專利名稱：延長受強激光束輻射的非線性光學系統(tǒng)使用壽命的設備和包括該設備的非線性光源的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種用于延長經(jīng)受強激光束輻射的一個或多個線性或非線性光學元件的使用壽命的設備。本發(fā)明特別應用于光頻轉(zhuǎn)換器，特別是包括非線性晶體的光學諧波生成器，這種晶體經(jīng)受到可能是破壞性的輻射，例如強烈集中的UV射線。本發(fā)明還應用于頻率可調(diào)的光學參量振蕩器(OPO)激光源。
背景技術(shù)：
固體激光器已知用于制造具有非常好的光質(zhì)量的光束并且在許多應用中被使用， 包括半導體微加工、塑料產(chǎn)品標志、太陽能電池蝕刻等等。對于大部分應用來說，有必要將激光器發(fā)出的通常為紅外線的射線轉(zhuǎn)換成頻率較高的射線。制造基本頻率的第二、第三、第四或甚至第五諧波以獲得高功率高質(zhì)量的連續(xù)或脈沖UV光束是相當令人感興趣的。脈沖固體激光器能夠在持續(xù)時間相對較短的脈沖(小于200ns)上產(chǎn)生超過一百瓦特的平均功率?？梢粤信e激光介質(zhì)，例如Nd:YV04、Nd:YAG、Nd:YLF，以及Nd或％摻雜的玻璃纖維，以用作能夠以非常高的頻率(通常是10到500kHz)工作的激光脈沖源。第三諧波的制造現(xiàn)在已經(jīng)工業(yè)化了，并且約為20W的功率已經(jīng)在355nm獲得，4W在沈6歷獲得，并且人們越來越關(guān)注更短的波長。當希望制造高頻脈沖激光的諧波時主要困難在于遭受高功率UV的光學元件的使用壽命。已知使得包括光學處理或非線性晶體的元件遭受長時間的強UV輻射會導致該元件在接近于被照亮區(qū)域的區(qū)域中的不可逆轉(zhuǎn)的降級。這種降級的物理原因仍然有待研究并且難以理解。存在用于延長一個區(qū)域的使用壽命的手段，但是它們并不總是能夠達到這些源的工業(yè)應用所需要的使用壽命。利用入射功率強度所進行的加速以及短波長所造成的損壞是已知的，并且光學元件表面上的瑕疵也會造成這種損壞。所觀測到的效應是累積的并且會使得所產(chǎn)生的光束和UV功率的質(zhì)量逐漸地降級。為了制造UV射線，傳統(tǒng)的方法在于將強光束聚焦于非線性晶體中。典型的晶體是 LB0、BB0和CLB0，但是也可以使用任何其他晶體。在以高頻工作的激光器的情況下，每個脈沖的低能量必須確保使得光束聚焦于約為100 μ m的直徑范圍內(nèi)。功率強度因而達到每平方厘米幾十千瓦并且最終造成嚴重的損壞。用于限制晶體降級的一種已知的方法在于在從幾小時到幾星期的時期之后將橫向平面內(nèi)的非線性晶體移動至激光束軸線，從而找到還未被破壞的新的晶體區(qū)域。光束的大小約為100微米并且晶體大小通常為3X3mm，很容易將晶體表面分解成一百個以上的基本區(qū)域，這些基本區(qū)域?qū)⒃谶M行移動的期間被光束逐一照射。例如，如果考慮光束可以在一個區(qū)域停留100小時而損失小于其功率的10%，則晶體使用壽命增加一因數(shù)100以達到大約10，000小時。當所有區(qū)域已經(jīng)被一一使用過時，必須更換晶體。這種方法在Marason 的專利US 5，179，562中針對連續(xù)激光的情形而被描述，并且在專利US 5，825，562 (Lai等人)中針對脈沖激光的特定情形而被描述。專利US 5，825，562描述了一種平移系統(tǒng)，其包括兩個互相垂直并且垂直于激光束的平移板。其他專利公開了對于按照垂直于光束的平面內(nèi)的晶體的圓形路徑的平移或移動系統(tǒng)的改進(專利申請US2003/0147433，“Extended lifetime harmonic generator，，,Kafka等人；專利US 6, 859, 225,"Method of programmed displacement for prolonged usage of optical element under the irradiation of intense laser beam”)。這些方法被用于所有通過生成商業(yè)上可獲得的第三或第四諧波來進行UV發(fā)射的固體激光器。上述方法的主要缺點在于它們需要完美的平移而不會產(chǎn)生晶體圍繞與光束軸垂直的軸的任何轉(zhuǎn)動。實際上，非線性晶體中的諧波的生成是基于相位匹配的。相位匹配是通過非常精細地調(diào)節(jié)晶體軸與激光束之間的角度來獲得的。如果這個角度在平移期間變化，則轉(zhuǎn)換效率將改變并且諧波輻射中產(chǎn)生的功率將改變。15mm長的LBO晶體的典型準確度遠低于1毫弧度。對于雙折射很強的晶體(例如ΒΒ0)或非常短的波長來說會更低。因此有必要確保晶體在垂直于激光束軸的兩個方向中的幾毫米的平移不會導致大于幾毫弧度的轉(zhuǎn)動。這種準確度在幾毫米的移動中以及在幾年的時期內(nèi)非常難以維持。此外，可移動元件的存在使得晶體的穩(wěn)固變得不可能，該晶體的取向因而會在傳送事件期間改變。因此有必要每次平移晶體都重新調(diào)節(jié)相位匹配。這種匹配的重新調(diào)節(jié)通常通過改變晶體溫度來進行，但是它需要復雜的控制回路。此外，根據(jù)光學元件移動方法，當激光器包括串行安排于該激光器的光路上并且經(jīng)受強激光束的幾個固體光學元件時，每個元件必須配備一平移系統(tǒng)來修改每個元件上的光束的照射區(qū)域，這使得設備更加復雜。這特別是三重、四重或五重諧波生成器的情形，其使用級聯(lián)的非線性晶體。如后文中所使用的那樣，“非線性光學系統(tǒng)”是指包括至少一個非線性光學元件的光學元件集合，其可以是非線性晶體。當光學系統(tǒng)包括幾個元件時，這些元件被串行安排在光路上。此外，專利US 5，546, 764描述了一種用于沿著晶體表面上的圓形路徑連續(xù)轉(zhuǎn)動激光束以避免局部加熱晶體的設備。該設備包括具有平坦且平行的表面的兩個相同的板， 這兩個板被安排在光頻轉(zhuǎn)換非線性晶體的兩側(cè)。這兩個板相對于激光束軸對稱地傾斜一固定的角度并且圍繞激光束軸連續(xù)轉(zhuǎn)動。這個設備使之能夠沿著圓形較快地移動(幾赫茲) 光束影響點，晶體保持固定。兩個板的轉(zhuǎn)動必須相同并且同步以使得能夠相當近似地維持方向固定的輸出光束。然而，這種兩個(由于存在一個或多個晶體而)分離的光元件的轉(zhuǎn)動耦合可能難以實現(xiàn)。此外，光束的圓柱形路徑不允許利用晶體的整個表面，并且不能夠延長太多晶體的使用壽命。最后，用第二板的偏斜來補償?shù)谝话宓钠蓖ǔＪ遣煌晟频?，這使得輸出光束執(zhí)行了殘余的圓形或螺線形移動。這種輸出光束的殘余移動特別地是由于經(jīng)過第一和第二板的光束間的波長差以及板的色差而導致的。這種寄生移動比光束大小較小具有更大的阻礙。根據(jù)文件US 5，646，764，兩個板的偏斜差異是幾十微米，這對于小尺寸光束而言無法維持固定的輸出光束方向和位置。更具體地，在激光微加工應用中，UV激光束的大小約為100微米。這個UV激光束通常耦合到要準確對焦的光學器件。光束方向和位置必須在幾個百分點內(nèi)(即幾微米內(nèi))
保持穩(wěn)定。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明旨在克服這些缺點，并且具體地涉及一種用于延長經(jīng)受強激光束輻射的至少一個頻率轉(zhuǎn)換非線性光學系統(tǒng)的使用壽命的設備，該光學系統(tǒng)能夠?qū)⒕哂谢竟忸lQ1 的入射光束轉(zhuǎn)換成具有光頻ω2的輸出光束。根據(jù)本發(fā)明，該設備包括具有平坦且平行的表面的第一傳輸板，其厚度為％并且指數(shù)為H2 (ω 1)，并且能夠被插入所述入射激光束的光路中并且發(fā)射光束，所述第一板的平坦表面的法線H2構(gòu)成相對于激光束傳播軸X的傾角。所述設備包括具有平坦且平行的表面的第二傳輸板，其厚度為％并且指數(shù)為η3(ω 2)， 并且能夠在所述光學系統(tǒng)的出口處被插入光束的光路中并且發(fā)射光頻為ω2的光束，所述第二板的法線η3構(gòu)成相對于光束傳播軸X’的傾角(i3)。本發(fā)明的設備還包括用于圍繞與激光束傳播軸(X)垂直的至少一個軸(Y，Z)橫向轉(zhuǎn)動所述第一板的裝置，其能夠在一個角度范圍(i2°± δ i2)內(nèi)修改傾角(i2)以相對于該光學系統(tǒng)移動光束；和用于圍繞與光束傳播軸(X’ )垂直的至少一個軸(Y’，V )橫向轉(zhuǎn)動所述第二板的裝置，其能夠在一個角度范圍(i3°± Si3)內(nèi)修改傾角(i3)。根據(jù)本發(fā)明，這兩個板和用于橫向轉(zhuǎn)動兩個板的裝置能夠在所述第一板的傾角范圍(i2°± Si2)內(nèi)在位置和角度方向方面最小化輸出光束的移動幅度。根據(jù)特定的實施例，所述設備包括用于機械耦合兩個板的裝置，其能夠使得所述第一板的傾角(i2)和所述第二板的傾角(i3)在角度范圍(i2°± δ i2)內(nèi)彼此相關(guān)，并且第二板的厚度％能夠根據(jù)第一板的厚度％、光指數(shù)Ii2 (ω J和n3 (ω 2)以及角度范圍(i2°± δ i2) 來最小化輸出光束的殘余移動幅度。根據(jù)本發(fā)明的特定實施例，用于耦合兩個板的裝置包括能夠致使兩個板以各自的彼此相反的傾角i2和i3同時傾斜的機械驅(qū)動裝置。根據(jù)本發(fā)明的優(yōu)選實施例，用于耦合兩個板的裝置包括能夠致使兩個板以各自的相等的傾角i2和i3同時傾斜的機械驅(qū)動裝置。有利地，轉(zhuǎn)動裝置共用于兩個板并且能夠以相同的角度修改這兩個板的傾角，并且入射光束和輸出光束在這兩個板之間的平面內(nèi)傳播，并且輸出光束在板之間經(jīng)歷奇數(shù)次反射。有利地，所述光學系統(tǒng)的入射光束的直徑小于由于所述第一板在傾角范圍 (i2°± δ i2)內(nèi)的傾斜而導致的光束移動的幅度。根據(jù)另一個特定實施例，這兩個板是相同的，并且所述設備包括能夠根據(jù)板厚度、 光指數(shù)Il2(O1)和1!3(032)和傾角(i2)來計算和實施傾角(i3)以補償針對所述第一板在角度范圍(i2°± δ i2)內(nèi)的每個傾角的輸出光束移動的裝置。有利地，本發(fā)明的設備包括放大率為G的位于兩個板之間的光學系統(tǒng)，并且所述第二板的傾角(i3)、厚度(e3)和指數(shù)( )是根據(jù)所述光學系統(tǒng)的放大率G來確定的，從而補償針對角度范圍(i2°± Si2)內(nèi)的每個傾角(i2)的輸出光束移動。本發(fā)明還涉及一種包括非線性光學系統(tǒng)和根據(jù)前述實施例之一的用于延長所述非線性光學系統(tǒng)的使用壽命的設備的非線性光源，其板被安排在所述非線性光學系統(tǒng)的兩側(cè)。根據(jù)特定的實施例，本發(fā)明的非線性光源包括非線性光學系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括位于用于延長所述晶體的使用壽命的設備的兩個板之間的兩個非線性晶體，第一非線性晶體能夠使得入射基本波的頻率加倍并且第二非線性晶體能夠通過使得基本波及其第二諧波的頻率相加來生成第三諧波。根據(jù)另一個實施例，本發(fā)明的非線性光源包括非線性光學系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括位于兩個板之間的兩個非線性晶體，第一非線性晶體能夠使得入射基本波的頻率加倍并且第二非線性晶體能夠通過使得第二諧波的頻率加倍來生成第四諧波。根據(jù)又另一個實施例，本發(fā)明的非線性光源包括非線性光學系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括位于兩個板之間的三個非線性晶體，第一非線性晶體能夠使得入射基本波的頻率加倍、第二非線性晶體能夠通過混合第二諧波和基本波的頻率來生成第三諧波、并且第三非線性晶體能夠通過混合第二諧波和由所述第一和第二晶體產(chǎn)生的第三諧波的頻率來生成第五諧波。本發(fā)明還涉及一種非線性光源，其包括位于兩個板之間并且能夠通過光學參量生成來制造相干射線的至少一個晶體。本發(fā)明還涉及一種非線性光源，其包括用于在頻率轉(zhuǎn)換后測量光束的發(fā)射功率的裝置和能夠當發(fā)射功率降低一預定值時致使所述板橫向轉(zhuǎn)動的驅(qū)動系統(tǒng)。本發(fā)明還涉及一種非線性光源，其包括用于延長被置于激光腔內(nèi)的非線性光學系統(tǒng)的使用壽命的設備。本發(fā)明的其他特征將通過下面的描述變得明顯并且可以單獨考慮或者在技術(shù)上可行的情況下組合地考慮。


本說明書僅作為非限制性例子而給出并且使得能夠參考附圖更好地理解如何實現(xiàn)本發(fā)明，其中-圖1示意性地示出了本發(fā)明的設備；-圖2示出了具有平坦且平行的表面的傾斜板的工作原理；-圖3示意性地示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的第二諧波生成器；-圖4示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的第二諧波生成器；-圖5A和5B示意性地示出了具有位于非線性晶體兩側(cè)上的兩個傾斜板的系統(tǒng)分別按照這兩個板的第一傾角和第二傾角的操作；-圖6示出了輸出光束根據(jù)傾角范圍(i2°±δ i2)的補償誤差測量曲線；-圖7示出了根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的第三諧波生成器；-圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的第三諧波生成器的第一實施例；-圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的第三諧波生成器的第二實施例；-圖10示意性地示出了用于控制本發(fā)明的設備中的板取向的系統(tǒng)；-圖11示意性地示出了用于機械耦合本發(fā)明的設備的兩個板的裝置；-圖12示出了利用本發(fā)明的設備掃描激光束照射的區(qū)域的例子。
具體實施例方式圖1示意性地示出了根據(jù)本發(fā)明的用于延長非線性光學系統(tǒng)的使用壽命的設備的工作原理。非線性光學系統(tǒng)19位于例如激光光束的光束7的傳播軸線上。在所考慮的原理的例子中，非線性光學系統(tǒng)包括非線性光元件1。光學元件1接收沿著軸X傳播的具有基本光頻Q1的入射光束7，并且發(fā)射沿著軸X’傳播的具有光頻ω2的輸出光束17。嘗試最小化經(jīng)受激光束的光輻射的光學元件1的惡化。所述設備包括兩個板2和3，其具有平坦且平行的表面并且各自的厚度為e2、％。這兩個板被置于光束的光路中。第一板2被置于入射光束7的光路中并且相對于軸X傾斜一個角度i2。傾角i2是在板2表面的法線、與光束7的軸線之間形成的角。入射光束7經(jīng)過板2并且作為具有光頻Q1的發(fā)射光束27而離開。發(fā)射光束27沿著與入射光束7的傳播軸線平行的軸而傳播。第二板3被置于光元件1的出口處的具有光頻ω2的光束17的光路中并且相對于軸V傾斜一個角度i3。傾角 i3是在板3表面的法線η3與光束17的軸線之間形成的角。每個板2、3的傾角可以通過圍繞與激光束的傳播軸Χ、Χ’垂直的兩個軸(Y，Z)、(Y’，Z’ )橫向轉(zhuǎn)動而被修改。板2的傾角土2通過與軸X垂直的一次或兩次轉(zhuǎn)動而在角度范圍(i2°±Si2)內(nèi)變化。同樣，板3的傾角込通過與軸X’垂直的一次或兩次轉(zhuǎn)動而在角度范圍(i3°±Si3)內(nèi)變化。在圖6所示出的示例性實施例中，i2的角度變化幅度是士 10度。板2和3不是圍繞光束軸線軸向轉(zhuǎn)動的。 對第一板2的傾角i2的修改致使由板2發(fā)射的光束27移動(dY2，dZ2)到光元件1。這個移動(dY2，dZ2)使之能夠修改經(jīng)受入射光束輻射的光元件的區(qū)域。第二板3使之能夠在板2、3 的傾角范圍內(nèi)最大程度地補償光元件1出口處的光束17的軸線的側(cè)向偏移(dY2，dZ2)并且通過調(diào)節(jié)兩個板2和3各自的傾角和/或通過優(yōu)化兩個板的厚度來保持所述設備出口處的激光束37的傳播軸線固定不動。圖2更詳細地指示了激光束在板2或3中的傳播。為了給出最好的解釋，圖2示出了平面上的投影，其包括入射光束的傳播軸線X和具有平坦且平行的表面的板的法線η。 厚度為e并且具有平坦且平行的表面的板在光元件1的前面被插在入射光束7的軸線上。 這個板相對于光束7的角度為i的傾斜致使板出口處的光束27的軸線偏斜，其中光束27 沿著偏斜了一個量d的軸線而傳播。經(jīng)過厚度為e且指數(shù)為n的板致使光束移動一個距離 d，其中該板的法線形成相對于光束的角度i，所述距離d由下式給出
權(quán)利要求
1.一種用于延長經(jīng)受入射激光束(7、27)輻射的至少一個頻率轉(zhuǎn)換非線性光學系統(tǒng) (19)的使用壽命的設備，所述光學系統(tǒng)(19)能夠?qū)⒕哂谢竟忸lQ1的所述入射激光束 (7,27)轉(zhuǎn)換成具有光頻ω2的輸出激光束(17)，該設備包括-第一傳輸板⑵，其具有平坦且平行的表面、厚度為％并且指數(shù)為η2 (ω J，并且能夠被插在所述入射激光束(7)的光路中并且發(fā)射光束(27)，所述第一板O)的平坦表面的法線Π 2形成相對于所述激光束(7)的傳播軸線X的傾角(i2)，-第二傳輸板⑶，其具有平坦且平行的表面、厚度為％并且指數(shù)為n3 (ω 2)，并且能夠被插在所述光學系統(tǒng)(19)的出口處的所述光束(17)的光路中并且發(fā)射具有光頻ω2的光束(37、47)，所述第二板(3)的法線η 3形成相對于所述束(17)的傳播軸線X’的傾角(i3)，其特征在于，包括-用于圍繞與所述激光束(7)的傳播軸線(X)垂直的至少一個軸(Y、Z)橫向轉(zhuǎn)動所述第一板(2)的裝置，該裝置能夠在一個角度范圍(i2°± δ i2)內(nèi)修改所述傾角(i2)以相對于所述光學系統(tǒng)(19)移動所述光束(7)，-用于圍繞與所述光束(17)的傳播軸線(X’ )垂直的至少一個軸(Y’、Z’ )橫向轉(zhuǎn)動所述第二板(3)的裝置，該裝置能夠在一個角度范圍(i3°± Si3)內(nèi)修改所述傾角(i3)，-所述板(2、；3)和用于橫向轉(zhuǎn)動所述兩個板的所述裝置能夠在所述第一板的傾角范圍 (i2°± Si2)內(nèi)在位置和角度方向方面最小化所述輸出光束(37、47)的移動幅度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設備，其特征在于，包括用于機械耦合兩個板( 和(3)的裝置，該裝置能夠使得所述第一板⑵的傾角(i2)和所述第二板⑶的傾角(i3)在所述角度范圍(i2°±Si2)內(nèi)彼此相關(guān)，并且所述第二板的厚度％能夠根據(jù)所述第一板的厚度％、 所述光指數(shù)Ii2(Q1) *η3(ω2)以及所述角度范圍(i2°± δ i2)，來最小化所述輸出光束(37、 47)的殘余移動的幅度。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設備，其特征在于，用于耦合兩個板0、3)的所述裝置包括能夠致使所述兩個板0、3)以各自的彼此相反的傾角12和i3同時傾斜的機械驅(qū)動裝置。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設備，其特征在于，用于耦合兩個板0、3)的所述裝置包括能夠致使所述兩個板0、3)以各自的彼此相等的傾角“和i3同時傾斜的機械驅(qū)動裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4之一所述的設備，其特征在于，包括共用于所述板(2)和板(3) 的轉(zhuǎn)動裝置，該轉(zhuǎn)動裝置能夠以相等的角度修改所述兩個板( 和C3)的傾角，并且所述入射光束(7、27)和所述輸出光束(17、37、47)在所述兩個板(2、；3)之間的平面中傳播，并且所述輸出光束在所述兩個板(2、；3)之間經(jīng)歷奇數(shù)次反射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5之一所述的設備，其特征在于，所述光學系統(tǒng)(19)上的所述光束(XT)的直徑小于由于所述板⑵在所述傾角范圍(i2°± δ i2)內(nèi)的傾斜所導致的光束 (27)的移動的幅度。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設備，其特征在于，所述兩個板(2、3)是相同的，并且該設備包括能夠根據(jù)所述板0、3)的厚度(e2 = %)、其光指數(shù)112( 1)和1!3( 2)以及所述傾角 (i2)來計算和實施傾角(i3)以在所述角度范圍(i2°± δ i2)內(nèi)針對每個傾角(i2)補償所述輸出光束(37、47)的移動的裝置。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7之一所述的設備，其特征在于，包括被置于所述兩個板之間的具有放大率的光學系統(tǒng)(5、6)，并且所述板(3)的傾角(i3)、厚度(e3)和指數(shù)(n3)是根據(jù)。所述系統(tǒng)(5、6)的放大率來確定的，從而在所述角度范圍(i2°± δ i2)內(nèi)針對每個傾角(i2) 補償所述輸出光束(37、47)的移動。
9.一種包括非線性光學系統(tǒng)(19)的非線性光源，其特征在于，包括根據(jù)權(quán)利要求1至 6之一的設備，該設備的板(2、3)被安排在所述非線性光學系統(tǒng)(19)的兩側(cè)。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非線性光源，其特征在于，所述非線性光學系統(tǒng)(19)包括位于所述兩個板(2、；3)之間的兩個非線性晶體(1、16)，能夠使得入射基本波的頻率加倍的第一非線性晶體(1)以及能夠通過使得所述基本波和其第二諧波的頻率相加而生成第三諧波的第二非線性晶體(16)。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非線性光源，其特征在于，所述非線性光學系統(tǒng)(19)包括位于所述兩個板(2、3)之間的兩個非線性晶體(1、16)，第一非線性晶體(1)能夠使得入射基本波的頻率加倍，并且第二非線性晶體(16)能夠通過使得第二諧波的頻率加倍而生成第四諧波。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非線性光源，其特征在于，所述非線性光學系統(tǒng)(19)包括位于所述兩個板(2、3)之間的三個非線性晶體(1、16)，第一非線性晶體(1)能夠使得入射基本波的頻率加倍，第二非線性晶體(16)能夠通過混合第二諧波和所述基本波的頻率而生成第三諧波，并且所述第三非線性晶體能夠通過混合由所述第一和第二晶體(1、16)生成的所述第二諧波和所述第三諧波的頻率來生成第五諧波。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的非線性光源，其特征在于，所述非線性光學系統(tǒng)(19)包括位于所述兩個板(2、；3)之間的至少一個晶體，該至少一個晶體能夠通過生成光學參量來制造相干射線。
14.根據(jù)權(quán)利要求9至13中任一項所述的非線性光源，包括用于在頻率轉(zhuǎn)換后測量所述光束(17、37、47)的發(fā)射功率的裝置，和能夠當所述發(fā)射功率降低一個預定義值時致使所述板(2、3)橫向轉(zhuǎn)動的驅(qū)動系統(tǒng)。
15.根據(jù)權(quán)利要求9至14中任一項所述的非線性光源，其特征在于，用于延長非線性光學系統(tǒng)的使用壽命的所述設備被置于激光腔內(nèi)。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種用于延長經(jīng)受強激光束輻射的頻率轉(zhuǎn)換非線性光學系統(tǒng)(19)的使用壽命的設備，該設備包括具有在光束上傾斜的平坦且平行的表面的兩個板(2、3)，以及用于橫向轉(zhuǎn)動所述板(2、3)的裝置，該裝置適于在一個角度范圍(i20±δi2)內(nèi)改變第一板的傾角以相對于該光學系統(tǒng)(19)移動入射光束，同時最小化輸出光束(37、47)在該第一板的傾角范圍(i20±δi2)內(nèi)的移動幅度。本發(fā)明還涉及該設備在包括一個或多個非線性晶體(1、16)的非線性光源中的應用。
文檔編號G02F1/35GK102292671SQ200980154936
公開日2011年12月21日 申請日期2009年11月20日 優(yōu)先權(quán)日2008年11月21日
發(fā)明者D·霍賴恩, F·薩林, J·薩比, L·麥克多納, P·梅蒂維耶 申請人:埃奧利特系統(tǒng)公司