專利名稱：使用兩件式蓋子保護(hù)模版的系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本申請涉及光刻技術(shù)，尤其涉及不使用薄皮對光刻模版進(jìn)行保護(hù)。
背景技術(shù)：
光刻技術(shù)是一種在襯底的表面上產(chǎn)生特征的方法。襯底可以包括在制造平板顯示器、電路板、各種集成電路等中所使用的那些村底。例如可以使用半導(dǎo)體晶片作為襯底來制造集成電路。
在光刻技術(shù)中，使用模版將所需圖案轉(zhuǎn)移到村底上。模版可以由對所使用的光刻波長來說是透明的材料制成。例如在可見光的情況下使用玻璃。模版也可以形成為能夠反射所使用的光刻波長，例如反射極紫外線(EUV)。模版上印有圖像、針對使用模版的具體系統(tǒng)來選擇模版的尺寸。例如可以使用6英寸x 6英寸并且厚度為1/4英寸的模版。在光刻過程中，放置在晶片臺上的晶片被暴露于根據(jù)模版上所印圖像而投射到晶片表面上的圖像。
所投射的圖像使沉積在晶片表面上的層(例如光致抗蝕劑層)的特性發(fā)生變化。這些變化與曝光過程中投射到晶片上的特征相對應(yīng)。在曝光之后，該層可以被刻蝕，以形成帶圖案的層。該圖案對應(yīng)于在曝光過程中投射到晶片上的那些特征。然后使用該帶有圖案的層來除去該晶片內(nèi)的在下面的結(jié)構(gòu)層(例如導(dǎo)電層、半導(dǎo)電層或絕緣層)的曝光部分。重復(fù)該過程以及其它步驟，直至在晶片的表面上形成所需的特征。
從上面的描述中可以清楚地看到，通過光刻技術(shù)而產(chǎn)生的特征的準(zhǔn)確位置和尺寸直接取決于投射到晶片上的圖像的精度和準(zhǔn)度。亞100nm光刻的嚴(yán)格性不僅對光刻工具、而且也對模版提出了嚴(yán)格的要求。沉降在模版上的空氣中的顆粒和灰塵會導(dǎo)致晶片上的缺陷。模版平面內(nèi)的小的圖像變形或移位可能比臨界尺寸和重疊誤差預(yù)計值更大。傳統(tǒng)的解決方法是采用永久性固定透明材料薄片作為模版的薄皮。
該薄皮在光刻過程的所有步驟中都保留在原位。薄皮在改善投射到晶片上
3的田像的準(zhǔn)射面具有雙重功禮首先，薄皮用于保護(hù) ^與錄污染物直
絲觸.如上所述，沉降^BU的^粒會產(chǎn)生田像變形，西此必領(lǐng)除去.但 晃從^6U除去顆粒會導(dǎo)致對艦的損壞，罔為這種除去可能會涉AU與棋 JWUL^^觸,當(dāng)使用薄皮時，顆粒會沉降在薄皮上而不是;ilAU.因此必須清 潔的是薄皮.清法薄皮而不是^JM^X1的完整汰來"^害較小，因?yàn)樵谠撉?潔過程中樣Jl由其薄皮所保護(hù).
薄皮所產(chǎn)生的第二個功效與薄皮的間瞇(standoff)有關(guān).在HMy^t中, 聚焦平面對應(yīng)于^KJi印制的田像的位置.i^過^薄皮，系統(tǒng)中的任何顆粒 會沉降在薄皮上而不是mji.利用薄皮的厚充以及由此而在薄皮的表面和 m的帶田lML面之間狄的距離，這輛財會處于聚焦平面.由于薄皮將 顆絲升而不在聚焦平面，因jtt^到村;Ui的田像會^Ht絲粒的可給汰
Jui的這種方法在許多艦的^W加:La術(shù)中3fiUMMf.因她用斷系 4tjt光穿過m^薄皮的系統(tǒng)中;l^便的，因?yàn)橹苅fci:明薄皮和^ftl的材料是 可以待到的.但是該薄皮方法不適用于EUV應(yīng)用，閎為所使用的先的^LA長mJT 易在穿過氣體或閨體時被^
因此，肖前沒有材料對EUV足夠透明而可以用于制錄皮，^JV輛技術(shù) 中，EUV不穿過皿，但Jt^射離開m的困像倒.該^L^稱為A4t先刻.如果 在反射iti4過程中使用薄皮，刑EUY必須兩次穿過薄皮'一^L射向M而另一 JM^4t離開瓶罔it ^EUV加J^t術(shù)中，與薄皮有關(guān)的^T幼失妙倍.
因此，需^—種系#方法，可以保護(hù) 1 1不受污染，它a不會 H氐穿 過系統(tǒng)的EUV光黃. 發(fā)明m
本發(fā)明的實(shí)施方案提^種傳輸掩棋的方法，包^b下步霧(a》用可移 式顆粒益子4Ut掩模的第一部分，形成掩棋-益子構(gòu)選(b)糾構(gòu)狄閉在一 個氣密的盒子中，該盒子包括有掩棋運(yùn)栽部分以及與該掩般栽部分分開的果 以及(c〉^a構(gòu)ife^盒子內(nèi)進(jìn)行傳搶.
本發(fā)明的實(shí)施方案提^~種用于傳》#"祺的氣密的盒子，該盒子包括掩
棋運(yùn)栽部分，軍；用于防止氣^Mt掩橫狄部妙R間流動的氣密^;以
及用于將J(L^該掩棋運(yùn)栽部拷時性的連接和閨定的閂銷.4本發(fā)明的實(shí)施方案提^-種傳輸、襯錄加工掩祺的方法，fe^下步霧
(a)用可移式顆粒蓋子4U掩模的笫,分，形^*模-益子構(gòu)逸'(b)糾 構(gòu)造封閉在一個氣密的*子中，該盒子包括有掩棋i^MP分以及與該掩^i^ 部分分開的軍；(c)將帶有該構(gòu)造的盒子傳送到加工工具，該工J^有以下每個 部件中的至少一#:脫吊搶器(dei)odder〉、 ^Uf^Jg、 《|*UF*IM ^、負(fù)栽鎖 (loadlock)、真空腔、真空觀器、以及掩棋i^; (d)將帶有該構(gòu)造的盒子 ;W脫吊凇器的第一開口上，使得盒子的軍防止氣體iiil該第一開口而流動； (e〉用清潔氣^ff匕脫吊搶器的內(nèi)部；(f)將掩棋狄部妙革分開而打賴盒 子，絲軍在原仗用于贈氣體流動，；^#棋運(yùn)栽部^*構(gòu)姊動到脫吊 搶器的內(nèi)部；(g)利用^**^接逸比笫二脫吊搶器開口而# 構(gòu)《!^阮吊 搶器抽到^f^內(nèi)，并微構(gòu)iti4it第一貞栽鎮(zhèn)開口鈔'J負(fù)栽鋪內(nèi)部；(h)抽 空負(fù)栽鎮(zhèn)；(i)利用真空鵬5Mm構(gòu)ifciit第二負(fù)栽銷從該負(fù)栽銷中抽出， 并#*構(gòu)造移動到真空腔內(nèi)；(j)^構(gòu)it^Jl在掩棋itJLt,使INfr棋的^t 蓋部分與JU^t觸'，(k)利用該支jL^^掩樣(l)利用真空m器，將並 子與4^^開，取M子；On)加工掩樣
本發(fā)明的實(shí)施方案提供了一種負(fù)栽鎖，包^具有至少兩個開口的封套； 與該封^笫一開口M^空氣側(cè)門問；與該封輛第二開口耦^真空倒門 閱；位于封套內(nèi)的用于#^掩棋的掩 ^#器；位于封套內(nèi)的用于IU掩模的 可移動圓頂；以及用于移動兩頂?shù)腤頂促動器，從而該鵬頂可以ltt位;MU 該掩樣
本發(fā)明的實(shí)施方案提#""種將掩 ^空氣壓力過鈔!)負(fù)栽鎮(zhèn)中的真空的 方法，包括如下步麻(a〉將掩^:0^負(fù)栽鎖內(nèi)；(b)將掩湖Bl頂4UL以 防止負(fù)栽銷中的空氣中的顆li^達(dá)掩^: (c)關(guān)閉負(fù)栽鎖；(d)抽空負(fù)栽鋪；(e) 打開負(fù)栽鎖通向真空；(f)縮回兩頂而使^^模不^4U;以及(g)從負(fù)栽銷中
本發(fā)明的實(shí)施方案提^種傳輸、^ts^加i^橫的方法，包括如下步霧
(a)將^^棋封閉在一個氣密的盒子中，該盒子包括有掩棋iMl部分以及與該掩 棋運(yùn)栽部分分開的軍；(b)將帶有該掩模的盒子傳i&^加工工具，該工M有iit 下每^件中的至少一種脫吊艙器、to^tfe、 《 iEf^tlMM&、負(fù)栽銷、i 空腔、真空諷器、以及掩模iJi; (c〉將帶有該掩模的糴子^t 5EJtt吊舦S的第
5一開口而流動；(d)用清潔氣^MHt 脫吊艙器的內(nèi)部；(e)將掩棋運(yùn)我部^^革分開而打^a:盒子，##革在原佐 (f〉利用賄^^器，通過第二脫吊搶審開口而# 掩 ^吊舲器抽到條 鵬內(nèi)，并絲掩模iii4笫一負(fù)我銷開口;ifc^負(fù)栽鎖內(nèi)部；(g)抽空負(fù)栽銷；(h〉 利用真空IM^jg4^r掩棋iiit第二負(fù)栽鏑從該負(fù)栽銷中抽出，并# 掩摸移動 到真空腔內(nèi)；(i)4m掩;ByUUL掩棋i^t;以及(j)加工掩樣
本發(fā)明的實(shí)施方案提#^種;^用于在盒子內(nèi)對傳送至該iL^離^ ;N^的^^棋進(jìn)行加工'該M包括&^±的空氣^5^^*部分；至少一個大^M^ 器；至少一個脫吊搶器；用清潔氣^^M^ta力下進(jìn)行凈化的氣^iMt^ 部^,至少一個^f^ML器；至少一個負(fù)栽鎖；真空部分；以;ii少一個真
本發(fā)明的實(shí)施方案4^0^種系統(tǒng)，包括^^與該^^^接而保護(hù)皿的 jt子.益子包括框架和可移動面板，該面M動而允許在舉^t^中光的ii^ 指向m ^和並子利用自動*81^1手移動至平臺， 1^並子樹開之 前可以連接A^
本發(fā)明的其他實(shí)施方案、特^優(yōu)點(diǎn)以;SjMC明各實(shí)施方案的結(jié)構(gòu)和IMt 將在下面財附困作更詳細(xì)描iL 附面的簡要說明
在iii引入附田轉(zhuǎn)為說明書的-^分，連同說明~^來*^#本發(fā)明，還 用于解^r本發(fā)明的原理，^H吏得所屬技^域的a^Aj可以實(shí)^發(fā)明. 困l狄發(fā)明實(shí)施方案的^Lhil當(dāng)位置處的兩件式蓋子的分解困； 困2是^^本發(fā)明的實(shí)施方案利用自動*^將兩件式並子中的 1>^ 平臺上的視困；
田3是絲本發(fā)明的實(shí)施方Ht4L示艦攀^t行賴的視田； 閨^UL示本發(fā)明實(shí)施方案的兩件式蓋子的分解立體困； 困5是利用本發(fā)明實(shí)施方案的兩件^il^at行對準(zhǔn)和轉(zhuǎn)移的方法；
閨6;UL示絲本發(fā)明的實(shí)施方案的定位K^的梘困；
困7狄示械明實(shí)施方案的帶有定位ae^的兩件式並子的外推恥
困8是4Mt本發(fā)明的實(shí)施方案用于增強(qiáng)艦中的區(qū)城的方法；
閨9 - 10分別表示^#本發(fā)明實(shí)施方案的示例 *1 1子的餘汰田一視
6困；
田11表示田9- 10的^MiUt子的分l^恥 田12表示絲本發(fā)明的實(shí)施方案雙重包套吊艙(wr印pod)設(shè)計； 田13^示田12的雙重包套吊^分解田； 田14;UL示本發(fā)明實(shí)施方案的負(fù)栽優(yōu) 田15A4t示閨14的負(fù)栽銷的分解困； 困16狄示;MC明實(shí)施方案的^I^UiyMt置核心的視田； 困17表示本發(fā)明實(shí)施方案的整個^^UftiS4tX; 困18表示絲本發(fā)明的實(shí)財案傳送掩模的方法的》姊困； 田19表示;IMfr本發(fā)明的實(shí)施方案傳iiL IR^加x^棋的方法的流租田； 田20表示^iM^L明的實(shí)施方1tjt負(fù)栽銷內(nèi)從大W力向真空傳送掩模 的方法的淡港困；
困21表^#本發(fā)明的實(shí)施方*^負(fù)栽鎖內(nèi)從真空向大^ta力4Hi掩模 的方法的流租困；
困22表示脅本發(fā)明的實(shí)施方案傳送、#^加^*棋的方法的流程困.
以下將^附田對本發(fā)明進(jìn)eim在附田中， 一些類似的附田#^表示 同樣的或功^近的元件.另外，大多數(shù)附田標(biāo)記中最左面的數(shù)字表示在那個 附困中該附田標(biāo)記第一次出禮 優(yōu)選實(shí)施方貴的詳細(xì)說明
錄明的實(shí)施方案提^^保護(hù)艦的益子，它相對于傳統(tǒng)系統(tǒng)來賄所改 1本發(fā)明的其他實(shí)施方案提供可與該蓋子相配的吊搶if^^ftL傳送盒，它進(jìn)一 步絲艦不受顆粒侵害，本發(fā)明的另一些實(shí)施方案提供與該並神配的負(fù)栽 銷，當(dāng)在大氣壓力和真空之間^t^ftl時，它進(jìn)一步獄艦不受順粒侵害. 本發(fā)明的再一些實(shí)施方案提供具有三個獨(dú)立的環(huán)境(例如^t的玄內(nèi)空氣、氣 ^rti的^境、以AA空)的^JKim^里，每個Jm^ltil合于在^1^ 步麻中有狄效率的減少;^L的污染.本發(fā)明財一些實(shí)施方案提^~種利 用以上減少污染的所有裝置來襯ig^的方法.
傳統(tǒng)的^W^UM^于薄皮來絲m的帶困案區(qū)域不受到鄉(xiāng)污染，但 是如上所述，由于沒有一種J^紫外光(EUV)來it t透明的材料，因此不能實(shí) 現(xiàn)這個方法.另外，內(nèi)部對準(zhǔn)的限制使得整個^JftUt子的除去難以iMl進(jìn)行.因此脅本發(fā)明的實(shí)施方案，利用mjL子來保護(hù)ttAl,該^AUt子fe^用于支# &的框架，以及可以在漆光和清潔過程中除去的面;fc
盡管^^ 系絲清潔的糾下進(jìn)#*#，但^jUp工過程中會產(chǎn)生顆^這些顆粒會污染m ^J&要周期性的清潔，從而將 1上的，量##在一個允許的閾值之下.因此必須考慮光刻系統(tǒng)內(nèi)的顆粒產(chǎn)生來源.通常，在另外
的清潔系統(tǒng)中的顆粒是罔為4M)I而產(chǎn)生的.在傳統(tǒng)的系統(tǒng)中，當(dāng)^Ufc^-H^置傳送到另一^Hi置時會產(chǎn)生顆私由于在^m的系統(tǒng)中^ML樹過程中可以滑動，閎Afr(^MMHmii程中的滑動4fe^產(chǎn)生另外的顆艮W,條
系統(tǒng)中的振動^導(dǎo)&^擦和相關(guān)的顆粒產(chǎn)生.
M本發(fā)明的實(shí)施方案，在可fi^蓋子上包括位置定位器和脊，從而ift^
絲和做賴賴.但7lil子的安狄除去會產(chǎn)^Nf.射以的，如在傳送系統(tǒng)中的4MN;^導(dǎo)致賴粒的形成因絲實(shí)^ML明的實(shí)施方案時已財慮到了這^S粒產(chǎn)生原因的差別，
除了顆粒的產(chǎn)生，在設(shè)計光刻系統(tǒng)時，也需絲慮顆粒的沉降，^LMC明的實(shí)施方案中使用可除去面板減少了顆M所有的時候都沉降^ftU的機(jī)會，當(dāng)然除了艱itit^L外.明顯的顆抝X降在UUU^的時間內(nèi)發(fā)生，因此使用本發(fā)明實(shí)財案的可除去面板，即ft^緣光步稞中除去並子的時候也能夠顯著的保護(hù)艦不會發(fā)生顆粒沉降.
j^，也必須考慮顆糾移，顆粒姊發(fā)^快速動作和快i!A力變化導(dǎo)致的素2fcit程中.在euv系統(tǒng)中，很多移動^ULi4高真空中.因M例如M架向艦JLi的移動姊中的^JMJL小的.但是由于有壓力變仏因^fcit個棄流源必須予以考慮.因jlfc^本發(fā)明的實(shí)施方案，iiit徹與安絲mJ:的框架相連接的可除去面板，絲消除了il^額外的類粒遷移源.
兩伴iU6L子和其m動學(xué)的定位
田l表示包括根據(jù)本發(fā)明一個實(shí)施方案的兩件式蓋子(cover) 102的系統(tǒng)IOO的分解田.兩件式並子102包括一個框架2，該框架2在掀運(yùn)的過租中支撐一個皿l,并在碟光的過程中與^m和一付臺7fM^接觸.框婦包括一個比摸版(reticle) l的場區(qū)(field)大的開口14，以在瀑^tit程中允許先4fc^的光線穿過開口14.框^2還包括一個連接裝置8，它對應(yīng)于連接至平臺(stage)7的連接 9.因j^連接 8使得框婦可以由連接裝置9*#在平臺7上.
8該實(shí)施方案還包括面;feL3，它與框婦在^^IJUt^前才相分開，在賴攀 it^后立刻重絲接至框婦.面板3可以由對可見itit明的材^m從而可 以肉8 査和識別 11的前側(cè).
如困所示，連接裝罝8種處于平臺7和框^2^間，以2UMS敘和面婦之 間.如田所示，可以在平臺7和框^2之間包括S^MtS一5b. W^對一5b可 以是"兩件之間的(between pieces)',這:* ^領(lǐng)* 1^^員##此處描述 的至少一種技術(shù)可以知遣的，可選自分別在每個片上的磁體和^ytfc M緊閎 件，例如在一個片上的^r彈黃的閂鎮(zhèn)或JCt^鋪存器以及在另一個片上的K^ 接頭片；以及重力^JW裝JL,例如在另一個片上的fc^fl^上的位于一個片上 的支靠緣
絲本發(fā)明的實(shí)施方案，連接裝置8和/或9可"具有以下設(shè)計準(zhǔn)射，包括 但不限"f: a〉連接IUt8和/或9可以艦兩件式蓋子102少M(fèi)p的JWjMt行拆 卸，該^Jt可以位于將艦l;N^平臺7上的自動IMilbW!fc手4上，或者在平臺 7內(nèi)，和/或；b〉連接紅8和/或9的絲和再連接應(yīng)當(dāng)產(chǎn)生最小的污染顆板 從而避免污染模版l(為此，優(yōu)選使用^^觸式^JL來促動連接W:8和/或9), 和/或;c)連接"8和/或9應(yīng)當(dāng)是自支撐的，從而一站接裝置8和/或9已 ^t^HS連接，則不需要^外^Mt用將這^tHM^在^^
在一個實(shí)施方案中，自動#*5**手4可以用于擠壓兩個或多個^"彈黃 的閂鎖，從而絲這餅，
在另一個實(shí)施方案中，平臺7中的電磁體可以用于與閂鎖中的永磁體發(fā)生 相互作用，從而使得它們分開.
在另一個實(shí)施方案中，自動ftJWift手4中的電磁體iiiUt^別處于蓋 子102的兩個泮上的永磁體和把之間的磁性吸引而斧故面杉l3.類似的，平臺7內(nèi)
間的《#汰吸引. 、
許多其他的實(shí)施方案也是可行的，fe^W限于，連接崎的排列變換和 結(jié)^HWLJL^W^手中而不晃在平臺定仗或者反之亦然.所有的這些棑 列變換和結(jié)^ 在本發(fā)明的范閨之內(nèi)，
繼續(xù)麥考困l,在上述實(shí)施方案的變化中可以利用重力來將^m、框架2 和面擬##在一^具體的i^自動^W^手4可以支撐著面;feL3,框婦可以裯靠在面;H3上^XU可以靠在框架2內(nèi).相對應(yīng)的JJ&^晰aJfp5b可以將榲架 2與面紀(jì)對準(zhǔn)，而相對應(yīng)的S^xt6a^6b可以將面4l3與自動lMH^手4對準(zhǔn).
在各種實(shí)施方案中，fie^對5a^5bil6a^6b可以選自運(yùn)動UU例如帶 有在溝槽或兩錐形氣史內(nèi)的球)，孔和狹槽中的H^稱，以及^^HHfe套在 另一個陣中.用于提供能量從而使框^對于平臺7^^ii^從平臺7棒故的 裝置可以位于平臺7內(nèi)，如田1所示，或者內(nèi)Jt于自動IMJ^手4中.
*#本發(fā)明的另一個實(shí)施方案，位于平臺7內(nèi)的兩個或多個帶有彈黃的機(jī) 械閂銷9iiit利用舌片8可以用來將框^2flt^在平臺7上，如困2和3所示，* 下所t
在另一個實(shí)施方案中，例如通ii^用與平臺7連接的螺線管U瞬時施加電 磁力以JtJR彈黃10所施加的閉合力，由此回縮可由磁lMt料制成的閂銀從而 可以實(shí)現(xiàn)閂鎮(zhèn)的g
fie^對14a^l4b可以iUUt面^L3的底^W和其它表面上該表面必;賦 置有系統(tǒng)100(例如棋版/蓋子組件).例如，在真空庫架上以;st^L示為13且 在下文#^細(xì)描迷的標(biāo)^*樓口 (SMIF)吊搶j^feL上，
田2表示#*本發(fā)明的一個實(shí)施方案 1和蓋子102的狀態(tài).因此田2所示 的狀態(tài)表示利用自動IMi^手4^框婦和面似^^平臺7上在一個實(shí)施 方案中，該狀態(tài)是在螺線管ll已^it斷開能量并且閂銷9已經(jīng)捕獲了舌片8的狀 態(tài).在該狀態(tài)中，框婦閎^H當(dāng)?shù)奈恢?該狀態(tài)可以無扭回縮自動* ^ 手44l前.
田3表示^^;MC明的實(shí)施方案的系統(tǒng)100的狀態(tài).在該狀態(tài)中，在自動操 iiU^手4 (田3中沒有顯示)已經(jīng)回縮，帶走面右L3 (田3中沒有顯示)4J^， ^^Ll和框彩僅由平臺7支撐.在一些實(shí)施方案中，此時可以itit開口14iit行光
自動IMJl^^手4^^te彩而不是面;feL3的實(shí)施方lMJt簡羊的，因jJfc^ 對亍其他實(shí)施方案來"9U優(yōu)選的.這是閎為采用了重力將面婦和框彩IM^在 4 ^fe彩己經(jīng)被平臺7捕獲^為AMi婦上辨下面^L3"只需要自動操 ftMM^手4的向下移動.
可替換的實(shí)施方案還能便于將艦1與平臺7對準(zhǔn)，以下將描述用于對準(zhǔn)的方法.如本文其它^fc/斤it mi應(yīng)當(dāng)^^i和取向?yàn)楹推菲嘁籭BL 保了當(dāng)前從m困案復(fù)制到晶片上的電珞a與晶片上已經(jīng)先存在的層對jL
在以下#4^細(xì)描述的幾個實(shí)施方案中，mi可以^多(例如吊凇) 中傳送至^*系統(tǒng)(豐"itil工具")，該容器的"^P分可以表示為13.吊餘 (pod)可以包括一支撐著;9Mil的框架以;MMHIit程中使污染顆粒遠(yuǎn)離^Jfcl 的一面禮在這些實(shí)施方案中，吊輪接架的底部例可以具有與光刻工具中R^ 的定位K^相對應(yīng)的定位rte^，從而SMIF吊搶相對于先對工具的取向是唯一確 定的-
參考困l， iiit支靠點(diǎn)和內(nèi)置于框架2內(nèi)的jt^器以及內(nèi)Jt&面板3中的彈 脊的結(jié)合，樹il可以閎定地^^Mfe勉頂部側(cè)上的適當(dāng)位置.由于粉U可以 是平的正方形，而沒有特定的定位lfcff，因此可以稱種方法將其裝ie^支靠點(diǎn)、 jh^器和彈黃所形成的嵌套中.
當(dāng)將艦l加絲吊艙中時，必須小心將^XiliUt為使其帶有田案的"H)N 面對所需要的方向(例如右併向上)，并有需要的相對于吊^取向(例:iip90 度).例如，困案的頂部i^可以朝著吊^^前側(cè).然后當(dāng)祺版吊4fcJtj5^^J 工其中時，可以知it^lfll相對于iti工具的位置和取向.通常，位置(X,Y) 不確定'站大約l咖(毫米)的數(shù)量級，角度取向(6z)不確定'錄大約l度的數(shù) 量亂但l這種準(zhǔn)確度對于目前的^來^t不夠的.必須#^置的不確定 . 小到幾個^取向的不確定性必須小于l級渡秒.
閎此鋒本發(fā)明的實(shí)施方案,狄工具可以裝備有預(yù)對準(zhǔn)器.該預(yù)對準(zhǔn) 器55it查看m困案上的4lWH^^Il按照需^aWf^動以^UEjWi置和取向，
從而將艦l中的閨輛對于賴x^精確地定妙對準(zhǔn).自動i!Ut械^b^ 何專用的MM,通常將^AU從框^2^^至預(yù)對準(zhǔn)器，^^預(yù)對準(zhǔn)器## 至平臺7.從預(yù)對準(zhǔn)器絲至平臺7必須是非常準(zhǔn)確的，罔為絲裝置所帶來的 賄定位誤差會W^1在平臺7上的布狄確先西財于將mi從預(yù)對準(zhǔn)
器轉(zhuǎn)移至平臺7的關(guān)鍵步棵來禮應(yīng)當(dāng)使用非常準(zhǔn)確和可重復(fù)的自動mr或4^
她
精確移動的自動裝置可以位于光刻系統(tǒng)的印制臺，該光勁系統(tǒng)迭用于深紫 夕卜(DUV)^'但是，這不能用于EUViUbl，閎為EUV過租必?zé)┰谡婵障逻M(jìn)行. iiA因?yàn)槿缟纤鵬tEUV;fe^在常壓下被完全吸札罔此必須使用適用于真空的自動裝置.由于電一電刊史備產(chǎn)生熱量和排除污染物氣化而這些^空中是
非常難以除去的，罔此逸用于真空的自動^tX被設(shè)計為使其電機(jī)和電子設(shè)4Mt 于真空腔"卜，在真空腔內(nèi)，使用長的扭4*^動^將動作,到**處理的 物體上.這種配JL^清潔的，不會在腔內(nèi)產(chǎn)生熱，但是由于具有相當(dāng)?shù)拈L度、 低剛性以及JP^機(jī)構(gòu)的自由移動(play)，閎A會存在閎有的定位準(zhǔn)確'li^可重 復(fù)性不好的問泉因^可獲得的真空自動3W對于4A/t將^Wb^預(yù)對準(zhǔn)器轉(zhuǎn) 移到平臺的這一關(guān)鍵步壤來狄不夠的.很清楚，需^-辨射法，使得自 動^X的精補(bǔ)錄可重復(fù)性是理想的，
困4表示系統(tǒng)100的實(shí)施方案，其中面;fe3可以用于在IUIr的轉(zhuǎn)移中準(zhǔn)確地 和可重復(fù)的定仗由此允許使用清潔器和必要的不精確的自動裝JL.通過將面 板3運(yùn)動地對接到預(yù)對準(zhǔn)器，可以獲得面板沐對于預(yù)對準(zhǔn)器的準(zhǔn)確位置.下部 的V溝橫15a與B)的尖端的銪15b^嚙合，在一個實(shí)施方案中該銪15Wit^對準(zhǔn) 器中，下部的半46a可以類似于尖端的銪15b,上部V溝槽16b可以類似于V溝槽 15&使用V溝橫15a^l6b以及鵬的尖端的銪15b和16a以，^MS動對接是已知 的，^MF在著其他已知的同樣有效的運(yùn)動對接(kine腿tic dock)設(shè)計.本發(fā)明 不限于使用V溝槽和圃的尖端的銷，而是原則上可以按照所有已知的運(yùn)動對接設(shè)
然后自動^MM^手銀取面板/框架/^ia件，并將其移動到恰在平 臺7之下.刻以的，當(dāng)城手將面板/框架/mia件向上移動時，可以通過將
面杉L3中的上部V溝槽16b與平臺7中的半球16a嗜合在^而獲得面杉L3相對于平 臺7的精確運(yùn)動位置，在面婦已^動的與平臺7nfe^^Jgr,可以給閂鎖9JH^ 電卡盤17供能，分別艦舌片8夾條婦以及將艦1拉靠在平臺7上.然后自 動4M5l^手4可以將面板3向下移動，并將其縮回離開平臺7，
運(yùn)動的對接的罔有屬性是它們可以在幾個flbMi內(nèi)重復(fù)進(jìn)行，只需^^初 的對準(zhǔn)是在W^R^的捕獲范閨(c印ture ran辟)之內(nèi).例如，每個半球16a與 每個上部V溝槽16b的對準(zhǔn)必須是使得爭個半球16a^初接HMi應(yīng)溝橫16b的^ 部分.如果滿足該條件，那么與起初的對不準(zhǔn)無關(guān)，可以獲得同樣的*^相對 位JL捕獲范圍鋪于絲IW的尺寸.例如，使用田l-4所示的耕尺寸， 容易獲得約士l咖的捕獲范閨.由于該范圍大于真空自動裝里的一^t重復(fù)誤差， 可以實(shí)*/斤希望的功能性**5.當(dāng)面板3與平臺7運(yùn)動地嗜合時，自動^ftl^
12而不至于將自動DUt^手4所建立的運(yùn)動m擇
加在運(yùn)動的對接上，而是使得對接na^的相互作用限^Jb昏的^相當(dāng)大的
長先低剛性，以2l^手聯(lián)動鴻的自由移動，可以提供所需的少量^U^
如上所述，本發(fā)明的實(shí)施方案利用具有準(zhǔn)確#可重復(fù)性的自動 解決
了將框架2^預(yù)對準(zhǔn)器向平臺7準(zhǔn)確轉(zhuǎn)移的問A為了有效^4l^卜，A^KJ被 從預(yù)對準(zhǔn)S4l取的時刻到卡盤17被供能的時刻，艦l必須相對于面擬而言確 切的IM^絲同的位Jt上確保這一點(diǎn)的一個方法是將^tti緊密的裝絲框架 2內(nèi)，框架定位崎5a與它們對應(yīng)的定位瞎5b有非常小的何隙.但是這可能不 是最理想的預(yù)期情況，因?yàn)榫o密裝lfc的零件在扭開時容易產(chǎn)生許多條敉幸運(yùn) 的無^"發(fā)明的大部分實(shí)施方案中，可能不需要緊密的ij^罔為零件之間 的/N^足以將它們^fc^M^tit當(dāng)?shù)奈恢?
由于和真空內(nèi)的電;Mi關(guān)的困農(nóng)并且閎為抽^WL^真空內(nèi)無法工作， 適用于真空的自動裝置可以被設(shè)計為它的加#^'^￡^足以允^用簡 單的無源夾具(passive gripper), ii^夾^^Uiit重力和剩條力來將品片保
持在34^f上.真空自動w:制造甫提供了jj^L無滑動使用的簡單的夾具.
因As我們已經(jīng)倒重于"的樹準(zhǔn)確性問泉本發(fā)明的其他實(shí)施方案顯 示出蓋于2如何利于將艦與平臺7相對準(zhǔn).通常如上所述，iibv^吊搶中的工 具內(nèi)的#可以相對于面板財約1咖的定位誤差以及約1度的取向誤差.這些
誤差可以減小到/UM^小于約isMt秒.為了實(shí)39tii—點(diǎn)，預(yù)對準(zhǔn)器xm^1
與面板3之間的相對對準(zhǔn)和定^tiii^)量和^U^Ut夠的，罔為面板與平臺的運(yùn) 動的對接已狄非常準(zhǔn)確的.優(yōu)逸的先不將艦l綠敘JJpt下而進(jìn)行再次 對準(zhǔn)，從而^jt^T一個m^面上不會產(chǎn)生^^顆牧
在各種實(shí)施方案中，^兩件jUL子102簡化了將^l與面^l3對準(zhǔn)的方 法.自動裝置將面板/框架/模AUft件ili預(yù)對準(zhǔn)器，該預(yù)對準(zhǔn)器裝備有一套 圃束樣的銷15b.因此iiit將下部的V溝槽15a^兩末端的銪15b唯合，該組件與 預(yù)對準(zhǔn)器運(yùn)動JtJ^接.因此面4l3相對i^l對準(zhǔn)器精確的對準(zhǔn)和定位.由此為了 將樹SL1與面板3進(jìn)^^確的定^對準(zhǔn)，所需要的^^3bt^"其相對于預(yù)對準(zhǔn)器 進(jìn)行定位和對準(zhǔn).為^首先要測量誤差，然后校正誤差.
M本發(fā)明的一個實(shí)施方案，測量談差的一種方法是J^g對準(zhǔn)器裝備^ 攝像機(jī)的枧覺系統(tǒng)，該系統(tǒng)可以測量在摸版田案中的J)te^永夂罔定于預(yù)對準(zhǔn)器的并與兩JMS的銪;^準(zhǔn)的把之間的角度和位置誤差.由于該困案位^uu的 底側(cè)上，攝脈必須執(zhí)面板3,該面3^MWWL的H^波長下應(yīng)當(dāng)是進(jìn)明的， M—些已知的其他方法能夠?qū)ξ恢煤徒嵌日`差進(jìn)行測責(zé)，本發(fā)明不限于使用 提ijb^—套把
在一個實(shí)施方案中，為了校i^AU相對ffll對準(zhǔn)器的位置和角度取向， 預(yù)對準(zhǔn)器可以裝備具冶兀Y, Z種z自由度的精度4MJl器.該預(yù)對準(zhǔn)器可以具有能
夠通過嚙合舌片8而將框^m下面提升的積械手.精度immm^首先將框架/
皿剛好提升離開面fe3，然后進(jìn)行X,Y^9z^ _1|#框架/^降低回到面 板3上.此時，mi相對于面婦對準(zhǔn)，并準(zhǔn)備絲至平臺7.將框婦相對于面 ^L3重新定位需要在定位Si^5a^5b4L間具有充分大的間球.
可以理解，由于已經(jīng)知道真空自動裝置能夠絲物體而不會滑動，因絲 種崎對可以提^lfr確定位的準(zhǔn)確先另外，各種糾對可以是安全的K^對， 以防止在可由^Mt或電力jUt導(dǎo)致自動 突然的停止情況下發(fā)生嚴(yán)重的意外
、賴，在那種情況下，^t失精確的對準(zhǔn)，但是糾fie^對會防jb^a從自動
最后,在用于具有一個長范閨自由度(例如沿著Y軸掃描的)掃描先刻系 統(tǒng)的實(shí)施方案中，預(yù)對準(zhǔn)器可能不必沿著與平臺7的掃描軸相一致的自由度校正 位直誤差.只需測量位置^i1,并將其通知至平臺控制器，然后該控制器iiit 在掃描錄中相應(yīng)的偏移平臺Y位置而凈f^i置誤差，
罔^在各實(shí)施方案中，各種配件對可以導(dǎo)致只具有一個水平平移自由度 的預(yù)對準(zhǔn)器中的精度IM^器，該自由A^實(shí)^^t^方向，Z^0z方向也同樣 需要的.因此在預(yù)對準(zhǔn)器中的精度躲器的設(shè)計可以針對掃描輛工具而簡 化，
困5表示描ii^發(fā)明實(shí)施方案的方法500的流程田.方法漢K)可以是利用兩 件式蓋子的對準(zhǔn)和#^方法，在步恥Ol,用面板中的第一套》^對以及預(yù)對準(zhǔn) 器中的相應(yīng)Be^對，面板/框架/mia件可以^動^k^接至預(yù)對準(zhǔn)器.在 步恥02，測^^bfe對預(yù)對準(zhǔn)器的位置和角度偏移.在步彩03, 4MMfe架 以J^量的偏移進(jìn)fr^它將 *^9對于面板重新定仗在步 504,面板/ 框架/模&ift件it^預(yù)對準(zhǔn)器中拿隊在步恥05，面板/框架/模AUl件被移 動至平臺加栽位置，幾乎沒有相對滑動.在步 606,利用面板中的第二套fi&ff
14對以及平臺中的相應(yīng)糾對，面板/框架/^Ua件狄動34^接至平臺.在 步《607,皿和框架用內(nèi)里于平臺中的夾持裝置(例如分別是靜電卡盤和;t^ 閂鎖)來罔t在步鵬08,除去面板而IUI^L
如前所述，當(dāng)^EUV工具中艦和對準(zhǔn)艦時，本發(fā)明的實(shí)^Mr案用于顯 著3^少顆粒污染的產(chǎn)生.在傳統(tǒng)的系統(tǒng)中，；ff使用jl子，在# "次將 ^ SMIF吊掄中除去/重^fitJUt該SMIF吊掄中時，在每次將其;^L3Mt真空內(nèi)的庫 中iU^其中除去時，在每次將其加栽和卸IU平臺處時，都形成/打破了 *1 接觸.
M本發(fā)明的實(shí)施方案，如上^下所^ iiit使用兩件式益子可以對傳 統(tǒng)的系^:行iSUiL m^框架之間的接觸不會再it打破，因?yàn)榭蚣躛為與 ^L接觸，即tt4HMyt程中也是iW.巳經(jīng)設(shè)3^處理 1的同時^波的
化.i4it完全消除在賴工具中形成/打破與艦的接觸的需要，與iiitt^ 手直^4fc^Ms比，兩件式蓋子相對于傳統(tǒng)的方法中所教導(dǎo)的"HtjUL子有
了明顯的isui,而傳統(tǒng)的方法僅^ iA減少了與皿表面直掩te關(guān)的顆粒產(chǎn)生事 件的數(shù)量.
本發(fā)明該實(shí)施方案的兩件式蓋子也可以使用用于和^fe接觸的柔軟材料， 而不必太多頋及該柔軟材^耐用'&閎為在原刺Jlat免了重復(fù)的磨損作用.
利用精選的柔軟材^HH十可以減少在^Ab(t初;Sti^框架的過程中的表面損壞 和顆粒產(chǎn)生.柔軟的材料例如柔軟的聚^可以易于流動，從而^應(yīng)于而不 ^傷艦的精致拋錄面.
相瓦在不使用兩件式蓋子和直接利用自動^JBlMfc手^iftiS^版的傳統(tǒng)系
統(tǒng)中，需要^*手的接觸點(diǎn)上有狄材料以使得*^*手具有寸接受的耐用仗 "H^式蓋子的接觸點(diǎn)的狄的JSLft取中間A閎為^T一些接觸辨，^F是 很多.但是通過賴本發(fā)明的實(shí)施方案的兩件^Jt子，當(dāng)發(fā)生臾形而使##度 不可接受時，可以進(jìn):行更執(zhí)
本發(fā)明實(shí)施方案的兩件式蓋子也易于將做與平臺預(yù)對準(zhǔn).餅即tt^用 ^fr度的自動裝置，可以實(shí)5(1^預(yù)對準(zhǔn)器到平臺的精確*^棒多.
本發(fā)明的兩件式1子比自動*^*^*手更容易的##清潔.而位于光刻工 具深處和真空中的自動^iW^手需^t入式的堆護(hù)，所以每次將;9WUU^ 15工具中彈出來清潔或者更M子要方便得多.
本發(fā)明對利用SMIF吊輛示例性狄Sf^it行了描迷.ii^的描迷只;^
了方 ^見.而不是*#本發(fā)明限制在這些示例性的環(huán)境中.事實(shí)上，在閱讀
了以下的描述ij&,相關(guān)領(lǐng)域的技木人員可以理解^H^^J^已知和未^ML
的替抉iff^中實(shí)^^發(fā)明.
因此脅本發(fā)明的實(shí)施方案，使用一種系^方法來^fe動學(xué)AMHI)11 與保護(hù)蓋子對準(zhǔn).選洋可以在預(yù)對準(zhǔn)測量和l^im平臺中WHUt的精確 相對位置關(guān)系，由ifcaUt了將^tt^t預(yù)對;M^中在^工具中重^Ne行
減定位.第二，本發(fā)明狄了一種硬4t^l接觸區(qū)域的方法，從而^jfe;BWl與
蓋子接觸的時侯產(chǎn)生較少的顆板
閨6表示本發(fā)明實(shí)施方案的兩件式益子102.樹U具有能夠與根彩中的對 準(zhǔn)配fHfr確對準(zhǔn)的i^i^601.在一個實(shí)施方案中，在激U的iiMt601中至少是接 ^動對準(zhǔn)KW2的部分進(jìn)行倒角.在另一個實(shí)施方案中，樹SA的iiAI601的 該部分成圃角而不是斜面.在又一個實(shí)施方案中，在粉il邊角處的Jfiiiia緣部 分的免泉在每個邊角中產(chǎn)4J^形或者W環(huán)形(toroid)扇區(qū)(球形或者BJ環(huán)形的 八分之一)，然后它與框婦的每個邊角中的可適用的對準(zhǔn)(Mf602iiit^面接 合.用戶可以逸糾醋的;iDili&llt601的哪鐘分要被接觸，而哪些部分不被 接觸.
關(guān)于框彩中的對準(zhǔn)K^602, *^置不限于如田6所示的框架的邊角.但 狄優(yōu)選的實(shí)施方案中，這可紋一偉逸的位里.例如，框架2可以在"3^W 的中部具有對準(zhǔn)《^#602.顯然，對準(zhǔn)SW02的實(shí)際形狀可以是不同的，以最 絲容納^U4^601.例如，在一個實(shí)施方案中，對準(zhǔn)fie^02可以是V形橫， 溝浙02的每個面603是平的.這種特定的形艦合于容納^KJ^t601的圃 角.可以理解，在其他實(shí)施方案中，如果 *114^601是倒角的，它們最好由對 準(zhǔn)R^602中的凹形(而不是平的)溝橫表面^納.
##本發(fā)明的一個實(shí)施方案，使用對準(zhǔn)fifW02可以省略田5中的步JJl503. il^非常有利的，罔為會需要相當(dāng)復(fù)雜的預(yù)對^M^4MMMg婦.iiit消除了 ) 婦相對于面*13重新定位的需要，簡化了光刻工具的設(shè)計.
閨7表示本發(fā)明一個實(shí)施方案的系統(tǒng)100.框彩可以保持樣H1， ^Hiit第 一套運(yùn)動的對準(zhǔn)lfc"fM!h201a^201b與面右l3運(yùn)動J^!^"準(zhǔn)，類似的，面443可以通
16過第二套運(yùn)動的對準(zhǔn)R^牟02a^202b與自動^MWfc手4運(yùn)動糾準(zhǔn).另外， 可以使用第三^&動對準(zhǔn)Se^地03a^203b^面湘L3與真空庫架和總的由13表 示的SMIF吊搶Jfcjfeitfrfe動對準(zhǔn).
在困7所示的實(shí)施方案中，運(yùn)動ile^202a^203b共用同一個溝橫，2024 溝槽的最里面ijit齊面連接1202b, 203a^溝槽的最外面iiit齊面連接至203b. 對于核城的技^A員來禮很明顯該相對位 _可以顛倒的.顯然，分開的 溝槽用于實(shí)現(xiàn)^^動S^的每個.
在另一個實(shí)^Mr案中，可以使用^MU子.在該實(shí)^r案中，框彩可 以固定于(例如粘結(jié)或者由同一塊材^^成)面站，以形成一件式蓋子.該一 件式蓋子4^P被除去，以進(jìn)^tti的;)ti l漆光.因此，在該一件式蓋子的實(shí)施 方案中可能不需要配件對201a^201b.
硬化的艦
已經(jīng)知道，做1的EUV^^層的特點(diǎn)是易損和柔軟的.罔此該涂層在 接觸時^于產(chǎn)生顆粒，因艇想的是具有一個:fcEUV^fijW^層的特定區(qū)坎它可
以用于由其反射倒支撐或者^ii^.為此更硬的村;Mt料將變?yōu)椴籰kJUL 的樣是"狄的"表面.遣憾的毛實(shí)際上產(chǎn)生一^Ht棵露的^m襯;aUMi
的區(qū)域(也^t棵點(diǎn))是非常困難的.產(chǎn)生銀泉的一種已知的方法是使用在沉 積^反 層的粒子束滅 :^11它們的掩棋，逸鐘方法的一個問ftA由于 沉;tj^的性質(zhì)，易于在掩摸上形廟杰、牧的顆i^者薄片，并在該過程結(jié)束除
去掩棋的時候會脫^ 一輛械者薄片會^WU:并將其污染.另一個暴
法的問絲 扭刻過程也易于損4^|1的其它區(qū)堍
看起來^uiit^如本說明書中所述的成兩角的或者倒角的^汰可以
解決支4WJt的問題.但是實(shí)際上并不如J^閎為EUVA4^層的鵬'狄定了 空白的村;&^t涂布之前其姊必須已脅工成IU&的形狀，并且由于鄉(xiāng)涂 層的栽4t^t程的均勻的、非選脊汰的4SU,未被掩蓋的詢角或者成圃角的# "^t^布有耽的材料，
為了解決上述問趙，已敏出用更硬的材JH^^EUViUt材料，對辦材 料的通常選擇是沉^RtoJV^Mm料頂部上并4t^脊汰抽刻從而產(chǎn)生或者"寫 上"艦困案的EUV峰層.遣憾的是，為了具有JE^的光學(xué)特性，該層必須是非常薄的.在柔4tS^材料頂部上的薄的阻擋層^Wft^)lk的高水平應(yīng)力 下容易狄可以在鵬層頂部上加上一個厚層并對其進(jìn)行錄li扭刻，但是 ^"昂責(zé)并且也i^過i^Srii實(shí).
因j^需—種能夠補(bǔ)^a^層的閨有柔軟妙脈Ii,而不需^nwu 者要除去涂層來產(chǎn)生棵點(diǎn)的it^也需P種在所ii^觸區(qū)域中不需^IM.也 不用4U附加保護(hù)層的方法，
有猜想認(rèn)為EUVAJH^層的固有柔軟性是由于它的多備勝質(zhì).W領(lǐng)JW 知，EUV&^層迄今為止的"多層結(jié)構(gòu)"或者簡單的表示為"多層"可以包括約 100^和娃的交替層，每個成分的yg^"幾個納米厚.不論是m是鉬通常都 不是柔軟的材料，因jH^絲本發(fā)明的實(shí)施方案，這些材料扭想的接觸點(diǎn)處 可以局部樣融在4以將柔軟的多層結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變?yōu)楦驳墓促|(zhì)的^#料層. 僅為了方ft^見，我們將多層局部轉(zhuǎn)變?yōu)楦参飶V的過^^為"局部熱處理".
在一些實(shí)施方案中，不需要完全樣化該多層，以獲待理想的狄奴國 為已經(jīng)知道熱導(dǎo)致多層中的^#材*^速的擴(kuò)散到另一種中，由此形成更均質(zhì)
的層.即絲溫度低于多層的成分中任一種的熔點(diǎn)的濕度也可以發(fā)生這種情凡 因jfts顯然，也可以采用局部熱她，以iiiti相擴(kuò)^j)t代替諒化而將多層轉(zhuǎn) 變?yōu)閯蛸|(zhì)的層.
在其他實(shí)施方案中，外來物質(zhì)在層上的沉積^擴(kuò)散可以用于增譯該層.因 對存在外來物質(zhì)的接觸區(qū)iJL為使該物質(zhì)加入該層而進(jìn)行的局部加熱，作 為熱處JSii私
田8表示本發(fā)明實(shí)施方案的方法800的'絲田.方法800可以用于iiit將多 層結(jié)構(gòu)的EUV反^^層進(jìn)行局部轉(zhuǎn)換而強(qiáng)tt^版中的用于擻運(yùn)的區(qū)禮在步稞 802中，進(jìn)行用EUV反射多層結(jié)構(gòu)(鉬-絲者相-釕-硅多層，如^JK^狄 中的狀態(tài))涂布^J^村底的I1^.在步鵬04中，對要用于^t&的區(qū)J!4at行局部 的熱處理，從而將多層結(jié)構(gòu)的局部熱處理部分轉(zhuǎn)變?yōu)楦鼜?qiáng)的(更硬，更堅兩) 的材料.
在一個實(shí)施方案中，可以通過例如有包括^性試刑和催化刑的化學(xué)物質(zhì) 存在情況下將大功率激光束聚ja^版的特定區(qū)城中進(jìn)^"ff804.可以使用其 他類型冊能量來代替鼓束，可以使用其M部加熱方法，例^^H用絲電 ^^場的感應(yīng)iO熱.典型的EUV^jsi村;Mt料和多層結(jié)構(gòu)自身的催尋熱性便于專門對所需區(qū)域
進(jìn)行局部的多層轉(zhuǎn)變.可以進(jìn)^fit一點(diǎn)，而不用過于擔(dān)心^IXSL的有田案場區(qū) 內(nèi)或者附近無意識的改交了該EUVJMJ材料.該多層結(jié)構(gòu)應(yīng)當(dāng)保持為完整無缺 的，以 #其獨(dú)特的光學(xué)性質(zhì).按fflM^說明書中妙的將接觸區(qū)域iJtJ^ 版l的邊角處使得它們距離該有困案的場區(qū)的距離Jbt化西jlfclt得對接觸區(qū)城 局都熱^b豕的影響對于關(guān)注的棋版有困案的場區(qū)的光學(xué)特征而言最可以;^ 的.
田9-ll表示本發(fā)明實(shí)施方案的^^子(reticle cover)是902.在預(yù)定 時刻可以除去的m並子902保護(hù)祺版(例如掩棋Gnask〉)90.^UH^02對 一定的光波長可以是透明的，其fe^支撐墊或者墊鵬03;嵌4^f904;運(yùn)動 定位器(例:fti^^模定位器)905;以; L孔906.孔906可以用于在直^902和^AL 901之間注A^壓氣體清掃，該孔還可以包括空氣過濾器.可以使用各種材料來 制造墊903和銪904，以使它們^觸或者脫離^Mi901的時候不會損if^li901 或^iML出顆私因?yàn)閊K901和嵌4HJ!f904^間可能需要一些間隙來除去益 子恥2, ^jai會相對于並^902有少量的滑動.對Jiil實(shí)施方案的改iibt該蓋子 902"是平的.iiiUM^平的設(shè)計，在清潔it^中會存留更少的液^閎 為沒有可以存窗液體的M者;Ue^因A並子恥2^易清潔或者是"超凈 的(supercle幼〉，.在某些實(shí)施方案中，在池里對Jt子90狄聲波清潔、壤先 和離心烘燥清潔.閎J^與員復(fù)雜的蓋子由于其自身結(jié)構(gòu)的原因而非常難以 清潔相iL羞"W2非常容易清潔.
雙重包套的模版盒(例如糢版吊舲)
田12 - 13分別表示本發(fā)明實(shí)施方案的棋版盒(reticle box)或者吊舲 (pod) 1250 (以下絲為"吊W )的m困和分解田，田17顯示了示例性吊舦 1250的更多特fe以下將會詳細(xì)描述.吊搶1250包括可以氣密的外盒1252,該 夕Ht具有一基部1254,基部1254閨定到JL子或者是革1256其可以是通過閂鎮(zhèn)(未 顯示)而閨定的.板1258類似于上面的蓋子902,可以差4^是平的，沒有孔或者 腔穴，這樣減少了顆粒的產(chǎn)生，并使得板1258清潔絲更容易.而且，因?yàn)椴?需要螺絲等，所以產(chǎn)生的豕粒更少.可以使用類粒密封裝里1260 (例如內(nèi)部或 者第一包套)來保護(hù)^ftUt受顆粒侵害，并可以使用氣體密封W:i262 (例如夕HMl者第二包套)來使得該外盒1252氣密封，它保護(hù)著內(nèi)部或者第一包套1263 不受分子污染.當(dāng)?shù)鯎?250封閉時，顆粒密封裝置1260在氣體密封iJtJL1262之 lijr^合，并J^吊掄1250打開時在氣體密封裝置1262^Jt解開.這與傳統(tǒng)的缺 少氣體密封 (因?yàn)椴皇褂谜婵?和順粒密封裝置的系鍵湘瓦
夕&1252內(nèi)閨定有透氣的內(nèi) 14:1263，它用于防jUfib^L污染，并具有可拆 卸的部分以便于清先內(nèi)JB^1263包括圃頂1264(例如Pyr戰(zhàn)(8)JBfc璃圃頂)，它 可以^"與板1266(例如由IUft亞胺、ESDSL聚SUyEJft^HNAjMf^布有聚跌 亞胺、ESD級lUttJfciL辨)H^薄壁(例如2nn), 1和 ^子102 (例 如由Pyre魂玻^H4成)^JL^能與自動# 1*1^手(未示出)相互作用的內(nèi)膜盒 1263內(nèi).可以使用jML1268 (例如^MHf")將兩頂1263耦合至革1256,并向內(nèi) 敝1263:ifeHM^壓力，使艦在傳輸過程中不絲動，也可以壓顆粒密封裝 置1260.撒U的表面1302可以;W璃的、鈹格(例dSpCrft復(fù))或者利用其他耐 用材#&*的.在使用過程中，吊搶1250的蓋子或者革1256可以除去以聿Jpc^ 廟U,過濾的通道1304可以將包括在圃頂1264gl266之間的空間與fc^在吊搶 1250內(nèi)的其它空間相連，允許氣M兩個空間之間流動，但是防jUIS銜直動. 過濾的5iill304的示例可以是穿過兩頂1264的壁泉塞有薄膜氣^it逸器等的 孔.另一個示例可以是穿狄1258i^"燒結(jié)的粉末金屬氣^itSl器等的l可 以理解，可以使用其他的位置和it3l裝里，W領(lǐng)城所已知的.對準(zhǔn)裝置1306 可以具有^K^胺^^布的^"I^面.
用于制造吊搶1250各部分的J:ii示例材料減少了潁粒的產(chǎn)生.可以理解， 這些材料只是優(yōu)選的示例，可以^其他已知的材料.
吊搶1250可以分兩個階段打開，如以下關(guān)于系統(tǒng)使用技術(shù)所詳細(xì)描迷的. 首先，革1256升高預(yù)定的高沈以打破氣體密封"1262所形成的氣絲封， ii^^得氣體5fcAJ'J吊搶1250中，并JJR粒隨著氣^iMt傳輸.但AJI粒不會直
氣體流動iiit該過濾的通il1304,將圃頂1264內(nèi)的壓力與外界的壓力相平 衡.第；閎為軍1256可以連續(xù)的ff"^圃頂1264可以升高離fNU266.在前 述步樣中圃頂264內(nèi)的壓力己經(jīng)與外界壓力平衡之后，當(dāng)H頂1264^離開時 在BJ頂1264內(nèi)或者i^沒有明顯的氣M者願粒的流動.在這些實(shí)施方案中， 圃頂1264、板1266或者是這兩;^^是透氣的，"4^t它們允許氣體流動以狄
20圃頂1264內(nèi)外之間產(chǎn)生壓力差. 負(fù)栽銷(load lock)
困14 - 15分別表示本發(fā)明實(shí)施方案的負(fù)栽銷的僻汰困和分陣沐困.在一個 實(shí)施方案中，樹U401 (可以在支撐銪1404的頂部上)和mi子1402iSX^ 基部1403和圃頂1405iL間.圃頂除去裝置(例如困頂抬升器)1406包括電機(jī)1407、 導(dǎo)i!Mt 1408以及波紋管(bellovr) 1409.負(fù)栽銷也fc4t用于大氣倒和真空側(cè)門閥 的開口1410.所有的上迷部件都iitf^底部(例如真空殼)1411和頂部(例如 真空殼頂)1412所形成的封套中.負(fù)栽銷還可包^"與吊搶圃頂?shù)拈_口端一 致的密封J^V或顆粒密封^JL,用于防jt^一BJ頂和;fcA之間流動.負(fù)栽 鎮(zhèn)還可包糾濾的iiii1413 (例如穿過圃頂壁的孔，并JL4Ut有薄妖氣糾濾 器)，它使BJ頂內(nèi)的氣體壓力與兩頂外的氣體壓力相平衡，還包括用于^l負(fù) 栽鎖內(nèi)空^Ufe栽(airborne)或者氣^ife栽(以下都稱為空氣運(yùn)栽)顆粒的裝置 (例和傳感器或:t^測器).
通常，負(fù)栽鎖是非常臟的，主要是閎為密封以對負(fù)栽銷進(jìn)行抽空或者ift^ 的門閥所致.每^iit行密封或者開啟密封時，產(chǎn)生了空^4U氣^ft的顆 私而且，門閥^JL雜的^MjMft件，具有許多導(dǎo)致移動、磨損和絲的"W以 及潤滑刑.WNt污物集絲負(fù)栽鎖的內(nèi)部.在負(fù)栽鋪的ii^Ui^中，氣體 ;"負(fù)栽銷并將其壓力與大氣壓力相平衡，導(dǎo)致顆粒產(chǎn)生運(yùn)動.而且，當(dāng)抽空 負(fù)栽銷時，氣體流出負(fù)栽銷，導(dǎo)致了顆粒的流動.因A ^ftt^本發(fā)明的實(shí)施方 案，iiit將^t封^L圃頂和板內(nèi)，保護(hù) 1不受顆粒傷害.
田16- 17分別表示本發(fā)明實(shí)施方案的摸版搬運(yùn)核心(reticle handler core〉1701和^jll被系統(tǒng).^L襯運(yùn)系統(tǒng)fe^:核心糾(例如真空和^Mt) 以及大氣(空氣)環(huán)境.核心Jf^ti^位于^^Ufti&tt心1701內(nèi).麥考困16, ;^Uit^核心1701包括在真空腔1602內(nèi)的粉i1601.粉U601通過可以具有兩 個臂的真空自動裝里1603移動iiit真空腔1602.模版核心1701也包括在真空腔 1602和加工腔之間的門W1604. ;BWL核心1701還包括具有負(fù)栽銷訴輪泵1606和 負(fù)栽鎖門閥1607的負(fù)栽銷1605.皿核心1701還包括打開吊輪1609的脫吊搶器 (depodder) 1608.負(fù)栽鎖和脫吊輪器中的開口連接至清潔空氣^ftJ61610, 并可以通過flfcff^t自動裝置1611而進(jìn)出.^L^過程中，從打開的吊搶1609中iiit"lltJm自動^Xl611^微 (該田中看不見).然后該^^UEtii門岡(辟te valve) 1607;6fcJL^負(fù)栽銷1605 內(nèi).抽空負(fù)栽鏑，利用真空自動裝置1603# ^負(fù)栽頷中除去.利用自動裝 置1603^船S1601傳輸iiil真空腔1602，并逸tt門閥1604^UL^加工腔(田中 未顯示)內(nèi).^工之后，真空自動裝置1603將^AUUp工腔內(nèi)ii^:門閥16(H 除去，并艦門閱1607;ajL^負(fù)栽鎮(zhèn)1605內(nèi).然后^負(fù)我鎮(zhèn)iiRu做1601 ^LMIt^jei610^前"U穿過負(fù)栽鎖1605. flUf^J61610可以充有清 潔的過濾和/或者干燥的氣體(例如干燥氣氣〉.然后mSMfe自動裝置1611將棋 g負(fù)栽鎖中除去，并^Jt^位于脫吊搶器1608內(nèi)的打開吊搶1609內(nèi).然后該 脫吊浙器關(guān)閉吊糸r,
參考田17, *1搬運(yùn)系^包括具有用于移動吊餘1703的大氣自動裝寬 1702的空氣或者大氣絲.吊搶1703可以存錄吊搶膽架上，如困所示.一
種自動 嚙合的各部分來擻運(yùn)吊舲1703.顯示為處于上位的吊絲脅1705 將由餅者紅^t入位置1706的吊搶1703^升到自動!Utl702的鵬平面. 或者，可以將吊搶1703由將吊搶1703Ajt^自動i)til702可"直接到達(dá)的位置 1707的架空綠(iMl示)^t^工具.自動WU702能夠?qū)⒌跚?703^Lh 部升JWut動器1712、吊搶棄睹架1714、架空位置1707和/或者脫吊搶器1609之 間移動. 一旦吊搶1703;itJL^脫吊艙器1609中， ||1 ^心1701打開吊艙 1703,并加工該艦1601,如上所it^同沐<15￡^11601已&^工^,棋 版搬運(yùn)核心1701# ^再^1:在吊搶1703中，并關(guān)閉吊搶1703.因A該
i^w:大氣部分之間^3i，l分.一 一
這兩個子系Stii^ja吊^器1609彼ifc^對mi601的襯逸 J0L*S*C 心1701可以參考閨16來沐述，但晃在田17中也可以者見，它位于大氣自動紐 1702之下.為了便于讀者確W向，指出了真空腔1602、 5f*ei610、脫吊 艙器1609以及^^自動裝Jt1611.在大氣ifF^i^核心糾中都有絲能力.
在一些實(shí)施方案中，過濾的空氣環(huán)境也可以包括識別站，用于閱讀在吊 搶1703上編碼的10#^連接至吊搶1703的智秀沐^F".
在一些實(shí)施方案中，氣^fcep境可以包^: (a〉識別站，用于讀出在掩棋
22上編碼的ID標(biāo)^ (b)熱調(diào)整站，用于使得輸入掩棋的溫度與預(yù)定的加工溫;W 平衡(c)^^BM^驗(yàn)站，用于^在掩模的至少一個表面上的污染物；(d)掩棋 清潔站，用于從掩棋的至少一個表面上除去表面污染浙；和/或(e)掩敝向站, 用于相對于;tMift^^m行J^確的定向，而且在一些實(shí)施方案中，^*用選 自以下的氣體進(jìn)行^^包妝過逸的干燥空氣、合成空氣、千燥氣氣和千煉 氧氣的混合物、和/或干燥氣氣或者其他氣體.
在一些實(shí)施方案中，真空部分包^: (a〉識別站，用于讀出在掩棋上編碼 的ID標(biāo)你(b)庫(library),用于暫時'feMH^至少一^^樣(c)熱調(diào)整站，用 于使得輸入掩模的溫度與預(yù)定的加工溫度相平銜(d)掩^^驗(yàn)站；(e)用f^: 測在掩棋的至少一個表面上的污染物；(f)掩棋清潔站，用于從掩模的至少一個 表面上除去表面污染物；(g)掩棋定向站，用于相對于;^t掩^^fHfr確的定 向；和/或(h)加工站，用于加工至少一個掩樣在一些實(shí)施方案中，加工站用 于利用膽掩絲面上的困案輛復(fù)制到涂有iU膠的晶片上在一些實(shí)施方 案中，光波長對應(yīng)于光詳?shù)臉O紫外(EUV)部分，在10-15納米之間，優(yōu)選在13納 表
方法
困18表示4M^本發(fā)明的實(shí)施方案用于傳輸掩模的方法1800的洗擇田，在步 稞1802，將掩模的笫一部分用可移式顆粒益子(particle cover〉覆益.餅形 成一個暫時的掩模-蓋子裝置，它保護(hù)著第^分不受空氣運(yùn)栽的豕粒污染. 在步稞1804,將掩棋的第二部分留下不泉塞.在步稞1806， #*裝置封閉在氣 密的盒子內(nèi).該盒子可以^有掩棋絲部絲能與該掩^ft部分分開的革， 用于保護(hù)掩棋不受空氣狄的軒污染.在步稞1806,傳輸盒子內(nèi)的iW.
田19表示#4*本發(fā)明的實(shí)施方案傳輸，4fe^p加J^棋的方法1900的i^ 困.在步碟1902，將掩模的第一部分用可移式顆粒蓋子覆蓋.這樣形成一^ 時的掩模-蓋子裝置，以保護(hù)笫"^分不受空氣運(yùn)栽的顆粒污染，在步和904， 將掩模的第二部分留下不在差.在步稞1906, 4^ 封閉在氣密的盒子內(nèi). 該盒子可以具有掩棋^^部絲能與該掩^^部分分開的革，用于保護(hù)掩模 不受空氣運(yùn)栽的分子污染.
在步樣1908,將帶有該裝置的盒子傳輸?shù)郊庸すぞ?該加工工^有以下 每種部件的至少一個，包拾脫吊搶器、 iE i*je、 ^6f^MJl器、負(fù)栽鎖、
2真空腔、真空操縱器以及掩棋iA在步稞1910,將包含有該裝置的盒子;^t 脫吊搶器的笫一開口上，使得t子的革防止氣^iiit該第一開口而流動.在步 槺1912，用清潔氣M化脫吊搶器的內(nèi)部.在步稞1914,將掩模^部#革 分開而打賴盒子，絲革在原仗用于鵬氣體流動，將掩棋運(yùn)栽部^Ht 紅移動到脫吊舲器的內(nèi)部.在步稞1916，利用4fcEFift^feL器艦第二脫吊舲
器開口而糾裝x^;吊搶器抽擬ij^bef^je內(nèi)，并糊Jitx艦笫一負(fù)栽鎖
開口放到負(fù)栽鎖內(nèi)部.在步fll1918，抽空負(fù)栽鎖.在步稞1920,利用真空,
!^j^iiiit第二負(fù)栽鎖從該負(fù)栽鎖中抽出，并# 裝置移動到真空腔內(nèi)，
在步稞1922, M裝X^J^掩模^J:，使4f^模的iMLi部分與^^ 觸.在步樣1924，利用該JL^^at掩樣在步樣1926，利用真空狄器，將 蓋子與掩模分開，取狄者重新定位益子.在步槺1928，加工掩模.
困20表示用于將掩棋在負(fù)栽銷中從大氣壓力傳輸?shù)秸婵盏姆椒?000的流 程田.在步擬002，將掩^ftX在負(fù)栽銷內(nèi).在步彩004,將掩棋用兩頂肚, 以防止負(fù)栽銷中的空^iMl的類樹iJ達(dá)掩樣在步彬066，關(guān)閉負(fù)栽銷.在步 彩008，抽空負(fù)栽銷.在步恥OIO，打開負(fù)栽鎖至其空.在步呢012,縮回圃 頂而使^^棋不^tjSUL在步戲014，從負(fù)栽鎮(zhèn)中移開掩樣
困21表示用于將掩祺泉K負(fù)栽鎮(zhèn)中真空傳輸?shù)酱髿鈮毫Φ姆椒?100的流 程田.在步彩102,將掩^jftJL在負(fù)栽銷內(nèi).在步擬104，將掩棋用面頂4JL 該^步恥014用于防止負(fù)栽鎖中變?yōu)榭諝膺\(yùn)栽的類i^ttJ&的iiJ^打^^ 驟中到達(dá)掩模.在步W2106'關(guān)閉負(fù)栽銷.在步彩108，對負(fù)我領(lǐng)進(jìn)行ii^ 在步彩IIO，將負(fù)栽鋪的大氣端打開至大^U^在步彩112,空氣狄的顆 粒沉降.在步彩114,縮回圃頂而使^^模不;iMUL在步彩116，從負(fù)栽銷 中移開掩樣
困2汰示用于傳輸、*^ 加工掩模的方法2200的絲田.在步恥202, 將掩棋封閉在一個氣密的盒子中，該盒子具有掩摸^l部分以及能與該掩摸運(yùn) 栽部分分開的革，用于保護(hù)4fe"模不會受到空氣運(yùn)我的分子的污染，在步彩204, 將包含有該掩棋的盒子^Ul)加工工具，該工M有以下每^件中的至少一 沐(a)脫吊搶器；(b) ifmje; (C〉《W^tlMW&; (d)負(fù)栽鎖；(e〉真空腔:(f)真 空M器以及掩模iJL在步彩206,將包舍有該掩棋的盒子itt脫吊舲界的 第一開口上，使得盒子的革防止氣^iiit該第一開口而流動.在步戲208,用清潔氣體(例如干燥氨氣)；Hfc脫吊搶器的內(nèi)部.在步 2210，將掩棋i&ft部 絲革分開而打賴盒子，絲軍在原仗用于贈氣體流動，將掩棋運(yùn)栽部
^^掩模移動到脫吊搶器的內(nèi)部.在步JBW212，利用^lf^!Mil器，逸過第 二脫吊輪器開口而糾掩:ft^吊舲器4iyM!jflU^tJ&內(nèi)，并^t掩模iiii笫 一負(fù)栽銷開口&!j負(fù)栽鎖內(nèi)部.在步JH2214，抽空負(fù)栽鏑.在步鵬216,利用 真空IMiL3S^^掩椹iiit笫二負(fù)栽鋪開口從該負(fù)我銷中抽出，并# 掩棋移動 到真空腔內(nèi).在步擬218, # 掩 *11^*模_^11.在步擬220,加工掩 祗
總之在上述幾個實(shí)施方案中，模版面臨三個環(huán)沈吊搶g(例如凈化
的干燥氣^tt^)、脫吊搶器至負(fù)栽銷g(例如真空)、以; UUI栽銷至 卡盤g在每個iEf^t渡中可以將艦封裝在一些實(shí)施方案中，通過如下 步稞使用雙重包套吊搶，打開吊搶，^ft^吊搶器，等待氣'絲定，打 開膜盒，vWjl盒中抽出^i和/或蓋子.在另一些實(shí)施方案中，iiii如下步稞使 用帶有兩頂?shù)奶厥庠O(shè)計的負(fù)栽銷，包括將艦和/或蓋子;&XlL負(fù)栽銷中，用 圃頂AiSJI^艦以扭負(fù)栽銷，等待氣絲定，升高兩頂，# XM^/iUL 子從負(fù)栽鎮(zhèn)中抽出.在另外的實(shí)M案中，iii2t^壓力im中控制氣3fc^者在 皿前例J^ii濾氣流(簾/限掉件)而不使用抽理ja^f件來防jML有田案的區(qū)域 上的類粒沉降.在另外的實(shí)施方案中，利用透njt子采用不it^粒的物理阻 擋件來保護(hù)m或者將^ut者益子^f在吊搶內(nèi)，該《 ^蓋子錄負(fù)栽 銷內(nèi)，蓋著蓋子進(jìn)行壓力itat當(dāng)iiA真空環(huán)境中時i^益子.
通過采用上述實(shí)施方案，即使對各種系妙系統(tǒng)的各^Nt用不理想的材 料，也賊少顆粒的產(chǎn)生.這部分是iiii使用保護(hù)'戰(zhàn)架、蓋子等以及使用了 ii^it^策略來實(shí)現(xiàn)的.
結(jié)論
盡管以上巳^S述了本發(fā)明的各實(shí)施方案，但是可以理解，這^sbt—種示 例，而不是對其的限制.相關(guān)領(lǐng)城的技"員可以理鮮，在不脫離本發(fā)明斷 和范閨的前提下可以對形式和細(xì)節(jié)作各種政變*閎此本發(fā)明的范兩應(yīng)當(dāng)不限 于上述^示例性的實(shí)施方案，只應(yīng)當(dāng)由所附的;M，1要^其等同內(nèi)容來限t
權(quán)利要求
1.一種用于保持反射型掩模的框架，該框架為矩形并且基本上繞該掩模的邊緣包圍該掩模，從而保持該掩模的反射表面敞開，該框架包括緣邊，該緣邊在該掩模的反射表面的邊緣處支撐該掩模。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，其中，該框架具有適合于與一閂鎖 相協(xié)作的舌片。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，其中，該框架具有定位配件，該定 位配件接觸該掩模，從而相對于該框架定位該掩模。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，其中，該定位配件設(shè)于該框架的至 少一個角部。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的框架，具有與運(yùn)動定位器相協(xié)作的孔。
6. —種兩部件式蓋子，包括按照權(quán)利要求1的框架以及一板，該板 與該掩模的反射表面的尺寸基本相同，該板具有面向該掩模的第一側(cè)以 及背離該掩模的第二側(cè)。
7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的兩部件式蓋子，其中，該板具有運(yùn)動定位器，該運(yùn)動定位器從該板的第一側(cè)伸出并接觸該框架。
8. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的兩部件式蓋子，其中，該板是透明的， 以允許檢査該掩模的反射表面。
9. 一種蓋子，用于覆蓋具有反射表面的模版，該蓋子包括一板，該 板與所述反射表面的尺寸基本相同，并且在使用時保持成與所述反射表 面基本平行，該板允許對該模版的反射表面進(jìn)行檢查，并且具有一框架部分，該框架部分具有定位配件，以便接觸該模版的邊緣，從而相對于 該板定位該模版。
10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的蓋子，具有一運(yùn)動定位器的一部分。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種使用兩件式蓋子保護(hù)模版的系統(tǒng)和方法。它們包括提供一個固定在兩件式蓋子中的模版。該兩件式蓋子包括用于保護(hù)顆粒不受污染的可除去保護(hù)部分。該蓋子可以保持在用于將蓋子從大氣部分向真空部分傳送通過光刻系統(tǒng)的吊艙或者盒子內(nèi)。在真空部分，在晶片上形成模版上的圖案的曝光過程中移動該可除去的蓋子。
文檔編號G03F1/24GK101650528SQ20091016671
公開日2010年2月17日 申請日期2003年2月21日 優(yōu)先權(quán)日2002年2月22日
發(fā)明者喬納森·H·費(fèi)羅斯, 伍德羅·J·奧爾松, 圣地亞哥·E·德爾·普埃爾托, 埃里克·R·盧普斯特拉, 安德魯·馬薩爾, 杜安·P·基什, 阿卜杜拉·阿里汗 申請人:Asml控股股份有限公司