專利名稱：光掩模安裝保護膜的定位方法
技術(shù)領域：
本發(fā)明涉及半導體技術(shù)領域，特別涉及到一種光掩模制造工藝中防止安裝保護膜 系統(tǒng)中的光掩模版安裝保護膜的定位出錯的方法。
背景技術(shù)：
在半導體器件制造的工藝中，關(guān)鍵工藝步驟之一的光刻工藝，就是將光掩模 (mask)上的圖案轉(zhuǎn)錄到晶圓片上。光掩模上具有半導體器件的電路和設計圖案。光掩模通 常包括一框架和一保護薄膜，它們視為光掩模系統(tǒng)的一部分?？蚣苡靡怨潭ㄗ」庋谀?，而固 定在框架上方的保護薄膜為一透明薄膜。保護膜(pcllicle)用于防止塵埃等雜質(zhì)掉到鉻 面和玻璃面上，而保護膜上的微小塵埃在光刻過程中所形成的像被離化出焦平面(晶圓表 面)，從而消除這些塵埃顆粒在光刻過程中在晶圓表面形成缺陷像。上述保護膜通常展開且固定在框架上方，并通過膠或其它粘著劑附著至框架。在 當今先進的光刻工藝中，保護膜因為具有防止缺陷產(chǎn)生的特性，所以變成了光掩模的必需 組件。另外，在半導體生產(chǎn)鏈上，一方面由于巨資的投入，所有的生產(chǎn)線必須保持全天候 運轉(zhuǎn)；另一方面由于強力的市場競爭，交貨時間是這個產(chǎn)業(yè)鏈上衡量競爭力的首要指標之 一，對于當下的光掩模廠家來講，交貨時間單位是按小時來計算的。在光掩模的制作行業(yè)中，保護膜的安裝方向不對或保護膜在光掩模上的偏移過大 是影響光掩模的質(zhì)量的一個因素。如果作為用戶的芯片生產(chǎn)企業(yè)收到光掩模后因為由于保 護膜的安裝方向錯誤或保護膜在光掩模上的偏移過大而造成光掩模版不能正常進入光刻 機，用戶必須退回光掩模給掩模生產(chǎn)廠家進行撕膜，重新清洗光掩模，對光掩模再次安裝保 護膜，然后進行檢查等一些列工藝步驟，最后經(jīng)質(zhì)量核實過后，方能再運送至用戶。這樣一 來不僅浪費時間，加大成本，而且很可能導致用戶不能按期流片出貨。光掩模一般通過光掩模安裝膜機來進行安裝。光掩模安裝膜機上裝有可供裝卸且 能安放并固定保護膜的膜架，不同類型和大小的保護膜對應于不同的保護膜膜架。當然光 掩模安裝膜機器上還裝有可供裝卸且能安放并固定光掩模的版架，不同大小的光掩模對應 于不同的光掩模版架。工作人員可事先在光掩模安裝膜機上設置安裝膜時安裝膜的壓力大 小和時間長短，當光掩模被安裝保護膜時，操作員把用戶所需的保護膜放進安裝膜機上的 保護膜膜架內(nèi)，而把需要被安裝膜的光掩模安放進安裝膜機上的光掩模版架內(nèi)，然后按動 安裝膜機的按鈕即可。保護膜在框架上有固定的安裝方向，因此在安裝時需要借助特定的特征來確定方 向。保護膜上的薄膜僅是透明的薄膜，當保護膜被放進對應的保護膜膜架時，由于保護膜膜 架長寬尺寸的唯一性，保護膜方向不會出錯。而且當光掩模破放進光掩模版架內(nèi)時，由于不 同大小的光掩模對應于不同大小的光掩模版架，這點具有唯一性，也不會出錯。但是，某些尺寸的光掩模，例如5英寸和6英寸的中間版光掩模(reticle)是正方 形的。當光掩模被放進光掩模版架時，如果光掩模版上沒有特別的標識，那么操作員安放光掩模于光掩模的版架內(nèi)時，安裝的保護膜有四種潛在的定位方向0度，90度，180度，270 度。但圖形在光掩模上的布局是有方向性的，為了使光掩模正確定向，操作員是根據(jù)光掩模 版上的一些信息如制版標識等作為參考，用來輔助安放光掩模于光掩模版架內(nèi)時的定位。 但是制版標識的穩(wěn)定性是很低的，經(jīng)常會有根據(jù)用戶需求或者其它變化省略或更改制版標 識的情形，如果光掩模上沒有制版標識或制版標識位置發(fā)生變化，那就很容易帶來操作人 員判斷失誤，從而導致質(zhì)量事故。另外，現(xiàn)有檢測保護膜在光掩模上的偏移量是由操作員目測保護膜邊緣到光掩模 邊緣的距離來判斷的，這種人為的判斷具有不穩(wěn)定性，因而存在導致質(zhì)量事故的潛在性。為消除由于保護膜的安裝方向不對或保護膜在光掩模上的偏移過大而導致的質(zhì) 量事故，有必要提出一種更為精確和穩(wěn)定的定位和對準方案。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題是提供一種可靠性高的光掩模安裝保護膜的定位方 法。根據(jù)本發(fā)明提出的一種光掩模安裝保護膜的定位方法，首先建立定位數(shù)據(jù)庫，該 定位數(shù)據(jù)庫包含與光掩模關(guān)聯(lián)的保護膜對準標記數(shù)據(jù)，其中保護膜對準標記包括用于定位 保護膜的安裝方向的方向?qū)蕵擞浐投ㄎ槐Ｗo膜的安裝偏移的偏移對準標記，每一標記的 數(shù)據(jù)包含圖案、以及在光掩模上的布局。在制作光掩模時，根據(jù)保護膜對準標記數(shù)據(jù)將保護 膜對準標記寫在光掩模上，其中保護膜對準標記位于光掩模的圖形質(zhì)量區(qū)外。然后在為光 掩模安裝保護膜時，根據(jù)保護膜對準標記確定光掩模的上部，并確保保護膜框的位置偏移 沒有超出預設的正常范圍。在本發(fā)明的一實施例中，上述的方向?qū)蕵擞浳挥诠庋谀５纳喜?。在本發(fā)明的一實施例中，上述的方向?qū)蕵擞浀牡膱D形為“T”形。在本發(fā)明的一實施例中，上述的偏移對準標記為一個，布置在光掩模的其中一側(cè)。在本發(fā)明的一實施例中，上述的偏移對準標記為兩個，對稱地布置在光掩模的兩 側(cè)。在本發(fā)明的一實施例中，上述的偏移對準標記還用于輔助指示保護膜的安裝方向。在本發(fā)明的一實施例中，上述的保護膜對準標記數(shù)據(jù)與特定的光掩模用戶關(guān)聯(lián)。在本發(fā)明的一實施例中，將保護膜對準標記寫在光掩模上的方式是在光掩模上刻 出凹槽。在本發(fā)明的一實施例中，確保保護膜框的位置偏移沒有超出預設的正常范圍的步 驟包括確認保護膜框覆蓋所有保護膜對準標記。本發(fā)明由于采用以上技術(shù)方案，使之與現(xiàn)有技術(shù)相比，通過保護膜對準標記有助 于操作員的工作，保護膜對準標記為操作員提供了正確的安裝膜定位模型/板。另外，安裝 保護膜后的光掩模非常易于核實定位保護膜在光掩模上的偏移是否過大。因此本發(fā)明解決 了由于光掩模安裝膜方向定位和保護膜在光掩模上的偏移過大的錯誤而導致的質(zhì)量事故。


為讓本發(fā)明的上述目的、特征和優(yōu)點能更明顯易懂，以下結(jié)合附圖對本發(fā)明的具體實施方式
作詳細說明，其中圖1 (a)和1 (b)示出5英寸和6英寸的中間版光掩模(reticle)保護膜 (pellicle)的形狀，其中保護膜的角形狀分別為非方角和方角。圖2是5英寸和6英寸的中間版光掩模安裝保護膜的概況圖。圖3是保護膜對準標記(PAM)的總體布局圖。圖4 (a) -4 (c)是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的保護膜對準標記設計圖案(PAM)及其布
局圖案。圖5 (a)和5 (b)是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖案。圖6 (a)和6 (b)是根據(jù)本發(fā)明第三實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖案。圖7(a)_7(c)是根據(jù)本發(fā)明第四實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖案。圖8 (a)和8 (b)是根據(jù)本發(fā)明第五實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖案。圖9示出在光掩模上安裝保護膜前檢查PAM是否影響到光掩模上用戶的圖形區(qū)域 的示意圖。圖10-14示出光掩模上安裝保護膜定位不正確的各種情況，其中PAM沒有被保護
膜框覆蓋。圖15示出光掩模上安裝保護膜的定位正確的示意圖，其中PAM被保護膜框覆蓋。圖16示出本發(fā)明一實施例的光掩模安裝保護膜的定位方法流程。
具體實施例方式本發(fā)明的下述實施例描述了光掩模制作中的膜安裝方法，特別描述了利用保護膜 對準標記圖案(Pellicle Alignment Mark,以下簡稱為PAM)來解決安裝保護膜定位不正確 或保護膜在光掩模上的偏移過大而導致光掩模質(zhì)量問題。本發(fā)明主要適用于5英寸和6英 寸的中間版光掩模，但是可以理解，本發(fā)明也適用于具有類似特征的光掩模。在本發(fā)明的實施例中，PAM是用于輔助保護膜方向定位的可視圖案，以各種與制作 光掩模圖案相同的方式“寫”在光掩模上。PAM不是定制光掩模的芯片制造企業(yè)所需的圖 形，因而不應屬于光掩模圖形質(zhì)量區(qū)?；谏鲜鲂再|(zhì)，提出一些PAM設計的準則。首先，由于提供的PAM是用來規(guī)定保護膜在光掩模上的安放位置(方向)，所以 PAM的設計必須便于光掩模制作工藝中人員的操作方便，而且保護膜定位可易于在安裝膜 工藝和質(zhì)量檢查環(huán)節(jié)得到方便的核實驗證。具體地說，PAM應有一定的尺寸，以便于肉眼觀 察。PAM的設計圖案應有獨特性，不至于與光掩模上的其他圖形混淆。不應有太多圖形構(gòu)成 而導致需要PAM圖形檢查復雜化。PAM需要明確定位，從而清楚地表明保護膜的頂部與側(cè) 部。經(jīng)過安裝保護膜后，PAM必須被隱藏于保護膜的框架之下，以避免影響圖形質(zhì)量 區(qū)。由于保護膜框的最小寬度為1. 5mm，所以PAM尺寸是受到限制的。如圖1(a)和1 (b)所 示，保護膜的角形狀分為兩大類，非方角和方角，所以PAM應遠離保護膜框架角，以利于適應于各種角形狀的保護膜。再者，如果PAM是以凸起或凹槽的形式存在，它還應盡量小，以不影響保護膜框與 光掩模之間的粘附力。圖2所示為5英寸和6英寸的中間版光掩模安裝保護膜的概況圖。在圖2中，2A 為用戶光掩模圖形質(zhì)量區(qū)，2B為光掩?？赡艿臉祟}名稱區(qū)域(某些情況下可能沒有標題名 稱)，標題名稱通常由光掩模的用戶定義，它一般由器件名稱和對應的光掩模工藝層次名共 同構(gòu)成，目的是方便管理和操作人員易于識別。2C為光掩模制作可能的日期區(qū)域(某些情 況下根據(jù)用戶要求可能沒有日期)。2D為保護膜框在光掩模上的覆蓋區(qū)，保護膜框最小寬 度為1. 5mmο在本發(fā)明的實施例中，PAM由2-3個標記組成，以此來正確定義保護膜的轉(zhuǎn)向和偏 移。并且，根據(jù)作用的不同，將其分為方向?qū)蕵擞浐推茖蕵擞洝D3顯示了 PAM在光 掩模上的布局示例，分三個部分3A，;3B，3C，上部一部分3A，左右兩側(cè)各一部分和3C。作 為方向?qū)蕵擞?，上部圖案3A應能指示光掩模的頂部。當待安裝保護膜的光掩模裝入膜機 時，帶有頂部圖案3A的光掩模的部位應該位于安裝膜機的頂部。經(jīng)安裝膜后，頂部、左右的對準標記3A，3B，3C必須被覆蓋于保護膜框架3D下，而 不影響光掩模圖形質(zhì)量區(qū)3E。作為偏移對準標記，左右兩側(cè)的圖案:3B和3C可用于定位保 護膜的偏移，當圖案3B和3C未被保護膜框覆蓋時，表面保護膜出現(xiàn)超出接受范圍的偏移， 需要重新安裝保護膜。需要注意的是，在實際中可能會結(jié)合上部圖案3A和兩側(cè)圖案;3B、3C來共同確定安 裝的方向。對于工作人員而言，這比依靠單個圖案來確定方向更加直觀。因此，PAM的尺寸受限于保護膜框的最小寬度1.5mm和安裝保護膜的偏移量 +/-0. 5mm。PAM需要無論肉眼從鉻面還是從玻璃面看都顯而易見，以便于工作人員觀察。依據(jù)前文描述的PAM設計準則和特性，可以設計出許多不同的PAM的圖案和布局 的例子。為了使本發(fā)明更為清楚，以下列舉一些設計的實例。圖4 (a) -4 (c)是根據(jù)本發(fā)明第一實施例的保護膜對準標記設計圖案(PAM)及其布 局圖案。在圖4 (a)中，4A為光掩?？赡艿臉祟}名稱區(qū)域，4B為光掩?？赡艿闹谱魅掌趨^(qū)域， 4C，4D，4E為PAM布置區(qū)域。圖4(b)是4C區(qū)域的放大圖，在4C區(qū)域的示例性圖形中，方向 對準標記“T”代表“上部”，并預示相應被安裝膜的光掩模裝入裝膜機時，“T”標記應該位于 安裝膜機的頂部，上部對準標記或“T”圖案代表光掩膜的上部。這一標記的示例性尺寸為 全長 4L1 10. 0mm，總寬 4L2 :500um，上部高度 4H1 :200um，下部高度 4H2 :300um。側(cè)部區(qū)域4D，4E的偏移對準標記可以相同。圖4(c)是4E區(qū)域的放大圖，4E區(qū)域 的對準標記是兩對肉眼可見的雙杠。這一對準標記的示例性尺寸為高度4H3 40. Omm,寬 度 4L4 :500um，線寬 4L3 :150um。圖5 (a)和5 (b)是根據(jù)本發(fā)明第二實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖 案。在這一可選實施例中，如圖5(a)所示，5A為光掩?？赡艿臉祟}名稱區(qū)域，5B為光掩模 可能的制作日期區(qū)域，5C，5D，5E為PAM安放區(qū)域。位于區(qū)域5E的標記為方向?qū)蕵擞?，?是肉眼可見的橫杠，用于指示光掩模的底部。方向?qū)蕵擞浀某叽缬?H1 0. 2mm, 5L1 :40mm 來定義。
側(cè)部區(qū)域5C，5D的偏移對準標記可以相同。圖5 (b)是5D區(qū)域的放大圖，5D區(qū)域 的對準標記是一個十字。這一對準標記的示例性尺寸為5H2 :10mm，5H3 :1mm，5H4 :60mm， 5L2 :0. 2mm, 5L3 :0. 5mm, 5L4 :0. 5mm, 5L5 :1. Omm0圖6 (a)和6 (b)是根據(jù)本發(fā)明第三實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖 案。在這一可選實施例中，如圖6(a)所示，6A為光掩?？赡艿臉祟}名稱區(qū)域，6B為光掩模 可能的制作日期區(qū)域，6C，6D，6E為PAM安放區(qū)域。位于區(qū)域6D的標記為方向?qū)蕵擞?，?是肉眼可見的長短不一的三橫杠，用于指示光掩模的上部。側(cè)部區(qū)域6C，6E的偏移對準標記可以相同。圖6(b)是6E區(qū)域的放大圖，6E區(qū) 域的對準標記可以是肉眼可見的長短不一的三橫杠。這一對準標記的示例性尺寸為6H1 40mm ；6H2 :30mm ；6H3 :20mm ；6L1 0. Imm ；6L2 0. Imm ；6L3 0. 75mm ；6L4 1. Omm0圖7(a)_7(c)是根據(jù)本發(fā)明第四實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖 案。在這一可選實施例中，如圖7(a)所示，7A為光掩模可能的標題名稱區(qū)域，7B為光掩模 可能的制作日期區(qū)域，7C，7D為PAM安放區(qū)域。圖7(b)是7D區(qū)域的放大圖，在7D區(qū)域的示 例性圖形中，“T”為方向?qū)蕵擞洠糜谥甘竟庋谀５纳喜?。這一對準標記的示例性尺寸 為7H1 :0. 5mm, 7H2 :0. 2mm, 7H3 :lmm，7H4 :0. 5mm, 7L1 :10. 0mm。在本實施例中，只有一個偏移對準標記，圖7(c)是7C區(qū)域的放大圖，7C區(qū)域的對 準標記呈“L”狀。這一對準標記的示例性尺寸為7H5 :20. 0mm, 7L2 :0. 5mm, 7L3 :1. 0匪，7L4
0.5mm。圖8 (a)和8 (b)是根據(jù)本發(fā)明第五實施例的保護膜對準標記設計圖案及其布局圖 案。在這一可選實施例中，如圖8(a)所示，8A為光掩模可能的標題名稱區(qū)域，8B為光掩模 可能的制作日期區(qū)域，8C, 8D，8E為PAM安放區(qū)域。位于區(qū)域8E的標記為方向?qū)蕵擞?，?是肉眼可見的雙杠，用于指示光掩模的底部。側(cè)部區(qū)域8C，8D的偏移對準標記可以相同。圖8(b)是8D區(qū)域的放大圖，8D區(qū)域 的對準標記可以是一對肉眼可見的雙杠。這一對準標記的示例性尺寸為8H1 :40mm,8L1
1.0mm, 8L2 :0. 2mm, 8L3 :0. 2mm, 8L4 :0. 2mm, 8L5 :0. 6mm 在上述各種PAM圖案設計的基礎上，提出本發(fā)明一實施例的光掩模安裝保護膜的 定位方法，參照圖16所示，該方法包括以下步驟步驟Sl，建立PAM定位數(shù)據(jù)庫，該數(shù)據(jù)庫包含PAM的圖案數(shù)據(jù)和PAM在光掩模上的 布局數(shù)據(jù)。以圖4(a)_4(c)為例，PAM包括3個對準標記，其圖案分別是“T”形和雙杠形，分 別布置在光掩模的上部和兩側(cè)。步驟S2，在制作光掩模時，按照布局數(shù)據(jù)和圖案數(shù)據(jù)將PAM圖案標記寫在光掩模 上。在本步驟中，寫入標記的方式可以是在光掩模上刻出凹槽。步驟S3，在為光掩模安裝保護膜時，根據(jù)PAM圖案確定光掩模的上部，并確保保護 膜框的位置偏移沒有超出預設的正常范圍。其中，步驟S 1進一步包括以下子步驟第一步，根據(jù)用戶數(shù)據(jù)資料，獲得用戶對其光掩模產(chǎn)品所要求安裝膜的類型及其 方位定向的要求(包括0，90，180，270度)，并建立文檔資料。
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第二步，建立用戶數(shù)據(jù)庫，其中包括用戶的產(chǎn)品，用戶認可的保護膜類型，數(shù)據(jù)布 局方位，保護膜安裝方位，偏移量，精度要求以及相關(guān)附屬圖形名字等。第三步，建立用戶相應產(chǎn)品PAM定位數(shù)據(jù)庫(例如各種光掩模尺寸以及對應的安 裝膜方位定向0，90，180，270度)。第四步，確定PAM布局，即PAM在其相應光掩模產(chǎn)品上的定位。由此建立了 PAM與特定光掩模和/或特定用戶的關(guān)聯(lián)。根據(jù)以上步驟的結(jié)果， 建立用戶產(chǎn)品的PAM數(shù)據(jù)庫，然后在以后的光掩模制作CAD環(huán)節(jié)中，加入相應用戶產(chǎn)品的 PAM(并包括定位)圖案數(shù)據(jù)。在步驟S3中，進一步包括以下子步驟1.在光掩模安裝膜前，首先檢查PAM部位標記，例如圖9所示的3個部位9A，9B， 9C是否影響到光掩模上用戶的圖形區(qū)域9D。2.當光掩模被放進位于安裝膜機的版架時，根據(jù)方向?qū)蕵擞洿_定光掩模上部， 例如圖4所示，帶有” T”形圖案的視為光掩模上部，并被置于的安裝膜機的頂部。3.確保PAM的各個部位標記均被保護膜框覆蓋。如圖10-14所示，PAM三個部位標記(圖中畫圈部分)沒有全部被保護膜框覆蓋， 表明光掩模上安裝膜定位不正確，即有偏移，必須返工，重新安裝膜。如圖15所示，PAM三個部位標記15A，15B, 15C均被保護膜框覆蓋，而且不外露，表 明光掩模上安裝膜的定位正確。如上描述了 PAM圖案設計及安裝保護膜的定位方法。由于PAM可應用于5英寸，6 英寸的任何中間版，本發(fā)明可用來解決由于光掩模安裝膜方向定位和保護膜在光掩模上的 偏移過大的錯誤而導致的質(zhì)量事故。具體地說，通過PAM有助于操作員的工作，PAM為操作 員提供了正確的安裝膜定位模型/板。另外，安裝保護膜后的光掩模非常易于核實保護膜 在光掩模上定位的準確性，避免超出正常范圍的過大的偏移。雖然本發(fā)明已以較佳實施例揭示如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何本領域技 術(shù)人員，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當可作些許的修改和完善，因此本發(fā)明的保護范 圍當以權(quán)利要求書所界定的為準。
權(quán)利要求
1.一種光掩模安裝保護膜的定位方法，包括以下步驟建立定位數(shù)據(jù)庫，該定位數(shù)據(jù)庫包含與光掩模關(guān)聯(lián)的保護膜對準標記數(shù)據(jù)，其中保護 膜對準標記包括用于定位保護膜的安裝方向的方向?qū)蕵擞浐投ㄎ槐Ｗo膜的安裝偏移的 偏移對準標記，每一標記的數(shù)據(jù)包含圖案、以及在光掩模上的布局；在制作光掩模時，根據(jù)保護膜對準標記數(shù)據(jù)將保護膜對準標記寫在光掩模上，其中保 護膜對準標記位于光掩模的圖形質(zhì)量區(qū)外；在為光掩模安裝保護膜時，根據(jù)保護膜對準標記確定光掩模的上部，并確保保護膜框 的位置偏移沒有超出預設的正常范圍。
2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述的方向?qū)蕵擞浳挥诠庋谀５纳喜俊?br> 3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述的方向?qū)蕵擞浀牡膱D形為“T”形。
4.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述的偏移對準標記為一個，布置在光掩模 的其中一側(cè)。
5.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述的偏移對準標記為兩個，對稱地布置在 光掩模的兩側(cè)。
6.如權(quán)利要求1、4或5所述的方法，其特征在于，所述的偏移對準標記還用于輔助指示 保護膜的安裝方向。
7.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述保護膜對準標記數(shù)據(jù)與特定的光掩模 用戶關(guān)聯(lián)。
8.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，將保護膜對準標記寫在光掩模上的方式是 在光掩模上刻出凹槽。
9.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，確保保護膜框的位置偏移沒有超出預設的 正常范圍的步驟包括確認保護膜框覆蓋所有保護膜對準標記。
全文摘要
本發(fā)明提供了一種光掩模安裝保護膜的定位方法，該方法描述了利用保護膜對準標記(Pellicle Alignment Mark，PAM)進行定位的方案。首先建立定位數(shù)據(jù)庫，該定位數(shù)據(jù)庫包含與光掩模關(guān)聯(lián)的PAM數(shù)據(jù)，其中PAM包括用于定位保護膜的安裝方向的方向?qū)蕵擞浐投ㄎ槐Ｗo膜的安裝偏移的偏移對準標記，每一標記的數(shù)據(jù)包含圖案以及在光掩模上的布局。在制作光掩模時，根據(jù)PAM數(shù)據(jù)將PAM寫在光掩模上，其中PAM位于光掩模的圖形質(zhì)量區(qū)外。在為光掩模安裝保護膜時，根據(jù)PAM確定光掩模的上部，并確保保護膜框的位置偏移沒有超出預設的正常范圍。PAM的設計提供了易于檢查保護膜安裝定位的正確性的方法，因而達到可以消除由于安裝膜轉(zhuǎn)向錯誤或過大的偏移而引起的光掩模質(zhì)量事故。
文檔編號G03F9/00GK102117027SQ20091024794
公開日2011年7月6日 申請日期2009年12月31日 優(yōu)先權(quán)日2009年12月31日
發(fā)明者王國荃 申請人:上海凸版光掩模有限公司