專利名稱：磁頭支承機(jī)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)具有把激光向與滑塊一體形成的
磁頭內(nèi)的近場(chǎng)光學(xué)元件弓I導(dǎo)的導(dǎo)波路。
背景技術(shù)：
作為顯著提高磁盤裝置的記錄密度的技術(shù)之一，有熱輔助記錄。所謂熱輔助記錄， 是通過將磁盤上的數(shù)十nmX數(shù)十nm程度的微小區(qū)域加熱到20(TC以上并施加磁場(chǎng)，由此在 磁盤上記錄數(shù)據(jù)。作為加熱該微小區(qū)域的手段，考慮利用配置在記錄磁極附近的近場(chǎng)光學(xué) 元件把激光變換成近場(chǎng)光而加以利用。 通常，用于磁盤裝置的磁頭的懸掛裝置，由撓性件和承載梁構(gòu)成。撓性件是與滑塊
直接接合的薄板狀彈性部件，成為不約束滑塊姿勢(shì)的形式。承載梁是用于經(jīng)由撓性件對(duì)滑
塊施加向盤面按壓的方向的負(fù)載的板狀的部件。撓性件和承載梁利用焊接接合。 作為這種磁頭支承機(jī)構(gòu)，例如有專利文獻(xiàn)1。在該磁頭支承機(jī)構(gòu)中，相當(dāng)于撓性件
的部分由導(dǎo)波路的包層形成，在其正中形成光通過的芯。通過把芯的端面設(shè)在導(dǎo)波路的途
中且與滑塊的固定面上，從而一旦使光在包層之中放大，之后由反射面反射到磁頭側(cè)。通過
把反射的光束由微透鏡聚光后，照射到近場(chǎng)光學(xué)元件，由此不取決于磁頭的姿勢(shì)，能夠把高
強(qiáng)度的光導(dǎo)向近場(chǎng)光學(xué)元件。 另外，作為與磁頭支承機(jī)構(gòu)相關(guān)的技術(shù)，例如有非專利文獻(xiàn)1 。在此，通過計(jì)算研究 了應(yīng)該把導(dǎo)波路固定在懸掛裝置的何處。使用搭在懸掛裝置上的導(dǎo)波路的一端與滑塊直接 連接的模式，以及在懸掛裝置和滑塊之間夾裝反光鏡而使搭在懸掛裝置上的導(dǎo)波路的一端 與反光鏡連接的模式，改變固定導(dǎo)波路的位置，計(jì)算彈簧剛性、俯仰剛性、側(cè)滾剛性、浮起量 及它們的偏差。 另外，作為涉及另一種磁頭支承機(jī)構(gòu)的發(fā)明，例如有日本特開2001-101704號(hào)公 報(bào)(專利文獻(xiàn)2)。在根據(jù)專利文獻(xiàn)2的磁頭支承機(jī)構(gòu)中，在撓性件的磁頭連接面的背面配 置有導(dǎo)波路。專利文獻(xiàn)1日本特開2003-6912號(hào)公報(bào) [OOOS]專利文獻(xiàn)2日本特開2001-101704號(hào)公報(bào)非專利文獻(xiàn)1The 19th Magnetic Recording Conference (TMRC) 2008， Singapore, July 29-31，2008，"Flying demonstrationand analysis of pico slider with optical waveguide for heat assistedmagnetic recording'" Seiko Instruments Inc. 在通常的懸掛裝置中，在撓性件上利用蝕刻切出圖案，成為柔軟支承滑塊接合部 的構(gòu)造。由此，滑塊以由ABS(Air bearing surface)產(chǎn)生的正壓力及負(fù)壓力與經(jīng)由凹窩從 承載梁傳遞的按壓加重平衡的浮起量以及姿勢(shì)在磁盤上穩(wěn)定浮起，也追隨于磁盤的面偏差 或起伏。另外，即使在由此受到外部沖擊時(shí)或與磁盤及磁盤上的異物接觸時(shí)，也能夠浮起而 不會(huì)發(fā)生碰撞。
5
但是，在專利文獻(xiàn)1所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)中，因?yàn)閷?dǎo)波路筆直通向滑塊接合部，所 以導(dǎo)波路的剛性對(duì)滑塊的浮起量或姿勢(shì)產(chǎn)生大的影響，有可能對(duì)滑塊的穩(wěn)定浮起產(chǎn)生不良 影響。另外，因?yàn)樵趯?dǎo)波路的寬度或厚度上存在偏差，所以導(dǎo)波路的剛性也存在偏差，有可 能導(dǎo)致滑塊的浮起量或姿勢(shì)的偏差變大。另外，在非專利文獻(xiàn)l，也因?yàn)閷?dǎo)波路筆直通向反 光鏡或滑塊，所以導(dǎo)波路的剛性對(duì)滑塊的浮起量或姿勢(shì)產(chǎn)生大的影響，有可能對(duì)滑塊的穩(wěn) 定浮起產(chǎn)生不良影響。 雖然也考慮了如撓性件上的電信號(hào)線那樣彎曲導(dǎo)波路來避開滑塊接合部，把導(dǎo)波 路的端部帶到磁頭側(cè)，但在該情況下必須大幅彎曲導(dǎo)波路。但是，在利用單模激光時(shí)，從光 損失觀點(diǎn)出發(fā)不能大幅彎曲導(dǎo)波路。 另外，在專利文獻(xiàn)2公開的磁頭支承機(jī)構(gòu)中，導(dǎo)波路配置在撓性件的滑塊接合面 的背側(cè)，從導(dǎo)波路端的光的出口到磁頭的距離變長(zhǎng)，有可能造成光的結(jié)合損失變大。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供在具有導(dǎo)波路的磁頭支承機(jī)構(gòu)中不會(huì)大幅彎曲導(dǎo)波路、導(dǎo)波路的剛性 盡量不給滑塊的浮起量或姿勢(shì)帶來影響的構(gòu)造。 另外，本發(fā)明提供減小導(dǎo)波路和磁頭的光結(jié)合損失、且可實(shí)現(xiàn)磁頭穩(wěn)定浮起的磁
頭支承機(jī)構(gòu)及具有該磁頭支承機(jī)構(gòu)的磁盤裝置。 本發(fā)明利用以下的任一方法達(dá)到上述目的。
(1)使導(dǎo)波路的一部分向懸掛裝置的面內(nèi)方向撓曲地進(jìn)行配置。
(2)使導(dǎo)波路的一部分向懸掛裝置的面外方向撓曲、從懸掛裝置浮起地進(jìn)行配置。
(3)使導(dǎo)波路的一部分向懸掛裝置的面內(nèi)方向撓曲、且向面外方向撓曲、從懸掛裝
置浮起地進(jìn)行配置。 S卩，本發(fā)明的磁頭支承機(jī)構(gòu)具有包括記錄元件、再生元件及第一導(dǎo)波路并固定在 撓性件的前端部的滑塊，以及向滑塊引導(dǎo)光的第二導(dǎo)波路；在該磁頭支承機(jī)構(gòu)中，作為第二 導(dǎo)波路，其前端部固定在撓性件的前端部，同時(shí)光源側(cè)的部分固定在與撓性件的臂連接的 根基側(cè)，在固定于撓性件前端部的第二導(dǎo)波路的前端部和固定于撓性件的根基側(cè)的部分之 間，具有向撓性件的面內(nèi)方向、面外方向或者面內(nèi)方向以及面外方向撓曲的自由部分。當(dāng)?shù)?二導(dǎo)波路的剖面形狀為矩形時(shí)，厚度為寬度的一半以下是理想的。 本發(fā)明的特征在于，在彈性支承滑塊的彈性支承部件的滑塊接合面的中央部，將
導(dǎo)波路沿滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向配置，同時(shí)從滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)的一端延
伸，回路件的從滑塊接合面的與磁頭相反側(cè)端的一端側(cè)延伸的部分與彈性支承部件或者回
路件連接，在滑塊接合面設(shè)置具有厚度與回路件的一部分大體相同的輔助部件。 另外，輔助部件與導(dǎo)波路平行地配置在滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向兩側(cè)端部，具有與
導(dǎo)波路大體相同的厚度。 由此，在利用粘接劑把滑塊接合在彈性支承部件的滑塊接合面時(shí)，粘接劑被填充 到滑塊與導(dǎo)波路之間以及滑塊與第一輔助部件之間，可相對(duì)滑塊接合面高精度地接合滑 塊。 根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機(jī)構(gòu)，可以減小導(dǎo)波路的剛性對(duì)滑塊的浮起量或姿勢(shì)的影 響。
另外，根據(jù)本發(fā)明，可把在端部形成磁頭的滑塊沒有傾斜地安裝在彈性支承部件 的滑塊接合面上，可減小對(duì)浮起量或姿勢(shì)的影響。


圖1是適用本發(fā)明的磁盤裝置的立體圖。 圖2是表示根據(jù)實(shí)施例1的磁頭支承機(jī)構(gòu)前端的圖。 圖3是表示圖2的A-A'剖視圖。 圖4是表示根據(jù)實(shí)施例2的磁頭支承機(jī)構(gòu)前端的圖。 圖5是圖4的B-B'剖視圖。 圖6是表示根據(jù)實(shí)施例3的磁頭支承機(jī)構(gòu)前端的圖。 圖7是圖6的C-C'剖視圖。 圖8是表示使導(dǎo)波路與撓性件一體形成時(shí)的流程圖。 圖9是表示俯仰剛性的計(jì)算結(jié)果的圖。 圖10是表示適用本發(fā)明的滑塊內(nèi)的構(gòu)造的圖。 圖11是作為本發(fā)明一實(shí)施例的搭載了滑塊狀態(tài)下的磁頭支承機(jī)構(gòu)的前端放大 圖。 圖12是作為本發(fā)明一實(shí)施例的搭載滑塊前的磁頭支承機(jī)構(gòu)的前端放大圖。 圖13是圖11的A-A'剖視圖。 圖14是作為本發(fā)明一實(shí)施例的不具有導(dǎo)波路4的磁頭支承機(jī)構(gòu)的前端放大圖。 圖15是表示圖14的磁頭支承機(jī)構(gòu)的搭載滑塊前的狀態(tài)的圖。 圖16是表示本發(fā)明實(shí)施例6的效果的磁頭支承機(jī)構(gòu)的振動(dòng)特性圖。 附圖標(biāo)記說明 1...磁盤；2...磁頭；21...記錄元件；22...再生元件；23...近場(chǎng)光學(xué)元件；
24.滑塊內(nèi)導(dǎo)波路；3.滑塊；4.導(dǎo)波路；5.懸掛裝置；6.撓性件；6a.撓性
件前端部；61...撓性件的不銹鋼基板；62...撓性件6的滑塊接合面；63...回路件；
64...保護(hù)層；7...承載梁；8...滑架臂；9...樞軸；10...音圈馬達(dá)；11...俯仰方向；
12...激光光源；13...與回路件63相同厚度的輔助部件；611...撓性件6的不銹鋼基板 61的臂；631...回路件63的臂；632...回路件63的一部分。
具體實(shí)施例方式以下，參照

本發(fā)明的實(shí)施方式。 圖1是表示適用本發(fā)明的磁頭支承機(jī)構(gòu)的磁盤裝置內(nèi)部的立體圖。作為磁記錄媒 體的磁盤1被可轉(zhuǎn)動(dòng)地支承。具有近場(chǎng)光產(chǎn)生元件的磁頭2與滑塊3 —體形成，滑塊3在 磁盤l的記錄面上以規(guī)定間隔浮起。滑塊3由具有導(dǎo)波路4(圖2以后說明)的懸掛裝置5 支承。懸掛裝置5由作為彈性支承部件的撓性件6和承載梁7構(gòu)成，滑塊3以不約束其姿 勢(shì)的狀態(tài)由撓性件6柔軟地支承。懸掛裝置5由滑架臂8支承，滑架臂8以樞軸9為轉(zhuǎn)動(dòng) 軸可擺動(dòng)地被支承。承載梁7經(jīng)由撓性件6在向磁盤1按壓的方向?qū)瑝K3施加負(fù)載。通 過驅(qū)動(dòng)音圈馬達(dá)10，把樞軸9作為轉(zhuǎn)動(dòng)軸，使滑架臂8擺動(dòng)，相對(duì)于轉(zhuǎn)動(dòng)的磁盤1，使具有近 場(chǎng)光產(chǎn)生元件的磁頭2在所希望的磁道上移動(dòng)，進(jìn)行信息的記錄、再生。
另外，本發(fā)明的特征在于從激光光源12向滑塊3引導(dǎo)激光的導(dǎo)波路4(第二導(dǎo)波 路)的配置。如圖10所例示的那樣，在滑塊內(nèi)，配置產(chǎn)生記錄磁場(chǎng)的具有記錄元件21和再 生元件22的磁頭、以及近場(chǎng)光產(chǎn)生元件23、從導(dǎo)波路4向近場(chǎng)光產(chǎn)生元件23照射激光的滑 塊內(nèi)導(dǎo)波路24(第一導(dǎo)波路)。但是，本發(fā)明的特征并不在于配置在滑塊3內(nèi)的磁頭、滑塊
內(nèi)導(dǎo)波路的構(gòu)造及配置，由于與現(xiàn)有技術(shù)相同，下面省略關(guān)于滑塊內(nèi)構(gòu)造的詳細(xì)說明。
實(shí)施例1
利用圖2、圖3對(duì)本發(fā)明的磁頭支承機(jī)構(gòu)的實(shí)施例1進(jìn)行說明。圖2是表示適用了 實(shí)施例1的磁頭支承機(jī)構(gòu)的磁盤裝置的懸掛裝置前端部的圖，圖3是圖2的A-A'剖視圖。
滑塊3以不約束其姿勢(shì)的狀態(tài)固定在撓性件6的前端部6a，相對(duì)撓性件6被柔軟 地支承。承載梁7經(jīng)由撓性件前端部6a對(duì)滑塊3在向磁盤l按壓的方向施加負(fù)載。此構(gòu) 造在以下其他的實(shí)施例中也相同。 導(dǎo)波路4的前端部與滑塊3 —起固定在撓性件前端部6a，向滑塊內(nèi)的導(dǎo)波路引導(dǎo) 激光。導(dǎo)波路4的激光光源側(cè)的部分固定在撓性件6的與接合承載梁7的面相反側(cè)的面上， 在固定于撓性件前端部6a的導(dǎo)波路前端部和固定于撓性件6的滑架臂8側(cè)的部分之間，具 有向面內(nèi)方向撓曲配置的自由部分。導(dǎo)波路4的剖面為矩形，撓曲的導(dǎo)波路4的部分在任 何地方都不固定。在撓曲的部分中，為了抑制光損失，使導(dǎo)波路按15mm或者15mm以上的曲 率半徑緩和地彎曲。 在本實(shí)施例中，把另外形成的導(dǎo)波路4利用粘接劑接合于撓性件6及撓性件前端 部6a，但也可在形成撓性件的加工過程中，使用蒸鍍、印刷、影印法、蝕刻、剝離這樣的加工， 把導(dǎo)波路4與撓性件6 —體形成。 在本實(shí)施例中，在固定于撓性件前端部6a的導(dǎo)波路前端部與固定于撓性件6的滑 架臂8側(cè)的導(dǎo)波路部分之間的導(dǎo)波路中，因?yàn)樾纬稍谌魏蔚胤蕉疾还潭ǖ南蛎鎯?nèi)方向彎曲 的撓曲部分，所以該撓曲部分可自由活動(dòng)，導(dǎo)波路4不會(huì)約束滑塊3的自由移動(dòng)，滑塊3可 穩(wěn)定地浮起。另外，因?yàn)椴皇箤?dǎo)波路4大幅彎曲，所以，即使使用單模激光，也可以將因?qū)Р?路彎曲引起的光損失抑制得很低，可對(duì)配置于磁頭的近場(chǎng)光產(chǎn)生元件照射高強(qiáng)度的激光， 高效地加熱磁盤1的記錄區(qū)域。 [OOM]實(shí)施例2
利用圖4、圖5說明根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機(jī)構(gòu)的實(shí)施例2。圖4是適用了實(shí)施例 2的磁頭支承機(jī)構(gòu)的磁盤裝置的懸掛裝置前端部的圖，圖5是圖4的B-B'剖視圖。
導(dǎo)波路4的前端部與滑塊3 —起固定在撓性件前端部6a，向滑塊3內(nèi)的導(dǎo)波路引 導(dǎo)激光。導(dǎo)波路4的激光光源側(cè)的部分，被固定在撓性件6的與接合有承載梁7的面相反 側(cè)的面上，在固定于撓性件前端部6a的導(dǎo)波路前端部與固定于撓性件6的滑架臂8側(cè)的導(dǎo) 波路部分之間，具有向面外方向撓曲配置的自由部分。導(dǎo)波路4的剖面為矩形，撓曲的導(dǎo)波 路4的部分在任何地方都不固定。在撓曲的部分中，為了抑制光損失，使導(dǎo)波路以15mm或 者15mm以上的曲率半徑緩和地彎曲。 在本實(shí)施例中，在固定于撓性件前端部6a的導(dǎo)波路前端部與固定于撓性件6的導(dǎo) 波路部分之間的導(dǎo)波路中，因?yàn)樾纬稍谌魏蔚胤蕉疾还潭ǖ南蛎嫱夥较驈澢膿锨糠郑?所以，該撓曲部分呈自由活動(dòng)形式，導(dǎo)波路4不會(huì)約束滑塊3的自由移動(dòng)，滑塊3可穩(wěn)定地 浮起。另外，因?yàn)椴皇箤?dǎo)波路進(jìn)行大幅彎曲，所以即使使用單模激光也可以將光損失抑制得很低。實(shí)施例3
利用圖6、圖7說明根據(jù)本發(fā)明的磁頭支承機(jī)構(gòu)的實(shí)施例3。圖6是表示適用實(shí)施 例3的磁頭支承機(jī)構(gòu)的磁盤裝置的懸掛裝置前端部的圖，圖7是圖8的C-C'剖視圖。
導(dǎo)波路4的前端部與滑塊3 —起固定在撓性件前端部6a，向滑塊3內(nèi)的導(dǎo)波路導(dǎo) 入激光。導(dǎo)波路4的激光光源側(cè)部分固定在撓性件6的與接合有承載梁7的面相反側(cè)的面 上，在固定于撓性件前端部6a的導(dǎo)波路前端部與固定于撓性件6的滑架臂8側(cè)的導(dǎo)波路部 分之間，具有在面內(nèi)方向和面外方向撓曲的自由部分。導(dǎo)波路4的剖面呈矩形，撓曲的導(dǎo)波 路4的部分在任何地方都不固定。在撓曲的部分中，為了抑制光損失，使導(dǎo)波路以15mm或 者15mm以上的曲率半徑緩和地彎曲。 在本實(shí)施例中，在固定于撓性件前端部6a的導(dǎo)波路前端部和接合于撓性件6的導(dǎo) 波路部分之間的導(dǎo)波路中，由于形成在任何地方都不固定的向面內(nèi)方向和面外方向彎曲的 撓曲部分，所以該撓曲部分自由活動(dòng)，導(dǎo)波路4不會(huì)約束滑塊3的自由移動(dòng)，滑塊3可穩(wěn)定 地浮起。另外，由于不對(duì)導(dǎo)波路進(jìn)行大幅彎曲，所以即使使用單模激光也可將光損失抑制得 很低。實(shí)施例4
本發(fā)明的實(shí)施例4是一體形成了實(shí)施例2及實(shí)施例3所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)的導(dǎo)波 路4和撓性件6以及撓性件前端部6a的實(shí)施例。該形成加工如圖8所示。
圖8(a):首先，在撓性件的不銹鋼基板61之上涂敷保護(hù)層64。
圖8(b):接著，利用影印法進(jìn)行撓曲部分的圖案形成。 圖8(c):接著，在回流爐中使保護(hù)層64呈半球狀凝固。該半球狀的形狀決定導(dǎo)波 路的撓曲部分的形狀。 圖8(d):接著，在半球狀保護(hù)層64上通過蒸鍍形成導(dǎo)波路4。 圖8 (e):對(duì)撓性件的不銹鋼基板61進(jìn)行蝕刻，在帶有半球狀的保護(hù)層64的部分
開設(shè)孔63。 圖8(f):通過孔63除去保護(hù)層64。這樣，在磁頭的正前方部分，不固定在任何地 方，形成浮在空間中的形式的導(dǎo)波路4的撓曲部分。 在本實(shí)施例中，使用影印法對(duì)保護(hù)層64進(jìn)行圖案形成，但也可以采用印刷技術(shù) 等。另外，在本實(shí)施例中，把保護(hù)層64涂敷在不銹鋼基板61的整個(gè)面上，進(jìn)行圖案形成之 后，進(jìn)行回流而形成半球狀的保護(hù)層64，但也可通過使用分配器等涂敷保護(hù)層64，從而直 接形成半球狀保護(hù)層64。 作為推測(cè)導(dǎo)波路4的剛性給予滑塊3的浮起量或姿勢(shì)的影響的指標(biāo)，選擇懸掛裝 置的俯仰方向11的剛性，在筆直配置導(dǎo)波路4的場(chǎng)合，計(jì)算比較如實(shí)施例1那樣把導(dǎo)波路 4向面內(nèi)方向撓曲的場(chǎng)合、如實(shí)施例2那樣把導(dǎo)波路4向面外方向撓曲的場(chǎng)合、如實(shí)施例3 那樣把導(dǎo)波路4向面內(nèi)方向和面外方向撓曲的場(chǎng)合的俯仰剛性。當(dāng)撓性件前端部6a的固 定部和撓性件6的滑架臂8側(cè)的固定部之間的距離為5mm、曲率半徑為15mm、來自承載梁7 的按壓負(fù)載為2gf時(shí)的計(jì)算結(jié)果示出在圖9中。 導(dǎo)波路4的剖面形狀為矩形，其寬度是固定的100 ii m。橫軸是導(dǎo)波路4的厚度。 當(dāng)導(dǎo)波路4的厚度為30ym時(shí)，撓曲導(dǎo)波路4的場(chǎng)合比把導(dǎo)波路筆直配置的場(chǎng)合的俯仰剛
9性小。也就是說，在撓曲導(dǎo)波路4的場(chǎng)合，導(dǎo)波路4的剛性對(duì)滑塊3的浮起量或姿勢(shì)的影響 小。特別是，在向面外方向撓曲時(shí)的俯仰剛性小。 但是，在向面外方向撓曲的場(chǎng)合，隨著導(dǎo)波路4增厚而俯仰剛性急劇增大。當(dāng)導(dǎo)波 路4的厚度為寬度一半即50ym時(shí)，向面外方向撓曲的場(chǎng)合比筆直配置的場(chǎng)合的俯仰剛性 大。這是考慮到，在向面外方向撓曲的場(chǎng)合，當(dāng)在俯仰方向彎曲懸掛裝置5時(shí)，該撓曲被放 開，從而導(dǎo)波路4的剛性不會(huì)對(duì)懸掛裝置的俯仰剛性帶來影響，但是，若導(dǎo)波路4增厚的話， 則相對(duì)于放開導(dǎo)波路4的撓曲的變形的剛性變大，也會(huì)對(duì)懸掛裝置5的俯仰剛性也產(chǎn)生大 的影響。 這樣，在把導(dǎo)波路4向面外方向撓曲的場(chǎng)合，導(dǎo)波路4薄的話則較好，至少導(dǎo)波路4 的寬度一半以下是理想的。與此相對(duì)，在如實(shí)施例1那樣把導(dǎo)波路向面內(nèi)方向撓曲配置的 場(chǎng)合，即使加厚導(dǎo)波路的厚度，俯仰剛性也比把導(dǎo)波路無游動(dòng)地筆直配置的場(chǎng)合小。
實(shí)施例5
圖11是作為本發(fā)明一實(shí)施例的搭載滑塊狀態(tài)的磁頭支承機(jī)構(gòu)的前端放大圖，圖 12是作為本發(fā)明一實(shí)施例的搭載滑塊前的磁頭支承機(jī)構(gòu)的前端放大圖，圖13是在圖11中 A-A'剖視圖。 與承載梁7 —起構(gòu)成懸掛裝置5的撓性件6，例如通過使用薄壁的不銹鋼制板材在 其一部分設(shè)置切口而形成。另外如圖12所示，撓性件6由不銹鋼基板61和利用雙臂支承 梁與不銹鋼基板61連接的滑塊接合面62構(gòu)成。在撓性件6上形成回路件63、導(dǎo)波路4、與 導(dǎo)波路4相同厚度的輔助部件12a、12b。在此所謂回路件63，是指例如順次層積聚酰亞胺、 銅配線、聚酰亞胺而形成的配線部件。在撓性件6的滑塊接合面62的中央配置導(dǎo)波路4，進(jìn) 而平行于導(dǎo)波路4在滑塊接合面62的長(zhǎng)邊方向兩側(cè)端部附近配置與導(dǎo)波路4相同厚度的 輔助部件12a，另外，與導(dǎo)波路4大體正交地在滑塊接合面62的一個(gè)端部附近配置與導(dǎo)波路 4相同厚度的輔助部件12b?；瑝K3利用粘接劑(未圖示)與撓性件6的滑塊接合面62連 接，粘接劑(未圖示)充滿在配置于撓性件6的滑塊接合面62的中央的導(dǎo)波路4與同導(dǎo)波 路4相同厚度的輔助部件12a、12b之間的空間。具體地說，起初，粘接劑(未圖示)充滿得 比導(dǎo)波路4高，但通過按壓滑塊3而流入滑塊3與導(dǎo)波路4、滑塊3與輔助部件12a、12b之 間，其結(jié)果，滑塊3和滑塊接合面62無間隙地連接，滑塊3在滑塊接合面62沒有傾斜地實(shí) 現(xiàn)高精度連接。 作為熱輔助記錄用磁頭2，例如"Flying demonstration andanalysis of pico slider with optical waveguide for heat assistedmagnetic recording'' (The 19th Magnetic Recording Conference (TMRC) 2008， Singapore, July 29—31,2008)公開的那樣， 有從滑塊3的磁頭2附近導(dǎo)入光的構(gòu)造。在使用這種構(gòu)造的滑塊3時(shí)，根據(jù)本實(shí)施例，由于 如上所述是導(dǎo)波路4延伸到一體形成在滑塊3的前端部的磁頭2的構(gòu)造，而且導(dǎo)波路4與 滑塊3直接連接，所以，可使從導(dǎo)波路4向磁頭2導(dǎo)入光時(shí)的損失減小。
實(shí)施例6
本實(shí)施例是不使用現(xiàn)有技術(shù)的磁記錄方式、即熱輔助方式的磁盤裝置用磁頭支承 機(jī)構(gòu)，沒有實(shí)施例5中的導(dǎo)波路4。 圖14是作為本發(fā)明一實(shí)施例的沒有導(dǎo)波路4的磁頭支承機(jī)構(gòu)的前端放大圖，圖15 是表示圖14的磁頭支承機(jī)構(gòu)的搭載滑塊前狀態(tài)的圖。圖中與實(shí)施例5相同的部分采用同一附圖標(biāo)記。 本實(shí)施例的基本構(gòu)成與實(shí)施例5相同，但替代實(shí)施例5的導(dǎo)波路4而使用回路件 63的一部分，替代實(shí)施例5的與導(dǎo)波路4相同厚度的輔助部件12而使用與回路件63相同 厚度的輔助部件13a及13b。在圖14中，回路件63的臂631除了與撓性件6的不銹鋼基板 的臂611重疊的部分之外，不與撓性件6的不銹鋼基板61重疊。所以，撓性件6的滑塊接 合面62可進(jìn)行撓性動(dòng)作。利用圖15進(jìn)行具體說明，在撓性件6的滑塊接合面62的中央延 伸配置回路件63的一部分632，進(jìn)而在平行于回路件63的一部分632的滑塊接合面62的 長(zhǎng)邊方向兩側(cè)端部附近，配置與回路件63的一部分632厚度相同的輔助部件13a、13b。
圖16是表示實(shí)施例6的效果的磁頭支承機(jī)構(gòu)的振動(dòng)特性圖，表示把與圖14同一 構(gòu)成的磁頭支承機(jī)構(gòu)配置在轉(zhuǎn)動(dòng)圓板間時(shí)的、滑塊3在短邊方向(紙面縱向)的振動(dòng)、即磁 頭的流體起因振動(dòng)的測(cè)定結(jié)果。橫軸是從磁頭支承機(jī)構(gòu)安裝面到圓板的距離。相對(duì)于本實(shí) 施例的磁頭支承機(jī)構(gòu)的振動(dòng)特性14，沒有回路件63的一部分632的現(xiàn)有技術(shù)的磁頭支承機(jī) 構(gòu)的振動(dòng)特性15較大。這是因?yàn)槔没芈芳?3的一部分632抑制了撓性件6的滑塊接合 面62與承載梁7的相對(duì)振動(dòng)的緣故。 另外，在本實(shí)施例中也與實(shí)施例1相同，可把滑塊3無傾斜地高精度與滑塊接合面 62連接。
權(quán)利要求
一種磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)包括配置了具有記錄元件、再生元件以及第一導(dǎo)波路的磁頭的滑塊，支承所述滑塊的板狀彈性部件，支承所述板狀彈性部件的臂，和向所述滑塊引導(dǎo)光的第二導(dǎo)波路；其特征在于，所述第二導(dǎo)波路的前端部被固定在所述板狀彈性部件的固定所述滑塊的一側(cè)，而且所述第二導(dǎo)波路的光源側(cè)被固定在所述板狀彈性部件的與所述臂連接的一側(cè)，在所述前端部的固定部位與所述光源側(cè)的固定部位之間，所述第二導(dǎo)波路具有向所述板狀彈性部件的面內(nèi)方向撓曲的自由部分。
2. 如權(quán)利要求1所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第二導(dǎo)波路一體形成在所述 板狀彈性部件上。
3. —種磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)包括配置了具有記錄元件、再生元件以及第 一導(dǎo)波路的磁頭的滑塊，支承所述滑塊的板狀彈性部件，支承所述板狀彈性部件的臂，和向 所述滑塊引導(dǎo)光的第二導(dǎo)波路；其特征在于，所述第二導(dǎo)波路的前端部被固定在所述板狀彈性部件的固定所述滑塊的一側(cè)，而且所 述第二導(dǎo)波路的光源側(cè)被固定在所述板狀彈性部件的與所述臂連接的一側(cè)，在所述前端部 的固定部位與所述光源側(cè)的固定部位之間，所述第二導(dǎo)波路具有向所述板狀彈性部件的面 外方向撓曲的自由部分。
4. 如權(quán)利要求3所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第二導(dǎo)波路的剖面形狀為矩 形，且厚度為寬度的一半以下。
5. 如權(quán)利要求3所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第二導(dǎo)波路一體形成在所述 板狀彈性部件上。
6. —種磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)包括配置了具有記錄元件、再生元件以及第 一導(dǎo)波路的磁頭的滑塊，支承所述滑塊的板狀彈性部件，支承所述板狀彈性部件的臂，和向 所述滑塊引導(dǎo)光的第二導(dǎo)波路；其特征在于，所述第二導(dǎo)波路的前端部被固定在所述板狀彈性部件的固定所述滑塊的一側(cè)，而且所 述第二導(dǎo)波路的光源側(cè)被固定在所述板狀彈性部件的與所述臂連接的一側(cè)，在所述前端部 的固定部位與所述光源側(cè)的固定部位之間，所述第二導(dǎo)波路具有向所述板狀彈性部件的面 內(nèi)方向以及面外方向撓曲的自由部分。
7. 如權(quán)利要求6所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第二導(dǎo)波路的剖面形狀為矩 形，且厚度為寬度的一半以下。
8. 如權(quán)利要求6所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述第二導(dǎo)波路一體形成在所述 板狀彈性部件上。
9. 一種磁盤裝置，該磁盤裝置包括 磁記錄媒體，該磁記錄媒體至少記錄信息，滑塊，該滑塊在端部具有相對(duì)于磁記錄媒體寫入或者讀出信息的磁頭，禾口磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)配置有在一部分具有搭載所述滑塊的滑塊接合面的板 狀的彈性支承部件，在所述彈性支承部件上具有與所述磁頭電連接的回路件和將來自光源 的光向所述磁頭導(dǎo)入的導(dǎo)波路；其特征在于，所述導(dǎo)波路在所述滑塊接合面的中央部沿所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向配置，而且，從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)的一端延伸，而且，所述導(dǎo)波路的從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)端的一端側(cè)延伸的部分與 所述彈性支承部件或者所述回路件連接，在所述滑塊接合面上設(shè)置具有與所述導(dǎo)波路大體相同厚度的輔助部件。
10. 如權(quán)利要求9所述的磁盤裝置，其特征在于，所述輔助部件與所述導(dǎo)波路平行地配 置在所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向兩端部，是具有與所述導(dǎo)波路大體相同厚度的第一輔助部 件。
11. 如權(quán)利要求10所述的磁盤裝置，其特征在于，設(shè)置第二輔助部件，該第二輔助部件 在所述滑塊接合面的短邊方向、在搭載的滑塊的與所述磁頭相反側(cè)的一端以與所述導(dǎo)波路 正交的方式配置，具有與所述導(dǎo)波路大體相同厚度。
12. —種磁盤裝置，該磁盤裝置包括 磁記錄媒體，該磁記錄媒體至少記錄信息，滑塊，該滑塊在端部具有相對(duì)于磁記錄媒體寫入或者讀出信息的磁頭，禾口 磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)配置有在一部分具有搭載所述滑塊的滑塊接合面的彈 性支承部件，在所述彈性支承部件上具有與所述磁頭電連接的回路件；其特征在于，所述回路件的一部分在所述滑塊接合面的中央部、沿所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向配置，而且，從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)的一端延伸，而且，所述回路件的從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)端的一端側(cè)延伸的部分與 所述彈性支承部件或者所述回路件連接，在所述滑塊接合面上設(shè)置具有與所述回路件的一部分大體相同厚度的輔助部件。
13. 如權(quán)利要求12所述的磁盤裝置，其特征在于，所述輔助部件與所述回路件的一部 分平行地配置在所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向兩側(cè)端部，是具有與所述回路件的一部分大體 相同厚度的第一輔助部件。
14. 如權(quán)利要求13所述的磁盤裝置，其特征在于，設(shè)置第二輔助部件，該第二輔助部件 在所述滑塊接合面的短邊方向、在搭載的滑塊的與所述磁頭相反側(cè)的一端以與所述回路件 的一部分正交的方式配置，具有與所述回路件的一部分大體相同厚度。
15. —種磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)具有板狀的彈性支承部件，該彈性支承部件在 一部分具有可搭載滑塊的滑塊接合面，該滑塊在端部具有相對(duì)于磁記錄媒體寫入或者讀出 信息的磁頭，在所述彈性支承部件上具有與所述磁頭電連接的回路件、和將來自光源的光 向所述磁頭導(dǎo)入的導(dǎo)波路；其特征在于，所述導(dǎo)波路在所述滑塊接合面的中央部沿所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向配置， 而且，從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)的一端延伸，而且，所述導(dǎo)波路的從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)端的一端側(cè)延伸的部分與 所述彈性支承部件或者所述回路件連接，在所述滑塊接合面上設(shè)置具有與所述導(dǎo)波路大體相同厚度的輔助部件。
16. 如權(quán)利要求15所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，所述輔助部件與所述導(dǎo)波路平 行配置在所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向兩端部，是具有與所述導(dǎo)波路大體相同厚度的第一輔 助部件。
17. 如權(quán)利要求16所述的磁頭支承機(jī)構(gòu)，其特征在于，設(shè)置第二輔助部件，該第二輔助部件在所述滑塊接合面的短邊方向、在搭載的滑塊的與所述磁頭相反側(cè)的一端以與所述導(dǎo) 波路正交的方式配置，具有與所述導(dǎo)波路大體相同的厚度。
18. —種磁頭支承機(jī)構(gòu)，該磁頭支承機(jī)構(gòu)具有板狀的彈性支承部件，該彈性支承部件在 一部分具有可搭載滑塊的滑塊接合面，該滑塊在端部具有相對(duì)于磁記錄媒體寫入或者讀出 信息的磁頭，在所述彈性支承部件上具有與所述磁頭電連接的回路件；其特征在于，所述回路件的一部分在所述滑塊接合面的中央部、沿所述滑塊接合面的長(zhǎng)邊方向配置，而且，從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)的一端延伸，而且，所述回路件的從所述滑塊接合面的與所述磁頭相反側(cè)端的一端側(cè)延伸的部分與 所述彈性支承部件或者所述回路件連接，在所述滑塊接合面上設(shè)置具有與所述回路件的一部分大體相同厚度的輔助部件。
全文摘要
本發(fā)明的具有導(dǎo)波路的磁頭支承機(jī)構(gòu)不會(huì)使導(dǎo)波路的剛性對(duì)滑塊的浮起量或姿勢(shì)產(chǎn)生較大影響。使懸掛裝置(5)上的導(dǎo)波路(4)的一部分向懸掛裝置的面內(nèi)方向或面外方向撓曲配置。
文檔編號(hào)G02B6/10GK101751933SQ20091022659
公開日2010年6月23日 申請(qǐng)日期2009年11月25日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月28日
發(fā)明者中村滋男, 佐佐木重幸, 松本拓也, 難波入三 申請(qǐng)人:株式會(huì)社日立制作所