專利名稱：光反射體以及面光源裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及可用作面光源裝置中使用的反射板、反光器以及各種照明器具中所使用的光反射用部件的光反射體，以及使用了該光反射體的面光源裝置。
背景技術：
配置了內置式光源的背光源型的液晶顯示器得到了廣泛普及。在背光源型的內藏光源之中，液晶TV等中使用最多的直下型背光源的典型結構如圖2所示，包含光反射體11、 散射板12、以及冷陰極燈13，并且由散射板形成均勻面狀的光。這樣的直下型背光源存在有如下這樣的問題在作為光源的冷陰極燈的近旁亮度變高，在其它位置亮度變低，從而發(fā)生亮度不均。針對這樣的問題，提出有使用進行了用于改善亮度不均的表面涂布的白色聚酯薄膜(例如參照專利文獻1 3)用作光反射體。然而這樣的白色聚酯薄膜在長時間使用期間存在黃化這樣的其它問題。另一方面，作為即使長時間使用也黃化少的光反射體，提出有白色聚烯烴薄膜 (例如參照專利文獻4 6)。如果使用這些光反射體，那么雖然可提高亮度，但是這些文獻中沒有記載關于應對亮度不均的內容?，F(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1 日本特開2005-148515號公報專利文獻2 日本特開2005-173546號公報專利文獻3 日本特開2006-072347號公報專利文獻4 日本特開平8162208號公報專利文獻5 國際公開W003/014778號公報專利文獻6 日本特開2006-195453號公報

發(fā)明內容
發(fā)明要解決的課題近年，在背光源特別是液晶TV等的直下型背光源中，存在為了節(jié)能、削減成本而削減背光源中的冷陰極燈的使用根數(shù)的傾向。這種冷陰極燈的使用根數(shù)少的直下型背光源，相比于以往的直下型背光源而言冷陰極燈(光源)間距變長了。因此存在冷陰極燈間變得比以往更暗、在冷陰極燈近旁亮線更明顯的傾向。以往提出的上述的白色聚酯薄膜、白色聚烯烴薄膜，無法充分降低這樣的比較大的亮度不均。因此，在削減背光源的冷陰極燈使用根數(shù)時，也需要開發(fā)亮度不均抑制效果高的光反射體。本發(fā)明的課題在于提供一種光反射體，其即使在安裝到削減了冷陰極燈使用根數(shù)的面光源裝置時，也可充分抑制亮度不均的產生。用于解決問題的方案
本發(fā)明人等反復進行了深入研究，結果發(fā)現(xiàn)了如下事實，以至完成本發(fā)明通過形成具備有特定的條件的最外層，調高對膜反射面以銳角入射的光的指向性，調低以鈍角入射的光的指向性等，可飛躍性改善亮度不均。S卩，作為課題的解決手段，提供具有以下技術方案的本發(fā)明。[1] 一種光反射體，其為在基材層上設置有光澤調整層作為最外層的光反射體，前述光澤調整層表面的45°光澤度為10 80%，由下述式(1)所示的光澤度比為2 25，且滿足下述 < 條件1>或下述 < 條件2>。[數(shù)學式1]
光澤調整層表面的45°光澤度光度比=...................................... 式(1)
光澤調整層表面的S5°光澤度<條件1>前述光澤調整層包含熱塑性樹脂(i)和平均粒徑2 20 μ m的填料 (ii)，層厚為2 20 μ m，至少被單軸拉伸，且前述填料(ii)在前述光澤調整層中的含量為
5 60重量％。<條件2>前述光澤調整層為包含填料的涂布層，前述光澤調整層的表面的平均斜率Aa為0. 04 0. 2，反射率為90%以上。[2]根據(jù)[1]所述的光反射體，其特征在于，其滿足前述 < 條件1>。[3]根據(jù)[2]所述的光反射體，其特征在于，前述光澤調整層的表面的平均斜率 Aa 為 0. 02 0. 2。[4]根據(jù)[2]或[3]所述的光反射體，其特征在于，前述光澤調整層在高于前述熱塑性樹脂(i)的熔點的溫度下被拉伸。[5]根據(jù)[2] W]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述熱塑性樹脂 (i)主要包含熔點不足160°C的聚烯烴系樹脂。[6]根據(jù)[2] [5]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述光澤調整層包含10 40重量％的平均粒徑2 20 μ m的填料(ii)。[7]根據(jù)[2] [6]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，其由包含基材層和前述光澤調整層的層疊體形成，所述基材層包含熱塑性樹脂(iii)和填料(iv)并且至少被單軸拉伸。[8]根據(jù)[7]所述的光反射體，其特征在于，前述熱塑性樹脂(iii)主要包含熔點及玻璃化轉變溫度之中至少一者為160°C以上的聚烯烴系樹脂。[9]根據(jù)[7]或[8]所述的光反射體，其特征在于，作為前述基材層中的前述填料 (iv)，以5 75重量％包含平均粒徑為0. 05 1. 5 μ m的無機填料和平均分散粒徑0. 05 1. 8 μ m的有機填料之中的至少一者。[10]根據(jù)[7] [9]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述基材層的反射率為90%以上。[11]根據(jù)[7] [10]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，包含前述光澤調整層和前述基材層的層疊體，在層疊兩層之后，在高于前述熱塑性樹脂(i)的熔點、且低于前述熱塑性樹脂(iii)的熔點及玻璃化轉變溫度之中至少一者的溫度下被拉伸。[12]根據(jù)[7] [11]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述光澤調整層中的孔隙率為0 4 %，且前述基材層中的孔隙率為15 75%。[13]根據(jù)[2] [12]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，密度為0. 3 1. 2g/cm3。[14]根據(jù)[2] [13]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，在83°C、相對濕度50%的環(huán)境條件下，由設置于距離光反射體IOcm的位置的金屬鹵化物燈以照射強度 90mff/cm2的紫外線照射100小時前后，由下述式(2)所示的色差Δ &為0 10，AEh= [ (L0-L1)2+ (β0-&1) 2+ (Vb1)2]0.5 式(2)式(2)中，‘ a0, b0分別表示照射前的Ua九色度體系的色空間的明度指數(shù)U和色度指數(shù)(chromaticness index) a*、b*, L” a” b1分另ll表示照射后的“aA色度體系的色空間的明度指數(shù)U和色度指數(shù)a*、b*。[15]根據(jù)[1]所述的光反射體，其特征在于，其滿足前述 < 條件2>。[16]根據(jù)[15]所述的光反射體，其特征在于，前述涂布層在干燥后的填料濃度為
2 40重量％。[17]根據(jù)[15]或[16]所述的光反射體，其特征在于，前述涂布層中所含的填料的平均粒徑為4 30 μ m。[18]根據(jù)[15] [17]中的任一項所述的光反射體，其特征在于，前述基材層為包含熱塑性樹脂和填料、至少在單軸方向被拉伸的樹脂拉伸薄膜。[19]根據(jù)[18]所述的光反射體，其特征在于，在前述基材層中，前述熱塑性樹脂為聚烯烴系樹脂。[20]根據(jù)[18]或[19]所述的光反射體，其特征在于，前述基材層以5 75重量％ 的濃度包含平均粒徑0. 05 1. 5 μ m的無機填料、平均分散粒徑0. 05 1. 8 μ m的有機填料、或它們的混合物。[21] 一種面光源裝置，其使用了 [1] [20]中的任一項所述的光反射體。發(fā)明效果本發(fā)明的光反射體在安裝到面光源裝置時可充分抑制亮度不均的產生。另外，本發(fā)明的面光源裝置由于亮度不均小，因此亮線產生受到抑制。


圖1是本發(fā)明的光反射體的結構的概略圖。圖2是直下式背光源的結構的剖面的概略圖。圖3是側光式背光源的結構的剖面的概略圖。圖4是表示直下式背光源的冷陰極燈間的亮度不均的模式圖。圖5是表示使用了本發(fā)明的光反射體的直下式背光源中的冷陰極燈間的亮度不均的解決方法的模式圖。圖6是從散射板方向觀察使用了本發(fā)明的實施例1的光反射體的直下式背光源時的亮度不均的概略圖。圖7是從散射板方向觀察使用了比較例1的光反射體的直下式背光源時的亮度不均的概略圖。圖8 表面粗糙度的測定例。
附圖標記說明
1光澤調整層(B)
2基材層(A)
3中間層(C)
11光反射體
12散射板
13冷陰極燈
14散射板上產生的亮線部
15散射板上產生的暗部
16 30度反射光
17 40度反射光
18 50度反射光
19 60度反射光
20 70度反射光
d冷陰極燈間的距離
h相鄰的凹凸部間的高低差
L測定長度
具體實施例方式以下，詳細說明本發(fā)明的光反射體的結構及效果。以下記載的技術特征的說明有時基于本發(fā)明的代表性的實施方式而進行，但是本發(fā)明不受限于這樣的實施方式。需要說明的是，在本發(fā)明中“ ”是指，分別包含在其前后記載的數(shù)值作為最小值及最大值的范圍。 另外，在本說明書中“主要含有”是指，以全體的50重量％以上含有，優(yōu)選以70重量％以上含有，更優(yōu)選以90重量％以上含有，最優(yōu)選為100重量％。本發(fā)明的光反射體在基材層上設置有光澤調整層作為最外層，前述光澤調整層表面的45°光澤度為10 80%，且由式(1)所示的光澤度比為2 25。本發(fā)明的光反射體大致分為，滿足 < 條件1>的光反射體和滿足 < 條件2>的光反射體。[滿足< 條件1>的光反射體](1)光反射體的結構的特征滿足 < 條件1>的光反射體具有光澤調整層作為最外層；所述光澤調整層包含熱塑性樹脂(i)和填料(ii)，層厚為2 20μπι，至少被單軸拉伸。光澤調整層中所含的填料的平均粒徑為2 20 μ m，其含量為5 60重量％。而且，滿足 < 條件1>的光反射體的光澤調整層表面的45°光澤度為10 80%，由上述式(1)所示的光澤度比為2 25。以下，參照滿足 < 條件1>的光反射體的優(yōu)選實施方式進行具體說明。(2)光澤調整層前述光澤調整層包含熱塑性樹脂⑴以及平均粒徑為2 20 μ m的填料(W。另外，光澤調整層為至少被單軸拉伸的樹脂拉伸薄膜，構成光反射體的最外層從而具有調整光澤、防止亮線的功能。具體而言，通過以填料(ii)為核的突起將該光澤調整層的表面的平均斜率Δ a調整為0.02 0.2的范圍，且通過該突起調整45°光澤度以及85°光澤度。
〈熱塑性樹脂(i)>前述光澤調整層中所使用的熱塑性樹脂(i)的種類不受特別限制。作為可在前述光澤調整層中使用的熱塑性樹脂(i)，列舉出高密度聚乙烯、中密度聚乙烯、低密度聚乙烯等乙烯系樹脂；丙烯系樹脂、聚甲基-ι-戊烯、乙烯-環(huán)狀烯烴共聚物等聚烯烴系樹脂； 尼龍_6、尼龍-6，6、尼龍-6，10、尼龍-6，12等聚酰胺系樹脂；聚對苯二甲酸乙二醇酯或其共聚物、聚萘二甲酸乙二醇酯、脂肪族聚酯等熱塑性聚酯系樹脂；聚碳酸酯、無規(guī)立構聚苯乙烯、間同立構聚苯乙烯、聚苯硫醚等熱塑性樹脂。它們也可混合2種以上來使用。它們之中，從使用時的黃化少、耐化學品性、生產成本等觀點出發(fā)，優(yōu)選使用聚烯烴系樹脂，其中更優(yōu)選使用丙烯系樹脂。作為前述丙烯系樹脂，可使用丙烯均聚物；作為主成分的丙烯與乙烯、1-丁烯、 1-己烯、1-庚烯、4-甲基-1-戊烯等α-烯烴的共聚物。前述丙烯系樹脂的立構規(guī)整性沒有特別限制，可使用全同立構或間同立構以及顯示各種程度的立構規(guī)整性的丙烯系樹脂。 另外，前述丙烯系樹脂為共聚物的情況下，可以是2元系也可以是3元系還可以是4元系， 另外可以是無規(guī)共聚物也可以是嵌段共聚物。它們之中，優(yōu)選使用熔點(DSC峰溫度)不足 160°C的聚烯烴系樹脂，具體而言，特別優(yōu)選使用主要包含丙烯的多元系的無規(guī)共聚物。熱塑性樹脂(i)在光澤調整層中的配合量相對于光澤調整層的總量為40 95重量％的范圍，優(yōu)選為50 95重量％、更優(yōu)選為55 90重量％、進一步優(yōu)選為60 90重量％的范圍?！刺盍?ii)>前述光澤調整層中，與前述熱塑性樹脂(i) 一同使用填料(ii)。前述光澤調整層中所使用的填料(ii)，可列舉出各種無機填料或有機填料。作為前述無機填料，可例示出重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣、燒成粘土、滑石、氧化鈦、硫酸鋇、硫酸鋁、二氧化硅、氧化鋅、氧化鎂、硅藻土等。另外，也可例示出上述無機填料經各種表面處理劑處理的表面處理品。其中，如果使用重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣以及它們的表面處理品、粘土、硅藻土，則便宜且拉伸時的空孔形成性好，因此優(yōu)選。進一步優(yōu)選重質碳酸鈣、沉降性碳酸鈣的經各種表面處理劑處理得到的表面處理品。作為前述表面處理劑，例如優(yōu)選樹脂酸、脂肪酸、有機酸、硫酸酯型陰離子表面活性劑，磺酸型陰離子表面活性劑，石油樹脂酸、它們的鈉鹽、鉀鹽、銨鹽等、或它們的脂肪酸酯、樹脂酸酯，蠟，石蠟等；也優(yōu)選非離子系表面活性劑、二烯系聚合物、鈦酸酯系偶聯(lián)劑、硅烷系偶聯(lián)劑、磷酸系偶聯(lián)劑等。作為前述硫酸酯型陰離子表面活性劑，例如列舉出長鏈醇硫酸酯、聚氧乙烯烷基醚硫酸酯、硫酸化油等或者它們的鈉、鉀等鹽；作為磺酸型陰離子表面活性劑，例如列舉出烷基苯磺酸、烷基萘磺酸、石蠟磺酸、α-烯烴磺酸、烷基磺基琥珀酸等或者它們的鈉、鉀等鹽。另外，作為前述脂肪酸，例如列舉出己酸、辛酸、壬酸、癸酸、十一烷酸、月桂酸、肉豆蔻酸、棕櫚酸、硬脂酸、山崳酸、油酸、亞油酸、亞麻酸、桐酸等。作為前述有機酸，例如列舉出馬來酸、山梨酸等。作為前述二烯系聚合物，例如列舉出聚丁二烯、 異戊二烯等。作為前述非離子系表面活性劑，列舉出聚乙二醇酯型表面活性劑等。這些表面處理劑可使用1種或組合2種以上來使用。作為使用了這些表面處理劑的無機填料的表面處理方法，例如可使用日本特開平5-43815號公報、日本特開平5-1397 號公報、日本特開平7-300568號公報、日本特開平10-176079號公報、日本特開平11-256144號公報、日本特開平11-；349846號公報、日本特開2001-158863號公報、日本特開2002-220547號公報、 日本特開2002-363443號公報等中記載的方法。作為前述有機填料，優(yōu)選使用熔點或玻璃化轉變溫度比前述熱塑性樹脂的熔點或玻璃化轉變溫度更高的有機填料(例如，120 300°C )。例如可例示出聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸丁二醇酯、聚酰胺、聚碳酸酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚苯乙烯、三聚氰胺樹脂、環(huán)狀烯烴均聚物、環(huán)狀烯烴與乙烯的共聚物，聚乙二醇硫醚、聚酰亞胺、聚乙基醚酮、聚苯硫醚、丙烯酸系樹脂等。其中，從形成以填料為核的突起的觀點考慮，優(yōu)選使用與優(yōu)選用作前述熱塑性樹脂的聚烯烴系樹脂不相溶的有機填料。前述光澤調整層中，作為前述填料(ii)，優(yōu)選使用可滿足后述的優(yōu)選的范圍的粒徑的無機填料或有機填料，更優(yōu)選使用二氧化硅、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋅、沉降性碳酸鈣、 丙烯酸系樹脂等。從光澤調整的觀點考慮，特別優(yōu)選使用沉降性碳酸鈣或交聯(lián)丙烯酸珠。在前述光澤調整層中，可從無機填料或有機填料之中選擇1種而將其單獨使用， 也可選擇2種來組合使用。在將2種以上組合而使用情況下，可混合有機填料和無機填料而使用。前述光澤調整層中所使用的填料(ii)中使用平均粒徑以及平均分散粒徑為2 20 μ m的填料。優(yōu)選其粒徑為2 15 μ m的填料，更優(yōu)選3 10 μ m的填料，進一步優(yōu)選3 8 μ m的填料，特別優(yōu)選4 7 μ m的填料。前述填料的粒徑為2 μ m以上的情況下，可以使以鈍角入射到反射面的光朝正反射方向的指向性變低、適度地散射，因此可抑制亮度不均的產生。在前述填料的平均粒徑為20 μ m以下的情況下，不易引起表面缺陷等，所獲得的光澤調整層、光反射體的外觀也良好。前述無機填料的平均粒徑以及前述有機填料的平均分散粒徑，例如，可根據(jù)基于麥奇克(Microtrac)法、掃描型電子顯微鏡的一次粒徑的觀察(在本發(fā)明中將100個粒子的平均值為平均粒徑)，通過比表面積換算(在本發(fā)明中使用(株)島津制作所制的粉體比表面積測定裝置SS-100測定比表面積)等來求出。前述填料(ii)在前述光澤調整層的配合量相對于光澤調整層總量為5 60重量％的范圍，優(yōu)選為5 50重量％、更優(yōu)選為10 45重量％、進一步優(yōu)選為10 40重量％的范圍。如果配合量為5重量％以上，那么在光澤調整層中容易形成以填料為核的突起，通過由該突起將以鈍角入射到反射面的光進行散射反射而降低反射的指向性，從而不會過分成為高光澤，存在易于抑制亮度不均的產生的傾向。配合量為60重量％以下的情況下，以銳角入射到反射面的光的指向性變高，存在易于抑制亮度不均的產生的傾向。另外從容易維持表面強度的觀點來看也優(yōu)選。前述光澤調整層通過選擇2種以上的填料而組合來使用的情況下，只要由上述的觀察、換算求出的粒徑滿足本發(fā)明的特征，那么也可包含一定量的平均粒徑不足2μπι的填料。作為這樣的前述光澤調整層中也可包含的平均粒徑不足2 μ m的填料，例如可列舉出平均粒徑0. 2 μ m左右的氧化鈦等。從光反射體的長期使用的耐久性提高的觀點考慮，優(yōu)選含
有氧化鈦。前述光澤調整層中可包含的平均粒徑不足2μπι的填料，相對于前述光澤調整層， 可以0. 1 10重量％來包含，也可更優(yōu)選以0. 2 7重量％、特別優(yōu)選以0. 5 4重量％ 的范圍來包含。
<添加劑>光澤調整層中，也可根據(jù)需要而配合熒光增白劑、穩(wěn)定劑(抗氧化劑)、光穩(wěn)定劑、 分散劑、增滑劑等添加劑。作為前述穩(wěn)定劑，可以以0.001 1重量％來配合立體受阻酚系、磷系、胺系等；作為前述光穩(wěn)定劑，可以以0.001 1重量％來配合立體受阻胺、苯并三唑系、二苯甲酮系等；作為前述無機填料的分散劑，可以以0.01 4重量％來配合硅烷偶聯(lián)劑、油酸或硬脂酸等高級脂肪酸、金屬皂類、聚丙烯酸、聚甲基丙烯酸或它們的鹽等。<光澤調整層的制造方法>光澤調整層的制造方法包含至少向一個方向的拉伸工序，優(yōu)選包含進行縱向拉伸及橫向拉伸的2軸拉伸。在拉伸光澤調整層時，優(yōu)選將后述的基材層、中間層一并拉伸。需要說明的是，本說明書中，縱向拉伸表示向MD (machine direction)方向的拉伸，橫向拉伸表示向正交于MD方向的方向的拉伸。在前述拉伸工序中，可使用一般的1軸拉伸方法、2軸拉伸方法。作為具體實例，列舉出使用連接于螺桿型擠出機的單層或多層的T型模、I型模而將熔融樹脂擠出為片狀， 然后通過利用輥組的圓周速度差的縱向拉伸來進行1軸拉伸的方法，進一步在此后組合了使用有拉幅機烘箱的橫向拉伸的2軸拉伸方法，基于組合拉幅機烘箱與線性電機的同時2 軸拉伸方法等。優(yōu)選將前述拉伸工序中的拉伸溫度設為，高于前述熱塑性樹脂的熔點的溫度。通過在同樣的溫度進行拉伸，從而不會在光澤調整層的表面形成以填料為核的空孔或表面開口，易于形成具有下述的光學特征的表面凹凸(突起)，降低以鈍角入射到反射面的光的指向性，可抑制亮度不均的產生?！磳雍瘛稻凸夥瓷潴w的光澤調整層的層厚而言，從基于掃描型電子顯微鏡的光反射體的剖面照片中觀察50個不同的部位，將根據(jù)觀察到的層厚和倍率而算出的該層的最厚部分作為光澤調整層的層厚。前述光澤調整層的層厚為2 20 μ m的范圍，優(yōu)選該厚度為2 15 μ m，更優(yōu)選為 2 6 μ m。如果為2 μ m以上，那么在前述光澤調整層中可配合具有充分大的平均粒徑的填料，也沒有填料的脫落，易于抑制亮度不均的產生。如果為20 μ m以下，那么易于通過配合于前述光澤調整層的填料形成表面凹凸(突起)，可降低以鈍角入射到反射面的光的指向性，可抑制亮度不均的產生。光澤調整層的層厚優(yōu)選為光澤調整層中所含的填料的平均粒徑的1 6倍，更優(yōu)選為1 3倍，進一步優(yōu)選為1 1. 5倍。如果光澤調整層的層厚為填料的平均粒徑的6 倍以下，那么從易于獲得規(guī)定的光澤度比的觀點考慮而優(yōu)選。另外，根據(jù)上述的層厚的測定方法，由于光澤調整層的層厚為與填料的平均粒徑同等以上的值，因此下限值為1倍。〈平均斜率Aa>光反射體的光澤調整層的表面的平均斜率Aa是，通過使用三維粗糙度計(株式會社小坂研究所制SPA-11)測定該光反射體的表面粗糙度，從測定數(shù)據(jù)并根據(jù)下述式(3) 來計算從而求出的值。[數(shù)學式2]
在上式中，I^tvh3……h(huán)n為相鄰的凹凸部間的高低差，L為測定長度(圖8)。平均斜率Aa是表示光反射體的光澤調整層的表面的凸結構的大小、頻率這樣的形狀特征的參數(shù)，該數(shù)值越小則表示凸結構的頻率越少，越大則表示凸結構的頻率越多。這樣的特定的表面形狀可通過如下來實現(xiàn)作為最外層的光澤調整層為包含該熱塑性樹脂 (i)和平均粒徑2 20 μ m的填料(ii)5 60重量％、并且至少被單軸拉伸的層厚為2 20 μ m的層，并且在該層中該填料(ii)形成被該熱塑性樹脂(i)所覆蓋的突起。優(yōu)選光反射體的光澤調整層的表面的平均斜率Aa為0. 02 0. 2。更優(yōu)選該值為0.03 0. 15，進一步優(yōu)選為0.04 0. 1，特別優(yōu)選為0.04 0.06。如果該值在0. 02 0.2的范圍內，則同樣地，可獲得權利要求所規(guī)定的45°光澤度、光澤度比，在安裝到面光源裝置時亮度不均勻容易被改善?！垂鉂啥取倒夥瓷潴w的45°光澤度為通過使用數(shù)字變角光澤度計(Suga Test Instruments Co.，Ltd.制UGV-5DP)，按照JIS-Z8741的方法4記載的方法，測定入射角45°的鏡面光澤度的值。45°光澤度為觀測以銳角入射到反射面的光的反射的光澤度，光反射體的45°光澤度為10 80%。該值優(yōu)選為15 70%，更優(yōu)選為20 50%，進一步優(yōu)選為21 45%。 如果該值為10%以上，那么以銳角入射到反射面的光的指向性充分高，可抑制亮度不均的產生。另外，如果45°光澤度為80%以下，那么也產生散射反射的效果，可抑制由光反射體的撓曲等導致的亮度不均(由鏡面反射導致)的產生。在將以往的光反射體安裝到圖2所示那樣的面光源裝置時，源自光源(例如，冷陰極燈13)的直接光根據(jù)距離光源的距離而逐漸衰減，因而在散射板上在遠離了光源的部位產生暗部15(圖4)。因此，在光源近旁便產生亮線14，產生亮度不均。與此相對，本發(fā)明的光反射體可將從傾斜方向入射的光之中的以某種程度的鈍角入射的入射光散射，將以某種程度的銳角入射的入射光進行正反射。因此，如果將本發(fā)明的光反射體安裝到圖2所示那樣的面光源裝置，那么從光源(例如，冷陰極燈13)發(fā)出由本發(fā)明的光反射體11反射的反射光被控制為圖5所示的30度 50度的反射光16 18朝正反射方向的指向性變高；其它的角度的反射光(例如，60度的反射光19、70度的反射光20)為漫反射因而朝正反射方向的指向性變低。其結果，可將圖4所示的由冷陰極燈13的直接光所產生的朝向散射板暗部15的反射光匯聚，相反地可使朝向散射板亮線部14的反射光不匯聚。即，可解決由直接光導致的亮度不均。這樣的本發(fā)明的原理，與以往針對于全部的入射角來提高反射光的指向性、提高光散射板整體的亮度從而使亮度不均不顯眼的方法不同。本發(fā)明的光反射體的85°光澤度為，通過使用便攜式85°光澤度計(DR LANGE 制LMG06!3)測定入射角85°的鏡面光澤度得到的值。85°光澤度為觀測以鈍角入射到反射面的光的反射的參數(shù)，優(yōu)選本發(fā)明的光反射體的85°光澤度為1 40%。更優(yōu)選該值為 1 30%，進一步優(yōu)選為1 15%，進一步更優(yōu)選為1 10%，特別優(yōu)選為1 6%。該值越低越好，但是如果為以上那么測定精度具有可靠性。另外如果該值為40%以下，那么以鈍角入射到反射面的光的指向性充分低，容易抑制亮度不均的產生。
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〈光澤度比〉本發(fā)明的光反射體為由前述測定的45°光澤度以及85°光澤度根據(jù)前述式(1) 算出的光澤度比為2 25的范圍的光反射體。該值優(yōu)選為4 20的范圍，進一步優(yōu)選為 5. 5 18的范圍。如果光澤度比為2以上，那么以鈍角入射到反射面的光的指向性不會變得過高，可抑制亮度不均的產生。光澤度比為25以下的情況下，在直下型背光源中冷陰極燈的正上方也變得足夠亮，可抑制亮度不均的產生。光澤度比可通過調整光澤調整層的厚度、填料的平均粒徑、填料的含量等來控制。例如，通過使用具有某種程度的平均粒徑的填料(例如4μπι以上)，或者提供以60重量％以下的量來使用平均粒徑比較小的填料(例如 3ym以下)并將光澤調整層的厚度調整為與填料平均粒徑同程度等，從而可將光澤度比調整為本發(fā)明的范圍內。(3)基材層本發(fā)明的光反射體優(yōu)選由層疊體構成，所述層疊體通過在基材層的至少單面(光反射面)上層疊前述光澤調整層作為最外層而形成。本發(fā)明的光反射體中的基材層是在內部具有許多細微的孔隙的層，通過該空孔有效地將入射光反射到入射面?zhèn)葟亩鴮崿F(xiàn)光反射體的高反射率，另外在前述光澤調整層的拉伸成型時，作為支撐體，基材層具有輔助穩(wěn)定且均勻的拉伸的作用。因此，優(yōu)選的是，前述基材層也與光澤調整層同樣地，為包含熱塑性樹脂和填料、 且至少被單軸拉伸的樹脂拉伸薄膜。然而，基材層不同于光澤調整層，由于優(yōu)選在內部形成許多細微且形狀為均勻的空孔，因此作為前述基材層中的前述填料，優(yōu)選以5 75重量％ 包含平均粒徑為0. 05 1. 5 μ m的無機填料和平均分散粒徑0. 05 1. 8 μ m的有機填料之中的至少一者。進一步在前述層疊體中，為了在光澤調整層中幾乎完全不形成空孔、而在基材層中選擇性地形成空孔，因而在層疊兩層之后，在高于光澤調整層的熱塑性樹脂(i)的熔點、 且低于基材層的熱塑性樹脂(iii)的熔點及玻璃化轉變溫度的至少一者的溫度下進行拉伸而獲得光反射體，這是有效率的。因此，用于光澤調整層的熱塑性樹脂和用于基材層的熱塑性樹脂，優(yōu)選有意圖地使用具有不同的熔點乃至玻璃化轉變溫度的熱塑性樹脂?！礋崴苄詷渲?iii)>前述基材層中所使用的熱塑性樹脂(iii)的種類不受特別限制。作為可使用于前述基材層中的熱塑性樹脂(iii)，可使用與前述的熱塑性樹脂(i)所例示的物質同樣的物質。它們之中，從使用時的黃化少、耐化學品性、生產成本等觀點出發(fā)，優(yōu)選使用聚烯烴系樹脂，其中更優(yōu)選使用丙烯系樹脂。作為前述丙烯系樹脂，可使用丙烯均聚物；作為主成分的丙烯與乙烯、1-丁烯、 1-己烯、1-庚烯、4-甲基-1-戊烯等α-烯烴的共聚物。前述丙烯系樹脂的立構規(guī)整性沒有特別限制，可使用全同立構或間同立構以及顯示各種程度的立構規(guī)整性的丙烯系樹脂。 另外，前述丙烯系樹脂為共聚物的情況下，可以是2元系也可以是3元系還可以是4元系， 另外可以是無規(guī)共聚物也可以是嵌段共聚物。它們之中，優(yōu)選使用熔點(DSC峰溫度)以及玻璃化轉變溫度之中至少一者為160°C以上的聚烯烴系樹脂，具體而言，特別優(yōu)選使用丙烯均聚物。這樣的熱塑性樹脂在基材層中，優(yōu)選以25 95重量％來使用，更優(yōu)選以30 90重量％來使用，進一步優(yōu)選以40 85重量％來使用。如果基材層中的熱塑性樹脂的含量為25重量％以上，那么在后述的層疊膜的拉伸成型時存在不易在表面產生損傷的傾向；如果為95重量％以下，那么存在容易獲得充分的空孔數(shù)的傾向。構成前述基材層的主要的樹脂為丙烯系樹脂的情況下，為了改良拉伸性，可以配合相對于前述基材層整體為3 25重量％的聚乙烯、乙烯乙酸乙烯酯等熔點低于丙烯系樹脂的樹脂?！刺盍?iv)>前述基材層中，使用前述熱塑性樹脂(iii)以及填料。作為前述基材層中所使用的填料(iv)，可使用與前述的填料(ii)所例示的物質同樣的物質。它們之中，優(yōu)選使用沉降性碳酸鈣。另外，在使用有機填料的情況下，使用熔點或玻璃化轉變溫度比優(yōu)選用作熱塑性樹脂(iii)的聚烯烴系樹脂高、且與聚烯烴系樹脂不相溶的有機填料，這從適宜進行基材層中的空孔形成的觀點考慮是優(yōu)選的。在前述基材層中，為了調整通過后面詳細敘述的拉伸成型而產生的空孔尺寸，優(yōu)選添加于前述基材層中的前述無機填料的平均粒徑為0. 05 1. 5μπι的范圍，更優(yōu)選為 0. 1 1 μ m的范圍，前述有機填料的平均分散粒徑優(yōu)選為0. 05 1. 8 μ m的范圍，更優(yōu)選為 0. 1 1. 5 μ m的范圍。它們可單獨使用也可混合來使用。如果使用平均粒徑為1. 5 μ m以下的無機填料或平均分散粒徑為1.8μπι以下的有機填料，那么易于形成細微的空孔，使用了本發(fā)明的光反射體的面光源裝置有亮度變高的傾向。另外，如果使用平均粒徑或平均分散粒徑為0. 05 μ m以上的填料，那么容易獲得空孔，使用了本發(fā)明的光反射體的面光源裝置存在亮度變高的傾向。另外，為了調整通過后面詳細敘述的層疊體的拉伸成型而產生的空孔量，添加于前述基材層中的前述填料優(yōu)選在基材層中以5 75重量％的濃度來使用，更優(yōu)選以10 70重量％的濃度來使用，進一步優(yōu)選以15 60重量％的濃度來使用。如果基材層中填料的含量為5重量％以上，那么存在容易獲得充分的空孔數(shù)的傾向；如果為75重量％以下，那么存在不易在表面產生損傷的傾向?！磳雍瘛当景l(fā)明的光反射體的基材層的層厚通過與前述光澤調整層同樣的技術來算出。前述基材層的層厚優(yōu)選為30 1000 μ m,更優(yōu)選為40 400 μ m,進一步優(yōu)選為50 300 μ m。 前述基材層可以為單層結構，也可以為多層結構。(4)中間層在本發(fā)明的光反射體中，除了根據(jù)入射光的入射角而調整光澤度的光澤調整層、 確保反射率的基材層之外，還可設置中間層。中間層，例如出于賦予光反射體以強度、剛度、 尺寸穩(wěn)定性等其它性能的目的而設置。中間層可使用與基材層中使用的同樣的熱塑性樹脂。另外，前述中間層可含有填料，前述中間層中所含的前述填料的配合量為0 60重量％、優(yōu)選為0 40重量％、更優(yōu)選為0 20重量％、特別優(yōu)選為0 10重量％的范圍。另外前述填料也可使用與基材層中使用的物質同樣的物質。前述中間層的層厚優(yōu)選為1 μ m以上，更優(yōu)選為2 30 μ m，進一步優(yōu)選為3 20 μ m。通過設為1 μ m以上，從而光反射體的表面強度提高，加工適應性提高。
(5)光反射體的層結構優(yōu)選本發(fā)明的光反射體包含前述光澤調整層和前述基材層。另外，進一步也可具有層疊了其它層的結構。具體而言，也可具有在基材層的兩面層疊了光澤調整層的結構。另外，也可在基材層的、與光澤調整層接觸面相反的面?zhèn)?，或在基材層與光澤調整層之間，具有中間層。S卩，作為本發(fā)明的光反射體的優(yōu)選的層結構，可例示出具有如下等結構的光反射體光澤調整層/基材層(參照圖1 (a))光澤調整層/基材層/光澤調整層光澤調整層/基材層/中間層光澤調整層/中間層/基材層(參照圖1 (b))光澤調整層/中間層/基材層/光澤調整層光澤調整層/中間層/基材層/中間層/光澤調整層。需要說明的是，本說明書中的層疊的形式，在設置于面光源裝置時，左側表示成為光反射面的側的層，右側表示不成為反射面的側的層。即，如果光反射體為光澤調整層/基材層/中間層的結構，那么表示光澤調整層成為反射面。(6)光反射體的制造方法本發(fā)明的光反射體包含前述基材層而成?？赏ㄟ^使用擠出機將各個層用的組合物進行熔融混煉，從擠出機將熔融物擠出為片狀，在冷卻輥上將該熔融物冷卻、固化而獲得各層。另外，作為它們的層疊體的光反射體的制造方法可列舉出使用多層T型模、I型模而共擠出熔融原料，將所獲得的層疊體拉伸成型而制造的方法。另外，前述基材層為2軸拉伸的情況下，可在層疊之后進行2軸拉伸，但是也可列舉出在基材層的1軸方向的拉伸結束了之后擠出貼合光澤調整層的熔融原料，進一步對此層疊體進行1軸拉伸成型從而制造的方法。前述光澤調整層通過被拉伸而形成，從而前述優(yōu)選的粒徑的填料突出于光反射體表面，可在光反射體表面形成用于滿足本發(fā)明的光反射體的特性的表面凹凸(或突起)。通過如此地拉伸而在光反射體形成突起，從而生產率比直接在反射面涂布玻璃珠的情況更高， 另外，可在基材表面均勻地形成表面凹凸，優(yōu)選。前述中間層的形成方法與前述光澤調整層的形成方法相同。進一步，在前述光澤調整層的形成方法之外，還可列舉出在將前述基材層拉伸成型而獲得之后、將中間層的原料樹脂直接、或借助于易粘接層而擠出，貼合于前述基材層而形成的方法等。為了調整層疊體中產生的空孔的大小，優(yōu)選將基材層的面積拉伸倍率設為1. 3 80倍的范圍，更優(yōu)選設為7 70倍的范圍，特別優(yōu)選設為22倍 65倍，最優(yōu)選設為25 60倍。如果面積拉伸倍率為1.3 80倍的范圍內，則容易獲得細微的空孔，也容易抑制反射率的降低。需要說明的是，本說明書中，面積拉伸倍率是指，以縱向拉伸倍率X橫向拉伸倍率所示的倍率。另外，光澤調整層的優(yōu)選的面積拉伸倍率與前述基材層的優(yōu)選的面積拉伸倍率相同。如果面積拉伸倍率在1. 3 80倍的范圍內，則由填料的突出導致的突起容易形成。包含前述光澤調整層和前述基材層的層疊體在層疊兩層之后進行拉伸時的拉伸溫度優(yōu)選設為高于前述熱塑性樹脂(i)的熔點、且低于前述熱塑性樹脂(iii)的熔點及玻璃化轉變溫度之中至少一者的溫度。通過設為上述條件而使光澤調整層形成了以填料為核的突起，在基材層中形成了以填料為核的孔隙。優(yōu)選該拉伸溫度為在比所使用的熱塑性樹脂⑴的熔點低5°C的溫度至高35°C 的溫度范圍，且比所使用的熱塑性樹脂(iii)的熔點低2 60°C、比所使用的熱塑性樹脂 (iii)的玻璃化轉變溫度高2 60°C高的溫度。具體而言，在所使用的熱塑性樹脂⑴為聚丙烯系無規(guī)共聚物(熔點130 1450C )、熱塑性樹脂(iii)為丙烯均聚物(熔點155 167°C )之時，優(yōu)選為125 165°C。 需要說明的是，熔融擠出熱塑性樹脂的情況下，優(yōu)選在冷卻、固化之后再加熱至上述拉伸溫度進行拉伸。另外，優(yōu)選前述拉伸工序中的拉伸速度為20 350m/分鐘。獲得的樹脂拉伸膜，亦可根據(jù)需要進行熱處理(退火處理)，謀求結晶化的促進、 層疊膜的熱收縮率減低等。另外，可根據(jù)需要而切掉所獲得的層疊體的織邊(selvages)，從而制成光反射體。(7)光反射體的性狀〈孔隙率〉在包含前述光澤調整層和前述基材層的本發(fā)明的光反射體中，各個層具有不同的孔隙率，優(yōu)選前述光澤調整層中的孔隙率為0 4%且前述基材層中的孔隙率為15 75%，更優(yōu)選前述光澤調整層中的孔隙率為0 2%且前述基材層中的孔隙率為30 60%。本發(fā)明的光反射體的各層中的孔隙率如下求出按照不壓碎該光反射體的空孔的方式冷卻并切削，從而制成厚度方向剖面(觀察面)，貼附于觀察試樣臺，在該觀察面上蒸鍍金并使用掃描型電子顯微鏡(裝置名“掃描電子顯微鏡SM-200”，T0PC0N(株)制)并且以容易觀察的任意倍率(500倍 3000倍)來觀察各層的空孔。進一步將觀察到的區(qū)域獲取作為圖像數(shù)據(jù)，利用圖像解析裝置(裝置名“小型通用圖像解析裝置=LraEX AP",Nireco Corporation制)對該圖像進行圖像處理，求出空孔的面積率，作為孔隙率?！疵芏取禐榱苏{整光反射體中產生的空孔的每單位體積的量，本發(fā)明的光反射體密度優(yōu)選為0. 3 1. 2g/cm3,更優(yōu)選為0. 4 1. Og/cm3。如果密度為0. 3g/cm3以上，那么基材的空孔數(shù)不會過多，基材強度充分，在施工時不易發(fā)生折斷、皺折。如果密度為1.2g/cm3以下， 那么基材的空孔數(shù)充分，反射率變高而優(yōu)選。需要說明的是，此處所言的基材，除了前述的基材層之外，還可包含光澤調整層、中間層?！瓷顚τ诒景l(fā)明的光反射體，在83°C、相對濕度50%的環(huán)境條件下，由設置于距離光反射體IOcm的位置的金屬鹵化物燈以照射強度90mW/cm2的紫外線照射100小時前后，由上述式(2)所示的色差八&為0 10，更優(yōu)選為0 5，進一步優(yōu)選為0 3，特別優(yōu)選為 0 1。八&為10以下的情況下，長時間使用中不發(fā)生反射體的變色，可以抑制亮度降低， 抑制亮度不均的產生。此特點主要可以通過在構成光反射體的熱塑性樹脂中使用聚烯烴系樹脂，配合熒光增白劑、光穩(wěn)定劑作為添加劑來實現(xiàn)。〈反射率〉
本發(fā)明的光反射體的光澤調整層表面的、以波長550nm測定的波長的反射率優(yōu)選為90%以上。更優(yōu)選前述反射率為95%以上，特別優(yōu)選為97%以上。如果反射率為90% 以上，那么在安裝到面光源裝置中時，由本發(fā)明所控制的針對于特定的入射光的反射光所導致的亮度變高，易于改善亮度不均。此特點可通過使基材層在內部包含多個空孔，并具有上述的孔隙率來實現(xiàn)。(8)光反射體的利用本發(fā)明的光反射體可利用于內置式光源的液晶顯示裝置，或者意圖不使用內置式光源而反射室內光的低消耗電力型的顯示裝置。另外，也可廣泛利用于室內外照明用、電飾招牌用光源的背面。[滿足< 條件2>的光反射體](1)光反射體的結構的特征滿足 < 條件2>的光反射體的特征在于，其為在基材層上設置有包含填料的涂布層的涂布膜，通過在該涂布層表面形成以填料為核的突起，從而使該涂布層表面的平均斜率 Aa為0. 04 0.2，由上述式(1)算出的光澤度比為2 25，且反射率為90%以上。以下，參照滿足 < 條件2>的光反射體的優(yōu)選實施方式進行具體說明。(2)基材層基材層是用于設置涂布層的支撐體，其有效地將入射光反射到入射面?zhèn)葟亩鴮崿F(xiàn)光反射體的反射率。因此，如果基材層是可用作涂布支撐體并且可使光反射體的反射率為90%以上的基材層，那么就沒有特別限定，但優(yōu)選為包含熱塑性樹脂和填料、至少在單軸方向被拉伸的樹脂拉伸膜。它們可以與 < 條件1>中所敘述的基材層同樣?！礋崴苄詷渲登笆龌膶又兴褂玫臒崴苄詷渲姆N類不受特別限制。作為可使用于前述基材層的熱塑性樹脂，可列舉出作為上述的熱塑性樹脂(iii)而例示的物質。在基材層中，熱塑性樹脂優(yōu)選以25 95重量％來使用，更優(yōu)選以30 90重量％ 來使用。如果基材層中的熱塑性樹脂的含量為25重量％以上，那么在后述的層疊膜的拉伸成型時存在不易在表面產生損傷的傾向；如果為95重量％以下，那么可以獲得充分的空孔數(shù)而存在容易獲得高光澤的傾向。〈填料〉前述基材層中，優(yōu)選與熱塑性樹脂一同使用填料。作為前述基材層中所使用的填料，可列舉出各種無機填料、有機填料。作為無機填料、表面處理劑、有機填料，可列舉出 作為上述的填料(ii)而例示的物質。作為有機填料，使用熔點或玻璃化轉變溫度比優(yōu)選用作前述熱塑性樹脂的聚烯烴系樹脂更高、且與聚烯烴系樹脂不相溶的有機填料，這從適宜進行后述的基材層中的空孔形成的觀點考慮而優(yōu)選。在前述基材層中，可從無機填料或有機填料之中選擇1種而將其單獨使用，也可選擇2種來組合使用。在將2種以上組合使用的情況下，可混合有機填料和無機填料而使用。在后述的基材層的制造方法中，為了調整通過拉伸成型產生的空孔尺寸，前述基材層中添加的前述無機填料的平均粒徑優(yōu)選為0. 05 1. 5μπι的范圍，更優(yōu)選為0. 1 1 μ m的范圍，前述有機填料的平均分散粒徑優(yōu)選為0. 05 1. 8 μ m的范圍，更優(yōu)選為0. 1 1.5μπι的范圍。如果使用平均粒徑為1.5μπι以下的無機填料或平均分散粒徑為1.8μπι 以下的有機填料，那么存在使用了本發(fā)明的光反射體的面光源裝置的亮度變高的傾向。另外，如果使用平均粒徑或平均分散粒徑為0. 05 μ m以上的填料，那么容易獲得空孔，使用了本發(fā)明的光反射體的面光源裝置存在亮度變高的傾向。在后述的基材層的制造方法中，為了調整通過拉伸成型所產生的空孔量，前述基材層中添加的前述填料的配合量優(yōu)選為5 75重量％，更優(yōu)選為10 70重量％的范圍。 如果前述基材層中添加的前述填料的配合量為5重量％以上，那么存在易于獲得充分的空孔數(shù)的傾向。另外，如果前述基材層中添加的前述填料的配合量為75重量％以下，那么存在更不易在表面發(fā)生損傷的傾向?！椿膶拥闹圃旆椒ā翟诨膶訛榘瑹崴苄詷渲吞盍?、至少在單軸方向被拉伸的樹脂拉伸薄膜的情況下，基材層可以如下獲得使用擠出機將該層用的樹脂組合物熔融混煉，從擠出機將熔融物擠出為片狀，在冷卻輥上將該熔融物冷卻、固化而獲得樹脂片，然后使其經過公知的拉伸工序從而獲得?；膶拥闹圃旆椒ǎ瑑?yōu)選包含至少在單軸方向的拉伸工序，更優(yōu)選包含進行縱向拉伸及橫向拉伸的2軸拉伸。在前述拉伸工序中，可使用一般的1軸拉伸方法、2軸拉伸方法。作為具體實例列舉出使用連接于螺桿型擠出機的單層或多層的T型模、I型模而將熔融樹脂擠出為片狀， 然后通過利用了輥組的圓周速度差的縱向拉伸來進行1軸拉伸的方法；以及此后進一步組合了使用有拉幅機烘箱的橫向拉伸的2軸拉伸方法；基于組合拉幅機烘箱和線性電機的同時2軸拉伸方法等。另外前述基材層不僅可以為單層結構，而且也可以為具有2層以上的層的多層結構。作為這些層疊體的基材層的制造方法，列舉出使用多層T型模、I型模而共擠出各個熔融原料，將所獲得的層疊體進行拉伸成型而制造的方法。另外，前述基材層為2軸拉伸的情況下，可在全部層疊之后進行2軸拉伸，但是也可列舉出在任意的層的1軸方向的拉伸(例如縱向拉伸)結束之后將其它層的熔融原料擠出貼合而制成層疊體，進一步將其在另一軸方向進行拉伸(例如橫向拉伸)，從而制造僅有任意的層被2軸拉伸了的基材層的方法。為了調整基材層中產生的空孔的大小，優(yōu)選將基材層的面積拉伸倍率設為1. 3 80倍的范圍，更優(yōu)選設為7 70倍的范圍，特別優(yōu)選設為22倍 65倍，最優(yōu)選設為25 60倍。如果面積拉伸倍率在1.3 80倍的范圍內，則容易獲得微細的空孔，也容易抑制反射率的降低。需要說明的是，本說明書中，面積拉伸倍率是指，以縱向拉伸倍率X橫向拉伸倍率表示的倍率。優(yōu)選將前述基材層拉伸時的拉伸溫度設為，低于前述熱塑性樹脂的熔點及玻璃化轉變溫度之中至少一者的溫度。通過設為該溫度條件從而在基材層形成了以填料為核的孔隙(空隙)。優(yōu)選該拉伸溫度為，比所使用的熱塑性樹脂的熔點低2 60°C的溫度，比玻璃化轉變溫度高2 60°C的溫度。
具體而言，在所使用的熱塑性樹脂為丙烯均聚物(熔點155 167°C )時，優(yōu)選為 95 165°C;在所使用的熱塑性樹脂為聚對苯二甲酸乙二醇酯(玻璃化轉變溫度約70°C ) 時，優(yōu)選為100 130°C。需要說明的是，熱塑性樹脂被熔融擠出的情況下，優(yōu)選在冷卻、固化之后再加熱至上述拉伸溫度而進行拉伸。另外，優(yōu)選前述拉伸工序中的拉伸速度為20 350m/mino獲得的樹脂拉伸膜也可根據(jù)需要而進行熱處理(退火處理)，謀求結晶化的促進、 層疊膜的熱收縮率減低等。另外，可根據(jù)需要而切掉獲得的層疊體的織邊，從而制成基材層。(3)涂布層涂布層通過涂布于基材層上而設置，通過調整入射光的光澤度而實現(xiàn)光反射體的亮線防止。該涂布層包含填料，優(yōu)選包含填料及粘合劑用樹脂。其特征在于，通過在該涂布層表面形成以填料為核的突起，從而使該涂布層表面的平均斜率Aa為0. 04 0. 2，由上述式 (1)算出的光澤度比為2 25，且反射率為90%以上。< 填料 >作為前述涂布層中所使用的填料，優(yōu)選使用可滿足后述的優(yōu)選的范圍的粒徑的無機填料或有機填料。作為無機填料的具體實例，更優(yōu)選使用二氧化硅、氧化鋁、氧化鎂、氧化鋅、沉降性碳酸鈣等；作為有機填料的具體實例，更優(yōu)選使用丙烯酸系樹脂、苯乙烯系樹脂、 聚氨酯系樹脂等。它們之中，從表面突起的形成性、以及基于表面突起的平均斜率Aa的調整、光澤調整的容易度的觀點考慮，特別優(yōu)選使用沉降性碳酸鈣或交聯(lián)丙烯酸珠。另外前述涂布層中所使用的填料的平均粒徑優(yōu)選為4 30 μ m，更優(yōu)選為4 20 μ m,進一步優(yōu)選為4 15 μ m，特別優(yōu)選為4 10 μ m。如果前述填料的粒徑為4 μ m以上，那么可以使以鈍角入射到反射面的光朝正反射方向的指向性變低，可以適度地散射，因此存在易于抑制亮度不均的產生的傾向。如果前述填料的平均粒徑為30μπι以下，那么存在如下傾向不易成為由摩擦引起的填料脫落等所導致的表面缺陷等產生的原因，所獲得的涂布層、光反射體以及使用了該光反射體的面光源裝置的外觀也易于變良好。在本發(fā)明的光反射體中，為了形成期望的突起的密度而調整平均斜率Aa，前述涂布層中的前述填料的配合量優(yōu)選在干燥后為2 40重量％，更優(yōu)選為3 30重量％，特別優(yōu)選為4 14重量％的范圍。配合量為2重量％以上的情況下，存在如下傾向適度地形成突起而不會過分成為高光澤，可以降低以鈍角入射到反射面的光的指向性，易于抑制亮度不均的產生。配合量為40重量％以下的情況下，也可適度地確保平坦面，因而存在如下傾向以銳角入射到反射面的光的指向性變高，易于抑制亮度不均的產生。另外從可充分維持表面強度的觀點考慮亦優(yōu)選。<粘合劑用樹脂>在前述涂布層中，作為與前述填料一同涂布于基材層上而固定填料的粘合劑用樹脂，列舉出包含丙烯酸系樹脂、聚氨酯系樹脂、醚系樹脂、酯系樹脂、環(huán)氧系樹脂、橡膠系樹脂，有機硅系樹脂，ABS系樹脂等的樹脂成分。使用以往公知的溶劑，使它們在該溶劑相之中溶解、分散、乳濁分解、稀釋，而制成具有流動性并可涂布的溶液型、乳液型的狀態(tài)的涂布劑，從而便可在基材層上進行涂布。
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<其它成分>在涂布劑中也可根據(jù)需要而配合熒光增白劑、抗氧化劑、光穩(wěn)定劑等添加劑。作為前述熒光增白劑，可配合苯并噁唑系、香豆素系、苯乙烯聯(lián)苯系、吡唑啉酮系增白劑；作為前述抗氧化劑，可配合立體受阻酚系、磷系、胺系等抗氧化劑；作為前述光穩(wěn)定劑，可配合立體受阻胺、苯并三唑系、二苯甲酮系等光穩(wěn)定劑?！赐坎紝拥闹圃旆椒ā稻屯坎紝拥闹圃旆椒ǘ?，使用模涂機、刮棒涂布機、簾涂布機、凹版涂布機、噴霧涂布機、刀片涂布機、逆轉涂布機、氣刀涂布機、浸漬涂布機、擠壓式涂布機、滑動漏斗涂布機(slide hopper coater)等設備，在基材層的單面或兩面上涂布包含涂布層成分的涂布劑，其后根據(jù)需要而進行平滑處理，經過干燥工序或固化工序而將粘合劑用樹脂進行固化干燥從而成膜。前述涂布層通過涂布而形成，從而可使前述優(yōu)選的粒徑的填料突出于光反射體表面，在光反射體表面形成用于滿足本發(fā)明的光反射體的特性的表面凹凸(或突起)。前述涂布層的基重優(yōu)選在干燥后為2 20g/m2的范圍，更優(yōu)選為2 15g/m2的范圍，進一步優(yōu)選為2 6g/m2的范圍。如果為2g/m2以上，那么前述涂布層中配合的填料也充分大，便易于抑制亮度不均的產生。為20g/m2以下的情況下，前述涂布層中配合的填料不會被粘合劑用樹脂埋沒而易于形成表面凹凸(突起)、降低以鈍角入射到反射面的光的指向性，可抑制亮度不均的產生。前述涂布層的基重通過上述涂布設備的涂布量來調整，以按照JIS-P81M而測定出的光反射體的基重與基材層的基重之差的形式而求出?！雌骄甭蔄a>涂布層表面的平均斜率Aa為0. 04 0. 2。該值優(yōu)選為0. 04 0. 15，更優(yōu)選為 0.04 0.1。如果該值在0.04 0.2的范圍內，則可以獲得權利要求所規(guī)定的45°光澤度、以及光澤度比，在安裝到面光源裝置時易于改善亮度不均。這樣的特定的表面形狀通過使作為最外層的涂布層包含填料、該填料形成突起從而實現(xiàn)。平均斜率Aa可通過調整在形成涂布層時使用的涂布液中包含的填料的種類、配合量、涂布層的基重等來控制。(4)光反射體的性狀和利用關于滿足 < 條件2>的光反射體的光澤度、光澤度比、反射率、利用，可參照滿足< 條件1>的光反射體的對應的記載。需要說明的是，滿足〈條件2>的光反射體的85°光澤度優(yōu)選為1 40%，更優(yōu)選為1 30%，進一步優(yōu)選為1 15%，特別優(yōu)選為1 8%。[面光源裝置]本發(fā)明的面光源裝置的特征在于，使用本發(fā)明的光反射體。本發(fā)明的面光源裝置可優(yōu)選用作側光方式、直下型燈方式等的面光源裝置。其中在直下型燈方式的面光源裝置方面極其有用。作為本發(fā)明的面光源裝置，例如可列舉出液晶電視等液晶顯示裝置。本發(fā)明的直下型燈方式的液晶顯示裝置(液晶電視等)，可具有例如圖2所示那樣的結構，可將從全方向入射于光反射體的光效率良好地向相對于光反射體為直角的方向進行反射。由此，亮度高并且沒有亮度不均，可賦予看到液晶顯示裝置的人以自然感。實施例以下記載實施例、比較例以及試驗例，從而進一步具體說明本發(fā)明。以下所示的材料，用量、比例、操作等，只要不脫離本發(fā)明的宗旨則可適當變更。因此，本發(fā)明的范圍不受限于以下所示的具體實例。[使用材料]首先，在本實施例和比較例中使用的材料示于表1。表1中，對于填料(a)、填料 (f)以及填料(i)，使用掃描型電子顯微鏡并以3000倍實施觀察，將100個填料粒子的粒徑 (長徑)的平均作為平均粒徑或平均分散粒徑。另外，對于填料(b)以及填料(e)，使用日機裝株式會社制造的麥奇克HRA作為粒度分析計而進行粒度分布的測定，將相對于全填料重量為50%重量的粒徑作為平均粒徑。需要說明的是，對于填料(C)、填料(d)、填料(g)、 填料(h)以及TiO2，分別使用了平均粒徑已調整完的填料，參照了目錄數(shù)據(jù)。表權利要求
1.一種光反射體，其為在基材層上設置有光澤調整層作為最外層的光反射體，所述光澤調整層表面的45°光澤度為10 80%，由下述式(1)所示的光澤度比為2 25，且滿足下述 < 條件1>或下述 < 條件2>，[數(shù)學式1]
2.根據(jù)權利要求1所述的光反射體，其特征在于，其滿足所述< 條件1>。
3.根據(jù)權利要求2所述的光反射體，其特征在于，所述光澤調整層的表面的平均斜率 Aa 為 0. 02 0. 2。
4.根據(jù)權利要求2或3所述的光反射體，其特征在于，所述光澤調整層在高于所述熱塑性樹脂⑴的熔點的溫度被拉伸。
5.根據(jù)權利要求2 4中的任一項所述的光反射體，其特征在于，所述熱塑性樹脂⑴ 主要包含熔點不足160°C的聚烯烴系樹脂。
6.根據(jù)權利要求2 5中的任一項所述的光反射體，其特征在于，所述光澤調整層包含 10 40重量％的平均粒徑2 20 μ m的填料(ii)。
7.根據(jù)權利要求2 6中的任一項所述的光反射體，其特征在于，其由包含基材層和所述光澤調整層的層疊體形成，所述基材層含有熱塑性樹脂(iii)和填料(iv)并且至少被單軸拉伸。
8.根據(jù)權利要求7所述的光反射體，其特征在于，所述熱塑性樹脂(iii)主要包含熔點及玻璃化轉變溫度之中至少一者為160°C以上的聚烯烴系樹脂。
9.根據(jù)權利要求7或8所述的光反射體，其特征在于，作為所述基材層中的所述填料(iv)，以5 75重量％包含平均粒徑為0. 05 1. 5 μ m的無機填料和平均分散粒徑為0.05 1. 8 μ m的有機填料之中的至少一者。
10.根據(jù)權利要求7 9中的任一項所述的光反射體，其特征在于，所述基材層的反射率為90%以上。
11.根據(jù)權利要求7 10中的任一項所述的光反射體，其特征在于，包含所述光澤調整層和所述基材層的層疊體在層疊兩層之后，在高于所述熱塑性樹脂(i)的熔點、且低于所述熱塑性樹脂(iii)的熔點及玻璃化轉變溫度之中至少一者的溫度下被拉伸。
12.根據(jù)權利要求7 11中的任一項所述的光反射體，其特征在于，所述光澤調整層中的孔隙率為0 4 %，且所述基材層中的孔隙率為15 75%。
13.根據(jù)權利要求2 12中的任一項所述的光反射體，其特征在于，密度為0.3 1.2g/cm3。
14.根據(jù)權利要求2 13中的任一項所述的光反射體，其特征在于，在83°C、相對濕度50%的環(huán)境條件下，由設置于距離光反射體IOcm的位置的金屬鹵化物燈，以照射強度90mW/cm2的紫外線照射100小時前后，由下述式(2)所示的色差AEh為 0 10，AEh= [ (L0-L1)2+ (B0-B1)2+ (Vb1)2]0.5 式(2)式O)中，‘ a0, b0分別表示照射前的色度體系的色空間的明度指數(shù)U和色度指數(shù)aW，L1,B1^b1分別表示照射后的Uwb*色度體系的色空間的明度指數(shù)U和色度指數(shù)a*、b*。
15.根據(jù)權利要求1所述的光反射體，其特征在于，其滿足所述< 條件2>。
16.根據(jù)權利要求15所述的光反射體，其特征在于，所述涂布層在干燥后的填料濃度為2 40重量％。
17.根據(jù)權利要求15或16所述的光反射體，其特征在于，所述涂布層中所含的填料的平均粒徑為4 30 μ m。
18.根據(jù)權利要求15 17中的任一項所述的光反射體，其特征在于，所述基材層為包含熱塑性樹脂和填料、至少在單軸方向被拉伸的樹脂拉伸薄膜。
19.根據(jù)權利要求18所述的光反射體，其特征在于，在所述基材層中，所述熱塑性樹脂為聚烯烴系樹脂。
20.根據(jù)權利要求18或19所述的光反射體，其特征在于，所述基材層以5 75重量％ 的濃度包含平均粒徑為0. 05 1. 5 μ m的無機填料、平均分散粒徑為0. 05 1. 8 μ m的有機填料、或它們的混合物。
21.一種面光源裝置，其使用了權利要求1 20中的任一項所述的光反射體。
全文摘要
一種光反射體，其為在基材層上設置有光澤調整層作為最外層的光反射體，光澤調整層表面的45°光澤度為10～80％，45°光澤度/85°光澤度為2～25，滿足以下的或。光澤調整層包含熱塑性樹脂(i)和平均粒徑2～20μm的填料(ii)，層厚為2～20μm，至少被單軸拉伸，且光澤調整層中的填料(ii)的含量為5～60重量％。光澤調整層為包含填料的涂布層、光澤調整層的表面的平均斜率Δa為0.04～0.2，反射率為90％以上。
文檔編號G02B5/08GK102257409SQ200980151889
公開日2011年11月23日 申請日期2009年12月22日 優(yōu)先權日2008年12月22日
發(fā)明者上田隆彥, 廣井洋介, 西尾潤 申請人:優(yōu)泊公司