生產(chǎn)成本并掌握產(chǎn)品的生產(chǎn)狀況以及產(chǎn)出 良率。 近年來，業(yè)界在中段制程中采用自動光學(xué)檢查機(A0I)來對生產(chǎn)過程中的半成品 (例如玻璃基板)進行的質(zhì)量檢驗，并依賴自動光學(xué)檢查機(A0I)來實時反應(yīng)生產(chǎn)線的生產(chǎn) 狀況。然而，當自動光學(xué)檢測機的檢驗?zāi)芰κr，玻璃基板將無法得到實時的補正，如此 將使生產(chǎn)成本以及產(chǎn)品良率遭受極大的損害。 圖1是現(xiàn)有的一種自動光學(xué)檢查機檢驗時機的示意圖，圖2是使用自動光學(xué)檢查 機與否的產(chǎn)品良率示意圖。請參照圖l和圖2，在自動光學(xué)檢查機的檢測時間線102上，為 了確保產(chǎn)品的產(chǎn)出量，是以每月或每季等依預(yù)定時間執(zhí)行自動光學(xué)檢查機檢驗?zāi)芰Φ拇_認 作業(yè)，換句話說，此次確認點B到前次確認點A之間是一固定檢驗周期，若此次確認點B到 前次確認點A之間，自動光學(xué)檢查機若發(fā)生異常，則在此次確認點B之前的這一段自動光 學(xué)檢查機檢驗?zāi)芰Φ漠惓^(qū)間100內(nèi)，自動光學(xué)檢查機將無法正常檢驗出玻璃基板上的缺 陷，致使生產(chǎn)線無法發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品異常并實時作處置，導(dǎo)致不良品大量增加，造成生產(chǎn)成本大幅 的損失。 請繼續(xù)參照圖1和圖2，當自動光學(xué)檢查機在確認點B被檢驗出異常時，檢驗人員 將依據(jù)檢驗結(jié)果在自動光學(xué)檢查機的異常區(qū)間101內(nèi)對缺陷作處置以及機臺的修復(fù)。如此 一來，由圖2中的分析結(jié)果可知，使用自動光學(xué)檢查機在生產(chǎn)線作玻璃基板的全檢106時， 由于能夠?qū)崟r發(fā)現(xiàn)產(chǎn)品的致命缺陷和共通缺陷，并立即作制程改善，因此，產(chǎn)品的良率可以 維持一定的水平。反之，若在生產(chǎn)線不使用自動光學(xué)檢查機作玻璃基板的檢驗107時，則產(chǎn) 品良率則會隨時間變動而無法獲得一致的高水平。因此，自動光學(xué)檢查機的檢驗?zāi)芰χ瞥塘悸实奶嵘值闹匾?因此，如何妥善維護自動光學(xué)檢查機的檢驗?zāi)芰σ源_保制程良率、并兼顧產(chǎn)出率 成為液晶顯示面板產(chǎn)業(yè)發(fā)展的一大重要課題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種玻璃基板，其可以使得生產(chǎn)線兼顧產(chǎn)品產(chǎn)出 率以及產(chǎn)品良率。 本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種用于制造上述玻璃基板的矩陣掩模，其利用
局部修改布局在產(chǎn)品中同時制作檢測組件，以兼顧產(chǎn)品產(chǎn)出率以及產(chǎn)品量率。 本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種使用上述玻璃基板的檢測方法，其可以利用
自動光學(xué)檢查機的掃描體圖像擷取的方式來維護檢驗?zāi)芰?，以維持產(chǎn)品良率。 為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用了以下的技術(shù)方案本發(fā)明提出一種玻璃基板，
此玻璃基板包括多個面板結(jié)構(gòu)以及多個測試元件。面板結(jié)構(gòu)彼此分離，其中每一個面板結(jié)
構(gòu)包括黑矩陣和彩色濾光層。其中，黑矩陣在玻璃基板上定義出多個像素單元。彩色濾光
層配置在像素單元上。多個測試元件位于面板結(jié)構(gòu)的外圍，測試元件具有多個虛擬像素單
元，虛擬像素單元的圖案區(qū)別于像素單元的圖案，且虛擬像素單元中具有標準缺陷圖案。 在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的標準缺陷圖案是標準點缺陷圖案。其中，標準
點缺陷可以是黑矩陣點缺陷，且黑矩陣點缺陷例如是在多個虛擬像素單元之一中具有和周
圍圖案分離的黑矩陣圖案殘留。此時，標準點缺陷例如具有多種標準尺寸，且標準缺陷的尺
寸分布是5微米至30微米?；蛘?，上述的標準點缺陷也可以是彩色濾光層點缺陷，且彩色
濾光層點缺陷例如是在多個虛擬像素單元之一的彩色濾光層中具有表面凹陷的凹槽。 在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的虛擬像素單元包括黑矩陣和彩色濾光層，以
在測試元件中定義出虛擬像素單元。彩色濾光層位于虛擬像素單元中，其中虛擬像素單元
中的黑矩陣的圖案或彩色濾光層的圖案和像素單元不同，以構(gòu)成標準缺陷圖案。 在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的標準缺陷圖案包括標準斷線缺陷。此時，標準
斷線缺陷是黑矩陣斷線缺陷，黑矩陣斷線缺陷是兩相鄰的虛擬像素單元之間的黑矩陣分為
彼此分離的兩部分。 在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的測試元件中的虛擬像素單元在基板上呈多行 的條狀布局。 在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的測試元件位于兩相鄰面板結(jié)構(gòu)的間隔位置。
在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的每一個面板結(jié)構(gòu)還包括保護層以及透明導(dǎo)電 層。保護層覆蓋黑矩陣以及彩色濾光層。透明導(dǎo)電層覆蓋保護層上。 本發(fā)明另提出一種矩陣掩模，用于制作出上述的玻璃基板，其中矩陣掩模具有至 少20組標準檢測圖案，標準檢測圖案的尺寸和位置對應(yīng)于標準缺陷圖案的尺寸和位置。
在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的矩陣掩模例如是黑矩陣掩?；虿噬珵V光層矩 陣掩模。 本發(fā)明另提出一種檢測方法，其適于在連續(xù)提供多個上述的玻璃基板的自動光學(xué) 檢查機中，同時對自動光學(xué)檢查機進行檢驗?zāi)芰Φ臋z測，其中自動光學(xué)檢查機包括傳送玻 璃基板的輸送帶以及位于輸送帶上下兩側(cè)的圖像擷取部，其中圖像擷取部包括第一掃描體以及第二掃描體，且第一掃描體和第二掃描體分別在玻璃基板的上表面和下表面掃描圖 像，此檢測方法包括下列步驟。首先，將多個玻璃基板依序且連續(xù)輸送至自動光學(xué)檢查機的 輸送帶上，其中這些玻璃基板中具有上述的玻璃基板，且此玻璃基板具有多種標準缺陷圖 案。之后，玻璃基板在自動光學(xué)檢查機的輸送帶上同時進行掃描分析。然后，通過該多個標 準缺陷圖案對第一掃描體及第二掃描體執(zhí)行良率檢測。 在本發(fā)明的一個實施方式中，上述的進行掃描分析的方法包括自動檢查機的第一 掃描體和第二掃描體分別對玻璃基板作相對位移，以同時對玻璃基板的上表面以及下表面 進行檢測，其中第一掃描體的掃描方向和第二掃描體的掃描方向相對。 在本發(fā)明的一個實施方式中，在上述的通過該多個標準缺陷圖案對第一掃描體及 第二掃描體執(zhí)行良率檢測的步驟之后，當檢測結(jié)果是自動檢查機的檢驗?zāi)芰θ笔r，還包 括執(zhí)行檢驗?zāi)芰π扪a機制，而當檢測結(jié)果是自動檢查機的檢驗?zāi)芰φr，則執(zhí)行繼續(xù)掃 描機制。 基于上述，本發(fā)明的玻璃基板利用在產(chǎn)品的面板結(jié)構(gòu)的外圍上布局測試元件，因 此利用此玻璃基板的適當布局，可以在進行面板結(jié)構(gòu)的檢測時，同時利用測試元件來檢測 自動光學(xué)檢查機的檢驗?zāi)芰?，不僅使玻璃基板上的面板結(jié)構(gòu)可以連續(xù)地被檢測以確保產(chǎn)品 良率，還可以在量產(chǎn)的檢測制程中，直接利用量產(chǎn)的玻璃基板來進行自動光學(xué)檢查機的檢 驗?zāi)芰Φ臋z測，以解決自動光學(xué)檢查機在現(xiàn)有技術(shù)中需耗費長時間、以及解決現(xiàn)有用于檢 測自動光學(xué)檢查機的檢驗?zāi)芰Φ臉藴嗜毕萜谥谱鞯睦щy。


圖1是現(xiàn)有的一種自動光學(xué)檢查機檢驗時機的示意圖。 圖2是使用自動光學(xué)檢查機與否的產(chǎn)品良率示意圖。 圖3是本發(fā)明一個實施方式中玻璃基板的俯視示意圖。 圖4是本發(fā)明的玻璃基板在自動光學(xué)檢查機中操作的立體組合示意圖。 圖5A至圖5F是本發(fā)明一個實施方式中玻璃基板的制作方法的流程示意圖。 圖6A和圖6B分別是本發(fā)明一個實施方式的玻璃基板上利用黑矩陣或是黑矩陣和
彩色濾光層疊層所制作的標準缺陷圖案的示意圖。 圖7是本發(fā)明的一種用于制作上述玻璃基板的矩陣掩模示意圖。 圖8是圖4的自動光學(xué)檢查機利用圖3的玻璃基板作檢驗?zāi)芰Φ臋z測方法流程示意圖。
具體實施方式

本發(fā)明提供一種玻璃基板，其中在玻璃基板的面板結(jié)構(gòu)的外圍適當布局測試元 件，使得自動光學(xué)檢查機可以直接依據(jù)玻璃基板上的測試元件作其檢驗?zāi)芰Φ木S護，借此， 可以使自動光學(xué)檢查機直接使用量產(chǎn)品的玻璃基板作在線(In-line)的驗證，而無須特別 將機臺先切換為自生產(chǎn)線上排除，換句話說將其切換為脫機(Off-line)狀態(tài)，而單獨地對 該機臺作檢驗?zāi)芰Φ亩ㄆ跈z測，另一方面，還可以解決用于檢測自動光學(xué)檢查機的檢測標 準片在制作上的困難。以下將列舉具體實施方式
詳加說明。 圖3是本發(fā)明一個實施方式中玻璃基板的俯視示意圖。請參照圖3，玻璃基板200包括多個面板結(jié)構(gòu)210以及多個測試元件220，其中面板結(jié)構(gòu)210在完成預(yù)定的后續(xù)制程 后，經(jīng)玻璃基板200的切裂制程后可制作出液晶顯示面板。換句話說，此面板結(jié)構(gòu)210包括 液晶顯示面板的預(yù)定顯示區(qū)以及預(yù)定周邊電路區(qū)，而測試元件220則位于面板結(jié)構(gòu)210的 外圍，在本實施方式中，測試元件220可以分布在相鄰的面板結(jié)構(gòu)210的間隔位置202，也可 以分布在玻璃基板200上面板結(jié)構(gòu)210以外的邊緣部分204，設(shè)計者可依據(jù)待檢測裝置的圖 像擷取鏡頭的裝設(shè)位置、掃描方向等機臺參數(shù)配合面板結(jié)構(gòu)210在玻璃基板200上布局來 適當設(shè)計測試元件220的分布位置，本發(fā)明并不以此為限。 如圖3所示，具體而言，玻璃基板200例如是彩色濾光基板。面板結(jié)構(gòu)210在玻璃 基板200上呈彼此分離的布局(layout)，其中每一個面板結(jié)構(gòu)210包括黑矩陣230和彩色 濾光層240。黑矩陣230在玻璃基板200上定義出多個像素單元250。彩色濾光層240配置 在像素單元250上。特別的是，測試元件220具有多個虛擬像素單元260，而虛擬像素單元 260的圖案和像素單元250的圖案不盡相同，換句話說，虛擬像素單元260的圖案和像素單 元250的圖案相似，但僅有些微的不同，關(guān)于虛擬像素單元260的圖案將在之后詳細描述。 特別的是，虛擬像素單元260中具有標準缺陷圖案270，此標準缺陷圖案270可作為檢查機 臺(例如自動光學(xué)檢測機)的校驗?zāi)芰Φ臉藴势?。值得注意的是，測試元件上的標準缺陷 圖案270是制程上刻意制作出來用于校驗檢測機臺的標準片上的缺陷圖案，因此有別于一 般制程誤差所導(dǎo)致的缺陷圖案。 進一步而言，在本實施方式中，虛擬像素單元260包括黑矩陣230和彩色濾光層 240，以在測試元件220中定義出虛擬像素單元260。彩色濾光層240則位于虛擬像素單元 260中。值得注意的是。在玻璃基板200的測試元件220中，將虛擬像素單元260的黑矩陣 230的圖案或彩色濾光層240的圖案設(shè)計成特定圖案，使其和像素單元250不同，以構(gòu)成標 準缺陷圖案270。 詳細來說，標準缺陷圖案270可以是如圖3中繪示于玻璃基板200上部的標準缺 陷圖案270A的形態(tài)的局部放大圖所示，其例如是標準點缺陷圖案272，且標準點缺陷可以 包括黑矩陣點缺陷的形態(tài)，其中標準點缺陷圖案272例如具有多種標準尺寸，例如標準缺 陷尺寸的分布可以是由5微米至30微米。更詳細來說，黑矩陣點缺陷的形態(tài)例如是在其 中之一虛擬像素單元260中具有和周圍圖案分離的黑矩陣圖案殘留。當然，標準點缺陷的 形態(tài)也可以是彩色濾光層點缺陷，如圖3中繪示于玻璃基板200右側(cè)的標準缺陷圖案270B 的局部放大圖所示，其例如是標準點缺陷圖案272，且此標準點缺陷圖案272是由彩色濾光 層的點缺陷所構(gòu)成，舉例而言，由彩色濾光層的點缺陷例如是在其中之一虛擬像素單元260 的彩色濾光層240中具有表面凹陷的凹槽，如圖中標示C處。 當然，標準缺陷圖案270也可以包括標準斷線缺陷274的形態(tài)，如圖3中繪示于玻 璃基板200上部以及右側(cè)的標準缺陷圖案270A、270B中的斷線缺陷圖案274所示。如圖3 所示，標準斷線缺陷274的形態(tài)例如是黑矩陣斷線缺陷，換句話說，黑矩陣斷線缺陷是兩相 鄰的虛擬像素單元260之間的黑矩陣230具有開口 H，而使位于兩相鄰的虛擬像素單元260 之間的黑矩陣230分為彼此分離的兩部分230A、230B。 當然，設(shè)計者還可視自動光學(xué)檢查機的分辨能力、實際的制程條件以及產(chǎn)品需求 等因素來決定標準缺陷圖案的種類、形態(tài)、構(gòu)成膜層。舉例來說，本實施方式中，標準缺陷圖 案270中的標準點缺陷圖案272可以單獨由黑矩陣230所構(gòu)成、或是由黑矩陣230和彩色濾光層240所共同構(gòu)成，在其他實施方式中，標準點缺陷圖案272也可以在黑矩陣230和彩色 濾光層240上進一步覆蓋保護層280或是保護層280和透明導(dǎo)電層290的疊層(繪示于圖 5F)，當然，標準缺陷圖案270還可以是其他形態(tài)的布局，本發(fā)明并不以此為限。此外，實務(wù) 上為了判別自動光學(xué)檢查機的分辨能力、并通過判別面板結(jié)構(gòu)210上的缺陷的尺寸來判定 該玻璃基板200是否繼續(xù)進行后續(xù)制程的等級，如續(xù)流(OK grade)、重工(Rework grade) 或報廢(NG grade)等，可以進一步將標準缺陷圖案270的尺寸設(shè)計為多種尺寸，如此，可以 維持進一步控管生產(chǎn)線產(chǎn)品的良率和產(chǎn)出質(zhì)量。 圖4繪示本發(fā)明的玻璃基板在自動光學(xué)檢查機中操作的立體組合示意圖。請參照 圖4，自動光學(xué)檢查機300包括用于連續(xù)傳輸玻璃基板200的輸送帶302以及位于輸送帶 302上下兩側(cè)的圖像擷取部310。圖像擷取部310包括位于輸送帶302上側(cè)且用于掃描輸 送帶302上的玻璃基板200上表面200U的圖像上擷取部320以及位于輸送帶302下側(cè)且 用于掃描輸送帶302上的玻璃基板200下表面200B的圖像下擷取部330。圖像上擷取部 320包括第一掃描體322以及和其連接的上伸縮桿324，而圖像下擷取部330包括第二掃描 體332以及和其連接的下伸縮桿334。 在實際運作時，第一掃描體322和玻璃基板200作相對運動，換句話說，第一掃描 體322沿著第一掃描方向Dl對玻璃基板200作相對位移。第二掃描體332的第二掃描方 向D2和第一掃描體322的第一掃描方向Dl相對，簡單來說，對于輸送帶302上的玻璃基板 200而言，第一掃描體322和第二掃描體332同時進行相對應(yīng)的位移運動并同時進行玻璃基 板200上表面200U和下表面200B的高分辨光學(xué)檢驗。詳細的檢測方法將在之后說明。
以圖3為例，在此列舉一種玻璃基板200的制作方法，請參照圖5A至圖5F，下文將 一并說明。圖5A至圖5F是本發(fā)明一個實施方式中玻璃基板的制作方法流程示意圖，為方 便說明，圖5A至圖5F中和圖3相同的構(gòu)件則以相同符號表示，不再贅述。
首先，請先參照圖5A，提供玻璃基板200，并在玻璃基板200上形成黑矩陣材料層 232，其中黑矩陣材料層232的材質(zhì)例如是感光性樹脂。接著，如圖5B所示，通過黑矩陣掩模 230M進行曝光制程L，以使該黑矩陣材料層232圖案化。并通過顯影、烘烤等程序，如圖5C 所示，在基板上形成黑矩陣230，其中黑矩陣230在玻璃基板200的面板結(jié)構(gòu)210中定義出 多個像素單元250，并且在玻璃基板200的測試元件220中定義出多個虛擬像素單元260。
之后，如圖5D所示，在黑矩陣230上形成特定顏色的彩色濾光材料層242，如紅色 濾光材料層，如圖5E所示，通過彩色濾光層矩陣掩模240M進行曝光制程L，以使該紅色濾光 材料層圖案化，通過顯影、烘烤等程序后則可在預(yù)定區(qū)域中形成紅色濾光層240R。重復(fù)上 述5D、5E的步驟，以在其他預(yù)定區(qū)域中分別形成綠色濾光材料層以及藍色濾光材料層。如 此，即可制作出如圖5F所示的由紅色濾光層240R、綠色濾光層240G以及藍色濾光層240B 所構(gòu)成的彩色濾光層240。并且，在本實施方式中，在彩色濾光層240上還可以進一步覆蓋 保護層280以及透明導(dǎo)電層290，其中保護層280覆蓋黑矩陣230以及彩色濾光層240，且 透明導(dǎo)電層290覆蓋保護層280上。在本實施方式中，玻璃基板200通過上述制程可制為 彩色濾光基板。 圖6A和圖6B分別是本發(fā)明一個實施方式的玻璃基板上利用黑矩陣或是黑矩陣和 彩色濾光層疊層所制作的標準缺陷圖案的示意圖。請參照圖6A，標準缺陷圖案270中的標 準點缺陷圖案272和標準斷線缺陷274例如是由黑矩陣230所構(gòu)成，換句話說，測試元件220的虛擬像素單元260中的標準點缺陷圖案272和標準斷線缺陷274可以和面板結(jié)構(gòu)210 中的黑矩陣230同時形成。此外，標準點缺陷圖案272相較于像素單元250圖案，除了在虛 擬像素單元260的中央處具有黑矩陣的殘留272夕卜，其余圖案如周圍的黑矩陣230圖案的 開口尺寸、形狀均和像素單元250相同。同理，標準斷線缺陷圖案274相較于像素單元250 圖案，除了在兩個虛擬像素單元260之間的黑矩陣230具有開口 H，而使位于兩相鄰的虛擬 像素單元260之間的黑矩陣230分為彼此分離的兩部分230A、230B夕卜，其余圖案均和面板 結(jié)構(gòu)210中的二像素單元250相同。 請參照圖6B，標準缺陷圖案270中的標準點缺陷圖案272和標準斷線缺陷274是 由黑矩陣230和彩色濾光層240的疊層所構(gòu)成。在實施方式中，在標準點缺陷圖案272上 還覆蓋有彩色濾光層240，如圖中的藍色濾光層240B處。當然，彩色濾光層點缺陷也可以是 在虛擬像素單元260中，彩色濾光層240中具有表面凹陷的凹槽，如圖中的綠色濾光層240G 處的凹陷C所示，也或者是彩色濾光層240中具有類似針孔(pin hole)的氣泡P，如圖中的 藍色濾光層240B處，致使在該虛擬像素單元260中特定顏色濾光層呈現(xiàn)不均一的色度。
圖7是本發(fā)明的一種用于制作上述玻璃基板的矩陣掩模示意圖。請參照圖7，矩 陣掩模400上具有矩陣排列的掩模圖案，其中掩模圖案包括要布局在面板結(jié)構(gòu)210中的像 素單元250的像素單元圖案、以及要布局在測試元件220中的虛擬像素單元260的虛擬像 素單元圖案，在本實施方式中，矩陣掩模400例如是前述的黑矩陣掩模230M，并以矩陣掩模 400是黑矩陣掩模230M為例作說明，當然矩陣掩模400在其他實施方式中還可以是彩色濾 光層矩陣掩模240M，本發(fā)明并不以此為限。 詳細來說，如圖7中標示為Ml處的圖案所示，矩陣掩模400中的一組標準檢測圖 案410，而此標準檢測圖案410的尺寸和位置對應(yīng)于標準缺陷圖案270的尺寸和位置?；?于制程或管理上的考慮，實務(wù)上用于布局上述標準檢測圖案410的掩?？梢允橇硪粶y試掩 模，也就是有別于量產(chǎn)的制程掩模，以避免將標準缺陷圖案270直接誤曝于量產(chǎn)產(chǎn)品中。當 然，標準檢測圖案410還可以是和像素單元圖案共同制作在另一測試掩模中，在實際的應(yīng) 用層面上，利用曝光機臺控制掩模上所要曝光區(qū)域的開口位置及大小來制作出同時具有面 板結(jié)構(gòu)210以及測試元件220的玻璃基板200，因此本發(fā)明并不用來限定矩陣掩模400的種 類，而可視產(chǎn)品需求以及生產(chǎn)流程管控而定。此外，此標準檢測圖案410的尺寸和位置也可 以是對應(yīng)于標準斷線缺陷274圖案274的尺寸和位置，此時標準檢測圖案410的形態(tài)是如 圖7中標示為M2處的圖案所示。 請繼續(xù)參照圖7，在本實施方式中，黑矩陣材料層232是以負型的感光性樹脂為例 進行說明。請同時參照圖6A和圖7，為了制作出圖6A所示的標準缺陷圖案270，矩陣掩模 400上的標準檢測圖案410中，對應(yīng)于要形成測試元件220的虛擬像素單元260處是遮光區(qū) S，而對應(yīng)于虛擬像素單元260中要形成黑矩陣230殘留處設(shè)置透光區(qū)T。由于黑矩陣材料 層232例如負型的感光性樹脂，因此當光線經(jīng)過透光區(qū)T照射玻璃基板200上時，黑矩陣材 料層232的受光部位會產(chǎn)生如交鏈(cross linking)等化學(xué)反應(yīng)，使該部位在經(jīng)過顯影的 制程時可以不受顯影液的影響而保留于玻璃基板200上。另一方面，黑矩陣材料層232中 未受到光照的部位在通過顯影的制程時則受到顯影液的剝蝕而去除，因此即可制得如圖6A 中所繪示的標準缺陷圖案270。 另外，矩陣掩模400上一組標準檢測圖案410的尺寸例如是由尺寸5微米以5微米的尺寸遞增至30微米，如圖中所示的5微米、10微米、15微米、20微米、25微米、30微米， 而兩相鄰的標準檢測圖案410之間例如間隔10個對應(yīng)像素單元250的掩模圖案，實務(wù)上在 矩陣掩模400中可以設(shè)計至少20組的標準檢測圖案410，在本實施方式中，矩陣掩模400中 例如設(shè)計110組的標準檢測圖案410，但本發(fā)明并不以此為限。 為了詳細地描述整個裝置的檢測方法的流程，以圖4為例，在此列舉一種利用上 述玻璃基板200對自動光學(xué)檢查機300作檢驗?zāi)芰Φ臋z測方法，請參照圖8，下文將一并說 明。圖8是圖4的自動光學(xué)檢查機利用圖3的玻璃基板作檢驗?zāi)芰Φ臋z測方法流程示意圖。 為方便說明，請同時參照圖4和圖8。 在利用上述玻璃基板200以對自動光學(xué)檢查機300作檢驗?zāi)芰Φ臋z測方法中，此 自動光學(xué)檢查機300在連續(xù)處理玻璃基板200的檢測，并且在其執(zhí)行生產(chǎn)線上檢測作業(yè)的 同時，進行自身檢驗?zāi)芰Φ臋z測，本發(fā)明提出一種自動光學(xué)檢查機300在執(zhí)行生產(chǎn)線上檢 測作業(yè)時，同時進行自身檢驗?zāi)芰Φ臋z測的方法。 請同時參照圖4和圖8，首先，請參照步驟SIO，將多個玻璃基板200依序且連續(xù)輸 送至自動光學(xué)檢查機300的輸送帶302上，其中這些輸送至輸送帶302上的玻璃基板200 包括至少一個上述具有多種標準缺陷圖案270的玻璃基板200。詳細來說，該玻璃基板200 包括多個測試元件220以及多個面板結(jié)構(gòu)210，測試元件220的虛擬像素單元260中可提供 多種標準缺陷圖案270，包括前述的黑矩陣230殘留或黑矩陣斷線缺陷等。
之后，請參照步驟S20，玻璃基板200在自動光學(xué)檢查機300的輸送帶302上同時 進行掃描分析。值得注意的是，自動光學(xué)檢查機300在利用玻璃基板200上的標準缺陷圖 案270作自身檢驗?zāi)芰Φ臋z測時，機臺的狀態(tài)仍維持在線(In-line)狀態(tài)，并無須將機臺切 換為脫機(Off-line)狀態(tài)以特別將其自生產(chǎn)線上獨立出來，因此可以大幅增加機臺的稼 動率以及生產(chǎn)效率。 接著，請參照步驟S30，自動檢查機的第一掃描體322和第二掃描體332分別對玻 璃基板200作相對位移，以同時對玻璃基板200的上表面200U以及下表面200B進行檢測， 其中第一掃描體322的掃描方向和第二掃描體332的掃描方向相對。詳細來說，該玻璃基 板200在自動光學(xué)檢查機300的輸送帶302上進行連續(xù)性地傳輸，第一掃描體322在玻璃 基板200的上表面200U沿著第一掃描方向Dl位移并進行圖像擷取程序，而第二掃描體332 在玻璃基板200的下面沿著相對于第一掃描方向Dl的第二掃描方向D2位移并進行圖像擷 取程序。 然后，請參照步驟S30，通過玻璃基板200上的標準缺陷圖案270對第一掃描體 322及第二掃描體332執(zhí)行良率檢測。詳細而言，所謂良率檢測是泛指第一掃描體322和第 二掃描體332利用其所擷取的標準缺陷圖案270的圖像來對其本身掃描體的圖像進行檢測 能力分辨檢測。在通過玻璃基板200上的標準缺陷圖案270對第一掃描體322及第二掃描 體332執(zhí)行良率檢測的步驟之后，進行步驟S40，執(zhí)行自動光學(xué)檢查機的檢驗?zāi)芰Φ呐袛啵?依據(jù)判斷選擇執(zhí)行步驟S41或步驟S42。請參照步驟S41，當檢測結(jié)果是自動檢查機的檢驗 能力缺失時，還包括執(zhí)行檢驗?zāi)芰π扪a機制，或者，請參照步驟S42當檢測結(jié)果是自動檢查 機的檢驗?zāi)芰φr，則執(zhí)行繼續(xù)掃描機制。 由上述可知，本發(fā)明的玻璃基板及利用此玻璃基板的自動光學(xué)檢查機的檢測方式 可以直接利用產(chǎn)品的非利用區(qū)來進行標準缺陷圖案的布局，并且直接利用產(chǎn)品進行在線的檢測，不但可以確保自動光學(xué)檢查機的檢驗?zāi)芰?，還可以兼顧產(chǎn)品的產(chǎn)量和良率，有效降低 成本并克服自動光學(xué)檢查機因檢驗?zāi)芰适斐纱罅慨a(chǎn)品報廢的問題。本發(fā)明還提供一 種用于制造上述玻璃基板的矩陣掩模，可以提升玻璃基板的量產(chǎn)性以及解決自動光學(xué)檢查 機的標準校驗片在制作以及取得不易的窘境。 在上述實施例中，僅對本發(fā)明進行了示范性描述，但是本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀本 專利申請后可以在不脫離本發(fā)明的精神和范圍的情況下對本發(fā)明進行各種修改。
權(quán)利要求
一種玻璃基板，其特征在于，包括多個面板結(jié)構(gòu)，該多個面板結(jié)構(gòu)彼此分離，其中每一個面板結(jié)構(gòu)包括黑矩陣，在該玻璃基板上定義出多個像素單元；彩色濾光層，配置在該多個像素單元上；以及多個測試元件，位于該多個面板結(jié)構(gòu)的外圍，該多個測試元件具有多個虛擬像素單元，該多個虛擬像素單元的圖案區(qū)別于該多個像素單元的圖案，且該多個虛擬像素單元中具有標準缺陷圖案。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，該標準缺陷圖案是標準點缺陷圖案。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板，其特征在于，該標準點缺陷是黑矩陣點缺陷，且該 黑矩陣點缺陷是在該多個虛擬像素單元之一中具有和周圍圖案分離的黑矩陣圖案殘留。
4. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板，其特征在于，該標準點缺陷具有多種標準尺寸，且 該標準缺陷的尺寸分布是5微米至30微米。
5. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的玻璃基板，其特征在于，該標準點缺陷是彩色濾光層點缺陷， 且該彩色濾光層點缺陷是在該多個虛擬像素單元之一的該彩色濾光層中具有表面凹陷的 凹槽。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，該多個虛擬像素單元包括 該黑矩陣，以在該多個測試元件中定義出該多個虛擬像素單元； 該彩色濾光層，位于該虛擬像素單元中，其中，該多個虛擬像素單元中的該黑矩陣的圖案或該彩色濾光層的圖案和該多個像素 單元不同，以構(gòu)成該標準缺陷圖案。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，該標準缺陷圖案包括標準斷線缺陷。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的玻璃基板，其特征在于，該標準斷線缺陷是黑矩陣斷線缺陷， 該黑矩陣斷線缺陷是兩相鄰的虛擬像素單元之間的黑矩陣分為彼此分離的兩部分。
9. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，該測試元件中的該多個虛擬像素單 元在該基板上呈多行的條狀布局。
10. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，該多個測試元件位于兩相鄰面板結(jié) 構(gòu)的間隔位置。
11. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，每一個面板結(jié)構(gòu)還包括 保護層，覆蓋該黑矩陣以及該彩色濾光層；以及 透明導(dǎo)電層，覆蓋該保護層上。
12. —種矩陣掩模，用于制作出根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，其特征在于，該矩陣 掩模具有至少20組標準檢測圖案，該多個標準檢測圖案的尺寸和位置對應(yīng)于該多個標準 缺陷圖案的尺寸和位置。
13. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的矩陣掩模，其特征在于，該矩陣掩模是黑矩陣掩?；虿噬?濾光層矩陣掩模。
14. 一種檢測方法，其適于檢測檢測裝置的檢驗?zāi)芰Γ谶B續(xù)提供多個根據(jù)權(quán)利要求1 所述的玻璃基板的自動光學(xué)檢查機中，同時對該自動光學(xué)檢查機進行檢驗?zāi)芰Φ臋z測，其 中該自動光學(xué)檢查機包括傳送該玻璃基板的輸送帶以及位于該輸送帶上下兩側(cè)的圖像擷 取部，該圖像擷取部包括第一掃描體以及第二掃描體，且該第一掃描體和該第二掃描體分別在該玻璃基板的上表面和下表面掃描圖像，其特征在于，該檢測方法包括將多個玻璃基板依序且連續(xù)輸送至該自動光學(xué)檢查機的輸送帶上，其中該多個玻璃基 板中具有根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板，且該根據(jù)權(quán)利要求1所述的玻璃基板具有多種 標準缺陷圖案；該多個玻璃基板在該自動光學(xué)檢查機的該輸送帶上同時進行掃描分析；以及 通過該多個標準缺陷圖案對該第一掃描體及該第二掃描體執(zhí)行良率檢測。
15. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的檢測方法，其特征在于，進行掃描分析的方法包括 自動檢查機的該第一掃描體和該第二掃描體分別對該玻璃基板作相對位移，以同時對該玻璃基板的上表面以及下表面進行檢測，其中該第一掃描體的掃描方向和該第二掃描體 的掃描方向相對。
16. 根據(jù)權(quán)利要求14所述的檢測方法，其特征在于，在通過該多個標準缺陷圖案對該第一掃描體及該第二掃描體執(zhí)行良率檢測的步驟之后，當檢測結(jié)果是自動檢查機的檢驗?zāi)?力缺失時，還包括執(zhí)行檢驗?zāi)芰π扪a機制，而當檢測結(jié)果是自動檢查機的檢驗?zāi)芰φr， 則執(zhí)行繼續(xù)掃描機制。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種玻璃基板，其包括多個面板結(jié)構(gòu)以及多個測試元件。面板結(jié)構(gòu)彼此分離，其中每一個面板結(jié)構(gòu)包括黑矩陣以及彩色濾光層。黑矩陣在玻璃基板上定義出多個像素單元。彩色濾光層配置在像素單元上。多個測試元件位于面板結(jié)構(gòu)的外圍，測試元件具有多個虛擬像素單元，虛擬像素單元的圖案區(qū)別于像素單元的圖案，且虛擬像素單元中具有標準缺陷圖案。另外，本發(fā)明還提出一種使用上述玻璃基板的檢測方法以及制作該玻璃基板的矩陣掩模。
文檔編號G02F1/13GK101699332SQ20091015980
公開日2010年4月28日 申請日期2009年6月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年6月29日
發(fā)明者潘星佑 申請人:深超光電(深圳)有限公司