專利名稱：光刻機的晶片傳送機構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實用新型涉及一種光刻機，尤其涉及一種光刻機的晶片傳送機構(gòu)。
背景技術(shù)：
現(xiàn)有的光刻機在對晶片進行光刻時，通過晶片傳送機構(gòu)來傳輸晶片。所述晶片傳 送機構(gòu)包括電機、皮帶和導(dǎo)軌。所述皮帶在電機帶動下在導(dǎo)軌上運動。晶片則放置在皮帶 上，跟隨皮帶運動，以便進行光刻。然而，這種光刻機的晶片傳送機構(gòu)在使用過程中，經(jīng)常會出現(xiàn)損壞現(xiàn)象。通過對損 壞部件的失效分析發(fā)現(xiàn)一般都是由于電機(馬達)損壞引起。而進一步分析發(fā)現(xiàn)電機是 因為過載而燒壞。電機過載的原因經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)是由于粉屑阻塞導(dǎo)軌使得皮帶運動阻力變大 而引起。而這些粉屑是由于皮帶在使用過程中磨損而產(chǎn)生的，這些粉屑會堵塞導(dǎo)軌，使得 皮帶運動受阻，最終使得電機因為過載而燒毀。因此，如何防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而防止電機因此發(fā)生損壞事故，是本領(lǐng)域技術(shù)人 員亟待解決的一個技術(shù)問題。

實用新型內(nèi)容本實用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種光刻機的晶片傳送機構(gòu)，可以抽排掉 導(dǎo)軌上的粉屑，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌而引發(fā)電機燒毀事故。為了達到上述的目的，本實用新型采用如下技術(shù)方案一種光刻機的晶片傳送機構(gòu)，包括置于殼體內(nèi)的電機、皮帶和導(dǎo)軌，電機帶動皮帶 在導(dǎo)軌上運行，所述殼體密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路。在述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)中，所述抽排管路與真空抽吸器連接。在述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)中，所述抽排管路與處于負壓狀態(tài)的機臺的風管管 路連接。在述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)中，所述抽排管路經(jīng)一吸粉箱與所述殼體密封連接。在述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)中，所述吸粉箱設(shè)置在殼體的下方。在述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)中，所述吸粉箱設(shè)置在殼體的上方。在述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)中，所述吸粉箱設(shè)置在殼體的側(cè)方。本實用新型的有益效果如下本實用新型通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路，藉由所述抽排 管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在導(dǎo)軌上順利運 動，進而，有效避免了電機因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。
本實用新型的光刻機的晶片傳送機構(gòu)由以下的實施例及附圖給出。圖1是本實用新型光刻機的晶片傳送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；圖中，1-殼體、2-抽排管路、3-吸粉箱、4-三通閥。
具體實施方式
以下將對本實用新型的光刻機的晶片傳送機構(gòu)作進一步的詳細描述。下面將參照附圖對本實用新型進行更詳細的描述，其中表示了本實用新型的優(yōu)選 實施例，應(yīng)該理解本領(lǐng)域技術(shù)人員可以修改在此描述的本實用新型而仍然實現(xiàn)本實用新型 的有利效果。因此，下列描述應(yīng)當被理解為對于本領(lǐng)域技術(shù)人員的廣泛知道，而并不作為對 本實用新型的限制。為了清楚，不描述實際實施例的全部特征。在下列描述中，不詳細描述公知的功能 和結(jié)構(gòu)，因為它們會使本實用新型由于不必要的細節(jié)而混亂。應(yīng)當認為在任何實際實施例 的開發(fā)中，必須作出大量實施細節(jié)以實現(xiàn)開發(fā)者的特定目標，例如按照有關(guān)系統(tǒng)或有關(guān)商 業(yè)的限制，由一個實施例改變?yōu)榱硪粋€實施例。另外，應(yīng)當認為這種開發(fā)工作可能是復(fù)雜和 耗費時間的，但是對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說僅僅是常規(guī)工作。為使本實用新型的目的、特征更明顯易懂，
以下結(jié)合附圖對本實用新型的具體實 施方式作進一步的說明。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比率， 僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。本實用新型的核心思想通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路， 藉由所述抽排管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在 導(dǎo)軌上順利運動，進而，有效避免了電機因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。請參閱圖1，圖1所示為本實用新型光刻機的晶片傳送機構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。這種光刻機的晶片傳送機構(gòu)，包括置于殼體1內(nèi)的電機、皮帶和導(dǎo)軌，電機帶動皮 帶在導(dǎo)軌上運行，所述殼體1密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路2。所述抽排管路2可以與真空抽吸器連接。當然，所述抽排管路2也可以與處于負 壓狀態(tài)的光刻機機臺的風管管路(圖中為示出)連接。本實施例中，由于光刻機機臺原本 設(shè)有具有負壓狀態(tài)的風管管路，所以，所述抽排管路2可以通過一個三通閥4接入該光刻機 機臺本身具有的處于負壓狀態(tài)的風管管路中。本實施例中，所述抽排管路2和殼體1之間增設(shè)一吸粉箱3，三者之間密閉連通。 即所述抽排管路2通過該吸粉箱3與所述殼體1密封連接。具體結(jié)構(gòu)如下所述吸粉箱3 設(shè)有吸入口和排出口，所述殼體1的接口與所述吸粉箱3的吸入口密封固定連接，所述吸粉 箱3的排出口與所述抽排管路2的吸入口密封固定連接。通過增設(shè)吸粉箱3，可以在保證一 定抽吸面積(該抽吸面積與殼體1上的接口面積相等)的前提下，縮小抽排管路2的截面 積，從而節(jié)約管材，并減少整個機構(gòu)的體積。本實施例中，所述吸粉箱3設(shè)置在殼體1的側(cè)方。當然，所述吸粉箱3也可以設(shè)置 在殼體1的上方或下方。當吸粉箱3設(shè)置在殼體1的下方時，由于可以利用粉屑的重力，因 此，抽排粉屑的效率最高。經(jīng)過反復(fù)實驗可知，當所述抽排管路2的吸力大于等于0. 001kg/cm2，可以取得比較好的粉屑抽排效果。本實用新型通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路，藉由所述抽排 管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在導(dǎo)軌上順利運 動，進而，有效避免了電機因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用 新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權(quán)利要求及 其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
權(quán)利要求一種光刻機的晶片傳送機構(gòu)，包括置于殼體內(nèi)的電機、皮帶和導(dǎo)軌，電機帶動皮帶在導(dǎo)軌上運行，其特征在于，所述殼體密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路。
2.如權(quán)利要求1所述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)，其特征在于，所述抽排管路與真空抽 吸器連接。
3.如權(quán)利要求1所述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)，其特征在于，所述抽排管路與處于負 壓狀態(tài)的光刻機機臺的風管管路連接。
4.如權(quán)利要求1所述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)，其特征在于，所述抽排管路經(jīng)一吸粉 箱與所述殼體密封連接。
5.如權(quán)利要求4所述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)，其特征在于，所述吸粉箱設(shè)置在殼體 的下方。
6.如權(quán)利要求4所述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)，其特征在于，所述吸粉箱設(shè)置在殼體 的上方。
7.如權(quán)利要求4所述的光刻機的晶片傳送機構(gòu)，其特征在于，所述吸粉箱設(shè)置在殼體 的側(cè)方。
專利摘要本實用新型涉及一種光刻機，尤其涉及一種光刻機的晶片傳送機構(gòu)。這種光刻機的晶片傳送機構(gòu)，包括置于殼體內(nèi)的電機、皮帶和導(dǎo)軌，電機帶動皮帶在導(dǎo)軌上運行，所述殼體密封連接至一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路。本實用新型通過在殼體接一用于抽排所述殼體內(nèi)粉屑的抽排管路，藉由所述抽排管路的吸力將殼體內(nèi)的粉屑抽排干凈，防止粉屑堵塞導(dǎo)軌，從而保證皮帶在導(dǎo)軌上順利運動，進而，有效避免了電機因過載而發(fā)生損毀現(xiàn)象。
文檔編號G03F7/20GK201562122SQ20092021401
公開日2010年8月25日 申請日期2009年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月20日
發(fā)明者王睿 申請人:中芯國際集成電路制造(上海)有限公司