專利名稱：真空處理裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及真空處理裝置，具體涉及對用于LCD控制板的玻璃等基板進行所相關(guān) 的蝕刻、蒸發(fā)等真空處理的真空處理裝置。
背景技術(shù)：
真空處理裝置是在形成有處理空間的真空腔內(nèi)設(shè)置電極，且通過在真空狀態(tài)下向 電極輸入電源來形成等離子體，從而對設(shè)置有電極的基板支持部上所設(shè)置的基板表面進行 蒸發(fā)(Vacuum Evaporation)、蝕刻等真空處理工程的裝置?，F(xiàn)有的真空處理裝置由上側(cè)開口的腔體本體以及腔體本體上側(cè)可裝卸地連接的 上部蓋子組成。為了維護以及維修真空處理腔，上部蓋子構(gòu)成為在與腔體本體分離后可向 腔體本體的一側(cè)移動及回轉(zhuǎn)。另一方面由于LCD的大型化趨勢，用于LCD (Liquid CrystalDisplay)控制板的玻 璃基板的尺寸也隨之增大，因此對上述用于LCD控制板的玻璃基板進行處理的真空處理裝 置的尺寸也隨之變大。上述真空處理裝置大型化的同時，處理空間的體積(真空體積)，也進而增加，而 由體積增加的處理空間內(nèi)的真空壓所引起的腔體外部施加的荷重也隨之增加，不僅使腔體 本體，還使上部蓋子發(fā)生變形。此時，上部蓋子所發(fā)生的變形會向著設(shè)置于上部蓋子底面的噴頭進行傳達，進而 現(xiàn)有的真空處理裝置中，存在由于上部蓋子發(fā)生變形而導(dǎo)致噴頭或者噴頭上設(shè)置的絕緣構(gòu) 件的破損、設(shè)置誤差等情況發(fā)生的問題。并且在上述腔體外部施加的荷重增加的同時，腔體為了支撐所增加的荷重而增大 其自身的厚度，進而導(dǎo)致整體腔體的自重都會增加，從而導(dǎo)致上部蓋子也將增大其厚度以 及自重?，F(xiàn)有的真空處理裝置為了對噴頭等設(shè)置于上部蓋子底面上的內(nèi)部設(shè)備進行修理 或替換，而需要要求上部蓋子從腔體本體方向開始分離，而現(xiàn)有技術(shù)中所采用的方案是先 提升上部蓋子進行旋轉(zhuǎn)，然后再將其從腔體本體分離開。可是現(xiàn)有真空處理裝置在上部蓋子的自重增加時，相應(yīng)的存在需要具有能夠支撐 上部蓋子自重的功率的回轉(zhuǎn)裝置(回轉(zhuǎn)電機、減速機等)的問題。尤其與半導(dǎo)體不同，作為真空處理對象的基板為第八代的四角LCD腔體玻璃基板 的情況下，存在一邊長度大約超過2m的基板的尺寸會顯著增大，相對地導(dǎo)致上部蓋子的自 重急劇增加，使上部蓋子的回轉(zhuǎn)幾乎不可能的問題。

發(fā)明內(nèi)容
(一)要解決的技術(shù)問題為了解決上述問題，本發(fā)明的目的在于提供具備將上部蓋子以及噴頭分開設(shè)置結(jié)
構(gòu)的真空處理裝置。
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本發(fā)明的另一目的在于提供在對真空處理裝置處設(shè)置的重物，比如噴頭，進行維 護修補時，對重物可容易進行替換的真空處理裝置。本發(fā)明的另一目的在于提供上部蓋子即使因為真空壓產(chǎn)生變形，也能防止對設(shè)置 于上部蓋子附近的部件造成影響的真空處理裝置。(二)技術(shù)方案為了達到如上所述的本發(fā)明的目的，本發(fā)明所提供的真空處理裝置包括相互連接形成對基板進行真空處理的處理空間的腔體本體以及上部蓋子；設(shè)置于所述上部蓋子下側(cè)，向處理空間進行氣體供給的噴頭部；對所述噴頭部的邊緣部位進行支持而設(shè)置于所述腔體本體以及所述上部蓋子之 間的輔助蓋子。優(yōu)選地，本發(fā)明所涉及的真空處理裝置的形狀構(gòu)成為其一邊尺寸超過1，300mm的矩形。所述輔助蓋子與所述噴頭部的整體或者一部分可形成為一體。所述噴頭部可設(shè)置與所述上部蓋子的底面之間有間隔。所述上部蓋子設(shè)置為與所述輔助蓋子可拆卸。所述輔助蓋子設(shè)置為與所述腔體本體可拆卸。所述上部蓋子以及輔助蓋子對于所述腔體本體設(shè)置為可同時拆卸。所述噴頭部設(shè)置為與所述輔助蓋子可拆卸。當上部蓋子從所述輔助蓋子處拆卸后，所述噴頭部設(shè)置為可以向所述輔助蓋子的 上方分離出來。所述上部蓋子、噴頭部以及輔助蓋子中至少有一個為了與外部裝卸裝置相連接而 形成有裝卸部件結(jié)合部。所述噴頭部的上側(cè)追加設(shè)置有用于進行冷卻操作的冷卻面板，所述冷卻面板為了 與外部裝卸裝置相連接可形成有裝卸部件結(jié)合部。所述噴頭部可構(gòu)成為為了向處理空間噴射氣體，可以追加包括有多個噴射孔的噴 射面板。所述噴頭部構(gòu)成為為了形成用于氣體的擴散的一個以上的擴散空間，可以追加包 括與所述噴射面板的上表面具備間隔，且與所述噴射面板結(jié)合的一個以上的擴散面板；此時，所述噴射面板以及所述至少一個的擴散面板可形成為一體或者可拆卸地連 接；為了與外部裝載裝置相連接，所述噴射面板以及所述至少一個的擴散面板上形成有裝 載部件結(jié)合部，或者所述噴射面板以及所述至少一個的擴散面板的整體上形成有裝載部件
纟口 口邵。所述輔助蓋子可包括設(shè)置為密封件夾于所述腔體本體上端與所述上部蓋子下端之間的蓋子支持部；由所述蓋子支持部延伸形成的為了使所述噴頭部的底面向著所述處理空間而形 成開口部，且支持所述噴頭部邊緣部位的噴頭安裝部；所述噴頭安裝部上所形成的開口部為了裝載基板而設(shè)置為小于所述腔體本體內(nèi) 所設(shè)置的基板支持部。所述噴頭安裝部為了與所述上部蓋子的底面之間形成空間而從所述蓋子支持部的上表面起向下側(cè)呈臺階狀。為了對所述噴頭部底面的邊緣部位以及所述輔助蓋子的底面向所述處理空間側(cè) 所露出的部分受等離子體的影響起保護作用，可以設(shè)置第一保護構(gòu)件。所述輔助蓋子上可形成有用于進行溫度控制的熱媒介通道。向著所述處理空間露出的所述輔助蓋子的露出面上，為了保護受等離子體影響的 表面，設(shè)置有可拆卸的第二保護構(gòu)件。所述真空處理器可以追加包括將上部蓋子從所述輔助蓋子處可拆卸的裝卸裝置。所述裝卸裝置可以包括為了將上部蓋子對應(yīng)于腔體本體進行水平方向移動的水平方向移動部而構(gòu)成。所述裝卸裝置可以包括為了將所述上部蓋子對應(yīng)于所述腔體本體進行升降移動的升降部；為了將所述上部蓋子對應(yīng)于所述腔體本體進行水平方向移動的水平方向移動部。所述升降部設(shè)置為通過對所述上部蓋子進行支持來對所述上部蓋子進行升上降 下操作；為了使所述升降部可沿水平方向移動，所述水平方向移動部包括設(shè)置于所述腔體 本體兩側(cè)面的一對導(dǎo)軌，以及使所述上部蓋子沿所述導(dǎo)軌進行移動的驅(qū)動部。為了通過對所述上部蓋子進行支持來對所述上部蓋子進行升上降下操作，所述水 平方向移動部包括設(shè)置于所述腔體本體兩側(cè)的一對升降導(dǎo)軌，以及在所述升降導(dǎo)軌上升后 使所述上部蓋子沿所述升降導(dǎo)軌進行移動的驅(qū)動部；所述水平方向移動部可以包括支持所述上部蓋子使能夠升降，設(shè)置在腔體本體的 兩側(cè)的一對升降導(dǎo)軌和當所述升降導(dǎo)軌上升后將上部蓋子隨著升降導(dǎo)軌移動的驅(qū)動部，所 述升降部使支持上部蓋子的升降導(dǎo)軌升降而構(gòu)成。所述裝卸裝置可追加包括所述升降導(dǎo)軌上升后，與所述升降導(dǎo)軌連接來移動所 述上部蓋子的連接導(dǎo)軌。所述上部蓋子鉸接于腔體主體的一側(cè)表面。(三)有益效果本發(fā)明所涉及的真空處理裝置由于其上部蓋子以及噴頭部可分別設(shè)置于腔體本 體上，因此其各部件的荷重可得到減少從而具有便于對部件進行傳送以及可拆卸的優(yōu)點。此外，本發(fā)明所涉及的真空處理裝置由于其上部蓋子以及噴頭部對于腔體本體可 拆卸，進而由輔助蓋子所支持的噴頭部能夠從輔助蓋子上可拆卸下來，因此，可對真空處理 裝置中需要維修更換的對象所對應(yīng)的部件進行方便的裝載以及卸載。此外，本發(fā)明所涉及的真空處理裝置由于其上部蓋子與由輔助蓋子所支持的噴頭 部之間形成有間隔，可以防止由于真空體積增加等原因所引起的上部蓋子的變形向噴頭部 進行傳達，進而避免造成噴頭部的變形或者損壞。


圖1為展示本發(fā)明所涉及的真空處理裝置的分解細節(jié)示意圖；圖2為展示圖1的真空處理裝置的截面圖；圖3至圖5及圖6至圖8為展示對圖1的真空處理裝置進行拆解及組裝過程的截面圖；圖9至圖12為展示圖1的真空處理裝置中裝卸裝置的運作的側(cè)面圖；圖13至圖15為另一種展示圖1的真空處理裝置中裝卸裝置的運作的側(cè)面圖；圖16為展示圖1的真空處理裝置中上部蓋子鉸接(hinge)于腔體主體的例子的 側(cè)面圖。
具體實施例方式下面將參照附圖來對本發(fā)明所涉及的真空處理裝置進行詳細說明。圖1為展示本發(fā)明所涉及的真空處理裝置的分解細節(jié)示意圖，且圖2為展示圖1 的真空處理裝置的截面圖。本發(fā)明所涉及的真空處理裝置100如圖1及圖2所示，包括上側(cè)開口的腔體本體 120以及可裝卸地連接于腔體本體120上側(cè)的以形成真空處理空間S的上部蓋子110。比起小型的基板晶圓，本發(fā)明所涉及的真空處理裝置110優(yōu)選為更傾向于形成為 四角形狀等多角形，對大型的用于LCD面板的玻璃基板的表面在真空狀態(tài)下形成等離子體 進行蝕刻或蒸發(fā)等真空處理操作的裝置。在真空處理的對象中用于LCD面板的玻璃基板為第五時代水平的情況下，考慮到 該玻璃基板的尺寸可為1，100*1，300mm。因此，本發(fā)明所涉及的真空處理裝置100作為處理 大型基板的裝置，優(yōu)選地為形狀構(gòu)成為其一邊尺寸超過1，300mm的矩形。所述真空處理裝置100為了向處理空間S供給氣體，可設(shè)置有由氣體供給管以及 噴頭部210等所構(gòu)成的氣體供給系統(tǒng)，以及為了在處理空間內(nèi)形成等離子體而用于輸入電 源的電源輸入部，以及用于排氣及壓力控制的排氣系統(tǒng)等各種模塊以及設(shè)備(安裝器械)。所述真空處理裝置100所構(gòu)成的腔體本體120以及上部蓋子相互連接進而形成了 用于真空處理的處理空間S。所述腔體本體120可設(shè)置為為了使其底面與地面相隔開而將其支撐設(shè)置于一支 持結(jié)構(gòu)上(未圖示)。所述腔體本體120的側(cè)面中至少存在一面，其上形成有為了基板1的出入而設(shè)置 的腔門130。并且，在其內(nèi)側(cè)底面處設(shè)置有可架設(shè)基板1的基板支持部140。所述腔門130通過腔門閥(未圖示)來進行開關(guān)，并與裝載鎖定腔體(Load Lock Chamber，未圖示)連接的傳送腔體(未圖示)相連通。所述基板支持部140為了架設(shè)基板1而具備支持面，可設(shè)置為了將下部電極，基板 1根據(jù)靜電力固定的靜電夾頭等多種構(gòu)成。另一方面，所述上部蓋子110可制造為形成面板或者容器構(gòu)造等各種形狀以及結(jié) 構(gòu)。為了對設(shè)置于真空處理裝置100內(nèi)部的部件進行修理及替換等維護維修操作，所 述上部蓋子110設(shè)置為可拆卸的與腔體本體120相連接。并且，將所述上部蓋子110制造為 具備一定程度的厚度來承受處理空間S內(nèi)所形成的真空壓。并且上部蓋子110的外表面為 防止由于真空壓所引起的上部蓋子110變形可將其外側(cè)輔助設(shè)置成為了強化構(gòu)造的結(jié)構(gòu)。另外，輔助蓋子300設(shè)置于腔體本體120以及上部蓋子110之間，并可拆卸的與腔 體本體120相連接。理所當然的，上部蓋子110可與輔助蓋子300進行可拆卸的連接。
所述可拆卸的與上部蓋子110或者腔體本體120相連接的輔助蓋子300包括夾于 腔體本體120上端與上部蓋子110下端之間的蓋子支持部330 ；以及由蓋子支持部330延伸 形成的，為了使噴頭部210的底面向著處理空間S而形成開口部310 ；用于支持噴頭部210 的邊緣部位的噴頭安裝部320。此時所述噴頭安裝部320和蓋子支持部330可作為整體或 者由結(jié)合部件相連接。此處所述腔體本體120的上端與蓋子支持部330之間，以及上部蓋 子110的下端和蓋子支持部330之間插入設(shè)置有密封件121、122。所述蓋子支持部330由于與噴頭安裝部320相連接，并設(shè)置于腔體本體120及上 部蓋子110之間，從而來對噴頭部210進行支持。并且考慮到由真空壓所引起的上部蓋子120的變形，優(yōu)選地將支持所述噴頭部 210的噴頭安裝部320與上部蓋子120的底面間隔開，設(shè)置成從蓋子支持部330的上表面向 下方呈階梯狀的等間隔開地設(shè)置。所述噴頭安裝部320設(shè)置成為了使噴頭部210中用于氣體的噴射的噴射孔211a 能夠向著處理空間S的方向進而使噴頭部210的底面面向處理空間S而形成開口部310的 同時，使其能夠支持噴頭部210的邊緣。所述噴頭安裝部320支持噴頭部210邊緣部位的方法可通過向著噴頭部210的上 側(cè)方向或是下側(cè)方向等多種方法來支持噴頭部210，并且在噴頭部210為多個部件所組成 的情況下，所述噴頭安裝部320可對其各個組成部件進行各自的支持而形成有階段模式的 支持部321,322ο此時考慮到對噴頭部210進行修理及替換，優(yōu)選地將所述噴頭安裝部320設(shè)置于 輔助蓋子300的上側(cè)面。并且，如上所述所構(gòu)成的輔助蓋子300為了實現(xiàn)所期望的真空處理工程而需要通 過加熱或冷卻來對處理空間S的溫度進行控制，因此所述輔助蓋子300上可設(shè)置有用于控 制溫度的熱媒介通道340。另一方面，所述噴頭部210設(shè)置成在上部蓋子110的下側(cè)與上部蓋子110的底面 間隔開，由輔助蓋子300來支持，根據(jù)各個真空處理工程，構(gòu)成為為了將處理氣體、載體氣 體等向處理空間S注入氣體，可以具有多種構(gòu)成。舉例來說，所述噴頭部210可構(gòu)成為包括為了向處理空間S輸入氣體而設(shè)置有 具備多個噴射孔211a的噴射面板211 ；以及為了形成至少一個的用于擴散氣體的擴散空間 DSUDS2的與噴射面板211的上表面具備間隔并與噴射面板211相連接的至少一個的擴散 面板212。所述噴射面板211為了向處理空間S內(nèi)以相同分布的方式噴射氣體，從而設(shè)置有 多個以預(yù)定模式垂直貫通的貫通孔211a，且該噴射面板211設(shè)置為其邊緣部位可通過輔助 蓋子300來支持，當該噴射面板211采用鋁材制作時，其朝向處理空間S的表面會受到陽極
氧化處理。所述擴散面板212為面板部件，設(shè)置于噴射面板211上方并形成擴散空間DS1、 DS2，當擴散空間DS1、DS2為多個的情況下，擴散面板212設(shè)置為具備多個擴散孔212a以使 氣體向與噴射面板211相連接的擴散空間DSl進行傳達。優(yōu)選地，形成了所述擴散空間的擴散面板212通過插入設(shè)置密封件212c來緊密連 接噴射面板211或者輔助蓋子300。此時，為了將所述擴散面板212設(shè)置為與噴射面板211的上側(cè)面具備間隔，于噴射面板211的邊緣部位上突出形成有用于支持擴散面板212底面 的突出部211b。此時，所述擴散面板212可與噴射面板211 —體形成，或者與噴射面板211或輔助 蓋子300通過螺絲等連接部件來進行可拆卸地連接。或者所述擴散面板212可如后述內(nèi)容 來設(shè)置為與噴射面板211或者輔助面板300進行可拆卸地連接。優(yōu)選地，在由真空壓所引起的上部蓋子110變形時，所述擴散面板212為防止受到 該變形所帶來的影響，其設(shè)置為與上部蓋子110的底面之間具備一定的間隔。此時所述擴 散面板212與上部蓋子110之間間隔所形成的空間可靈活利用為用于擴散氣體的擴散空間 DS2。此時所述上部蓋子110的底面可設(shè)置為凹形來與擴散面212之間形成間隔。另一方面，在考慮到上部蓋子110的變形程度發(fā)生為最大程度的情況下，所述擴 散面板212與上部蓋子110的底面之間所形成間隔由上部蓋子110中央部的變形量來決 定。并且當上部蓋子110的變形程度隨著邊緣部分向中央方向趨于嚴重的情況下，該間隔 可設(shè)置為向中央方向逐漸增加。如上所述，真空處理過程中由于處理空間中所形成的真空壓所導(dǎo)致的在外部看來 上部蓋子Iio存在凹陷變形的情況下，由于上部蓋子110的底面與噴頭部210，即擴散面板 212的上側(cè)面之間形成有間隔，因此可以防止上部蓋子110的變形對噴頭部210造成影響。另一方面，所述噴頭部210的上側(cè)上可進一步設(shè)置有用于控制噴頭部210的溫度 的冷卻面板(未圖示)。此時，為對噴頭部210進行溫度控制，所述冷卻面板的邊緣部位部 分與噴頭部210進行緊密連接。并且，冷卻面板的上側(cè)面可代替噴頭部210而設(shè)置為與上 部蓋子110的底面之間具備間隔。為了在處理空間S處形成等離子體，至少噴頭部210的一部分或輔助蓋子300為 了能夠起到作為電極，即上部電極(一般情況下接地)的功能，可以使用具有導(dǎo)電性的金屬 部件。如上所述的噴頭部210以及輔助蓋子300等作為金屬部件進行使用的情況下，在 等離子體的影響下，其向著處理空間側(cè)的表面所包含的部分會出現(xiàn)由于蝕刻而受到損傷， 或者產(chǎn)生粒子堆積等對真空處理造成不良影響的情況。為解決上述問題，為了使所述噴頭部210底面的邊緣部位，或者邊緣部位的周邊 及輔助蓋子300的底面的一部分避免等離子體的干擾，可設(shè)置第一保護構(gòu)件240，比如陶
ο在輔助蓋子300向著所述處理空間側(cè)所露出的露出面上，與腔體本體120相類似 的設(shè)置有可拆卸的第二保護構(gòu)件350。因此，可以防止真空處理過程中真空處理裝置100內(nèi) 部中所產(chǎn)生的副產(chǎn)品直接附著于暴露在處理空間中的輔助蓋子300的底面上的情況。另一方面，為了對真空處理裝置100的內(nèi)部所設(shè)置的部件進行容易的修理或替 換，所述上部蓋子110設(shè)置為可拆卸的與腔體本體120相連接。為了在腔體本體120上可 對上部蓋子110進行安裝或者卸載，如下內(nèi)容所述的裝卸裝置可連接于腔體本體120上或 者設(shè)置于腔體本體120的周邊。所述上部蓋子110以及輔助蓋子300可同時或者分別地與腔體本體120進行可拆 卸地連接。在所述上部蓋子110以及輔助蓋子300分別地可拆卸地連接的情況下，輔助蓋子300設(shè)置為在上部蓋子110首先分離后，所述上部蓋子110再與輔助蓋子300分離開。所述噴頭部210設(shè)置為可拆卸地安裝于輔助蓋子300上，此時噴頭部210可設(shè)置 為在上部蓋子Iio與輔助蓋子300首先分離后，噴頭部210再從輔助蓋子300分離出來。此外，與現(xiàn)有技術(shù)中將噴頭部210連接于上部蓋子110的真空處理裝置所不同，本 發(fā)明所涉及的真空處理裝置100，其上部蓋子120首先分離后，然后對露出于外部的噴頭部 210再進行分離，由此在本發(fā)明中噴頭部210可在無需回轉(zhuǎn)上部蓋子110的情況下進行修理 或者更換。所述上部蓋子110、噴頭部210以及輔助蓋子300可以以各種方法與腔體本體120 進行可拆卸的裝載或者卸載。比如，所述上部蓋子110、噴頭部210以及輔助蓋子300可通 過升降移動、上側(cè)移動、傾斜移動、滑動等多種方式或者其組合的方式來進行裝載、卸載以 及移動。另一方面，所述上部蓋子110、噴頭210以及輔助蓋子300中至少有一個上可拆卸 的設(shè)置有裝卸部件521、522以及523，比如環(huán)首螺栓，以與作為外部裝置的起重機上的牽引 線510相結(jié)合。或者，為了與裝卸裝置相結(jié)合，至少一個裝卸部件結(jié)合部形成于上部蓋子 110、噴頭210以及輔助蓋子300的上側(cè)、側(cè)面、邊緣部位等各種位置上。根據(jù)外設(shè)裝置，比如起重機等的外部裝置，或者裝卸裝置的種類以及結(jié)合的方式 的不同，所述裝卸部件結(jié)合部可以具有多種結(jié)構(gòu)；而且為了在上部蓋子110、噴頭210以及 輔助蓋子300上連接環(huán)首螺栓，不僅可設(shè)置為螺絲孔521a、521b以及521c、其構(gòu)成還可以為 輔助螺絲攻525或者插槽等各種形態(tài)。另一方面，如上所述的本發(fā)明所涉及的真空處理裝置100中需要對各部件進行卸 載的情況，可分為需要對各部件進行卸載以對噴頭部210下側(cè)所設(shè)置的基板支持部140等 設(shè)備進行修理或者更換的情況，以及需要對噴頭部210進行修理或者更換的情況。圖3至圖5及圖6至圖8為展示對圖1的真空處理裝置進行拆解及組裝過程的截 面圖。首先，為了對比如噴頭部210下側(cè)所設(shè)置的基板支持部140等設(shè)備進行修理或者 更換的情況，該基板支持部140或者基板支持部140上設(shè)置的靜電夾頭、下部電極等需要從 腔體本體120等處進行卸載的過程的情況如圖3至圖5所示。S卩，如圖3及圖4所示，使用為外部裝置的起重機等進行分離，移動至設(shè)定的位置， 然后如圖5所示，使用起重機將輔助蓋子300及噴頭部210從腔體本體120上進行卸載。此 時，所述噴頭部210可以與輔助蓋子300 —同進行卸載，接下來自然就再將噴頭部210從輔 助蓋子300上進行卸載。其次，在需要對所述噴頭部210進行修理或者更換的情況下，輔助蓋子300不需要 從腔體本體120上進行卸載，該卸載過程如圖6及圖7所示。即，如圖6及圖7所示，在上部蓋子110從輔助蓋子300上進行卸載后，可按順序 繼續(xù)進行卸載，此時噴頭部210在由噴射面板211及擴散面板212構(gòu)成的情況下，可將噴射 面板211及擴散面板212分別按順序或者一次性地從輔助蓋子300上卸載下來。另一方面，在輔助蓋子300需要被卸載的情況下，如圖8所示，對噴頭部210進行 卸載后，輔助蓋子300可進行卸載。圖9至圖12為展示圖1的真空處理裝置中裝卸裝置的運作的側(cè)面圖；圖13至圖
1015為另一種展示圖1的真空處理裝置中裝卸裝置的運作的側(cè)面圖；圖16為展示圖1的真 空處理裝置中上部蓋子鉸接于腔體主體的例子的側(cè)面圖。另一方面，為了對所述上部蓋子110等進行卸載，除了如起重機等外部裝置，還可 另外設(shè)置用于對上部蓋子110進行卸載的裝卸裝置。所述裝卸裝置作為將上部蓋子110于腔體本體120處卸載并將其向設(shè)定的位置進 行移動的裝置，可具備多種結(jié)構(gòu)，該裝卸裝置可設(shè)置為將上部蓋子110沿上下方向及水平 方向進行移動，此時上部蓋子110可同時進行上下移動以及水平移動，并且還可以進行回轉(zhuǎn)。一般情況下，在設(shè)置了真空處理裝置100的工廠中設(shè)置有起重機，所述裝卸裝置 可靈活應(yīng)用為用于對起重機進行安裝及卸載的外部裝置。此時為了與起重機上的牽引線 510相結(jié)合，所述上部蓋子110、噴頭部210以及輔助蓋子300上設(shè)置或者可拆卸的結(jié)合設(shè) 置有如環(huán)首螺栓的搭載部件521、522、523于裝卸部件結(jié)合部上。所述裝卸裝置可包括為了將上部蓋子110對應(yīng)于腔體本體120進行升降移動的 升降部530，以及為了將上部蓋子110對應(yīng)于腔體本體120進行水平方向移動的水平方向移 動部540。此時裝卸裝置可僅由升降部構(gòu)成。另一方面，結(jié)合附圖對所述裝卸裝置的升降部530及水平方向移動部540所具備 的多種結(jié)構(gòu)進行說明。如圖9所述，所述升降部530設(shè)置為通過對所述上部蓋子進行支持來對所述上部 蓋子110進行升上降下操作，此時所述上部蓋子110以及升降部530可通過一個以上的輔 助螺絲攻525進行連接。并且，為了使升降部530可沿水平方向移動，所述水平方向移動部540可包括設(shè)置 于腔體本體120兩側(cè)面的一對導(dǎo)軌541，以及使上部蓋子110沿導(dǎo)軌541進行移動的驅(qū)動部 (未示出)。如圖9至圖11所示，具備如上所述結(jié)構(gòu)的裝卸裝置用于在輔助蓋子300上裝載或 卸載上部蓋子110。另一方面，如圖12所示，所述上部蓋子110從輔助蓋子300上卸載后，噴頭部210 可通過起重機來進行卸載。當然，此時輔助蓋子300也可以同時進行卸載或者分別進行卸載。接下來，作為所述裝卸裝置的變形例，所述水平方向移動部540可包括安裝于腔 體本體120兩側(cè)的一對移動導(dǎo)軌542來通過對上部蓋子110進行支持來對上部蓋子110進 行升上降下操作，以及在升降導(dǎo)軌542上升后使上部蓋子110沿升降導(dǎo)軌542進行移動的 驅(qū)動部(未示出)。此時所述升降部530設(shè)置為對用于支持上部蓋子110的升降導(dǎo)軌542進行上下移動。并且所述水平方向移動部540可追加地包括通過與上升后的升降導(dǎo)軌542進行連 接來使上部蓋子110進行移動的連接導(dǎo)軌543。通過如上所述的裝卸裝置所進行的上部蓋子110以及噴頭部210的卸載過程如圖 13至圖15所示。另一方面，如圖16所示，所述上部蓋子110可鉸接于腔體主體120的側(cè)面。
在現(xiàn)有技術(shù)中，由于噴頭部210連接于上部蓋子110的底面，在卸載噴頭部210的 時候，需要將上部蓋子110回轉(zhuǎn)180度之后再進行卸載。然而，如本發(fā)明所述的噴頭部210為可拆卸的連接于輔助蓋子300上，因此通過使 用由液壓汽缸545等構(gòu)成的裝卸裝置來使上部蓋子110僅回轉(zhuǎn)大約90度后，即可通過如起 重機的外部裝置將噴頭部210容易地從輔助蓋子300上進行卸載。另一方面，用于卸載上部蓋子110的裝卸裝置自然也可以應(yīng)用于將輔助蓋子300 從腔體本體120上進行卸載。以上僅為對本發(fā)明技術(shù)方案進行實施的優(yōu)選實施例的部分相關(guān)說明，眾所周知， 本發(fā)明的保護范圍并不僅限于上述實施例所限定并解釋的內(nèi)容，上述所說明的本發(fā)明的技 術(shù)思想以及基于該思想的技術(shù)思路均應(yīng)被認為被包含于本發(fā)明的保護范圍。
權(quán)利要求
一種真空處理裝置，其特征在于，所述真空處理裝置包括相互連接形成對基板進行真空處理的處理空間的腔體本體以及上部蓋子；設(shè)置于所述上部蓋子的下側(cè)、向處理空間進行氣體供給的噴頭部；對所述噴頭部的邊緣部位進行支持而設(shè)置于所述腔體本體以及所述上部蓋子之間的輔助蓋子。
2.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述真空處理裝置的形狀構(gòu)成為 其一邊尺寸超過1，300mm的矩形。
3.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述輔助蓋子與所述噴頭部的整 體或者一部分形成為一體。
4.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述噴頭部設(shè)置為與所述上部蓋 子的底面之間有間隔。
5.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述上部蓋子設(shè)置為與所述輔助 蓋子可拆卸。
6.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述輔助蓋子設(shè)置為與所述腔體 本體可拆卸。
7.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述上部蓋子以及輔助蓋子對于 腔體本體可拆卸地設(shè)置。
8.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述噴頭部設(shè)置為與所述輔助蓋 子可拆卸。
9.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，在所述上部蓋子從所述輔助蓋子 處卸載之后，所述噴頭部設(shè)置為向所述輔助蓋子的上側(cè)可進行分離。
10.如權(quán)利要求1所述的真空處理裝置，其特征在于，所述上部蓋子、噴頭部以及輔助 蓋子中至少有一個形成有為了與外部裝卸裝置相連接的裝卸部件結(jié)合部。
11.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，所述噴頭部的上側(cè)追 加設(shè)置有用于進行冷卻操作的冷卻面板，所述冷卻面板為了與外部裝卸裝置相連接而形成 有裝卸部件結(jié)合部。
12.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，所述噴頭部包括為了 向處理空間噴射氣體而形成有多個噴射孔的噴射面板。
13.如權(quán)利要求12所述的真空處理裝置，其特征在于，所述噴頭部進一步包括為了形 成用于氣體的擴散的一個以上的擴散空間，而設(shè)置為與所述噴射面板的上表面具備間隔， 且與所述噴射面板可分離的一個以上的擴散面板；為了與外部裝載裝置相連接，所述噴射面板以及所述至少一個的擴散面板上形成有裝 載部件結(jié)合部。
14.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，所述輔助蓋子包括夾于所述腔體本體上端與所述上部蓋子下端之間的蓋子支持部；由所述蓋子支持部延伸形成的為了使所述噴頭部的底面向所述處理空間露出而形成 開口部，且支持所述噴頭部的邊緣部位的噴頭安裝部。
15.如權(quán)利要求14所述的真空處理裝置，其特征在于，所述噴頭安裝部上所形成的開 口部為了裝載基板而設(shè)置為小于所述腔體本體內(nèi)所設(shè)置的基板支持部。
16.如權(quán)利要求14所述的真空處理裝置，其特征在于，使所述噴頭安裝部從所述上部 蓋子的底面分隔開，設(shè)置為從所述蓋子支持部的上表面起向下側(cè)呈臺階狀。
17.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，為了對所述噴頭部底 面的邊緣部位以及所述輔助蓋子的底面向所述處理空間側(cè)所露出的部分受等離子體的影 響起到保護作用，設(shè)置有第一保護構(gòu)件。
18.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，所述輔助蓋子上設(shè)置 有用于進行溫度控制的熱媒介通道。
19.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，向著所述處理空間側(cè) 露出的所述輔助蓋子的露出面上，為了保護受等離子體影響的表面，設(shè)置有可拆卸的第二 保護構(gòu)件。
20.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，所述真空處理裝置還 包括用于將所述上部蓋子可拆卸的安裝于所述輔助蓋子上的裝卸裝置。
21.如權(quán)利要求20所述的真空處理裝置，其特征在于，所述裝卸裝置包括為了將上部蓋子對應(yīng)于腔體本體進行水平方向移動的水平方向移動部。
22.如權(quán)利要求20所述的真空處理裝置，其特征在于，所述裝卸裝置包括為了將上部蓋子對應(yīng)于腔體本體進行升降移動的升降部；為了將上部蓋子對應(yīng)于腔體本體進行水平方向移動的水平方向移動部。
23.如權(quán)利要求22所述的真空處理裝置，其特征在于，所述升降部設(shè)置為通過對所述 上部蓋子進行支持來對所述上部蓋子進行升上降下操作；為了使所述升降部可沿水平方向移動，所述水平方向移動部包括設(shè)置于所述腔體本體 兩側(cè)面的一對導(dǎo)軌，以及為了使所述上部蓋子沿所述導(dǎo)軌進行移動的驅(qū)動部。
24.如權(quán)利要求22所述的真空處理裝置，其特征在于，為了通過對所述上部蓋子進行 支持來對所述上部蓋子進行升上降下操作，所述水平方向移動部包括設(shè)置于所述腔體本體 兩側(cè)的一對升降導(dǎo)軌，以及在所述升降導(dǎo)軌上升后使所述上部蓋子沿所述升降導(dǎo)軌進行移 動的驅(qū)動部；所述升降部設(shè)置為對所述用于支持所述上部蓋子的升降導(dǎo)軌進行上下移動。
25.如權(quán)利要求24所述的真空處理裝置，其特征在于，所述裝卸裝置進一步地包括所 述升降導(dǎo)軌上升后，與所述升降導(dǎo)軌連接來移動所述上部蓋子的連接導(dǎo)軌。
26.如權(quán)利要求1-10任一項所述的真空處理裝置，其特征在于，所述上部蓋子鉸接于 腔體主體的一側(cè)表面。
全文摘要
本發(fā)明涉及真空處理裝置，具體涉及對用于LCD控制板的玻璃等基板進行所相關(guān)的蝕刻、蒸發(fā)等真空處理的真空處理裝置。本發(fā)明所提供的真空處理裝置包括相互連接形成對基板進行真空處理的處理空間的腔體本體以及上部蓋子、設(shè)置于所述上部蓋子的下側(cè)，向所述處理空間進行氣體供給的噴頭部以及為了對所述噴頭部的邊緣部位進行支持而設(shè)置于所述腔體本體以及所述上部蓋子之間的輔助蓋子。
文檔編號G02F1/13GK101978307SQ200980109535
公開日2011年2月16日 申請日期2009年3月17日 優(yōu)先權(quán)日2008年3月17日
發(fā)明者安成一, 曹生賢 申請人:Ips株式會社