專利名稱：曝光機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型有關(guān)一種曝光機(jī)，尤指一種較不會(huì)產(chǎn)生聚熱現(xiàn)象，且相 對(duì)可以降低設(shè)備體積及成本的曝光機(jī)結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
按， 一般印刷電路板或半導(dǎo)體芯片在進(jìn)行曝光顯影制程時(shí)，先在被 加工物表面上涂上一層光阻，再藉由光源的照射將原稿上的電路布線圖 案映像至被加工物表面的光阻層上，以使光阻層的化學(xué)性質(zhì)因光源的照 射而產(chǎn)生變化，然后再利用去光阻劑來將被光源照射過的光阻或未經(jīng)曝 光的光阻自被加工物表面去除，以形成對(duì)應(yīng)于原稿的線路布局。
其中，用以執(zhí)行曝光顯影加工制程的曝光機(jī)基本結(jié)構(gòu)如圖l所示，主
要在以機(jī)殼11構(gòu)成一曝光室12,以及設(shè)有一可相對(duì)進(jìn)出曝光室12的曝光 平臺(tái)13,而且至少在該曝光室12內(nèi)部相對(duì)應(yīng)于曝光平臺(tái)13的上方或下方 位置，設(shè)有一光源組14;請(qǐng)同時(shí)參照?qǐng)D2所示，該曝光平臺(tái)13為一供放置 被加工物20與原稿(圖略)的透明平臺(tái)，整體曝光平臺(tái)13并藉由一組線性滑 軌15進(jìn)出曝光室12。
該曝光平臺(tái)13連同被加工物及原稿進(jìn)入曝光室12至定位之后， 一船: 必須在曝光室12內(nèi)部停留一段時(shí)間(約3 ~ 5秒不等)使被加工物接受光源 組1'4的曝光光源照射，待完成曝光之后再由曝光平臺(tái)13將被加工物送出。
由于， 一般習(xí)用曝光機(jī)多采用曝光平臺(tái)13停滯在曝光室12內(nèi)部的方 式進(jìn)行曝光作業(yè)，因此該光源組14并必須具有大量采用數(shù)ii配置方式的 燈泡141，方得以形成足以涵蓋整個(gè)曝光平臺(tái)13的平行光源；然而，在大 量燈泡141同時(shí)運(yùn)作下，將使機(jī)殼ll內(nèi)部產(chǎn)生嚴(yán)重的聚熱現(xiàn)象，需另外用 水冷系統(tǒng)散熱，致使設(shè)備成本偏高。
另有一種習(xí)用曝光機(jī)透過復(fù)眼裝置將燈泡的光線修正為所需的平行 光及面積大小，其動(dòng)作方式乃讓光源燈泡透過橢圓鏡將光線利用一組第 一反射鏡投向復(fù)眼裝置使其光線均勻化，再利用一組第二反射鏡將光線改變前進(jìn)方向，最后利用 一組凸透鏡將光線修正為所需的平行光及面積 大小，進(jìn)而投射出所須的曝光光源，并藉以減少燈泡的數(shù)量。
然而，如次此的設(shè)計(jì)將使整體曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)趨于復(fù)雜，且整體曝光
機(jī)的體機(jī)亦相對(duì)更趨龐大；尤其，必須使用大瓦數(shù)的燈泡， 一般大瓦數(shù) 燈泡的壽命相當(dāng)短，不但增加燈泡的更換頻率，無(wú)形的中生產(chǎn)成本亦相 對(duì)增力口。

實(shí)用新型內(nèi)容
有鑒于此，本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題即在提供一種較不會(huì)產(chǎn)生 聚熱現(xiàn)象，而且相對(duì)可以降低設(shè)備體積及成本的曝光^L結(jié)構(gòu)。
為達(dá)上揭目的，本實(shí)用新型的曝光機(jī)在一機(jī)臺(tái)上設(shè)有至少一曝光平 臺(tái)，以及設(shè)有一輸送機(jī)組用以帶動(dòng)該至少 一曝光平臺(tái)相對(duì)進(jìn)出機(jī)臺(tái)的曝 光室，該曝光室內(nèi)部至少在相對(duì)應(yīng)于該曝光平臺(tái)的移動(dòng)4亍程上方或下方
位置設(shè)有一曝光光源組，在該曝光光源組外部有一出光罩；另外，設(shè)有 一組控制電路供設(shè)定、整合該輸送機(jī)組與該曝光光源組以及該出光罩的 運(yùn)作。
其中，該出光罩在其相對(duì)朝向該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程的部位設(shè)有一長(zhǎng) 條狀的透光槽，另設(shè)有一活動(dòng)遮光板控制該透光槽開啟與否，待曝光光 源組的光源(本實(shí)施例為燈泡)啟動(dòng)時(shí)，其光源可透過該出光罩的透光槽向 外照射，使產(chǎn)生朝向曝光平臺(tái)移動(dòng)行程照射的條狀光源；再配合輸送機(jī) 組帶動(dòng)該曝光平臺(tái)以預(yù)定速度與該出光罩相對(duì)位移的方式接受條狀光源 的照射，進(jìn)而使該曝光平臺(tái)上的被加工物完成曝光顯影。
具體而言，本實(shí)用新型的曝光機(jī)具有下列功效
1. 用以產(chǎn)生曝光效果的光源為條狀光源，而非涵蓋整個(gè)曝光平臺(tái)的 大面積光源，故可大幅減少曝光光源組的燈泡數(shù)量，相對(duì)縮減整體曝光 機(jī)的體積，以及相對(duì)降低設(shè)備成本。
2. 該控制電路可在曝光平臺(tái)接受條狀光源照射時(shí)，再行調(diào)升啄光光 源組的功率，故可相對(duì)降低曝光室的聚熱現(xiàn)象。
3. 整體曝光機(jī)尤適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓曝光平臺(tái)依序通 過曝光室，然而可藉以提升曝光顯影制程的加工產(chǎn)能。

圖1為 一 習(xí)用曝光機(jī)的結(jié)構(gòu)剖視圖； 圖2為 一 習(xí)用曝光機(jī)的曝光平臺(tái)外觀立體圖； 圖3為本實(shí)用新型的曝光機(jī)外觀立體圖； 圖4為本實(shí)用新型曝光機(jī)的曝光室內(nèi)部結(jié)構(gòu)立體圖； 圖5為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程上方位置的曝光光源 組外觀結(jié)構(gòu)圖6為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程上方位置的曝光光源 組放大示意圖7為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程下方位置的曝光光源 組及出光罩的外觀結(jié)構(gòu)圖8為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程下方位置的曝光光源 組及出光罩的放大示意圖9為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程下方位置的出光罩結(jié) 構(gòu)分解圖10為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程上方位置的曝光光源 組及出光罩的外觀結(jié)構(gòu)圖ll為本實(shí)用新型中設(shè)于該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程上方位置的曝光光源 組結(jié)構(gòu)俯^L圖12為本實(shí)用新型中燈殼的外觀結(jié)構(gòu)圖13為本實(shí)用新型中曝光平臺(tái)到達(dá)接近透光槽槽的預(yù)定行程的動(dòng)作 示意圖14為本實(shí)用新型中曝光平臺(tái)到達(dá)完成曝光顯影的預(yù)定行程的動(dòng)作 示意圖。
圖號(hào)說明
ll機(jī)殼 12曝光室 13曝光平臺(tái) 14光源組 141燈泡 15線性滑軌 20被力口工物 30機(jī)臺(tái)31機(jī)殼
312循環(huán)入風(fēng)口 33濾網(wǎng) 50輸送機(jī)組 52皮帶
60曝光光源組
611燈殼
63散熱風(fēng)扇
71透光槽
73動(dòng)力缸
81觸控屏幕
32曝光室 40曝光平臺(tái)
311散熱排風(fēng)口
53馬達(dá)
61燈泡
62反射鏡
70出光罩
72遮光板
80控制電3各 82感應(yīng)開關(guān)
51線性滑軌
具體實(shí)施方式
本實(shí)用新型的特點(diǎn)，可參閱本案圖式及實(shí)施例的詳細(xì)說明而獲得清 楚地了解。
如圖3及圖4所示，本實(shí)用新型的曝光機(jī)包括有 一機(jī)臺(tái)30、至少一 曝光平臺(tái)40、 一輸送機(jī)組50、至少一曝光光源組60、至少一出光罩70, 以及一控制電路80;其中
該機(jī)臺(tái)30具有一由機(jī)殼31所包圍構(gòu)成的曝光室32,該機(jī)殼31在相對(duì) 于該曝光室32的外圍設(shè)有散熱排風(fēng)口311及至少一循環(huán)入風(fēng)口312，并且 在該至少一循環(huán)入風(fēng)口312處設(shè)有濾網(wǎng)33,以防止灰塵、異物進(jìn)入曝光室 32。
該至少一曝光平臺(tái)40,為供固定被加工物及原稿的透明平臺(tái)；該輸 送才幾組50用以帶動(dòng)該至少 一曝光平臺(tái)40相對(duì)進(jìn)出該才幾臺(tái)30的曝光室32， 其具有一組橫向延伸配置于該機(jī)臺(tái)30的曝光室32內(nèi)、外區(qū)域的線性滑軌 51供承載該曝光平臺(tái)40,設(shè)有一皮帶52供與該曝光平臺(tái)40連接，以及設(shè) 有一馬達(dá)53用以帶動(dòng)該皮帶52運(yùn)轉(zhuǎn)，并在該線性滑軌51的導(dǎo)引下，帶動(dòng) 該曝光平臺(tái)40相對(duì)進(jìn)出該機(jī)臺(tái)30的曝光室32 。
該至少一曝光光源組60設(shè)在該曝光室32內(nèi)部相對(duì)于該曝光平臺(tái)40的 移動(dòng)行程上方或下方位置，如圖5至圖8所示，每一組曝光光源組60具有若干光源(本實(shí)施例為燈泡)61用以產(chǎn)生曝光光源；在本實(shí)施例中，整體曝 光機(jī)在該曝光平臺(tái)40的移動(dòng)行程上方與下方位置皆設(shè)有一曝光光源組 60，同時(shí)對(duì)該曝光平臺(tái)40上、下兩面的^皮加工物進(jìn)^f亍曝光顯影。
該至少一出光罩70設(shè)在該至少一曝光光源組60外部，如圖9所示，其 在相對(duì)朝向該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程的部位設(shè)有一長(zhǎng)條狀的透光槽71，另設(shè) 有一活動(dòng)遮光板72控制該透光槽71開啟與否；該活動(dòng)遮光^反72與該出光 罩70之間連^妄有至少一動(dòng)力缸73，由該至少一動(dòng)力缸73帶動(dòng)該活動(dòng)遮光 板72與該出光罩相對(duì)位移，進(jìn)而控制該透光槽71關(guān)閉或開啟。
如圖7所示，該控制電路80供設(shè)定、整合該輸送機(jī)組50、該至少一曝 光光源組60以及該活動(dòng)遮光板72的運(yùn)作，其具有一設(shè)在機(jī)臺(tái)IO上的觸控 屏幕81供設(shè)定相關(guān)動(dòng)作參數(shù)，以及在該機(jī)臺(tái)10相對(duì)于該曝光平臺(tái)40的移 動(dòng)行程處設(shè)有至少 一感應(yīng)開關(guān)82用以感測(cè)該曝光平臺(tái)40的相對(duì)位置。
請(qǐng)同時(shí)配合參照?qǐng)DIO及圖ll所示，上揭曝光光源組60的各燈泡61呈 沿著出光罩70的透光槽71直線排列，并且設(shè)有一組反光鏡62用以將燈泡 61的光線投向該出光罩70的透光槽71;又，各燈泡以特定角度(約2。)夾 角朝向光線照射方向偏擺的方式配置，使各燈泡61的光源得以完全接續(xù)， 各燈泡61的燈殼611內(nèi)部建構(gòu)有PI鍍膜以增加其反射率(如圖12所示)，以 及在相對(duì)于各燈泡61的配設(shè)位置設(shè)有一散熱風(fēng)扇63,以增加曝光光源組 60的廢熱排;故效率。
如圖13所示，本實(shí)用新型的曝光機(jī)在該曝光平臺(tái)40尚未進(jìn)入曝光室 的前將原稿及被加工物固定在該曝光平臺(tái)40上，并且經(jīng)由觸控屏幕81設(shè) 定曝光光源60的輸出功率以及該輸送機(jī)組50的運(yùn)轉(zhuǎn)速度之后即可開始運(yùn) 作。
在曝光才幾開始運(yùn)作時(shí)，首先開啟曝光光源組60的燈泡，并啟動(dòng)該輸 送機(jī)組50帶動(dòng)曝光平臺(tái)40朝向曝光室方向移動(dòng)，當(dāng)曝光平臺(tái)40進(jìn)入曝光 室并且到達(dá)接近該透光槽71槽的預(yù)定行程時(shí)，會(huì)先行啟動(dòng)該控制電路80 的感應(yīng)開關(guān)82(如圖8所示)，由該控制電路80操控該活動(dòng)遮光板動(dòng)作，使 該出光罩70的透光槽71開啟，同時(shí)調(diào)升該曝光光源組60的輸出功率。
此時(shí)，該曝光光源組60的光源即可透過該出光罩70的透光槽71向外 照射，使產(chǎn)生朝向曝光平臺(tái)40移動(dòng)行程照射的條狀光源；再配合輸送機(jī)組50帶動(dòng)該曝光平臺(tái)40以預(yù)定速度與該出光罩70相對(duì)位移的方式接受該 條狀光源的照射，進(jìn)而使該曝光平臺(tái)40上的被加工物完成曝光顯影。
如圖14所示，待該曝光平臺(tái)40相對(duì)移動(dòng)至完成曝光顯影的預(yù)定行程 即令該該控制電路80的感應(yīng)開關(guān)82(如圖8所示)關(guān)閉，由該控制電路80操 控該活動(dòng)遮光板72動(dòng)作，將該出光罩70的透光槽關(guān)閉，同時(shí)調(diào)降該曝光 光源組60的輸出功率。
由于本實(shí)用新型的曝光機(jī)用以產(chǎn)生曝光效果的光源為條狀光源，而 非涵蓋整個(gè)曝光平臺(tái)的大面積光源，故可大幅減少曝光光源組60的燈泡 數(shù)量，相對(duì)縮減整體曝光機(jī)的體積，以及相對(duì)降低設(shè)備成本；再者，該 控制電路80可在曝光平臺(tái)40接受條狀光源照射時(shí)，再行調(diào)升該曝光光源 組60的輸出功率，故可相對(duì)降低曝光室的聚熱現(xiàn)象。
附帶一提的是，由于本實(shí)用新型的曝光機(jī)在進(jìn)行曝光顯影時(shí)，該曝 光平臺(tái)以預(yù)定的速度持續(xù)朝向深入曝光室的方向移動(dòng)，因此整體曝光機(jī) 尤適合采用連續(xù)循環(huán)輸送的方式，讓曝光平臺(tái)依序通過曝光室，而可藉 以提升曝光顯影制程的加工產(chǎn)能。
綜上所述，本實(shí)用新型提供一較佳可行的曝光機(jī)，爰依法提呈新型 專利的申請(qǐng)；本實(shí)用新型的技術(shù)內(nèi)容及技術(shù)特點(diǎn)巳揭示如上，然而熟悉 本項(xiàng)技術(shù)的人士仍可能基于本實(shí)用新型的揭示而作各種不背離本案實(shí)用 新型精神的替換及修飾。因此，本實(shí)用新型的保護(hù)范圍應(yīng)不限于實(shí)施例 所揭示者，而應(yīng)包括各種不背離本實(shí)用新型的替換及修飾，并為以下的
申請(qǐng)專利范圍所涵蓋。
權(quán)利要求1、一種曝光機(jī)，其特征在于，包括有一機(jī)臺(tái)，具有一由機(jī)殼所包圍構(gòu)成的曝光室；至少一曝光平臺(tái)，為供固定被加工物及原稿的透明平臺(tái)；一輸送機(jī)組，用以帶動(dòng)該至少一曝光平臺(tái)相對(duì)進(jìn)出該機(jī)臺(tái)的曝光室；至少一曝光光源組，設(shè)在該曝光室內(nèi)部相對(duì)于該曝光平臺(tái)的移動(dòng)行程上方或下方位置，每一組曝光光源組具有若干光源用以產(chǎn)生曝光光源；至少一出光罩，設(shè)在該至少一曝光光源組外部，其在相對(duì)朝向該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程的部位設(shè)有一長(zhǎng)條狀的透光槽，另設(shè)有一活動(dòng)遮光板控制該透光槽開啟與否；一控制電路，供設(shè)定、整合該輸送機(jī)組、該至少一曝光光源組以及該活動(dòng)遮光板的運(yùn)作；以及，該曝光光源組的燈泡啟動(dòng)時(shí)，其光源可透過該出光罩的透光槽向外照射，使產(chǎn)生朝向該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程照射的條狀光源；再配合該輸送機(jī)組帶動(dòng)該曝光平臺(tái)以預(yù)定速度與該出光罩相對(duì)位移的方式接受該條狀光源的照射，使該曝光平臺(tái)上的被加工物完成曝光顯影。
2、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，在該曝光平臺(tái)的移動(dòng)行程上方與下方位置皆設(shè)有 一曝光光源組。
3、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，該機(jī)殼在相對(duì)于該瀑光室的外圍設(shè)有散熱排風(fēng)口及至少一循環(huán)入風(fēng)口 ，并且在該至少一循環(huán)入風(fēng)口處設(shè)有濾網(wǎng)。
4、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，該輸送機(jī)組具有一組橫向延伸配置于該機(jī)臺(tái)的曝光室內(nèi)、外區(qū)域的線性滑軌供承載該曝光平臺(tái)，設(shè)有一皮帶供與該曝光平臺(tái)連接，以及設(shè)有一用以帶動(dòng)該皮帶運(yùn)轉(zhuǎn)的馬達(dá)。
5、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，該活動(dòng)遮光板與該出光罩之間連接有至少 一用于帶動(dòng)該活動(dòng)遮光板與該出光罩相對(duì)位移，進(jìn)而控制該透光槽關(guān)閉或開啟的動(dòng)力缸。
6、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，該控制電路具有一設(shè)在機(jī)臺(tái)上的供設(shè)定相關(guān)動(dòng)作參數(shù)的觸控屏幕，以及在該機(jī)臺(tái)相對(duì)于該曝光平臺(tái)的移動(dòng)行程處設(shè)有至少一用以感測(cè)該曝光平臺(tái)相對(duì)位置的感應(yīng)開關(guān)。
7、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，該至少一曝光光源組 的各燈泡呈沿著該出光罩的透光槽直線排列，并且設(shè)有一組用以將燈泡 的光線投向該出光罩透光槽的反光鏡。
8、 如權(quán)利要求7所述的曝光機(jī)，其特征在于，該至少一曝光光源組 的各燈泡朝向光線照射方向偏擺的方式配置。
9、 如權(quán)利要求7所述的曝光機(jī)，其特征在于，該至少一曝光光源組 的各燈泡以2°夾角朝向光線照射方向偏擺的方式配置。
10、 如權(quán)利要求1所述的曝光機(jī)，其特征在于，該光源燈泡或LED 光源。
專利摘要本實(shí)用新型曝光機(jī)主要在曝光光源組外部設(shè)有一出光罩，該出光罩在其相對(duì)朝向該曝光平臺(tái)移動(dòng)行程的部位設(shè)有一長(zhǎng)條狀的透光槽，以及設(shè)有一活動(dòng)遮光板控制該透光槽開啟與否，使得以在該透光槽開啟的狀態(tài)下產(chǎn)生朝向曝光平臺(tái)移動(dòng)行程照射的條狀光源；再配該曝光平臺(tái)以預(yù)定速度與該出光罩相對(duì)位移的方式接受條狀光源的照射，進(jìn)而使該曝光平臺(tái)上的被加工物完成曝光顯影。
文檔編號(hào)G03F7/20GK201402366SQ20092015225
公開日2010年2月10日 申請(qǐng)日期2009年4月29日 優(yōu)先權(quán)日2009年4月29日
發(fā)明者呂金水, 鐘政學(xué) 申請(qǐng)人:翊暉科技股份有限公司