專利名稱：：防反射膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種適用于例如等離子顯示板(PDP)、液晶顯示板(LPD)等，在透明基材膜上的防反射層由單層構(gòu)成具有充分的防反射性能的防反射膜。
背景技術(shù)：
：近年，等離子顯示板、液晶顯示器等電子圖像顯示裝置(電子顯示器)作為電視及監(jiān)視器的用途得到了顯著的進步，廣泛地普及。隨著這些電子圖像顯示裝置的大型化，因外部光線的映入而產(chǎn)生了可視性降低的問題。因此，一般通過在透明基材膜的表面設(shè)置防反射層而形成防反射膜，再把該防反射膜粘合在顯示器的表面上來提高可視性。以往，為了獲得防反射性能，這種設(shè)在防反射膜上的防反射層一般為由高折射率層和低折射率層堆疊而成的的多層結(jié)構(gòu)。然而，如果采用折射率更低的材料，即使僅為低折射率層的單層結(jié)構(gòu)，也能夠在寬廣的可視光波長區(qū)域內(nèi)控制反射。另外，由于與多層結(jié)構(gòu)的防反射膜相比較，單層結(jié)構(gòu)的防反射膜的層結(jié)構(gòu)簡易，所以生產(chǎn)效率卓越。例如，作為單層結(jié)構(gòu)的防反射膜，由100300nm的硅石粒子、和具有比該硅石粒子的粒徑要小的膠態(tài)硅石的混合物所形成的精密充填涂膜為人們所知(參見專利文獻1)。通過該精密充填涂膜，用簡單的方法就能夠形成在電路板上僅高密度規(guī)則整齊地排列了一層超微粒子的涂膜，尤其是能夠形成適于防反射膜的涂膜。但是，在專利文獻1所記載的該精密充填涂膜中，由于包含100nm以上的大硅石粒子，該硅石粒子會在涂膜的表面露出，涂膜表面的耐擦傷性差，所以對電路板的貼緊性明顯地不充分。另外，作為防反射膜的結(jié)構(gòu)，一般在透明基材膜上設(shè)置透明(清晰)的硬涂層，該硬涂層采用紫外線固化型樹脂、電子線固化型樹脂等電離放射線固化型樹脂的。但是，由于作為透明基材膜主要使用的聚對苯二甲酸乙酯(PET)膜的折射率為1.65，另外，通常使用的硬涂層的折射率為1.501.55，因而在PET膜與硬涂層之間便產(chǎn)生了0.100.15的折射率差。這樣，由于在折射率不同層的界面上發(fā)生光的反射，所以在兩者的界面上通過反射光的干涉，由此在熒光燈等下看薄膜時就將觀察到七色的干涉條紋。專利文獻1:日本特開平7-198904號公報
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的在于提供包括透明基材膜上的防反射層為單層結(jié)構(gòu)、具有充分的防反射性能，并且貼緊性及耐擦傷性優(yōu)異、生產(chǎn)效率高的防反射膜。本發(fā)明一實施例的防反射膜，由在透明基材膜的表面直接層疊有作為單層結(jié)構(gòu)防反射層的低折射率層而構(gòu)成。并且，所述低折射率層的折射率為1.201.50。根據(jù)該結(jié)構(gòu)，由于低折射率層的功能防反射作用被顯現(xiàn)，另外，也能夠控制因低折射率層與透明基材膜之間的層而產(chǎn)生妨礙防反射作用。而且，由于低折射率層與透明基材膜之間的層涂得勻稱，所以品位高。因此，本發(fā)明一實施例的防反射膜，其透明基材膜上的防反射層為單層結(jié)構(gòu)、具有充分的防反射性能，且外觀上無反射不勻。具體實施例方式以下，詳細地說明關(guān)于本發(fā)明的實施方式。本實施方式的防反射膜，由作為單層結(jié)構(gòu)防反射層的低折射率層在透明基材膜的表面上層疊而構(gòu)成。并且，所述低折射率層的折射率設(shè)定為1.201.50。其次，順序地說明有關(guān)該防反射膜的構(gòu)成要素?！赐该骰哪ぁ涤糜诜婪瓷淠さ耐该骰哪?，只要具有透明性就可而沒有特別的限制，但是由于為了控制光的反射，折射率(n)以1.551.70的范圍內(nèi)為佳。作為形成那樣的透明基材膜的材料，例如以聚對苯二甲酸乙酯(PET、n=1.65)等的聚酯、聚碳酸酯(PC、n=1.59)、聚芳酯(PAR、n=1.60)及聚苯乙烯(PES、n=1.65)等為佳。這其中，在易成型、易得到及成本低的方面，以聚酯膜尤其是以聚對苯二甲酸乙二醇酯膜為佳。另外，透明基材膜的厚度，以25400um為佳，以50200um為更佳。在透明基材膜的厚度比25um薄、或者比400um厚的情況下，防反射膜在其調(diào)制時及使用時的處理性的惡化而不佳。此外，在透明基材膜中，也可以含有各種添加劑。作為那樣的添加劑，例如可以舉出紫外線吸收齊U、防帶電齊IJ、穩(wěn)定齊IJ、可塑齊IJ、潤滑劑及阻燃劑等?！吹驼凵渎蕦印捣婪瓷淠さ牡驼凵渎蕦邮瞧鸬娇刂品瓷涞膯螌咏Y(jié)構(gòu)的防反射層作用的層。該低折射率層，通過使含有例如平均粒子徑為10100nm的中空硅石微粒子和聚合性粘合劑的低折射率層涂敷液固化而形成。該低折射率層的折射率為1.201.50。而以1.251.45為佳。在低折射率層的折射率不足1.20的情況下，由于聚合性粘合劑的含有量少，所以低折射率層將難以具有充分的涂膜強度。另一方面，在折射率超過1.50的情況下，低折射率層將無法顯現(xiàn)充分的防反射性能。可以根據(jù)中空硅石微粒子和聚合性粘合劑的種類等來調(diào)整防反射性能。形成低折射率層成分的所述中空硅石微粒子，為形成有大致球形的硅石(二氧化硅Si02)，并在其外殼內(nèi)具有中空部的微粒子。中空硅石微粒子的平均粒子徑以10100nm為佳；以2060nm為更佳。在中空硅石微粒子的平均粒子徑小于10nm的情況下，中空硅石微粒子將難以調(diào)制故而不好，另一方面，在平均粒子徑大于100nm的情況下，低折射率層中的光的散射將變強，在薄膜上的反射就會增大，防反射性能則會降低。該中空硅石微粒子，可以直接使用分散于有機溶劑中的在市場上公開出售的商品；或者也可以將市場上公開出售的各種硅石粉體分散于有機溶劑中進行使用。該中空硅石微粒子也可以利用例如日本特開2006-21938號公報所公開的、在外殼內(nèi)部具有空洞的中空的球形硅石類微粒子的調(diào)制方法進行合成。即、硅石類微粒子可以經(jīng)由下列工序(a)、(b)、(d)及(e)進行調(diào)制。工序(a):在堿性水溶液中用所規(guī)定的比率添加硅酸鹽的水溶液或者酸性硅酸液、和堿性可溶的無機化合物水溶液，調(diào)制復合氧化物微粒子分散液時添加電解質(zhì)鹽的工序。工序(b):在前述復合氧化物微粒子分散液中加入酸制成硅石類微粒子分散液的工序。工序(d):將前述硅石類微粒子分散液在常溫30(TC范圍內(nèi)進行成熟的工序。工序(e):在50300°C的范圍內(nèi)水熱處理的工序。接著，作為形成低折射率層的成分的前述聚合性粘合劑是含氟有機化合物的單體或者混合物。另外，作為聚合性粘合劑能使用不含氟的有機化合物(以下、簡稱為非氟類有機化合物)的單體或混合物或者聚合體。作為含氟有機化合物，以例如l-(甲基)丙烯酰氧基-l-全氟烷基甲烷、l-(甲基)丙烯酰氧基_2-全氟烷基乙烷、1，10-雙丙烯酰氧基-1，1，10，10-四氫全氟癸烷、1，10-雙雙丙烯酰氧基_2，9-二羥-4，4，5，5，6，6，7，7-八氟癸烷、1，9-雙雙丙烯酰氧基_2，10-二羥4，4，5，5，6，6，7，7-八氟癸烷、2，9-雙雙丙烯酰氧基-l，10-二羥4，4，5，5，6，6，7，7-八氟癸烷、l，2-二(甲基)丙烯酰氧基-3-全氟烷基丁烷、2-羥基-lH，lH，2H，3H，3H-全氟烷基-2'，2'_雙K甲基)丙烯酰氧基甲基}丙酸酯、a，"_二(甲基)丙烯酰氧基甲基全氟鏈烷、a，|3，u;，"-四{(甲基)丙烯酰氧基卜aH，aH，PH，YH，YH，xH，xH，u;H，"H，"H-全氟鏈烷等為佳。作為不含氟類有機化合物，例如可以舉出以單官能(甲基)丙烯酸酯〔在此，本說明書中，(甲基)丙烯酸酯是指包括丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯的雙方的總稱?！常喙倌?甲基)丙烯酸酯以及四乙氧基硅烷等反應性硅元素化合物等作為出發(fā)原料的化合物。從這些化合物中，從讓生產(chǎn)效率以及硬度并存的觀點來看，優(yōu)選地以把包括紫外線固化性有機化合物特別是紫外線固化性多官能丙烯酸酯作為主要成分的組成物為佳。作為包括像那樣的紫外線固化性多官能丙烯酸酯的組成物沒有特別的限制，例如能舉出將2種以上公知的紫外線硬化性多官能丙烯酸酯進行混合的組成物、作為紫外線固化性硬涂層材在市場上出售的組成物等。作為前述紫外線固化性多官能丙烯酸酯并無特別的限制，優(yōu)選地以例如二季戊四醇六丙烯酸酯、四羥甲基甲烷四丙烯酸酯、四羥甲基甲烷三丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯、l，6-己烷二醇二丙烯酸酯、l，6-雙(3-丙烯酰氧基-2-羥基丙基氧)己烷等多官能乙醇丙烯誘導體和聚乙烯乙二醇二丙烯酸酯以及聚氨基甲酸脂丙烯酸酯等為佳。聚合性粘合劑為紫外線固化性有機化合物時，由于紫外線照射能迅速地形成低折射率層，能提高防反射膜的生產(chǎn)效率。在透明基材膜的表面上形成低折射率層的方法并沒有特別的限制?？梢耘e出將低折射率層涂敷液采用輥涂法、旋涂法、捲涂法、浸涂法、印模涂法等涂敷方法在膜的表面上涂敷之后，再進行紫外線照射的方法。作為低折射率層涂敷液的涂敷方法，從生產(chǎn)效率方面來看優(yōu)選地以能連續(xù)地形成低折射率層的輥涂法等方法為佳。另外，在采用輥涂法、旋涂法、捲涂法、浸涂法、印模涂法等涂敷方法將低折射率層涂敷液涂敷到膜表面上之前，也可以在基材膜表面上實施電暈放電處理。低折射率層的厚度優(yōu)選地以kA/4為佳。這是由于根據(jù)光的干涉作用表面反射將會減少，透過率則會提高之緣故。在此，A表示光的波長(400650nm)、k為1或者3。通過像這樣將低折射率層的厚度做成kA/4就能夠進一步提高防反射效果。在這種情況下，當k為1時，可以提高防反射性能(能見度反射率)；當k為3時，則可以提高耐擦傷性。〈易粘合層>低折射率層以直接層疊在透明基材膜上為佳。這是因為低折射率層和透明基材膜的易粘合層有可能成為引起防反射作用下降和反射不勻的主要原因。不過，已經(jīng)清楚的是，如果是具有所規(guī)定的范圍的折射率和厚度的易粘合層，則即便設(shè)在低折射率層和透明基材膜之間，也不會引起防反射作用下降和反射不勻。采用那樣的易粘合層時，因為反射不勻的減少和足夠?qū)嵱玫姆婪瓷湫阅艿靡圆⒋?，而且，低折射率層和透明基材膜的貼緊性提高，容易將低折射率層貼緊在透明基材膜上，低折射率層變得難以剝落，由此，能以優(yōu)異的生產(chǎn)效率來生產(chǎn)在需要高耐久性的用途上令人滿意的防反射膜。就易粘合層的折射率進行說明。本實施方式的易粘合層的折射率設(shè)定成低折射率層的折射率在易粘合層的折射率以下。易粘合層的折射率也可以設(shè)定成在低折射率層的折射率以上而在透明基材膜的折射率以下。例如，易粘合層的折射率為1.501.65，優(yōu)選地為1.551.60。易粘合層的折射率低于1.50的時候、或者超過1.65的時候，將會引起光的干涉不勻結(jié)果的發(fā)生，反射率變高因而是不適合的。另外，該易粘合層的厚度為150nm，以130nm為佳，以525nm為更佳。例如，易粘合層的厚度比lnm薄的時候，透明基材膜和低折射率層的貼緊性的提高作用有時會不足，采用易粘合層的的價值就少。另一方面，當比50nm厚的時候，由于防反射膜會受光學干涉，其反射率將變高因而是不適合的。易粘合層的折射率和厚度能在上述范圍內(nèi)恰當?shù)嘏浜?。形成該易粘合層的材料并沒有特別的限制。例如能使用聚脂樹脂、丙烯樹脂、聚氨酯樹脂等熱硬化性樹脂。易粘合層也可以是導電性易粘合層。另外，易粘合層可以在進行透明基材膜的調(diào)制時用公知的方法在透明基材膜表面上形成，或者也可以使用市場上出售的預先形成有易粘合層的透明基材膜。采用易粘合層的時候，低折射率層按照用第一實施方式例示的方法能在透明基材膜表面的易粘合層上形成。導電性易粘合層能發(fā)揮防止異物附著的效果，能在導電性易粘合層上高精度地層疊低折射率層的同時，還能提高手感。導電性易粘合層由使具有聚噻吩框架的導電性化合物、多吡咯、4級銨堿、有機磺酸鹽、界面活性劑和導電性微粒子等分散在粘合劑中的導電性材料所形成。作為導電性微粒子，可以使用例如銦、鋅、錫、鉬、銻、鎵等氧化物或復合氧化物微粒子、銅、銀、鎳、低熔點合金(焊錫等)的金屬微粒子、覆蓋金屬的聚合物微粒子、各種碳黑、多吡咯、聚苯胺等導電性聚合物粒子、金屬纖維、碳纖維等導電劑。含有像這樣導電性材料的導電性易粘合層的表面電阻率(表面固有電阻)，以1X1012Q/□以下為佳，以1X1010Q/□以下為更佳，以1X108Q/□以下為特佳。表面固有電阻比1X1012Q/口高的時候，在涂敷面上將低折射率層進行層疊的場合，由于防止塵埃等異物附著性能和手感將惡化，有時不能充分地進行更精巧的層疊，所以不好?！捶婪瓷淠?gt;本實施方式的防反射膜，是在透明基材膜的表面層疊作為單層結(jié)構(gòu)防反射層的低折射率層而構(gòu)成的，該低折射率層的折射率為1.201.50。因此，低折射率層的防反射作用不會被妨礙而能充分地顯現(xiàn)出來。另外低折射率層和透明基材膜之間沒有易粘合層時就不用說了，即使在采用折射率和厚度在所定范圍的易粘合層的時候，防反射作用不受妨礙而能夠有效地顯現(xiàn)出來，也沒有反射不勻。從而，在本實施方式的防反射膜中，透明基材膜上的防反射層為單層結(jié)構(gòu)具有充分的防反射性能、并且無反射不勻、生產(chǎn)效率出色。另外，透明基材膜的表面也不需要硬涂層。本實施方式的防反射膜能合適地適用于等離子顯示板、液晶顯示器板、場致發(fā)射6顯示、表面電場顯示等平面電子顯示或畫框和美術(shù)館等的展示套陳列架等的表面。以下，列舉實施例以及比較例更加具體地說明實施方式。實施例13的防反射膜，由在透明基材膜的表面上，直接層疊作為單層結(jié)構(gòu)的防反射層的低折射率層而構(gòu)成。因此，實施例13的防反射膜是由透明基材膜和低折射率層(最上層)組成的二層層疊體。(A)光學特性(a-l)能見度反射率為了除去測定面的背面反射，用砂紙摩擦背面使之粗糙，全部涂上黑色涂料，利用光譜光度計〔日本光譜(株)制、商品名U-best560〕，測定光的波長380780nm的5°、_5°正反射頻譜。利用得到的380780nm的光譜反射率和CIE標準光源D65的相對光譜分布，按照JISZ8701規(guī)定的XYZ表色系統(tǒng)中的、基于反射的物體色的三剌激值Y來作為能見度反射率。(a-2)折射率的測定按照下面(1)(4)的工序算出折射率。(1)在折射率1.49的丙烯樹脂板〔商品名"DELAGLASA"、旭化成工業(yè)(株)制〕上，利用浸涂機〔杉山元理化學機器(株)制〕來涂敷低折射率層涂敷液。對低折射率層涂敷液的涂敷進行調(diào)整以使干燥低折射率層具有與550nm左右的A對應的光學膜厚(A/4)。(2)低折射率層涂敷液中的溶媒干燥之后，根據(jù)需要利用紫外線照射裝置〔巖崎電氣(株)制〕，在氮氣環(huán)境下使用120W高壓水銀燈，輸出400mJ的紫外線進行照射，使低折射率層涂敷液硬化。(3)用砂紙摩擦丙烯樹脂板背面使之粗糙，全部涂上黑色涂料，用光譜光度計〔"U-best50"、日本光譜(株)制〕測定其在400650nm區(qū)域的5°、_5°正反射率，讀取其反射率的極小值或者極大值。(4)根據(jù)反射率的極值，并利用以下的公式計算折射率。<formula>formulaseeoriginaldocumentpage7</formula>式中，丙烯樹脂折射率為1.49，空氣的折射率為1.00。(a-3)平均粒子徑使用粒子徑分布測定裝置〔大塚電子(株)制、PAR-III〕，通過使用激光的動態(tài)光散射法來測定平均粒子徑。(B)反射不勻在三波長光源下，在制作好的防反射膜的背面，貼上施加了黑粘合層的膜并用眼睛來觀察反射不勻(外觀的顏色的不勻)，用以下四個等級來進行評價。無反射不勻時評定為◎、反射不勻弱時評定為〇、反射不勻強時評定為X、反射不勻強且能看見干涉條紋時評定為XX。(C)變性中空硅石微粒子(液膠)將中空硅溶膠〔觸媒化成工業(yè)(株)制、商品名ELCOMNY-1001SIV、基于異丙基乙醇的中空硅溶膠25質(zhì)量％分散液、平均粒子徑60nm〕2000質(zhì)量份、Y_丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷〔信越化學工業(yè)(株)制、KBM5103〕70質(zhì)量份以及蒸留水80質(zhì)量份進行混合來調(diào)制變性中空硅石微粒子(液膠)(平均粒子徑60nm)。(D)低折射率層涂敷液(d-l)低折射率層涂敷液A的調(diào)制將前述變性中空硅石微粒子60質(zhì)量份、和二季戊四醇六丙烯酸酯40質(zhì)量份和光聚合開始劑〔千葉特殊化學(株)制、IRGACURE907〕2質(zhì)量份、以及異丙基乙醇2000質(zhì)量份混合制得低折射率層涂敷液A。所得到的低折射率層涂敷液A的涂膜(低折射率層)的折射率是1.41。(d-2)低折射率層涂敷液B的調(diào)制全氟-(1，1，9，9-四氫-5，8-雙氟甲基_4，7_二氧雜_1_壬烯)_9_槳即下述化學式表示的化合物通過〔CH2=CFCF20CF(CF3)CF20CF(CF3)CH20H〕104質(zhì)量份、和雙(2，2，3，3，4，4，5，5，6，6，7，7-十熒光庚?；?過氧化物的8質(zhì)量％全氟己烷溶液11質(zhì)量份的聚合反應，得到含有羥基含氟丙烯醚聚合體(數(shù)目平均分子量72，000、質(zhì)量平均分子量118，000)。接著，由含有羥基含氟丙烯醚聚合體5質(zhì)量份、甲基乙基酮(MEK)43質(zhì)量份、吡啶1質(zhì)量份以及a-熒光丙烯酸氟化物1質(zhì)量份，來調(diào)制具有聚合性雙層結(jié)合的含氟反應性聚合體溶液(固體份13質(zhì)量％、對a-氟丙烯?；牧u基的導入率40分子量X)。將該含氟反應性聚合體溶液40質(zhì)量份、變性中空硅石微粒子60質(zhì)量份、光聚合開始劑〔千葉特殊化學(株)制、IRGACURE907〕2質(zhì)量份、以及異丙基乙醇2000質(zhì)量份混合，得到低折射率層涂敷液B。該低折射率層涂敷液B的涂膜(低折射率層)的折射率是1.35。(實施例1)通過在二軸延伸聚酯膜(聚對苯二甲酸乙酯膜、厚100ym、折射率1.65)的表面上，將前述低折射率層涂敷液A用照相凹版涂法進行涂敷，以使得到的低折射率層的光學膜厚為kA/4(k:1、A:550nm);干燥后，在氮氣環(huán)境下，由400mJ/cm2的輸出照射紫外線使之硬化，制得防反射膜。表1示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例2)在實施例1中，除了在低折射率層涂敷液A涂敷之前，在二軸延伸聚酯膜的表面上實施電暈放電處理(輸出0.5KW)之外，其余與實施例1同樣地進行，從而制得防反射膜。表1示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例3)在實施例1中，除了用低折射率層涂敷液B代替低折射率層涂敷液A之外，其余與實施例1同樣地進行，從而制得防反射膜。表1示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(比較例1)除了在二軸延伸聚酯膜的表面上設(shè)置折射率1.58、厚度100nm的易粘合層之外，其余與實施例1同樣地進行，從而制得防反射膜。表1示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。[表1]<table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>由表1所示的結(jié)果，在通過在透明基材膜的表面上直接層疊折射率為1.201.50的低折射率層來構(gòu)成的實施例13中，因為在低折射率層和透明基材膜之間沒有易粘合層，所以不會受到易粘合層的光學干涉，可以獲得充分的能見度反射率，而且由于沒有易粘合層的涂敷不勻，所以能夠得到品位卓越的防反射膜。另一方面，在比較例1中，因為低折射率層和透明基材膜之間的易粘合層的厚度是lOOnm，所以，受到易粘合層的光學干涉能見度反射率將惡化，由于存在易粘合層的涂敷不勻，所以會導致品位低劣的結(jié)果。[OO78](E)物理特性實施例436的防反射膜，為在透明基材膜上依次形成有易粘合層及低折射率層而構(gòu)成。對使用易粘合層的實施例436的透明基材膜的物理特性按以下的方法進行了評價。(e-1)貼緊性對設(shè)有低折射率層面?zhèn)龋罁?jù)JISD0202-1998進行了圍棋盤剝離帶試驗。用玻璃紙帶〔NICHIBAN(株)制、CT24〕，讓其貼緊防反射膜之后再剝離。判定以100個格子中沒被剝離格子的數(shù)量來表示，完全沒被剝離時以100/100、完全被剝離時以0/100來表示。(e-2)耐擦傷性的評價將#0000鋼絲絨固定在(株)本光制作所制的橡皮磨損試驗機的頂端，掛上2.5N的負荷(250gf的負荷)以及1N的負荷(100gf的負荷)，在防反射膜表面上往返摩擦10次之后，用眼睛來觀察表面的傷痕，用以下AE六個等級進行了評價。A:沒有傷痕、A':傷痕13條、B:傷痕410條、C:傷痕1120條、D:傷痕2130條、E:傷痕31條以上(F)導電性易粘合PET膜的制作(f-l)導電性易粘合PET膜A的制作依照日本專利公開2003-157724號公報記載的實施例1的電子導電層的組成，制作了導電性易粘合PET膜A。SP，將含有0.006質(zhì)量％的、極限粘度是0.65dl/g、平均粒子徑為2.4ym的硅石粒子的PET顆粒用18(TC加熱之后，提供給擠出裝置。接著，在28030(TC的溫度下擠壓成片狀、得到厚度為720ym的未延伸膜，以85°C的溫度將其縱向延伸得到了單軸延伸PET膜。對該單軸延伸PET膜的一個面進行放電處理之后，在該面上將80質(zhì)量％的聚噻吩以及20質(zhì)量％的聚乙烯乙二醇的水性涂敷液涂敷6i！m的厚度。其后，以ll(TC的溫度進行橫向延伸，再以230°C的溫度進行熱處理，得到了在厚度50iim的二軸延伸PET膜上形成有厚度為0.016i！m的導電性易粘合層的導電性易粘合PET膜A。所得到的導電性易粘合PET膜A的折射率是1.52。(f-2)導電性易粘合PET膜B的制作依照日本專利公開2008-255177號公報記載的實施例1的層疊二軸延伸膜的調(diào)制方法，制作了導電性易粘合PET膜B。S卩，將實質(zhì)性地不含有粒子的極限粘度0.66的PET、和含有平均粒子徑2.5m的非晶質(zhì)硅石0.6質(zhì)量份的、極限粘度為0.66的PET，以質(zhì)量比80/20的比例進行了混合。將其在28030(TC的溫度下加熱溶融，擠壓成片狀制作了未延伸PET膜。將該未延伸PET膜在長度方向進行延伸做成單軸延伸PET膜，在其一個面上把下一次的涂敷組成物以涂敷量為0.03g/m2的形式涂敷。涂敷組成物是，預定的吡咯單元與所定的丙烯酰胺單元以質(zhì)量比95/5的比率共聚合且數(shù)目平均分子量為20000的高分子化合物、甲基化六羥甲基三聚氰胺交聯(lián)性樹脂、氨基樹脂類交聯(lián)劑的交聯(lián)觸媒以及作為界面活性劑的聚氧化乙烯月桂醚(氧乙烯平均聚合度是4)按固體份質(zhì)量比60/40/2/5混合的混合物。將涂敷有該涂敷組成物的膜進行加熱、干燥，并在寬度方向使其延伸，進一步實施加熱處理，制得在膜的厚度為38i！m的二軸取向PET膜上形成了0.03g/m2的量的導電性易粘合層的導電性易粘合PET膜B。得到的導電性易粘合PET膜B的折射率是1.56。(實施例4)在一面設(shè)有折射率1.58、厚度5nm的易粘合層的二軸延伸聚酯膜(PET膜、厚度100ym、折射率1.65:以下作為膜C)的易粘合層面上，將前述低折射率層涂敷液A用照相凹版涂法進行涂敷以使得到的低折射率層的光學膜厚是ia/4(k:l、A:550nm)，干燥后，通過在氮氣環(huán)境下以400mJ/cm2的輸出進行紫外線照射使其硬化，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例5)除易粘合層的厚度是10nm之外，其余與實施例4相同地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例6)除易粘合層的厚度是30nm之外，其余與實施例4同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例7)除了為使得到的低折射率層的光學膜厚是kA/4(k:3、A:550nm)而涂敷了低折射率層涂敷液A之外，其余與實施例5同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例8)除了使用低折射率層涂敷液B代替低折射率層涂敷液A之外，其余與實施例4同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例9)除了使用低折射率層涂敷液B代替低折射率層涂敷液A之外，其余與實施例5同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例IO)除了使用低折射率層涂敷液B代替低折射率層涂敷液A之外，其余與實施例6同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例ll)除了為使得到的低折射率層的光學膜厚是k入/4(k:3、A:550nm)而涂敷了低折射率層涂敷液B之外，其余與實施例9同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例12)除了易粘合層的厚度是50nm之外，其余與實施例4同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例13)除了設(shè)置折射率1.50的易粘合層代替折射率1.58的易粘合層之外，其余與實施例4同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例14)除了在二軸延伸聚酯膜的兩面設(shè)有折射率1.58、厚度5nm的易粘合層之外，其余與實施例4同樣地進行，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例1525)除了把膜C改為導電性易粘著PET膜A之外，其余與實施例414同樣地進行，制得防反射膜。表3示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(實施例2636)除了把膜C改為導電性易粘著PET膜B之外，其余與實施例414同樣地進行，制得防反射膜。表4示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。(參考例l)把沒有易粘合層的實施例1的防反射膜作為參考例1在表2中示出。(比較例l)表2示出了表1的比較例1的防反射膜的評價結(jié)果。此外，比較例1的防反射膜，除易粘合層的厚度是100nm之外與實施例4是相同的。(比較例2)在一面設(shè)有折射率1.58、厚度15nm的易粘合層的二軸延伸聚酯膜(PET膜、厚度100ym、折射率1.65)上，涂敷折射率1.60、厚度5ym的硬涂層。在硬涂層上，為使得到的前述低折射率層的光學膜厚是k入/4(k:l、A:550nm)，用照相凹版涂法涂敷低折射率層涂敷液A，干燥后，在氮氣環(huán)境下以400mJ/cm2的輸出照射紫外線使其硬化，制得防反射膜。表2示出了關(guān)于得到的防反射膜的評價結(jié)果。[表2]<table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table>由表2所示的結(jié)果，在實施例46中，因為易粘合層的折射率和厚度這兩者處在預定范圍，所以，幾乎不受易粘合層的干涉光學，因而能夠獲得充分的能見度反射率，還能夠獲得反射不勻、貼緊性、耐擦傷性優(yōu)異的防反射膜。另外，在實施例810中，由于與實施例46相比低折射率層涂敷液的折射率低，所以能夠獲得更加良好的能見度反射率。此外，實施例7以及11，通過將低折射率層的光學膜厚定為3A/4，與光學膜厚為A/4的情況相比，可以得到耐擦傷性提高的結(jié)果。另外，在實施例12中，粘合層的厚度是50nm，由此，受易粘合層的光學干涉，能見度反射率上升。此外，像實施例13那樣，即使在易粘合層的折射率不同的情況下，也能達到與實施例4相同的性能。加上，像實施例14那樣，即使在兩面設(shè)有易粘合層的情況下，也能夠獲得與實施例4相同的性能。在參考例中，由于沒有設(shè)易粘合層，因而在光學特性方面雖然最為出色，但是對透明基材膜的低折射率層的貼緊性以及耐擦傷性方面則是低劣的。在比較例1中，由于易粘合層的厚度是100nm，因而受易粘合層的光學干涉，能見度反射率惡化。此外，在比較例2中，由于在易粘合層上通過硬涂層設(shè)置了低折射率層，所以，通過反射光的干涉的反射不勻強烈，干涉條紋能被看到。[表3]<table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage14</column></row><table>從表3以及表4示出的結(jié)果，在實施例1525以及實施例2636中，由于易粘合層是導電性易粘合層，所以得到了與表2示出的實施例414的情形相比、使表面電阻顯著地下降的效果。作為易粘合層，也可以是將硅石、氧化鋁、氧化鈦等金屬氧化物的微粒子與聚脂樹脂、丙烯樹脂、聚氨酯樹脂等熱固化性樹脂相配合，以使折射率能夠調(diào)整的結(jié)構(gòu)。作為形成低折射率層的材料，可以使用膠態(tài)氧化硅、氟化鑭、氟化鎂等的無機微粒子和有機聚合體微粒子。這些微粒子的平均粒子徑，為了控制光的散射，以不大大地超過低折射率層的厚度為佳，例如以設(shè)定在0.lym以下為佳。關(guān)于低折射率層，也可以添加例如無機或者有機顏料、聚合體、聚合開始劑、光聚合開始劑、聚合禁止劑、防氧化劑、分散劑、界面活性劑、光穩(wěn)定劑、調(diào)平劑等添加劑。權(quán)利要求一種通過在透明基材膜的表面層疊作為單層結(jié)構(gòu)防反射層的低折射率層而構(gòu)成的防反射膜，其特征在于，所述低折射率層的折射率為1.20～1.50。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防反射膜，其特征在于，所述低折射率層直接層疊在所述透明基材膜的表面。3.根據(jù)權(quán)利要求l所述的防反射膜，其特征在于，所述低折射率層，通過折射率為1.501.65、厚度為150nm的易粘合層層疊在所述透明基材膜的表面而構(gòu)成。4根據(jù)權(quán)利要求3所述的防反射膜，其特征在于，易粘合層為導電性易粘合層。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的防反射膜，其特征在于，導電性易粘合層包含具有聚噻吩框架的導電性化合物。6.根據(jù)權(quán)利要求15中的任何一項所述的防反射膜，其特征在于，低折射率層是通過使含有平均粒子徑為10100nm的中空硅石微粒子和聚合性粘合劑的低折射率層涂敷液固化而形成的。7.根據(jù)權(quán)利要求15中的任何一項所述的防反射膜，其特征在于，低折射率層的光學膜厚為kX/4，X為光波長(400650nm)，k為1或3。8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的防反射膜，其特征在于，低折射率層的光學膜厚為kA/4，入為光波長(400650nm)，k為1或3。全文摘要一種防反射膜，通過在透明基材膜的表面層疊作為單層結(jié)構(gòu)防反射層的低折射率層而構(gòu)成。并且，低折射率層的折射率設(shè)定為1.20～1.50。低折射率層是通過使含有平均粒子徑為10～100nm的中空硅石微粒子和聚合性粘合劑的低折射率層涂敷液固化而形成的。另外，低折射率層的厚度以kλ/4為佳，λ為光波長400～650nm，k為1或3。文檔編號G02B1/11GK101770041SQ20091021561公開日2010年7月7日申請日期2009年12月22日優(yōu)先權(quán)日2008年12月22日發(fā)明者小島章世,村瀨將幸,疋田真也,臼井千春,藤田憲人,野島孝之申請人:日油株式會社