專利名稱：：感光性樹脂組合物和圖案形成方法
技術領域：
：本發(fā)明涉及適用于狹縫涂敷的感光性樹脂組合物、采用狹縫涂敷法形成抗蝕圖案的方法、以及平板顯示器(FPD)用基板的制造方法、由該方法制得的平板顯示器用基板和采用它的平板顯示器。
背景技術：
：在半導體集成電路元件、固態(tài)圖像傳感器元件、濾色器、以及液晶顯示元件(LCD)和等離子體顯示器(PDP)等平板顯示器(FPD)的制造過程中，感光性樹脂組合物被用于抗蝕膜、保護膜、使元件表面平坦化的平坦化膜、保持電絕緣的絕緣膜等各種目的。感光性樹脂組合物根據使用目的而涂敷于各種基板上，作為涂敷方法，也已知旋涂法、輥涂法、底涂法(，>K-一卜法)、流動展開涂敷法、刮刀涂敷法、浸漬涂敷法、狹縫涂敷法等各種方法。另外，作為基板，也采用了硅、玻璃、塑料膜等各種基板，例如，在平板顯示器的制造時，基板大多采用玻璃板。迄今，在液晶顯示元件和等離子體顯示器等平板顯示器(FPD)的制造過程中，廣泛地采用感光性樹脂組合物作為光刻膠，在玻璃基板上形成由薄膜晶體管(TFT)構成的驅動電路等圖案，在尺寸較小的FPD的制造過程中，作為涂敷法，通常采用旋涂法。在旋涂法中，由基板的旋轉中心供給感光性樹脂組合物，通過基板旋轉的離心力而擴展開，從而形成薄而均勻的涂膜。由旋涂法形成的涂膜接下來被加熱干燥(預烘焙)而從涂膜中除去溶劑，然后經過紫外線、遠紫外線、電子束、X射線等各種射線的曝光工序以及顯影工序，制成例如抗蝕圖案。對于旋涂法，其容易形成具有均一膜厚度的感光性樹脂膜，另一方面，所涂敷的大部分感光性樹脂組合物被作為過剩的溶液從基板四周拋散除去而廢棄，具有增大成本的問題。相比之下，近年來大尺寸的FPD的需求增大，并且另一方面，由一塊大尺寸基板一次制成多塊FPD，這樣也可以降低制造成本。但是，對于大尺寸基板，在采用旋涂法涂敷感光性樹脂時，存在需要大型裝置的問題以及涂敷的感光性樹脂組合物等的膜厚度均一性的問題。因此，從減少廢棄的感光性樹脂組合物的量、或者避免涂敷裝置大型化的角度出發(fā)，嘗試了使用狹縫涂敷法(也稱為縫模涂敷法或無旋涂敷法)代替旋涂法。在狹縫涂敷法中，通過將基板固定，由在該固定的基板上移動的狹縫或狹槽狀噴嘴向基板表面涂敷所需量的感光性樹脂組合物，或者將噴嘴固定，使基板移動，向基板上涂敷所需量的感光性樹脂組合物，形成感光性樹脂涂膜。在狹縫涂敷中，還考慮到高速涂敷性，通常使感光性樹脂組合物的固體成分含量為10%的水平，例如，為了使干燥后膜厚度達到1.5ym，涂敷厚度必須達到lOym的水平。但是，由于涂敷量多且溶劑含量也大，因而干燥時溶劑的蒸發(fā)量增大，出現(xiàn)在基板運送時和在干燥爐中容易產生涂敷不勻的問題。為此，提出了將狹縫涂敷的感光性樹脂組合物在預烘焙前于常溫下進行減壓干燥或真空干燥(以下也將其稱為"VCD")，使溶劑預蒸發(fā)的方法(參見例如專利文獻1)。狹縫涂敷后進行的VCD的條件多種多樣，但大多基本上采用在室溫條件下以約30秒左右由約101kPa的大氣壓急劇減壓至約20Pa的方法。為了適用這種比較嚴苛的減壓干燥條件，必須調節(jié)涂膜的干燥程度。若涂膜的干燥程度不合適，則圖案形狀和涂敷性會產生很大的問題，將成為引起各種麻煩的主要原因。并且，近年來隨著基板的增大，由于基板的裝配和處理需要花費時間，因而在預定的一系列工序中，不得不縮短VCD所花的時間，并且VCD的維護負擔增大。若縮短VCD的時間，則容易產生涂敷不勻，并且即使進行VCD，由于在短時間內僅干燥了膜表面，使抗蝕膜表面附近難以顯影，而內部容易顯影。結果，圖案形狀成為倒錐形的形狀(T頂)，出現(xiàn)在后續(xù)工序(蝕刻時)中容易產生麻煩的問題。另外，作為感光性樹脂組合物中使用的溶劑，通常使用丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)。但是，由于PGMEA的蒸氣壓在20°C/1大氣壓下約為500Pa，在減壓干燥時非常容易蒸發(fā)。結果，涂敷后PGMEA迅速從涂膜表面蒸發(fā)了，在表面附近形成干燥的涂膜，阻礙了涂膜內部的PGMEA的蒸發(fā)。若用這種抗蝕膜形成圖案，則如上所述由于抗蝕膜表面附近難以顯影，而內部容易顯影，因而使圖案形狀成為T頂形，在后烘焙時圖案殘留角的部分，不能按照設計進行蝕刻，因而便成為使用這種抗蝕圖案形成的金屬布線等不均勻的原因。為了應對這種問題，公開了添加了特定的溶劑、適用于縮短減壓干燥工序時間、狹縫噴嘴不容易干燥且涂膜表面良好的狹縫涂敷法的感光性樹脂組合物(參見專利文獻2)。另外，還公開了能夠通過在減壓條件下干燥形成均勻干燥的樹脂圖案，調整了感光性基團的量的感光性樹脂組合物(參見專利文獻3)。此外，還提出了同時含有丙二醇單甲醚乙酸酯和在1大氣壓2(TC下蒸氣壓為150Pa以下的共溶劑的感光性樹脂組合物的方案(參見專利文獻4)。另外，為了使用狹縫涂敷器形成濾色器和黑色矩陣的目的，提出了含有每100ml能溶解50g以上感光性樹脂成分的第一溶劑、沸點為160°C18(TC的第二溶劑和沸點為135t:155t:的第三溶劑作為溶劑的感光性樹脂組合物(參見專利文獻5)。作為該組合物涂膜的干燥方法，由于采用在室溫下放置數小時數日，或者由熱風或紅外線電極干燥幾十分鐘幾小時的方法，雖然在涂膜干燥中不采用VCD，但是存在在常溫下干燥時間長的問題。另外，在用于TFT(薄膜晶體管)的制造時，也需要不進行VCD工序且可適用于高速狹縫涂敷的感光性樹脂組合物?，F(xiàn)有技術文獻專利文獻專利文獻1日本特開2001-269607號公報專利文獻2日本特開2007-25645號公報專利文獻3W02006/107056號公報專利文獻4日本特開2008-158281號公報專利文獻5日本特開2004-354601號公報
發(fā)明內容本發(fā)明是為了解決如上所述的問題而作出的，其目的是提供一種感光性樹脂組合物，其適用于不進行減壓干燥或真空干燥，即通過進行短時間的自然干燥，也能夠將涂膜干燥成沒有不勻的均一狀態(tài)、抗蝕圖案形狀優(yōu)良(不會形成T頂)的狹縫涂敷。另外，本發(fā)明的目的是提供一種圖案的形成方法，在進行狹縫涂敷后，即使不進行4減壓或真空干燥，而通過短時間的自然干燥，也可以形成涂膜干燥均勻、形狀良好的抗蝕圖案。另外，本發(fā)明還提供采用上述感光性樹脂組合物形成的平板顯示器用基板和該基板的形成方法、以及具有這種平板顯示器用基板的平板顯示器。本發(fā)明者們經專心研究，結果發(fā)現(xiàn)，在含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑和溶劑的感光性樹脂組合物中，通過使用特定的混合溶劑作為上述溶劑，可以解決上述問題，即可以獲得一種感光性樹脂組合物，由它通過高速狹縫涂敷形成的涂膜，即使不進行減壓干燥或真空干燥，而通過短時間的自然干燥，也可以形成涂膜干燥均勻、形狀良好的抗蝕圖案，從而完成了本發(fā)明。也就是說，本發(fā)明涉及感光性樹脂組合物，其特征在于，在含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑和溶劑的感光性樹脂組合物中，上述溶劑由丙二醇單甲醚乙酸酯(A)與沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)的混合溶劑組成。另外，本發(fā)明涉及圖案的形成方法，其特征在于，將含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑、以及丙二醇單甲醚乙酸酯(A)與沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)的混合溶劑的感光性樹脂組合物通過狹縫涂敷法涂敷于基板上，不采用減壓干燥或真空干燥的方法而進行干燥，然后進行曝光、顯影，形成抗蝕圖案。另外，本發(fā)明涉及平板顯示器(FPD)用基板的制造方法，其特征在于包括通過狹縫涂敷法將上述感光性樹脂組合物涂敷于基板上的工序。另外，本發(fā)明涉及由上述FPD用基板的制造方法制造的平板顯示器(FPD)用基板。另外，本發(fā)明涉及平板顯示器，其特征在于具有上述FPD用基板。本發(fā)明的感光性樹脂組合物，在采用狹縫涂敷法進行涂敷時，即使不進行減壓干燥或真空干燥，并在短時間的自然干燥下，也能夠將抗蝕涂膜干燥成沒有不勻的均勻狀態(tài)，能夠形成截面形狀良好的(不會形成T頂)抗蝕圖案等圖案。并且，采用本發(fā)明感光性樹脂組合物進行狹縫涂敷后，由于不需要進行減壓干燥或真空干燥，因而能夠減少工序、降低成本。另外，在本發(fā)明中，通過采用高速狹縫涂敷法涂敷感光性樹脂組合物，能夠在大型基板上進行高速的涂敷，與旋涂法相比，能夠節(jié)約感光性樹脂組合物的涂敷量，同時，能夠形成膜厚度均一、沒有涂敷不勻的涂膜，采用該涂膜形成的抗蝕圖案等圖案的截面形狀良好，能夠按照設計形成蝕刻圖案，因此，能夠制造出性能良好的FPD基板，并且能夠廉價地制造FPD而沒有次品。圖1:由本發(fā)明的感光性樹脂組合物和方法制得的顯影后(a)和后烘焙后(b)的抗蝕圖案的SEM照片。圖2:由現(xiàn)有技術的感光性樹脂組合物和方法制得的顯影后(a)和后烘焙后(b)的抗蝕圖案的SEM照片。具體實施例方式本發(fā)明的感光性樹脂組合物，如上所述，含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑、以及丙二醇單甲醚乙酸酯(A)與沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)的混合溶劑作為必需成分。以下，從本發(fā)明感光性樹脂組合物中使用的堿可溶性酚醛樹脂開始進行具體說明。(堿可溶性酚醛樹脂)堿可溶性酚醛樹脂是將至少一種酚類與福爾馬林等醛類采用例如無機酸或有機酸、二價金屬有機酸鹽等催化劑在酸性條件下進行縮聚，再根據需要進行中和、水洗后使其進行二次反應而制得的。作為制備這種酚性酚醛樹脂所用的酚類，可以列舉例如鄰甲酚、對甲酚和間甲酚等甲酚類；3，5-二甲基苯酚、2，5-二甲基苯酚、2，3-二甲基苯酚、3，4-二甲基苯酚等二甲基苯酚類；2，3，4-三甲基苯酚、2，3，5-三甲基苯酚、2，4，5-三甲基苯酚、3，4，5-三甲基苯酚等三甲基苯酚類；2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、4-叔丁基苯酚等叔丁基苯酚類；2-甲氧基苯酚、3-甲氧基苯酚、4-甲氧基苯酚、2，3-二甲氧基苯酚、2，5-二甲氧基苯酚、3，5-二甲氧基苯酚等甲氧基苯酚類；2-乙基苯酚、3-乙基苯酚、4-乙基苯酚、2，3-二乙基苯酚、3，5-二乙基苯酚、2，3，5-三乙基苯酚、3，4，5-三乙基苯酚等乙基苯酚類；鄰氯苯酚、間氯苯酚、對氯苯酚、2，3-二氯苯酚等氯代苯酚類；間苯二酚、2-甲基間苯二酚、4-甲基間苯二酚、5-甲基間苯二酚等間苯二酚類；5-甲基鄰苯二酚等鄰苯二酚類；5-甲基鄰苯三酚等鄰苯三酚類；雙酚A、B、C、D、E、F等雙酚類；2，6-二羥甲基-對甲酚等羥甲基化甲酚類；a-萘酚、P_萘酚等萘酚類等。它們可以單獨或者以多種的混合物進行使用。另夕卜，作為醛類，除了福爾馬林以夕卜，還可以列舉水楊醛、多聚甲醛、乙醛、苯甲醛、羥基苯甲醛、氯乙醛等，它們可以單獨或者以多種的混合物進行使用。堿可溶性酚醛樹脂的含量沒有特別的限制，通?；诟泄庑詷渲M合物的總重量為525重量％，優(yōu)選為720重量％。若比該范圍還要少，則為了使最終的抗蝕膜達到一定的厚度，組合物必須涂敷得很厚，涂膜內部容易引起流動，從而會發(fā)生涂敷不勻。另一方面，如樹脂的含量比該范圍還要多，則組合物必須涂敷得很薄，會出現(xiàn)涂敷均一性不夠好的情況。因此，需要留意樹脂的含量落在上述范圍以外的情況。另外，堿可溶性酚醛樹脂的重均分子量(Mw)優(yōu)選為300016000。本發(fā)明中的重均分子量是由凝膠滲透色譜(GPC)測定的苯乙烯換算的分子量，若重均分子量不足3000，則存在不能進行涂敷速度為200mm/秒以上的高速涂敷，并且不能形成膜厚均一的涂膜的問題，另一方面，當重均分子量超過16000時，由于樹脂的粘度過大，使得剛開始從反應釜抽取出的聚合物與結束時的聚合物的重均分子量存在很大的差異，存在不能穩(wěn)定地合成的問題。(含醌二疊氮基的感光劑)作為含醌二疊氮基的感光劑，可以使用以前在醌二疊氮-酚醛類抗蝕劑中使用的已知的感光劑中的任意一種。作為這種感光劑，優(yōu)選的可以列舉將萘醌二疊氮磺酰氯或苯醌二疊氮磺酰氯等與具有能夠與這些酰氯化物等進行縮合反應的官能團的低分子化合物或者高分子化合物反應而得到的化合物。這里，作為能夠與酰氯化物縮合的官能團，可以列舉羥基、氨基等，而羥基特別適合。作為含羥基的能夠與酰氯化物縮合的化合物，可以列舉例如對苯二酚、間苯二酚、2，4-羥基二苯酮、2，3，4-三羥基二苯酮、2，4，6-三羥基二苯酮、2，4，4'-三羥基二苯酮、2，3，4，4'—四羥基二苯酮、2，2'，4，4'—四羥基二苯酮、2，2'，3，4，6'-五羥基二苯酮等羥基二苯酮類、二(2，4-二羥基苯基)甲烷、二(2，3，4-三羥基苯基)甲烷、二(2，4-二羥基苯基)丙烷等羥基苯基烷類、4，4'，3"，4"-四羥基-3，5，3'，5'-四甲基三苯基甲烷、4，4'，2"，3"，4"-五羥基-3，5，3'，5'-四甲基三苯基甲烷等羥基三苯基甲烷類等。它們可以單獨使用，并且也可以2種以上組合使用。另外，作為萘醌二疊氮磺酰氯或苯醌二疊氮磺酰氯等磺酰氯，優(yōu)選的可以列舉例如1，2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯、1，2-萘醌二疊氮-4-磺酰氯等。另外，采用萘醌二疊氮磺酰氯或萘醌二疊氮磺酸烷基酯等代替萘醌二疊氮磺酰氯，也能夠制得與使用萘醌二疊氮磺酰氯時同樣的含醌二疊氮基的感光劑。含醌二疊氮基的感光劑的混合量，每100重量份堿可溶性酚醛樹脂，通常為550重量份，優(yōu)選為1040重量份。如果比該量還要少，則作為感光性樹脂組合物會出現(xiàn)不能獲得足夠的敏感度的情況，另外，若比該量還要多，則會引起成分析出的問題。(溶劑)本發(fā)明的感光性樹脂組合物中，作為溶劑，使用丙二醇單甲醚乙酸酯(A)和沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)。作為沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)，優(yōu)選沸點為8013(TC且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為70200的溶劑，更優(yōu)選沸點為10013(TC且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為70200的溶劑。本發(fā)明中作為優(yōu)選的溶劑(B)，可以列舉異丁醇(沸點10『C，蒸發(fā)速度74)、異丙醇(沸點82t:，蒸發(fā)速度190)、乙酸異丁酯(沸點118t:，蒸發(fā)速度170)、丙二醇單甲醚(沸點120°C、蒸發(fā)速度70)、丙酸正丙酯(沸點122.4t:，蒸發(fā)速度120)、乙酸正丁酯(沸點126.rC，蒸發(fā)速度IOO)等。更優(yōu)選的溶劑為丙二醇單甲醚(沸點12(TC、蒸發(fā)速度70)、丙酸正丙酯(沸點122.4°C，蒸發(fā)速度120)、乙酸正丁酯(沸點126.1°C，蒸發(fā)速度100)。上述溶劑的乙酸正丁酯蒸發(fā)速度是按照ASTMD3539測定的，以乙酸正丁酯的蒸發(fā)速度系數為100時的值。溶劑(B)的含量根據溶劑對抗蝕劑的溶解能力而不同，從自然干燥速度快的角度出發(fā)，在能夠溶解抗蝕劑的限度內，多用該溶劑較優(yōu)選。通常，溶劑(A)與溶劑(B)的比率，溶劑(A):溶劑(B)以重量為基準，優(yōu)選為90:io20:so，更優(yōu)選為70:3030:70。若溶劑(B)的含量少于10重量％，則進行自然干燥時干燥時間很長，產生干燥工序時間長的問題。例如，若自然干燥進行10分鐘左右，則即使溶劑含量為10重量％，也能夠獲得沒有涂敷不勻的良好涂膜，而如上所述的溶劑含量越多，則即使自然干燥時間縮短，也同樣能夠獲得良好的涂膜，因此是優(yōu)選的。但是，若溶劑(B)的含量超過80重量％，則會出現(xiàn)由于溶劑使得抗蝕劑的固體成分不能溶解而析出了的情況，因此需要根據所用的溶劑種類選擇合適的含量。(添加劑)本發(fā)明的感光性樹脂組合物根據需要還可以進一步含有添加劑。作為添加劑，可以列舉例如為了維持感光性樹脂組合物的均一性、改進涂敷性等目的而添加的表面活性劑。特別是，在將感光性樹脂組合物涂敷于基材上時，表面上會產生鱗片狀紋理(鱗斑)，而通過在本發(fā)明的感光性樹脂組合物中使用表面活性劑，可以抑制這種鱗斑。本發(fā)明感光性樹脂組合物中特別優(yōu)選使用非離子類表面活性劑。作為非離子類表面活性劑，包括氟類表面活性劑、硅類表面活性劑、烴類表面活性劑等，優(yōu)選使用氟類表面活性劑。這些表面活性劑的混合量，相對于1重量份堿可溶性樹脂與感光劑的合計量，通常添加20010000ppm。若表面活性劑的含量過多，則會引起顯影不良等問題，因此需要注意。本發(fā)明的感光性樹脂組合物，根據需要，還可以進一步含有添加劑，例如，對比度增強劑、環(huán)氧基化合物或含硅化合物等的粘合助劑。這種添加劑，可以在不損害本發(fā)明效果的范圍內從以前已知的任意的添加劑中進行選擇。本發(fā)明的感光性樹脂組合物，通過將各成分溶解于預定量的溶劑中而進行調配。此時，可以將各成分預先分別溶于各自的溶劑中，在使用前將各成分以預定的比率進行混合而調制。通常感光性樹脂組合物溶液要用0.2ym的濾器等進行過濾后再供給使用。粘度調制為適合感光性樹脂組合物的涂敷條件，優(yōu)選25t:下的運動粘度為210cSt，更優(yōu)選為25cSt。接下來，對采用本發(fā)明感光性樹脂組合物形成所需的例如抗蝕圖案的方法進行說明。在本發(fā)明的微細化圖案的形成方法中，首先在襯底基板上，根據需要涂敷防反射膜后，涂敷本發(fā)明的感光性樹脂組合物，通過照相平版印刷法形成抗蝕圖案。作為上述襯底基板，優(yōu)選的可以列舉LCD基板、PDP基板(玻璃基板)等FPD用基板，半導體基板(例如硅片等)等也可以。作為襯底基板使用的基板，可以是裸板，需要的話，也可以是表面上具有硅氧化膜或鋁、鉬、鉻等金屬膜、ITO膜等金屬氧化物膜、多晶硅等硅膜的基板，或者進一步在這些基板上形成了電路圖案或半導體元件等的基板。在本發(fā)明中，感光性樹脂組合物的涂敷，優(yōu)選采用狹縫涂敷器進行狹縫涂敷。狹縫涂敷時噴嘴與基板的距離(涂敷間隙(Gap))在50200iim內進行任意地選擇。這樣涂敷形成的感光性樹脂膜，在常溫下根據需要進行1IO分鐘左右的自然干燥后，進行預烘焙(例如，在烘焙溫度7014(TC下進行1分鐘左右)后，然后進行曝光，根據需要進行曝光后烘焙(PEB)(例如，烘焙溫度5014(TC)后，用堿溶液進行顯影處理，需要的話，進行顯影后烘焙(例如，烘焙溫度60120°C)，形成所需的感光性樹脂膜圖案(例如抗蝕圖案)。將感光性樹脂組合物涂敷于基板后，需要的話，還可以設置除去溶劑的干燥工序。作為曝光光源，根據所用的感光性樹脂組合物的性能，采用g線、i線等紫外線、KrF準分子激光、ArF準分子激光等遠紫外線、X射線、電子束等。另外，作為用作顯影液的堿溶液，當感光性樹脂組合物為正型時，只要具有使感光性樹脂膜的曝光部分快速溶解，對未曝光部分的溶解速度非常小的性質，則任何堿溶液均可以，具體地，可以列舉氫氧化四甲基銨水溶液等四甲基銨類水溶液、氫氧化鉀、氫氧化鈉等無機堿水溶液等。這些堿水溶液，通常采用15重量％以下的濃度。顯影法采用浸漬法、噴霧法等以前用于感光性樹脂膜顯影的方法即可。實施例以下，列舉實施例、比較例對本發(fā)明進行更具體的說明，但是本發(fā)明并不由這些實施例、比較例進行任何的限定。實施例1相對于100重量份重均分子量以聚苯乙烯換算為8000的酚醛樹脂(間甲酚對甲酚=60:40)，加入2，3，4，4'-四羥基二苯酮與1，2-萘醌二疊氮-5-磺酰氯的酯化物25重量份作為感光劑，加入相對于全部固體成分為1000ppm的氟類表面活性劑(大日本油墨化學工業(yè)株式會社生產的非離子性表面活性劑)，再加入丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與乙酸正丁酯(nBA)(沸點126.rC，蒸發(fā)速度100)的混合溶劑(混合重量比為90:10)，攪拌后用0.2m的濾器進行過濾，調制出溶劑份額占86重量％的感光性樹脂組合物1。實施例2除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與乙酸正丁酯(nBA)(沸點126.rc，蒸發(fā)速度ioo)的混合溶劑(混合重量比為70:30)以外，與實施例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物2。實施例3除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與乙酸正丁酯(nBA)(沸點126.rc，蒸發(fā)速度100)的混合溶劑(混合重量比為50:50)以外，與實施例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物3。實施例4除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙酸正丙酯(nPP)(沸點122.4t:，蒸發(fā)速度120)的混合溶劑(混合重量比為90:10)以夕卜，與實施例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物4。實施例5除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙酸正丙酯(nPP)(沸點122.4t:，蒸發(fā)速度120)的混合溶劑(混合重量比為70:30)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物5。實施例6除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙酸正丙酯(nPP)(沸點122.4t:，蒸發(fā)速度120)的混合溶劑(混合重量比為50:50)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物6。實施例7除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙二醇單甲醚(PGME)(沸點12(TC，蒸發(fā)速度70)的混合溶劑(混合重量比為90:10)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物7。實施例8除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙二醇單甲醚(PGME)(沸點12(TC，蒸發(fā)速度70)的混合溶劑(混合重量比為70:30)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物8。實施例9除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙二醇單甲醚(PGME)(沸點12(TC，蒸發(fā)速度70)的混合溶劑(混合重量比為50:50)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物9。實施例10除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙二醇單甲醚(PGME)(沸點12(TC，蒸發(fā)速度70)的混合溶劑(混合重量比為30:70)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物10。實施例11除了將溶劑替換為丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)與丙二醇單甲醚(PGME)(沸點12(TC，蒸發(fā)速度70)的混合溶劑(混合重量比為20:80)以外，與實施例l同樣地進行，得到感光性樹脂組合物ll。比較例1除了將溶劑替換為單獨的丙二醇單甲醚乙酸酯(PGMEA)以外，與實施例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物12。比較例2除了將感光性樹脂組合物的溶劑份額改為85重量％以外，與比較例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物13。比較例3除了將感光性樹脂組合物的溶劑份額改為84重量％以外，與比較例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物14。比較例4除了將感光性樹脂組合物的溶劑份額改為83重量％以外，與比較例1同樣地進行，得到感光性樹脂組合物15。上述實施例111和比較例14的感光性樹脂組合物115的組成一并如下述表1所示。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage10</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage11</column></row><table>[OOSe][感光性樹脂組合物的涂敷試驗130]將實施例111和比較例14中制得的感光性樹脂組合物115在以下條件下進行涂敷和干燥，對涂敷不勻和涂敷均一性進行評價。涂數和干燥條件采用730mmX920mm的帶Cr的玻璃基板，在小型狹縫噴嘴(寬700mm)離帶Gr玻璃基板的距離為140m的狀態(tài)下進行狹縫涂敷。涂敷速度設定為每秒lOOmm，涂敷后在23t:下進行表2中所示時間的自然干燥，再在加熱板上于IO(TC下進行150秒的烘焙后，得到1.5iim的抗蝕膜?！赐糠蟛粍虻脑u價〉將所得抗蝕膜在Na燈下目測觀察，按照下述評價標準對涂敷不勻進行評價。[評價標準]〇沒有鑒定到涂敷不勻△:略微鑒定到涂敷不勻X:明顯地鑒定到涂敷不勻〈涂敷均一性的評價〉另外，涂敷均一性采用*乂》《？夕M6500型光干涉膜厚測定器(*乂乂卜'J夕》->株式會社制造)進行膜厚測定，按照下述評價標準進行評價。[評價標準]〇膜厚均一性為良好△:膜厚均一性略差X:膜厚均一性差[感光性樹脂組合物的涂敷試驗31](真空干燥條件下的干燥)采用比較例1中制得的感光性樹脂組合物12，進行真空干燥替代自然干燥，并進行涂敷不勻和涂敷均一性的評價。S卩，采用與上述感光性樹脂組合物的涂敷試驗130中同樣的的噴嘴，涂敷感光性樹脂組合物12后，在真空干燥烘箱中安裝定位銷，在其上安置帶Cr玻璃基板進行干燥。真空干燥后，在加熱板上于10(TC下干燥90秒鐘，按照上述涂敷不勻和涂敷均一性的評價標準進行評價。結果列于表2。表2<table>tableseeoriginaldocumentpage12</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage13</column></row><table>由表2可知，本發(fā)明的感光性樹脂組合物，雖然預焙前的自然干燥時間短，或不論干燥時間的長短，均能夠形成沒有涂敷不勻，且膜厚均一的抗蝕膜。[圖案形狀的鑒定試驗]在4英寸的硅片上分別滴加少量感光性樹脂組合物5、8、10(樣品5、8、10)后，采用能夠制得與狹縫涂敷同樣的涂膜的方法(800旋度下旋轉2秒鐘)制得由各感光性樹脂組合物構成的抗蝕涂膜。然后，在23t:下進行3分鐘自然干燥。然后，在加熱板上于10(rC下烘焙90秒鐘后，得到1.5iim的抗蝕膜。將該抗蝕膜在Nikon制造的g+h線步進器(FX-604F)中進行曝光，在2.38重量％的氫氧化四甲基銨水溶液中于23t:下顯影60秒鐘。然后，在加熱板上于13(TC下進行2分鐘后烘焙。在顯影后和后烘焙后，將4.0iim掩模尺寸的曝光部、未曝光部的比率為1:1的曝光部位在SEM下進行觀察。結果如圖1所示。圖1中的(a)為顯影后的抗蝕形狀，(b)為后烘焙后的抗蝕形狀。在所有樣品中，顯影后的抗蝕形狀均為梯形，并且后烘焙后的形狀為所需的形狀即半圓柱體形。另外，除了采用感光性樹脂組合物12作為感光性樹脂組合物，并且進行100Pa/40秒鐘的真空干燥以外，與上述同樣地形成抗蝕圖案，在SEM下觀察顯影后和后烘焙后的形狀。結果如圖2所示。與圖1同樣地，(a)為顯影后的抗蝕形狀，(b)為后烘焙后的抗蝕形狀。如圖2所示，當采用以前的組成的感光性樹脂組合物進行真空干燥時，抗蝕形狀成為T頂，后烘焙后不能獲得所需的截面形狀(半圓柱體形)。由圖案形狀鑒定試驗可知，通過采用本發(fā)明的感光性樹脂組合物形成圖案，可以獲得具有所需截面形狀的圖案。產業(yè)上應用的可能性本發(fā)明的感光性樹脂組合物，可以采用狹縫涂敷法高速、無涂敷不勻且均一地涂敷于基板上。所得的涂膜，在半導體集成電路元件、固態(tài)圖像傳感器元件、濾色器以及液晶顯示元件(LCD)和等離子體顯示器(PDP)等平板顯示器(FPD)的制造過程中，可以作為抗蝕膜、保護膜、使元件表面平坦化的平坦化膜、保持電絕緣的絕緣膜等進行使用，例如，可以利用所形成的抗蝕圖案形成FPD基板等具有微細電路圖案的基板。權利要求一種感光性樹脂組合物，其特征在于，在含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑和溶劑的感光性樹脂組合物中，上述溶劑由丙二醇單甲醚乙酸酯(A)與沸點為145℃以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)的混合溶劑組成。2.權利要求1所述的感光性樹脂組合物，其特征在于，上述沸點為145°C以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)為選自丙二醇單甲醚、丙酸正丙酯、乙酸正丁酯中的至少一種。3.—種圖案的形成方法，其特征在于，將含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑、以及丙二醇單甲醚乙酸酯(A)與沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)的混合溶劑的感光性樹脂組合物通過狹縫涂敷法涂敷于基板上，不采用減壓干燥或真空干燥的方法而進行干燥，然后進行曝光、顯影，形成抗蝕圖案。4.權利要求3所述的圖案的形成方法，其特征在于，上述沸點為145t:以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)為選自丙二醇單甲醚、丙酸正丙酯和乙酸正丁酯中的至少一種。5.—種平板顯示器用基板的制造方法，其特征在于包括通過狹縫涂敷法將權利要求1或2所述的感光性樹脂組合物涂敷于基板上的工序。6.由權利要求5所述的制造方法制造的平板顯示器用基板。7.—種平板顯示器，其特征在于具有權利要求6所述的平板顯示器用基板。全文摘要提供一種感光性樹脂組合物，其在進行狹縫涂敷后，在不采用減壓干燥或真空干燥的方法而進行自然干燥的情況下，干燥時間短、沒有涂敷不勻、涂敷膜厚均一，曝光、顯影后的抗蝕圖案的形狀良好。作為感光性樹脂組合物，采用含有堿可溶性酚醛樹脂、含醌二疊氮基的感光劑、以及丙二醇單甲醚乙酸酯(A)與沸點為145℃以下且乙酸正丁酯蒸發(fā)速度為50以上的溶劑(B)的混合溶劑的感光性樹脂組合物，將其通過狹縫涂敷法涂敷于基板上，不采用減壓干燥或真空干燥的方法而進行干燥，然后進行曝光、顯影，形成抗蝕圖案。文檔編號G03F7/00GK101794073SQ20101000319公開日2010年8月4日申請日期2010年1月14日優(yōu)先權日2009年1月29日發(fā)明者能谷敦子,遠山宜亮申請人:Az電子材料(日本)株式會社