專利名稱：光刻裝置和器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光刻裝置和一種器件制造方法。
背景技術(shù)：
光刻裝置是一種將所需圖案作用于基底的目標(biāo)部分的機(jī)器。光刻裝置 可以用于例如集成電路(IC)的制造。在這種情況下，構(gòu)圖裝置，如掩模， 可用于產(chǎn)生對應(yīng)于IC 一個單獨(dú)層的電路圖案，該圖案可以成像在已涂敷 輻射敏感材料(抗蝕劑)層的基底(例如硅晶片)的目標(biāo)部分上(例如包 括部分， 一個或者多個管芯)。 一般地，單一的基底將包含依次曝光的相 鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)格。已知的光刻裝置包括所謂的步進(jìn)器，其中通過將全部 圖案一次曝光在目標(biāo)部分上而輻射每一 目標(biāo)部分，還包括所謂的掃描器， 其中通過投射光束沿給定方向("掃描"方向)掃描圖案、并同時沿與該 方向平行或者反平行的方向同步掃描基底來輻射每一目標(biāo)部分。
包括支承框架的投影光學(xué)組件是已知的。比如歐洲專利文獻(xiàn) EP1278089A中公開的支承。通常，投影光學(xué)組件包括參考框架和安裝在參 考框架中的多個傳感器框架。傳感器框架是一種適合于支撐光學(xué)元件(通 常為可移動反射鏡)、用于感測光學(xué)元件位置的一個或多個傳感器單元， 以及用于對傳感器單元做出響應(yīng)而將光學(xué)元件移動到所需位置的一個或 多個致動器等的框架。為每個反射鏡提供一個單獨(dú)的傳感器框架。這樣的 子組件通常稱作"反射鏡模塊"。通常，設(shè)計支承框架的方法是為了提供 多個反射鏡模塊。確切的數(shù)目取決于具體的投影光學(xué)組件。但是，通常投 影光學(xué)組件一般包括6個反射鏡。每個反射鏡模塊包括一個傳感器框架， 其包含對于具有完全功能可調(diào)的反射鏡來說所有必需的元件。然后將這些 反射鏡模塊中的每個模塊安裝到公共的參考框架中，該參考框架通常由低 膨脹的玻璃材料如Zerodur制成。 一般來說，投影光學(xué)組件中的反射鏡之 一是固定的。在傳統(tǒng)的系統(tǒng)中，該固定的反射鏡也安裝在公共的參考框架 上。
這種傳統(tǒng)裝置具有一些問題。首先，為了在傳感器框架上安裝元件， 需要大量的光學(xué)隔板。特別地，大量隔板對于安裝用于感測反射鏡位置的敏感元件來說是必要的。在這種裝置中使用隔板是非常昂貴 的，特別是在傳感器框架中安裝隔板所需的工時方面。
其次，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)在參考框架中安裝反射鏡模塊后獲得精確定位只 能利用更多的隔板來實(shí)現(xiàn)，這進(jìn)一步增加了支承框架的制造成本和時間。
第三，將反射鏡模塊安裝到參考框架中是利用所謂的"靜態(tài)確定
連接體(statically determined interface)，，實(shí)現(xiàn)的。這種連接體 包括其功能性可以與撓性桿相比的元件，因為將連接元件設(shè)計成沿一 個方向具有剛性，同時沿其他五個方向盡可能的順從。連接元件是復(fù) 雜的結(jié)構(gòu)，每個包括許多部分.通常連接元件連接支承框架結(jié)構(gòu)的兩 個Zerodur (—種微晶玻璃)部分。例如，在一側(cè)，連接元件與參考 框架連接，在另一側(cè)，連接元件與傳感器框架連接。連接元件連接到 各自的Zerodur框架部分.連接物為金屬嵌入件。這些嵌入件粕結(jié)到 Zerodur中。在減小由嵌入件引起的熱問題的嘗試中，它們具有特別 的設(shè)計。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，不管嵌入件的設(shè)計如何，需要將金屬嵌入件粘結(jié) 到兩個待連接的Zerodur框架部分中的情況增加了熱穩(wěn)定性問題.
此外，連接元件必須考慮形成在連接元件中的孔的制造公差，以 便將它們與框架相連。這導(dǎo)致粘結(jié)到待連接的兩個部分中的兩個嵌入 件在位置和角度兩個方面的未對準(zhǔn).因此，傳統(tǒng)的連接元件還必須包 括用以考慮和補(bǔ)償這種未對準(zhǔn)的元件。同樣，由于嵌入件由金屬材料 制成，因此其沿縱向的熱膨脹不為零.該縱向為剛度方向，該方向確 定模塊相對于參考結(jié)構(gòu)的位置.這個位置理論上應(yīng)該隨著溫度變化而 盡可能的保持不變，并且還必須在內(nèi)部進(jìn)行補(bǔ)償。同樣，傳統(tǒng)的連接 體還需要一個將連接元件鎖在反射鏡模塊設(shè)置的位置中的元件.根據(jù) 以上討論應(yīng)當(dāng)理解，按照慣例所需的連接體在設(shè)計和實(shí)現(xiàn)方面非常復(fù) 雜。
"靜態(tài)確定連接體"是以僅約束模塊的六個自由度(D0F)(不多 且不少)進(jìn)行制造的連接體，這意味著模塊以六個自由度安裝到其環(huán) 境中，在理想的情況下，這意味著如果環(huán)境例如由于熱效應(yīng)而發(fā)生變 形(distort)，那么懸掛的模塊僅僅作為一個整體進(jìn)行移動和/或旋 轉(zhuǎn)，但是不會發(fā)生變形.靜態(tài)確定的連接體越小，由于附加的剛度， 環(huán)境的變形越大，在這種情況下，參考框架將引起模塊本身的內(nèi)部變
7形。這是不希望的。
形成傳統(tǒng)的靜態(tài)確定連接體的一種方法是設(shè)計六個相同的連接元 件，其盡可能近的接近撓性桿的功能性。這六個連接元件必須以能夠約 束模塊的六個自由度，但不小于六個自由度的方式來定位和定向。然而， 如前所述，這是非常復(fù)雜的設(shè)計。
一段時間以來，考慮到投影光學(xué)組件中需要的工藝性，可靠性和可 測試性需求，傳統(tǒng)的觀點(diǎn)是提供一種模塊設(shè)計。與傳統(tǒng)模塊設(shè)計緊密相 連的是這些模塊的連接。如所述的那樣，具有高動態(tài)需求的結(jié)構(gòu)的各部 分的連接，如投影光學(xué)組件中所要求的連接利用精密機(jī)械。這樣，通常 提供具有模塊設(shè)計和利用復(fù)雜的連接體連接模塊的投影光學(xué)組件.理想 地，每個模塊都是完全功能的、完全試驗過的單元。因此，將模塊安裝 到其適合的連接體上不會在短期內(nèi)，在其安裝過程中或在長期內(nèi)以任何 方式使完全測試過的單元變形或影響這些單元。如上所述，"靜態(tài)確定連 接"是一種手段。已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，傳統(tǒng)的"靜態(tài)確定連接"的一個缺點(diǎn)是動 態(tài)特性。與結(jié)構(gòu)的動態(tài)特性相關(guān)聯(lián)的需求來源于在例如定位精度方面其 所需的性能說明，并且與其相關(guān)聯(lián)，其中所述性能說明源于設(shè)計圖4象位 置和質(zhì)量的光學(xué)性能的i兌明。
關(guān)于傳統(tǒng)的裝置，已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，不再可能在支承框架中可利用的體積 內(nèi)設(shè)計具有滿足投影光學(xué)組件的動態(tài)需求的靜態(tài)確定連接體的傳感器框 架，同時為裝配，接近和布線等留下空間，并且同時減小內(nèi)部變形，

發(fā)明內(nèi)容
概括地說，本發(fā)明的一個目的是在安裝期間和安裝之后提供滿足動 態(tài)需求的考慮如變形等方面的模塊連接體，同時提供熱去耦裝置.其他 的考慮因素包括模塊與其環(huán)境的電絕緣，
此外，在現(xiàn)代投影光學(xué)組件中，將笫一可移動反射鏡相對于第二反 射鏡以亞納米的精確度進(jìn)行定位.應(yīng)當(dāng)理解，在上述傳統(tǒng)系統(tǒng)中，為了
做到這一點(diǎn)，必須精確地知道五個距離第一傳感器單元和第一傳感器 框架之間的距離，第一傳感器框架和與第一反射鏡模塊相關(guān)聯(lián)的參考框 架之間的距離，與第一反射鏡模塊相關(guān)聯(lián)的參考框架和與第二反射鏡模 塊相關(guān)聯(lián)的參考框架之間的距離，與第二反射鏡模塊相關(guān)聯(lián)的參考框架 和第二傳感器框架之間的距離，以及第二傳感器框架和第二傳感器單元 之間的距離.由于動態(tài)特性與連接體結(jié)構(gòu)相關(guān)聯(lián)，因此與該裝置相關(guān)聯(lián)的進(jìn)一步問題是制造公差和位置精確度.應(yīng)當(dāng)理解，為了從一個傳感器 框架上的一個傳感器到達(dá)另一個傳感器框架上的另一個傳感器，必須通 過八個裝配位置和四個連接體結(jié)構(gòu)。此外，如所提到的，每個結(jié)構(gòu)部件 具有其自己的內(nèi)部不精確度。同樣，每個連接位置具有其自己的不精確 度。因此，結(jié)構(gòu)部件越多，并且連接位置越多，來自每個單獨(dú)的誤差組 成成分的可接受的不精確度值就越小，以便獲得一個不變的可接受值， 該值與一個傳感器框架上的一個傳感器相對于另一個傳感器框架上的另 一個傳感器的位置相關(guān)聯(lián)。后者的值是來自所有因素的總值，這個值為 功能要求，因為其來源于功能說明。部件越多，因素越多，來自每個單 獨(dú)的因素的值可能就越小，以便獲得一個不變的總和來滿足功能要求。
已經(jīng)發(fā)現(xiàn)，傳統(tǒng)的投影光學(xué)組件甚至是由具有低膨脹系數(shù)的玻璃如
Zerodur構(gòu)成的投影光學(xué)組件，且以使其剛度最大化的方式構(gòu)成的投影 光學(xué)組件，與五個距離中的每一個相關(guān)聯(lián)的誤差累加從而使其不可能滿 足投影光學(xué)組件的初始傳感器位置精確度。這會導(dǎo)致受限的成像質(zhì)量，
本發(fā)明的一個目的是克服有關(guān)傳統(tǒng)投影光學(xué)組件存在的問題。特別 地，本發(fā)明的一個目的是改善光學(xué)元件的定位精確度和投影光學(xué)組件的 穩(wěn)定性和動態(tài)特性。本發(fā)明的另一個目的是改善投影光學(xué)組件的工藝性。
根據(jù)本發(fā)明的一個方面，提供一種光刻裝置，包括
-用于提供輻射^:射光束的照射系統(tǒng)；
-用于支撐構(gòu)圖裝置的支撐結(jié)構(gòu)，所述構(gòu)圖寒置用于賦予投射光束帶 圖案的截面;
-用于保持基底的基底臺；和
-用于將帶圖案的光束投射到基底的目標(biāo)部分上的投影光學(xué)組件， 所述組件包括多個可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件的位 置和/或定向的傳感器單元，所迷可移動的光學(xué)元件以彼此隔開的關(guān)系布 置在支承框架上，其特征在于所述支承框架包括至少兩個互連部分構(gòu)成 的一個組件，每個所迷部分可移動地安裝至少一個所逸光學(xué)元件，并且 固定地安裝至少一個所迷傳感器單元，其中所述至少兩個互連部分用作 參考和安裝框架，在該框架中所述光學(xué)元件以所述彼此隔開的關(guān)系進(jìn)行 安裝。
通過提供包括至少兩個互連部分的組件，每個部分可移動地安裝至 少一個光學(xué)元件，并且固定地安裝一個或多個各自的傳感器單元，靜態(tài)確定連接體中包括的傳統(tǒng)、單獨(dú)的參考框架和元件可以省去。特別地， 單獨(dú)的傳感器和參考框架結(jié)構(gòu)由結(jié)合這兩種功能的一個結(jié)構(gòu)來代替。因 此，投影光學(xué)組件的工藝性得到簡化。特別地，設(shè)計和連接體復(fù)雜性減 小。同樣，單個的公差要求減小.此外，由于通過一個支承框架提供支 撐和參考功能，因此改進(jìn)了投影光學(xué)組件的動態(tài)特性。因為不再需要大 量連接體和連接元件，因此連接的復(fù)雜性降低。此外，由于不同部件的 數(shù)目減小，并且由于省去大量連M,因此可以放寬單個公差。
此外，通過省去單獨(dú)的傳統(tǒng)參考框架，制造投影光學(xué)組件所需的隔 板數(shù)目減少。同樣，結(jié)構(gòu)部件的數(shù)目減少以及連接體數(shù)目的相應(yīng)減少， 減小了所需的隔板數(shù)目。此外，之前對于兩個單獨(dú)框架所需的空間被釋 放出來，用于如布線、接近和改善支承框架結(jié)構(gòu)的剛性等其他目的.通
過構(gòu)造多個部分的支承框架，使支承框架以模塊化方式建立而不用參考 或結(jié)合到其他結(jié)構(gòu)中，這增加了元件裝配到投影光學(xué)組件中的可達(dá)性.
此外，工藝性得到改善。例如，關(guān)于裝配，包含一個或多個反射鏡 的部分可以從兩側(cè)接近。反射鏡、傳感器、致動器、布線和可能的任何
其他子模塊都可以放入并安裝到該部分的框架塊上，遠(yuǎn)離并平行于任何 其他裝配，特別是投影光學(xué)組件其他部分的裝配，
在一優(yōu)選實(shí)施方案中，多個部分適合于以堆疊布置的方式彼此互連。 通過將這些部分一個在另一個之上地堆疊，使投影光學(xué)組件的制造得以 簡化。 一旦所有的部分完全裝配及測試后，就需要使其一個在另一個之 上簡單地堆疊以實(shí)現(xiàn)完全功能化的投影光學(xué)組件。特別是，根據(jù)本發(fā)明 可以大大促進(jìn)最后的部件，同時減少生產(chǎn)周期。
在一優(yōu)選實(shí)施方案中，支承框架包括三個部分，其中多個光學(xué)元件 的至少兩個安裝在兩個部分的至少每一個中.通過提供三個部分，使兩 個光學(xué)元件置于其中的兩個部分中，光學(xué)元件的可達(dá)性和電纜布線得到 優(yōu)化，同時優(yōu)化了支承^fe架的機(jī)械特性.此外，改善了傳感器和致動器 的可達(dá)性和任何其他模塊。
在一優(yōu)選實(shí)施方案中，支承框架包括多個嵌入件，其中嵌入件適合 于配置在兩個部分之間，以便在使用時形成連接區(qū)域，從而在裝配狀態(tài) 中使嵌入件彼此接觸，其中由接觸的嵌入件所限定的表面的至少一部分 構(gòu)成參考表面.通過在相鄰部分之間提供嵌入件，并且布置參考表面位 于由接觸的嵌入件構(gòu)成的連接區(qū)域內(nèi)，不僅實(shí)現(xiàn)了對準(zhǔn)，而且作用于連接區(qū)域中支承框架上的任何應(yīng)力都可傳遞到嵌入件而不是傳遞通過支承 框架。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種光刻裝置，包括 -用于提供輻射投射光束的照射系統(tǒng)；
-用于支撐構(gòu)圖裝置的支撐結(jié)構(gòu)，所述構(gòu)圖裝置用于賦予M光束帶 圖案的截面；
-用于保持基底的基底臺；和
-用于將帶圖案的光束投射到基底的目標(biāo)部分上的投影光學(xué)組件， 所述組件包括多個可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件的位 置和/或定向的傳感器單元，所述可移動的光學(xué)元件以彼此隔開的關(guān)系布 置成在支承框架上，其特征在于所述光學(xué)元件可移動地安裝在單個支承 框架上，所述傳感器單元固定地安裝在單個支承框架上，其中所述支承 框架包括用作參考和安裝框架的一個部分，所述光學(xué)元件以所述彼此隔 開的關(guān)系安裝于其中，通過提供可移動安裝于單個支承框架上的光學(xué)元 件，和固定安裝于單個支承框架上的傳感器單元，可以省去單獨(dú)的參考 框架。單獨(dú)的參考和傳感器框架結(jié)構(gòu)由結(jié)合這兩種功能的單個結(jié)構(gòu)所代 替。通過將光學(xué)元件和傳感器單元安裝在單個結(jié)構(gòu)上，可以簡化組件的 制造，并改進(jìn)長期穩(wěn)定性和動態(tài)特性.
在一優(yōu)選實(shí)施方案中， 一個或多個傳感器單元直接安裝在一個或多 個部分中的預(yù)定位置處.通過將一個或多個傳感器單元直接設(shè)置在支承 框架的預(yù)定位置處，使兩個光學(xué)先件之間需要知道的距離數(shù)目減為一個， 即笫一傳感器單元和第二傳感器單元之間的距離.這樣，減少了相關(guān)的 誤測量，同時提高了光學(xué)元件相對于彼此的定位精確度.
在一優(yōu)選實(shí)施方案中，傳感器單元感測各個光學(xué)元件相對于位于一 個或多個部分上或之中的參考表面的位置和/或定向，所述一個或多個部 ^S殳有在一個或多個部分中形成的連接表面，用以容納傳感器單元，其 中連接表面置于預(yù)定位置處，所述預(yù)定位置相對于參考表面預(yù)先確定. 通過在相對于參考表面的預(yù)定位置處提供連接表面，可以提高用于確定 反射鏡的位置和/或定向的精確度.
在一優(yōu)選實(shí)施方案中， 一個或多個部分固定地支撐與所述各個光學(xué) 無件的相應(yīng)一個耦合的一個致動器，該致動器響應(yīng)傳感器單元，用于將 光學(xué)元件移動到預(yù)定位置.通過固定地支撐與一個或多個部分中各個光學(xué)元件耦合的一個致動器，可將在投影光學(xué)組件中用以提供一個光學(xué)元 件相對于第二光學(xué)元件精確對準(zhǔn)的所有那些元件安裝在一個或多個部分 中。這樣，進(jìn)一步簡化了組件的制造。
在另一個實(shí)施方案中，在裝配時，所述部分在基本上水平的平面內(nèi) 彼此連接。以這種方式，這些部分容易裝配，同時任何維修應(yīng)當(dāng)是必要 的，它們也可以容易地拆下，因此可以除去需要維修的部分而不需要拆 卻整個投影光學(xué)組件.這樣，改善了維修的筒易性。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種裝配用于光刻裝置的投影光學(xué)
組件的方法，包括以下步驟 -提供多個可互連的部分；
-在每個部分上以相對于彼此隔開的關(guān)系可移動地安裝多個光學(xué)元 件，并固定地安裝至少一個傳感器元件以4更感測所述多個可移動安裝的 光學(xué)元件之一的位置和/或定向；和
-使所述部分互連以便至少部分地形成單個支承框架，所述支承框 架用作參考和安裝框架，所述光學(xué)可分割元件以所述彼此隔開的關(guān)系安 裝在所迷框架中.
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種裝配用于光刻裝置的投影光學(xué) 組件的方法，包括以下步驟
-提供單個支承框架，其包括用作參考和安裝框架的一個部分，用 于以相對于彼此隔開的關(guān)系設(shè)置的多個光學(xué)元件和與所迷多個光學(xué)元件 之一相關(guān)聯(lián)的傳感器單元，用以確定所述可移動光學(xué)元件的位置和/或定 向；
-在所述框架上可移動地安裝所迷多個光學(xué)元件，并固定地安裝所 述傳感器單元。
根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種器件制造方法，包括以下步驟 _提供基底'，
-利用照射系統(tǒng)提供輻射^:射光束； -利用構(gòu)圖裝置給^M&^的截面賦予圖案；和 -利用權(quán)利要求l-9的任一項限定的投影光學(xué)組件將帶圖案的輻射 光束投射到基底的目標(biāo)部分上.
林申請中，^L發(fā)明的^^裝置糾用于制造IC，但^該S^ilE描述
的光J 裝置可能具有其它應(yīng)用，例如，它可用于制造M光學(xué)系統(tǒng)、用于一
12賴器的引導(dǎo)和檢測圖案、液晶顯示板(LCD)、薄膜磁頭等等。^4頁域的技術(shù) 人員將鄉(xiāng)，在這種可替換的用途范圍中，處^1可術(shù)語"晶片，，或者"管芯" 的使用可認(rèn)為分別與更普通的術(shù)語"絲"或"目標(biāo)部分"同義。在啄;5fe^前 或之后，可以在例如軌逸(通常將抗蝕劑層作用于M并將已曝光的抗性劑顯 影的一種工具)或者計量工具或檢驗工具對il^提到的M進(jìn)行處理。在可應(yīng) 用的地方，i^E的公開可應(yīng)用于這種和頻基底處理工具。另外，例如為了形 成多層IC，可以對M進(jìn)行多^h理，因jtbi^E所用的術(shù)語M也可以涉及包 含多個已處腿的紋
51S使用的術(shù)語"輻射"和"it^"包>^所有類型的電自射，包括紫外 (UV)絲(例如具有365, 248， 193， 157或者126咖的波長)和遠(yuǎn)紫外(EUV) 騎(例如具有5 -20咖的波長范圍)和粒子束，如離子絲者電子束。
i^E使用的術(shù)語"構(gòu)圖裝置"應(yīng)廣義地解釋為能夠給^4t光^J昧予帶圖案 的截面的裝置，從而^S^的目標(biāo)部分中形成圖案。應(yīng)該注意，賦予^t光束 的圖案可以不與基底目標(biāo)部分中的所需圖案精確一致.賦予，it^ 的圖案與在目標(biāo)部分中形成的器^Np集成電路的特珠功ffe^相對應(yīng).
構(gòu)圖裝置可以為透射或a的。構(gòu)圖裝置的示例包:fe^模，可編程反射 鏡陣列，和可編程LCD板，掩模在光刻中是洽知的，它包:fe"V^i制型、 交替相移型、和衰減相移型的掩麟型，以及各種、絲掩麟型.可編程反 射鏡陣列的一個示例采用微小反射鏡的矩M剛，每個^^t鏡能夠獨(dú)立地傾 斜，以便沿不同的方向反射入射的輻射& ^m這種方式，對反射的iL^ii 糊圖。在構(gòu)圖裝置的每+示例中,支撐結(jié)構(gòu)可以是框架或者工作臺，例如所 鋭構(gòu)才緣需要可以固定的或者是可移動的，并且可以確糊圖裝置例:Mi對 于投影系統(tǒng)位于所需的位置.itE^T術(shù)語"中間掩^1"或"掩模"的使用 可以認(rèn)為與更脊逸的術(shù)語"構(gòu)圖M"同:5L
這里使用的術(shù)語"投射系統(tǒng)"應(yīng)廣義地解釋為包含各種類型的投影 系統(tǒng)，包括折射光學(xué)系統(tǒng)，反射光學(xué)系統(tǒng)，和反折射光學(xué)系統(tǒng)，如適合 于所用的膝光輻射，或者適合于其他方面，如使用浸液或使用真空.這 里任何術(shù)語"鏡頭"的使用可認(rèn)為與更普通的術(shù)語"投影系統(tǒng)"同義.
照射系統(tǒng)也可以包含各種類型的光學(xué)元件，包括用于引導(dǎo)、整形或 者控制輻射投射光束的折射、反射、和反折射光學(xué)元件，這種部件在下 文還可共同地或者單獨(dú)地稱作"鏡頭"。
)^]裝置可以具有兩個(二級)或者多個M臺(和/或兩個或者多個掩模臺)。在這種"多錄"器件中，可以并行^^這些附加臺，或者可以在一 個或者多個臺上進(jìn)行準(zhǔn)備步驟，而一個或者多個其它臺用于瀑光.
^^裝置也可以是這#"-種類型，其中基底i^具有相對較高折射率的液 體中，如水，從而填^:影系統(tǒng)的^一個元件與絲之間的空間。浸液也可 以應(yīng)用于光刻裝置中的其他空間，例如，掩驗投影系統(tǒng)的第一個元件之間。 濕浸法^4頁^1公知的，用于增大投影系統(tǒng)的數(shù)值《W圣，


現(xiàn)在僅僅通過例子的方式，參考附圖描述本發(fā)明的各個具體實(shí)施方 式，其中對應(yīng)的參考標(biāo)記表示對應(yīng)的部件
-圖l表示^f艮據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施方式的光刻裝置；
-圖2a表示根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施方案的投影光學(xué)組件；
-圖2b表示根據(jù)本發(fā)明另一實(shí)施方案的投影光學(xué)組件；
-圖3表示圖2a或2b中所示投影光學(xué)組件沿線I-I的橫截面；
-圖4表示投影光學(xué)組件的支承框架的詳-圖5表示投影光學(xué)組件的另一個詳圖，
具體實(shí)施例方式
圖1示奮liiife^示了本發(fā)明一M實(shí)施方案的^"l裝置，該裝置包拾
-照射系統(tǒng)(照射器)IL，用于提供^4t^4t光束PB (例如UV或EUV輻
射)；
-第一支撐結(jié)枸(例如掩模臺)MT，用于支撐構(gòu)圖^ (例如掩模)MA， 并與用于將該構(gòu)圖裝置相對于物體FL精確定位的第一定^fi^置PM
- M臺(例如晶片臺)WT，用于^#1^ (例女r凃lt松汰劑的晶片)W, 并與用于將^M^于物體PL精確定位的第二定^置PW連接；和
-投影系統(tǒng)(例如A^投影透鏡)PL，用于頓it^l圖裝置MA賦予絲 光束PB的圖案成^^iAW的目標(biāo)部分C (例如包f個或多個管芯)上，
如這里指出的，該裝置屬于反射型(例如采用上面提到的反射掩模 或可編程反射鏡陣列的類型).另外，該裝置可以屬于透射型(例如采用 透絲模)。
照射器IL M來自輻射源S0的輻射^。 ^Mt源和;3t^裝置可以是獨(dú)立 的城，例如當(dāng)插射源是等離子放電源時.在這種情況下，不^M7絲源是 構(gòu)^U^裝置的""^分，絲ife^借助于絲收集器從源S0傳輸?shù)秸丈淦鱅L， 所述，收集器^^例如合適的l^t^^/或光譜a^濾光器。在其它情況下，輻射源可以^置的組成部分，例如當(dāng)源是汞燈時。源SO和照射器IL可以稱 為旨系統(tǒng)。
照射器IL可以包,節(jié)裝置，用于調(diào)節(jié)M的角強(qiáng)度分布，~~^地，至
少可以調(diào)節(jié)在照射器光瞳面上強(qiáng)度分布的夕卜和/或內(nèi)徑向量(通常分別稱為a-夕卜和CT-內(nèi) ) 。 照射器提供絲的調(diào)節(jié)絲(conditioned beam)，稱為絲光 束PB，該i^^l^面上具有所需的均勻度和強(qiáng)vt^布。
賄絲PBA^到^^在掩模臺MT上的掩模MA上。躺穿過掩模MA后， PB通過鏡頭PL，該鏡頭將it4聚禁v^i^ V的目標(biāo)* C上。在第 二定^^置PW攤置傳感器IF2 (例襯涉測量裝置)的輔助下，絲臺WT 可以精確^#動，例如在it^PB的M中定位不同的目標(biāo)部分C?？蘣^，例 如^^掩辦中^^出掩模MA后或在掃描期間，可以^^第一定^L置PM 和位置傳感器IF1將掩模MA相對絲PB的^J^進(jìn)行精確定位，^^k ，借助 于長沖^M^:(粗略定位)和短沖 ^:(精確定位)，可以實(shí)現(xiàn)目標(biāo)臺KTT和 WT的移動，這兩個目標(biāo)臺構(gòu)成定^^置PM和PW的-^分?？墒牵诓竭M(jìn)器(與 掃描裝置相對)中，掩模臺MT只與短沖微動裝置絲，或者固定。掩模MA 與基底W可以^^掩模對J^示記M1、 M2和^3it)^示記Pl、 P2進(jìn)4樹準(zhǔn)。
所示的M可以^HR下面M的;^式^^:
1. 在步棘式中，掩模臺MT和絲臺WT !^儲不動，賦予絲ife^的 針圖:t^一次絲到目標(biāo)部分C上(即i^:靜態(tài)曝光)'然后絲臺WT沿X 和/或Y方向移動，從而可以曝光不同的目標(biāo)部分C。在步進(jìn)模式中，曝光區(qū)域
(exposure field)的最;kX寸限制了在單次靜態(tài)曝光中成像的目標(biāo)部分C的 尺寸，
2. 在掃4^li式中，同步掃描掩模臺MT和絲臺WT，同時將賦予^^絲 的圖案絲到目標(biāo)部分C上(即單次動態(tài)曝光)，絲臺WT相對于掩模臺MT 的iH和方向通過投影系統(tǒng)PL的^L(縮小)和圖^^絲性來確定，在掃描 模式中，曝光區(qū)域的最;U^寸限制了在單次動態(tài)啄光中目標(biāo)部分的^^ (沿非 掃描方向)，而掃描移動的長度確定目標(biāo)部分的高度(沿掃描方向).
3. 在其他模式中，掩模臺MT基本保持不動，用于保持可編程構(gòu)圖 裝置，基底臺WT移動或掃描同時將賦予投射光束的圖案投射到目標(biāo) 部分C上。在該模式中， 一般采用脈沖輻射源，并且在基底臺WT每 次移動之后，或者在掃描期間兩個相繼輻射脈沖之間根據(jù)需要更新可 編程構(gòu)圖裝置，這種操作模式可以容易地應(yīng)用于采用可編程構(gòu)圖裝置的無掩模光刻中，所述可編程構(gòu)圖裝置如上面提到的可編程反射鏡陣 列型。
還可以采用上述所用模式的組合和/或變化，或者采用完全不同的 模式。
圖1示出的光刻裝置的例子包括由真空泵VP抽空的真空室vc。 光束PB入射到掩模MA上，隨后入射到真空室VC中基底W的目標(biāo)區(qū) 域上。
所謂的"計量框架，，MF提供獨(dú)立的參考框架，其與主裝置框架機(jī) 械地分開。計量框架例如作為通過空氣彈簧(airmount)(未示出) 支撐的重型臺來實(shí)現(xiàn)，該空氣彈簧提供具有低彈性系數(shù)的彈性支撐。 計量框架MF支撐靈敏元件如干涉儀IF和其他位置傳感器，并使它們 不受振動的影響。投影光學(xué)組件PL通過彈性元件12和支架11支撐 在計量框架MF上。
圖2a示出了投影光學(xué)組件PL的一個實(shí)施方案。特別地，圖2a示 出了包括支承框架20的投影光學(xué)組件PL,該支承框架包括多個部分 21， 22， 23,圖2b示出了本發(fā)明的另一實(shí)施方案，特別地，示出了 包括早個支承框架200的投影光學(xué)組件PL。這是在圖2a和2b中所示 的兩個實(shí)施方案之間^一的區(qū)別.罔此，除非另外指出，否則下面關(guān) 于圖2a的描述同樣適用于圖2b。投影光學(xué)組件PL包含許多光學(xué)元件 和支承框架20，光學(xué)元件優(yōu)選光反射器，如主動光反射鏡Ml-M6。對 反射鏡Ml-M6進(jìn)行布置，豫掩模MA成像到基底W上.反射鏡和支承 框架21優(yōu)選由具有低膨脹系數(shù)的玻璃如Zerodur或ULE (超低膨脹) 玻璃(Zerodur和ULE為商標(biāo))構(gòu)成。根據(jù)圖1可以理解，反射鏡Ml-M6 和支承框架20具有一個在計量框架MF上的支架.支承框架20通過 彈性元件12支撐以使支承框架20不受計量框架MF的振動的影響。 盡管為了清楚，在圖1中只示出了一個彈性元件12，但是應(yīng)當(dāng)理解， 支承框架20可以通過許多平行的這種元件來支撐.
在圖2a示出的例子中，支承框架包括三個部分21， 22和23 每 個部分包含兩個反射鏡.通常，反射鏡M6懸桂在部分23中。除反射 鏡M5外的所有反射鏡利用洛倫茲(Lorentz)致動器活動地定位.由 于反射鏡M5不必活動地定位，因此沒有配備傳感器和致動器。反射 鏡M5懸桂在部分23下面，并且固定到支承框架20上，提供多個結(jié)構(gòu)元件(未示出)使反射鏡M5與周圍的支承框架20分離，同時使其 剛性地懸掛。如上所述，在另一可選的實(shí)施方案中，反射鏡M5不固 定，而是按照與反射鏡M1-M4和M6相同的方式安裝。
在另外的實(shí)施方案中，根據(jù)特殊的投影光學(xué)組件和設(shè)計者的選擇 可以提供任何數(shù)量的部分，這些部分可以構(gòu)造成包括任何數(shù)量的反射 鏡或者根本不包括反射鏡，投影光學(xué)組件中反射鏡的總數(shù)量#>據(jù)投影 光學(xué)組件的具體應(yīng)用而發(fā)生變化。
對于包括多個部分的實(shí)施方案，這些部分可以按照堆疊的排列進(jìn) 行設(shè)置，在一個實(shí)施方案中，它們可以筒單地一個堆疊在另一個之上 從而形成投影光學(xué)組伴。設(shè)想其他可選的實(shí)施方案，其中例如這些部 分可以彼此并排地放置，或者設(shè)想所述實(shí)施方案的結(jié)合，其中例如投 影光學(xué)組件的一些部分一個堆疊在另一個之上，同時另一部分沿著側(cè) 面對準(zhǔn).本發(fā)明并不限于這一方面，因為每個部分可適合于與其相鄰 部分互連。在一可選的實(shí)施方案中，如圖2b所示，投影光學(xué)組件PL 可以只包括一個"部分"。在這樣的實(shí)施方案中，盡管不需要使該部 分與其他部分互連，但是如果需要可以提供互連元件以使該部分與其 他部分連接.圖2a中所示的每個部分，或圖2b中所示的單個支承框 架結(jié)合了向參考框架提供安裝框架的功能性。結(jié)合的功能性意味著不 需要將各個部分安裝在單獨(dú)的參考框架中，因為所有的部分或單個支
承框架200借助于支承框架20相對于彼此作為參考。
在一優(yōu)選實(shí)施方案中，連接區(qū)域由稍微升高的區(qū)域形成，其可以 作為框架結(jié)構(gòu)的一個整體部分形成，在該具體實(shí)施方案中，嵌入件可 以省去.如下更詳細(xì)的討論，在可選的實(shí)施方案中，其中框架結(jié)構(gòu)不 由Zerodur制成，而是由其他比Zerodur更不易碎和更堅固的材料制 成，優(yōu)選這種實(shí)施例.當(dāng)使用如Zerodur的材料時，這種材料確實(shí)具 有一定的易碎性，因此提供單獨(dú)的嵌入件是有利的。
為了進(jìn)一步減小由于熱效應(yīng)或松弛效應(yīng)引起連接力變化而導(dǎo)致的 框架變形，可以任選提供附加的連接元件來減輕這些作用，盡管從材 料特性的觀點(diǎn)來看，這樣的嵌入件不是必要的.在附加的嵌入件可任 選包括在內(nèi)的情況下，連接體設(shè)計成吸收這些應(yīng)力，同時保持這些應(yīng) 力遠(yuǎn)離實(shí)際的支承框架.
因此， 一般地說，僅僅作為例子，根據(jù)材料和設(shè)計，連接嵌入件
17可以是用不同材料制成的單獨(dú)部分，該部分通過粘結(jié)、螺栓等連接到 框架的其他部分，也可以是由相同材料制成的單獨(dú)部分，該部分通過 粘結(jié)、螺栓、焊接等連接到框架的其他部分，還可以是框架結(jié)構(gòu)的組 成部分，該部分通過切割、鋸斷、鉆等精細(xì)地與其圍繞物隔開。此外，
可以選擇性地提供這樣的嵌入件，例如僅執(zhí)行下迷功能提供非易碎 材料的連接體，能夠抵抗表面應(yīng)力的連接表面，能夠抵抗并引導(dǎo)夾緊 力的反作用力的結(jié)構(gòu)，保持夾緊引起的應(yīng)力遠(yuǎn)離支承框架的結(jié)構(gòu)。 在上述實(shí)施方案中，支承4匡架20， 200由Zerodur制成。然而，
本發(fā)明并不限于這一方面,本發(fā)明涉及提供一種不管是吝分成多個部 分的支承框架，來代替單獨(dú)的參考框架，所述參考框架具有以靜態(tài)確 定方式安裝的多個單獨(dú)的反射鏡模塊。如上所述，本發(fā)明提供以下優(yōu) 點(diǎn)，如改進(jìn)的簡單性和穩(wěn)定性，更少的部件，更少的連接體，不嚴(yán)格 的公差，改善的動態(tài)特性，改善的工藝性和改善的可測試性。這些優(yōu) 點(diǎn)也可以利用由其他超低膨脹(ULE)材料，金屬材料如殷鋼、鋁， 或其他陶瓷材料制成的支承框架獲得，
這些部分可以通過夾緊裝置27 (參見圖2a)彼此連接，該夾緊裝 置包括桿32，優(yōu)選兩端有螺紋的金屬桿，其貫穿在支承框架20中鉆 的孔并在一端或兩端連接到對桿施加力的裝置上。 一般將13000牛頓 范圍內(nèi)的力不變地作用于桿。在圖2a中，盡管為了清楚，只示出了 一個夾緊裝置27，但是優(yōu)選地，這些部分在三個或四個相對較大的區(qū) 域處被夾緊。如果需要，可以提供附加的固定無件(未示出)。
利用上迷適合的或根據(jù)上述的其他材料，支承框架20， 200由 Zerodui塊，管，板和其他結(jié)構(gòu)以實(shí)現(xiàn)足夠剛度的方式構(gòu)成.根據(jù)動 態(tài)需要，提供附加的元件以增加支承框架的剛度可能是必要的，如提 供另外的Zerodur塊元件，應(yīng)當(dāng)理解，為了減小投影光學(xué)組件上任何 振動或沖擊的影響，支承框架20， 200在抗扭剛度以及抗彎剛度方面 必須具有足夠的剛度.構(gòu)成支承框架的塊狀結(jié)構(gòu)和平板玻璃結(jié)構(gòu)一旦 連接，就不打算使它們再彼此分開.但是，如杲有這種需要，那么可 以將它們拆開.支承框架元件以穩(wěn)定的方式，例如通過粘結(jié)來彼此連 接.對支承框架的更細(xì)微的部分如連接表面的形成進(jìn)行機(jī)械加工，例 如通過磨成支承框架，或者通過在支承框架的預(yù)定位置處提供安裝 架。為了提供夾緊裝置27，還在支承框架20中鉆孔。假定除反射鏡M5外，每個反射鏡M1-M6都配備檢測與它相關(guān)聯(lián)的 反射鏡位置的傳感器單元25，和響應(yīng)傳感器單元而將反射鏡移動到預(yù) 定位置的致動器26。通常，將來自所有傳感器的傳感器信息結(jié)合以便 控制所有的致動器，從而控制反射鏡的六個自由度。因此， 一個傳感 器一般不會只與一個致動器相關(guān)聯(lián)。由于能夠以六個自由度來移動反 射鏡是必要的，因此使用的傳感器單元和致動器的類型與傳統(tǒng)投影光 學(xué)組件中使用的相同.例如，除可以保持固定的反射鏡M5外，為每 個反射鏡Ml-M6提供包括反應(yīng)物質(zhì)和磁性重力補(bǔ)償器的洛侖茲致動器 單元。特別地，提供三個致動器單元26，每個單元包含彼此成直角的 兩個致動器，在一端處，這些單元連接到反射鏡本身，在另一端處， 與傳統(tǒng)的投影光學(xué)組件相反，每個致動器單元直接安裝在支承框架中 的連接表面上，類似地，為每個反射鏡，提供三個具有極高精確度的 傳感器單元25。每個傳感器單元25能夠測量兩個維度。因此，為了 測量所有的六個自由度，提供三個傳感器單元25,傳感器單元25直 接安放(receive)在支承框架20中提供的連接表面上.每個傳感器 單元25相對于參考表面24進(jìn)行設(shè)置，利用這種關(guān)系實(shí)現(xiàn)一個反射鏡 相對于第二反射鏡的定位。在一具體實(shí)施方案中，參考表面24位于 支承框架中或其上.特別地，調(diào)節(jié)這些部分以使它們在連接區(qū)域34 彼此連接，其中參考表面包括至少一部分所述連接區(qū)域34，并且其中 這些部分的至少一個配有接收傳感器單元25的連接表面24,并適合 于容納相應(yīng)的反射鏡'
圖3表示了圖1中所示投影光學(xué)組件沿線I-I的橫截面。在圖3 所示的實(shí)施例中，垂直地示出了連接區(qū)域.本發(fā)明并不限于這一方面， 因為該連接區(qū)域的角度對本發(fā)明來說不是必需的。實(shí)際上它可以是水 平的或成任何其他角度.在該實(shí)施例中，反射鏡M6為六邊形.傳感 器單元25和致動器26置于反射鏡M6的交替邊上，支承框架20配有 連接表面30， 31,分別用于容納傳感器單元25和致動器26.如上所 述，每個傳感器單元25包括兩個傳感器元件。如果必要，傳感器單 元25也可以包括具有已知尺寸的隔板，其中對隔板進(jìn)行布置，從而 將傳感器元件置于預(yù)定位置處.連接表面30， 31在支承框架20上或 之中形成.在該實(shí)施例中，將示出的支承框架材料的塊布置成使其延 伸到支承框架腔28中，同樣示出了桿32，其穿過支承框架20延伸到圖的平面中，還示出參考平面24位于圖3的平面之外，象征性地表 示成一個圓。應(yīng)當(dāng)理解，參考表面的尺寸沒有限制，其取決于每一種 應(yīng)用。例如，參考平面可以構(gòu)造成管或空心梁。它們可以具有正方形 的橫截面，但是就結(jié)構(gòu)或形狀而言不受限制。
圖4表示了投影光學(xué)組件的支承框架的詳圖。支承框架20包括由 管如具有正方形橫截面的空心梁48構(gòu)成的框架.再者，參考平面24 象征性地以圓24示出。塊42, 44和46設(shè)在梁20上，這些塊的面向 上的表面分別用作傳感器單元、致動器和反射鏡的連接表面30, 40, 50。應(yīng)當(dāng)理解，塊的形狀不是關(guān)鍵的，這取決于每個投影光學(xué)組件的 具體幾何形狀。塊42， 44, 46是元件的示意性表示，利用它們連接 傳感器、致動器和反射鏡。實(shí)際的連接可以是水平，垂直或任何其他 角度或方向.同樣，上表面提供連接表面不是必需的。在另一個未示 出的實(shí)施方案中，連接表面可以形成在凹進(jìn)部分中，該凹進(jìn)部分形成 在支承框架20中，或者連接表面可以形成在凹進(jìn)部分和突出結(jié)構(gòu)的 組合中。特別地，支承框架部分可以為任何形狀或任何形式，不需要 由具有任何特殊橫截面的管來構(gòu)成，部件可以由固體材料構(gòu)成，可以 為I-、 T-、或U-形梁。本發(fā)明對于具體部件的形狀沒有限制，只要 支承框架具有足夠的剛度，本發(fā)明對于所有部件、連接和所需的測量 提供進(jìn)出通道和提供表面。在特定的實(shí)施方案中，例如，它可以由固 體材料構(gòu)成，在其中形成凹槽以允許反射鏡，傳感器，致動器，電纜 和可能需要的其他任何單元放入其中，此外，塊46不是必需的。由 塊46提供的功能性是為了向反射鏡提供支撐。特別地，塊46為反射 鏡提供軟性支撐，所謂的重力補(bǔ)償器.這是一個剛度盡可能低的單元， 但是其能夠承載反射鏡的重量.可以在兩個實(shí)施方案之一中設(shè)置重力 補(bǔ)償器，在第一實(shí)施方案中，單獨(dú)的重力補(bǔ)償器由塊46提供，可包 括彈簧，磁性組件，或氣動組件等。在該實(shí)施方案中，需要塊46.在 該實(shí)施方案中，重力補(bǔ)償器可以設(shè)置在反射鏡和支承框架20之間。 另外，提供內(nèi)部重力補(bǔ)償器，由此使每個致動器都配備有自己的重力 補(bǔ)償器，例如彈簧，附加的磁體或氣動組件，或者通過提供特殊的預(yù) 定電流穿過其線團(tuán)。在該可選的實(shí)施方案中，不需要塊46,
圖5表示投影光學(xué)組件的另一個詳圖。特別地，是穿過兩個部分 之間的連接體的橫截面.提供優(yōu)選由低膨脹系數(shù)材料如Invar (Invar為商標(biāo))制成的嵌入件51。嵌入件51設(shè)置在相鄰部分21， 22之間。 Invar的膨脹系數(shù)雖然很低，但是沒有如Zerodur的材料那樣低， Zerodur是用于支承框架的一種材料。因此，希望嵌入件51的尺寸保 持盡可能的小，以便減小隨著時間過去因Invar熱膨脹而引入系統(tǒng)中 的任何可能的誤差.關(guān)于熱穩(wěn)定性，對于光刻裝置的典型掃描花費(fèi)大 約5分鐘，因此，希望投影光學(xué)組件PL的動態(tài)和熱穩(wěn)定性可以保持5 分鐘的時間。為了連接兩個部分21， 22，提供兩個嵌入件51。 一個 嵌入件51與第一部分21連接，第二嵌入件51與第二部分22連接。 在裝配的裝置中，嵌入件51適合于設(shè)置在兩個部分之間，用以在使 用中形成連接區(qū)域，從而在裝配狀態(tài)時嵌入件51彼此接觸，其中由 接觸的嵌入件所限定的至少一部分表面構(gòu)成參考表面。嵌入件51可 以用膠52粘結(jié)以形成整體框架，嵌入件的形狀和形式取決于兩個部 分之間連接區(qū)域內(nèi)所述部分的具體形狀和形式.在示出的實(shí)施例中， 嵌入件為中空的錐形元件，其中錐形的較寬底部被封閉，錐形的頂點(diǎn) 設(shè)有孔，以允許為帶螺紋的金屬桿32 (參見圖2a)提供夾緊力.錐 形具有三角形的垂直橫截面形狀，以便得到與嵌入件51和支承框架20 之間接觸的同樣的表面區(qū)域。在所述部分中嵌入件的數(shù)目，即連接面 的數(shù)目，例如可以是三個或者四個。當(dāng)從上方觀察時，如圖3所示， 三個嵌入件以三角形排列設(shè)置.當(dāng)從上方觀察時，四個嵌入件以矩形 排列設(shè)置。進(jìn)一步調(diào)整嵌入件51以便當(dāng)力F例如夾緊力作用于嵌入 件上時，力F通過嵌入件傳遞，而不是傳遞到支承框架20中，這提 供了如下優(yōu)點(diǎn)，即支承框架材料不會承受例如由蠕變、關(guān)聯(lián)或裂紋形 成而引起的任何過分的應(yīng)力，所述應(yīng)力可能影響框架的長期穩(wěn)定性。 在最壞的情況下，它甚至可能導(dǎo)致框架的倒塌，作為嵌入件的優(yōu)選材 料之一的Invar的特性是其抵抗應(yīng)力比Zerodur或其他玻璃材料更 佳.
盡管上面巳經(jīng)描述了本發(fā)明的各個具體實(shí)施方案，但是應(yīng)當(dāng)理解， 本發(fā)明可以按照不同于所述的方式實(shí)施.說明書不意味著對本發(fā)明的限 制。
權(quán)利要求
1.一種光刻裝置，包括用于提供輻射束的照射系統(tǒng)；用于支撐構(gòu)圖裝置的支撐結(jié)構(gòu)，所述構(gòu)圖裝置用于給所述輻射束的截面賦予圖案；用于保持基底的基底臺；和用于將帶圖案的光束投射到基底的目標(biāo)部分上的投影光學(xué)組件，所述投影光學(xué)組件包括多個可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件的位置和/或方向的傳感器單元，所述可移動的光學(xué)元件以隔開的關(guān)系布置在支承框架上，所述支承框架包括至少兩個互連部分構(gòu)成的一個組件，每個所述部分可移動地安裝所述光學(xué)元件中的至少一個，并且固定地安裝所述傳感器單元中的至少一個，其中所述至少兩個互連部分用作參考和安裝框架，在所述框架中所述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān)系進(jìn)行安裝。
2. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻裝置，其中所述傳感器單元直接安裝 到所述部分中或之上的預(yù)定位置處。
3. 根據(jù)權(quán)利要求2所述的光刻裝置，其中所述傳感器單元感測所述各個光學(xué)元件相對于位于所述部分上或之中的參考表面的位置和/或方 向，其中所述部分設(shè)有在所述部分中形成的連接表面，用以容納所述傳感 器單元，其中所述連接表面置于所述預(yù)定位置處，'所述預(yù)定位置相對于所述參考表面被預(yù)先確定。
4. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻裝置，其中所述多個部分適合于以堆疊的布置方式彼此互連。
5. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻裝置，其中所述支承框架包括三個部分，其中所述多個光學(xué)元件中的兩個中的每一個安裝在所述部分中的至少 兩個中。
6. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻裝置，其中所述支承框架包括多個嵌 入件，其中所述嵌入件適合于配置在所述部分之間，以便在使用時形成連 接區(qū)域，從而在裝配狀態(tài)中使得所述嵌入件彼此接觸，其中由所述彼此接觸的嵌入件所限定的表面的至少一部分構(gòu)成參考表面。
7. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻裝置，其中所述部分固定地支撐與所 述多個光學(xué)元件中的所述每一個光學(xué)元件耦合的致動器，所述致動器響應(yīng) 于所述傳感器單元中的一個，用于將所述光學(xué)元件移動到預(yù)定位置。
8. 根據(jù)權(quán)利要求l所述的光刻裝置，其中所述部分在基本上是水平 的平面內(nèi)彼此連接。
9. 一種光刻裝置，包括 用于提供輻射束的照射系統(tǒng)；用于支撐構(gòu)圖裝置的支撐結(jié)構(gòu)，所述構(gòu)圖裝置用于給所述輻射束的截 面賦予圖案；用于保持基底的基底臺；和用于梧帶圖案的光束投射到基底的目標(biāo)部分上的投影光學(xué)組件，所述 投影光學(xué)組件包括多個可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件 的位置和/或方向的傳感器單元，所述可移動的光學(xué)元件以隔開的關(guān)系布 置在單個支承框架上，所述光學(xué)元件可移動地安裝，并且所述傳感器單元 固定地安裝在所述支承框架上，其中所述支承框架包括一個部分，所述部 分用作參考和安裝框架，在所述框架中所述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān)系進(jìn) 行安裝。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻裝置，其中:所述傳感器單元直接安 裝到所述部分中或之上的預(yù)定位宣處。
11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的光刻裝置，其中所述部分固定地支撐與 所述多個光學(xué)元件中的所述每一個耦合的致動器，所述致動器響應(yīng)于所述 傳感器單元中的一個，用于將所述光學(xué)元件移動到預(yù)定位置。
12. —種裝配用于光刻裝置的投影光學(xué)組件的方法，所述方法包括以 下步驟將多個光學(xué)元件可移動地安裝在多個能夠互連的部分上，以使得每個光學(xué)元件以彼此隔開的關(guān)系設(shè)置；將至少一個傳感元件固定地安裝在所述部分中的至少一個上，從而感測所述光學(xué)元件之一的位置和/或方向；和將所述部分互連，從而至少部分地形成單個可分割的支承框架，所述 支承框架用作參考和安裝框架，所述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān)系安裝在所 述框架中。
13. —種裝配用于光刻裝置的投影光學(xué)組件的方法，所述方法包括以下步驟以彼此隔開的關(guān)系將多個光學(xué)元件可移動地安裝在單個支承框架上，所述支承框架包括一個部分，所述部分用作參考和安裝框架；和將與所述多個光學(xué)元件中的一個關(guān)聯(lián)的傳感器單元固定地安裝在所 述支承框架上，所述傳感器單元設(shè)置以確定所述光學(xué)元件的位置和/或方 向。
14. 一種器件制造方法，包括以下步驟 使用構(gòu)圖裝置給輻射束賦予圖案；和使用投影光學(xué)組件將帶圖案的輻射束投射到基底的目標(biāo)部分上，所述 投影光學(xué)組件包括多個可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件 的位置和/或方向的傳感器單元，所述可移動的光學(xué)元件以隔開的關(guān)系布 置在支承框架上，所述支承框架包括至少兩個互連部分構(gòu)成的組件，每個 所述部分可移動地安裝所述光學(xué)元件中的至少一個，并且固定地安裝所述 傳感器單元中的至少一個，其中所述互連部分用作參^^和安裝框架，在所 述框架中所述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān)系進(jìn)行安裝。
15. —種器件制造方法，所述方法包括以下步驟 使用構(gòu)圖裝置給輻射束賦予圖案；和使用投影光學(xué)組件將帶圖案的輻射束投射到基底的目標(biāo)部分上，所述 投影光學(xué)組件包括多個可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件 的位置和/或方向的傳感器單元，所述可移動的光學(xué)元件以隔開的關(guān)系布 置在單個支承框架上，所述光學(xué)元件被可移動地安裝，并且所述傳感器單 元被固定地安裝在所述支承框架上，其中所述^承框架包括一個部分，所 述部分用作參考和安裝框架，在所述框架中所述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān) 系進(jìn)行安裝。
16. —種用于光刻裝置的投影光學(xué)組件，所述投影光學(xué)組件包括多個 可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件的位置和/或方向的傳感 器單元，所述可移動的光學(xué)元件以隔開的關(guān)系布置在支承框架上，所述支 承框架包括至少兩個互連部分構(gòu)成的一個組件，每個所述部分可移動地安 裝所述光學(xué)元件中的至少一個，并且固定地安裝所述傳感器單元中的至少 一個，其中所述至少兩個互連部分用作參考和安裝框架，在所述框架中所 述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān)系進(jìn)行安裝。
17. —種用于光刻裝置的投影光學(xué)組件，所述投影光學(xué)組件包括多個 可移動的光學(xué)元件和多個用于感測各個光學(xué)元件的位置和/或方向的傳感 器單元，所述可移動的光學(xué)元件以隔開的關(guān)系布置在單個支承框架上，所 述光學(xué)元件可移動地安裝，并且所述傳感器單元被固定地安裝在所述支承 框架上，其中，所述支承框架包括一個部分，所述部分用作參考和安裝框 架，在所述框架中所述光學(xué)元件以所述隔開的關(guān)系進(jìn)行安裝。
全文摘要
光刻裝置包括用于將帶圖案的光束投射到基底的目標(biāo)部分上的投影光學(xué)組件(PL)，所述組件包括多個可移動的光學(xué)元件(M1-M6)和用于感測各個光學(xué)元件(M1)的位置和/或定向的多個傳感器單元(25)，所述可移動光學(xué)元件(M1-M6)以彼此隔開的關(guān)系布置在支承框架(20，200)上，其中支承框架(20)通過至少兩個互連部分(21，22，23)的一個組件至少部分地形成，每個所述部分可移動地安裝至少一個所述光學(xué)元件(M1-M6)，并且固定地安裝至少一個傳感器單元(25)，其中支承框架(20)用作參考和安裝框架，所述光學(xué)元件以所述彼此隔開的關(guān)系安裝在該框架中。在可選的實(shí)施方案中，光學(xué)元件(M1-M6)可移動地安裝在單個支承框架(200)上，傳感器單元(25)固定地安裝在單個支承框架(200)上。
文檔編號G03F7/20GK101614968SQ200910165718
公開日2009年12月30日 申請日期2004年9月3日 優(yōu)先權(quán)日2003年9月4日
發(fā)明者D·J·P·A·弗蘭肯 申請人:Asml荷蘭有限公司