專利名稱：具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明關(guān)于一種光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)，特別是關(guān)于一種具有抗塵結(jié) 構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)。
背景技術(shù)：
隨著人們對(duì)電子設(shè)備的依賴度增加，電子設(shè)備對(duì)環(huán)境的適應(yīng)能力也被逐漸提升。 通常會(huì)發(fā)熱的電子設(shè)備其殼體多具有多個(gè)氣孔，以供空氣流通以帶走殼體內(nèi)各個(gè)電子元件 于運(yùn)作時(shí)所散發(fā)的熱能。然而，在某些環(huán)境下，例如干燥地區(qū)，空氣中常常飄浮著細(xì)微的塵 土，這些懸浮的塵土亦將隨著空氣進(jìn)入殼體內(nèi)，并部分沉積于各電子元件的表面上。對(duì)一般 散熱需求而言，并無太大問題，但對(duì)于需感應(yīng)元件外部資訊的電子元件，則可能因該電子元 件的表面沉積相當(dāng)量的塵土而使其感應(yīng)功能減弱，甚至失效，例如光學(xué)感應(yīng)裝置。尤其是投 影機(jī)中色輪馬達(dá)轉(zhuǎn)速控制用的光學(xué)感應(yīng)裝置，一旦失效將造成整個(gè)投影機(jī)無法正常運(yùn)作。此外，由于色輪馬達(dá)轉(zhuǎn)速相當(dāng)高，通常高于7200rpm，且用來感應(yīng)馬達(dá)轉(zhuǎn)速的光學(xué) 感應(yīng)裝置也相當(dāng)于接馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)表面，所以馬達(dá)因旋轉(zhuǎn)而帶動(dòng)的氣流亦將使光學(xué)感應(yīng)裝置 表面沉積更多的塵土。同時(shí)，馬達(dá)的旋轉(zhuǎn)表面亦可能因高速旋轉(zhuǎn)而產(chǎn)生靜電，因而旋轉(zhuǎn)表面 易吸附更多的塵土，更加惡化光學(xué)感應(yīng)裝置表面塵土沉積的問題。并且，當(dāng)吸附于旋轉(zhuǎn)表面 上的塵土位于光學(xué)感應(yīng)裝置利用的標(biāo)記上時(shí)，亦將造成光學(xué)感應(yīng)裝置感應(yīng)度下降，同樣可 能造成其感應(yīng)功能減弱，甚至失效。若將整個(gè)色輪馬達(dá)與光學(xué)感應(yīng)裝置密封，雖可防塵但有 礙色輪馬達(dá)的散熱，可能造成馬達(dá)轉(zhuǎn)速不穩(wěn)定，產(chǎn)生色彩錯(cuò)誤的投影影像。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的之一在于提供一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置 及投影機(jī)，光學(xué)感應(yīng)裝置用于感應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)元件的旋轉(zhuǎn)表面。該光學(xué)感應(yīng)裝置利用該抗塵結(jié)構(gòu) 大幅減少塵土的沉積，使得電子設(shè)備得以持續(xù)運(yùn)作，亦避免使用者為了清除塵土，拆裝電子 設(shè)備而造成電子設(shè)備的損壞。為達(dá)上述目的，本發(fā)明提供一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置，用于感應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)元 件，該轉(zhuǎn)動(dòng)元件具有旋轉(zhuǎn)表面，該旋轉(zhuǎn)表面沿旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)。該光學(xué)感應(yīng)裝置包含座體、光 學(xué)感應(yīng)器及止擋塊。該光學(xué)感應(yīng)器設(shè)置于該座體上，該光學(xué)感應(yīng)器具有感應(yīng)面，該感應(yīng)面朝 向該轉(zhuǎn)動(dòng)元件，該感應(yīng)面與該旋轉(zhuǎn)表面間形成有第一距離。該止擋塊設(shè)置于該光學(xué)感應(yīng)器 的一側(cè)，該止擋塊與該光學(xué)感應(yīng)器依該旋轉(zhuǎn)方向依序設(shè)置于該座體上，該止擋塊具有停滯 表面，該停滯表面與該旋轉(zhuǎn)表面間形成有第二距離，其中該第二距離小于或等于該第一距 罔。該止擋塊設(shè)置于光學(xué)感應(yīng)器旁，可阻礙帶有塵土的氣流的路徑，并且該停滯表面 與該旋轉(zhuǎn)表面間形成狹長(zhǎng)的流道，則可在不妨礙該轉(zhuǎn)動(dòng)元件的轉(zhuǎn)動(dòng)需求下，亦限制該氣流 的路徑，減少塵土沉積的機(jī)會(huì)。當(dāng)該轉(zhuǎn)動(dòng)元件轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí)，由該旋轉(zhuǎn)表面所帶動(dòng)的氣流將僅能流 通該狹長(zhǎng)的流道，并可使其所攜帶的大部分塵土留滯于該止擋塊的該停滯表面上。當(dāng)越來越多的塵土沉積于該停滯表面上時(shí)，該狹長(zhǎng)的流道將更形狹窄，更不利后續(xù)的氣流流入，亦 即后續(xù)塵土沉積的機(jī)會(huì)減少。明顯地，藉由該止擋塊的設(shè)置，流經(jīng)該光學(xué)感應(yīng)器的氣流已大幅減少，并且利用該 止擋塊的該停滯表面的設(shè)計(jì)，可使該氣流在流經(jīng)該光學(xué)感應(yīng)器之前，將所攜帶的大部分塵 土先行沉積于該停滯表面上，進(jìn)而使得該光學(xué)感應(yīng)器的該感應(yīng)面上的塵土沉積量可大幅減 少，增加該光學(xué)感應(yīng)器的正常運(yùn)作時(shí)間。進(jìn)一步地，該感應(yīng)面低于該停滯表面。進(jìn)一步地，該停滯表面遮蓋45度以上旋轉(zhuǎn)角度的該旋轉(zhuǎn)表面。進(jìn)一步地，該停滯表面為弧形表面。 進(jìn)一步地，復(fù)數(shù)個(gè)凹陷形成于該停滯表面上。進(jìn)一步地，該停滯表面為粗糙表面。本發(fā)明還提供一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的濾光裝置。該濾光裝置利用本發(fā)明的光學(xué)感應(yīng) 裝置結(jié)合色輪模組。該色輪模組設(shè)置于該座體上并包含該轉(zhuǎn)動(dòng)元件，例如色輪馬達(dá)。如前 所述，本發(fā)明的濾光裝置配置有具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置，因此該生學(xué)感應(yīng)器可長(zhǎng)時(shí) 間正常運(yùn)作，該色輪馬達(dá)的轉(zhuǎn)速即可穩(wěn)定地被控制。進(jìn)一步地，該色輪模組包含濾光鏡片，該濾光鏡片固定于該轉(zhuǎn)動(dòng)元件上。本發(fā)明還提供一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的投影機(jī)。該投影機(jī)利用機(jī)體內(nèi)設(shè)置本發(fā)明的濾 光裝置。該機(jī)體內(nèi)形成容置空間，該濾光裝置的各部件即設(shè)置于該容置空間中。該機(jī)體可 形成數(shù)個(gè)氣孔，以利空氣流通。一如前所述，本發(fā)明的濾光裝置配置有具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué) 感應(yīng)裝置，因此該色輪馬達(dá)的轉(zhuǎn)速可穩(wěn)定地被控制，該投影機(jī)即可投影出正確地的影像。相較于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)可 有效減少塵土沉積于光學(xué)感應(yīng)器的感應(yīng)面上的沉積量，而不致阻礙機(jī)體內(nèi)氣流對(duì)旋轉(zhuǎn)元件 等元件的冷卻作用。故當(dāng)流入機(jī)體內(nèi)的氣流含有過多的塵土?xí)r，本明發(fā)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾 光裝置及投影機(jī)仍能正常運(yùn)作，不會(huì)如一般投影機(jī)因塵土遮蓋光學(xué)感應(yīng)器而無法正常判斷 出色輪轉(zhuǎn)速以正確地控制色輪轉(zhuǎn)速、投影出正確的影像。關(guān)于本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)與精神可以藉由以下的發(fā)明詳述及所附圖式得到進(jìn)一步的了解。


圖1為根據(jù)本發(fā)明的較佳實(shí)施例投影機(jī)的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為圖1中濾光裝置的外觀示意圖；圖3為圖2中旋轉(zhuǎn)元件及光學(xué)感應(yīng)裝置的簡(jiǎn)化的示意圖；圖4為圖3中停滯表面上塵土沉積量分布示意圖；圖5為止擋塊的側(cè)視圖；圖6為具有用來清潔旋轉(zhuǎn)表面的清潔裝置與旋轉(zhuǎn)元件及光學(xué)感應(yīng)裝置的簡(jiǎn)化的 示意圖；圖7為具有與圖6不同作動(dòng)方式的用來清潔旋轉(zhuǎn)表面的清潔裝置的示意圖；圖8為具有用來清潔感應(yīng)面的清潔裝置與旋轉(zhuǎn)元件及光學(xué)感應(yīng)裝置的簡(jiǎn)化的示 意圖。
具體實(shí)施例方式請(qǐng)參閱圖1，其為根據(jù)本發(fā)明較佳實(shí)施例的投影機(jī)1的內(nèi)部結(jié)構(gòu)示意圖。投影機(jī)1 包含機(jī)體10、光源裝置12、濾光裝置14、光學(xué)調(diào)制裝置16以及投影鏡頭18。機(jī)體10其內(nèi) 形成有容置空間102，用來容置光源裝置12、濾光裝置14、光學(xué)調(diào)制裝置16、投影鏡頭18及 其他所需的電子部件。自光源裝置12發(fā)射的光線通過濾光裝置14以提供光學(xué)調(diào)制裝置16 所需的色光，光學(xué)調(diào)制裝置16可包含數(shù)位微鏡裝置(digital micro-mirror device,DMD) 或液晶顯示器(liquidcrystal display, IXD)以對(duì)該色光進(jìn)行調(diào)制形成所需的影像，最后 經(jīng)由投影鏡頭18將該影像投影至屏幕。為突顯濾光裝置14位置，故于圖1中，濾光裝置14 以實(shí)線表示，其它部件則以虛線表示。請(qǐng)參閱圖2，其為圖1中濾光裝置14的外觀示意圖。濾光裝置14包含色輪模組 142及光學(xué)感應(yīng)裝置144。色輪模組142包含旋轉(zhuǎn)元件1422及固定于旋轉(zhuǎn)元件1422上的 濾光鏡片1424。于本實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)元件1422可為色輪馬達(dá)，用來旋轉(zhuǎn)濾光鏡片1424。旋 轉(zhuǎn)元件1422具有旋轉(zhuǎn)表面1426，其沿著圖2中箭頭所示的旋轉(zhuǎn)方向1428旋轉(zhuǎn)。旋轉(zhuǎn)表面 1426其上可設(shè)有標(biāo)記(未繪示)，用來供光學(xué)感應(yīng)器1444辨識(shí)。光學(xué)感應(yīng)裝置144包含座 體1442、光學(xué)感應(yīng)器1444 (以虛線大致顯示其位置)及止擋塊1446。光學(xué)感應(yīng)器1444設(shè) 置于座體1442上，止擋塊1446設(shè)置于光學(xué)感應(yīng)器1444的一側(cè)，并且止擋塊1446與光學(xué)感 應(yīng)器1444依旋轉(zhuǎn)方向1428依序設(shè)置于座體1442上。止擋塊1446為塑膠材質(zhì)的射出元件并以螺絲鎖固于座體1442上，于實(shí)際應(yīng)用中， 亦可以黏著、卡合的方式固定于座體1442上。另外，色輪模組142與光學(xué)感應(yīng)裝置144整合 設(shè)置，座體1442被設(shè)計(jì)能同時(shí)承載色輪模組142與光學(xué)感應(yīng)裝置144并且兼具其他功能， 如與光源裝置12、光學(xué)調(diào)制裝置16或機(jī)體10連接。請(qǐng)并參閱圖3，其為圖2中旋轉(zhuǎn)元件1422及光學(xué)感應(yīng)裝置144的簡(jiǎn)化的示意圖，其 視角方向?yàn)樾D(zhuǎn)元件1422的旋轉(zhuǎn)軸向，并省略濾光鏡片1424。于圖3中，電路板1448設(shè)置 于座體1442上，光學(xué)感應(yīng)器1444電連接于電路板1448。于實(shí)際應(yīng)用中，旋轉(zhuǎn)元件1422亦 可電連接于電路板1448上。投影機(jī)1的控制系統(tǒng)藉由電路板1448對(duì)光學(xué)感應(yīng)器1444進(jìn) 行信號(hào)偵測(cè)，并同時(shí)藉由電路板1448控制旋轉(zhuǎn)元件1422的旋轉(zhuǎn)。光學(xué)感應(yīng)器1444具有感應(yīng)面1450，其朝向旋轉(zhuǎn)表面1426，用來感應(yīng)旋轉(zhuǎn)元件1422 的旋轉(zhuǎn)資訊，例如感應(yīng)設(shè)置于旋轉(zhuǎn)表面1426上的標(biāo)記，進(jìn)而計(jì)算出旋轉(zhuǎn)元件1422的轉(zhuǎn)速。 止擋塊1446具有停滯表面1452，大致平行旋轉(zhuǎn)表面1426而呈弧形表面，但本發(fā)明不以此 為限，原則上于旋轉(zhuǎn)表面1426與停滯表面1452間形成大致流暢的氣流通道即可。感應(yīng)面 1450與旋轉(zhuǎn)表面1426間形成有第一距離1454，停滯表面1452與旋轉(zhuǎn)表面1426間形成有 第二距離1456，于本實(shí)施例中，第二距離1456等于該第一距離1454。于實(shí)際應(yīng)用中，第二 距離1456亦可小于該第一距離1454，亦即感應(yīng)面1450低于停滯表面1452，對(duì)感應(yīng)面1450 上的塵土沉積量改善更佳。關(guān)于塵土沉積說明詳見后文。于本實(shí)施例中，旋轉(zhuǎn)元件1422可為色輪馬達(dá)，其轉(zhuǎn)速可達(dá)7200rpm以上，故旋轉(zhuǎn) 表面1426于高速旋轉(zhuǎn)時(shí)將在其表面引起一股氣流，如圖3中帶箭頭虛線所示。但停滯表 面1452與旋轉(zhuǎn)表面1426間的間距(即第二距離1456)小，故于旋轉(zhuǎn)表面1426與停滯表 面1452間形成狹長(zhǎng)的流道，引起的該股氣流僅能被限制在此狹長(zhǎng)的流道內(nèi)通過旋轉(zhuǎn)表面
51426與停滯表面1452之間；換句話說，僅有貼近旋轉(zhuǎn)表面1426的氣流，才能通過該狹長(zhǎng)的 流道，亦即大幅減少氣流(及其所攜帶的懸浮微粒)對(duì)感應(yīng)面1450的影響。進(jìn)一步而言，當(dāng)投影機(jī)1使用環(huán)境充滿塵土，例如干燥且風(fēng)大的氣候，投影機(jī)1為 本身散熱需求，將充滿塵土的空氣引入機(jī)體10內(nèi)，旋轉(zhuǎn)元件1422高速旋轉(zhuǎn)并引起攜帶塵土 的氣流。因根據(jù)本發(fā)明的光學(xué)感應(yīng)裝置144具有抗塵結(jié)構(gòu)的設(shè)計(jì)，即利用停滯表面1452與 旋轉(zhuǎn)表面1426形成的狹長(zhǎng)的流道，以減少流通的氣流量，故僅有少量攜帶有塵土的氣流流 過。而當(dāng)該氣流流經(jīng)停滯表面1452與旋轉(zhuǎn)表面1426之間時(shí)，該氣流攜帶的部分塵土將沉 積于停滯表面1452上，并且該氣流于進(jìn)入該狹長(zhǎng)的流道內(nèi)即開始發(fā)生沉積現(xiàn)象，故越到后 段流道，該氣流所含的塵土量也就越少，沉積于停滯表面1452后段上的塵土量也就越少， 亦即越靠近光學(xué)感應(yīng)器1444的停滯表面1452的沉積量越少，其沉積量分布示意圖如圖4 所示，其中帶箭頭虛線表示氣流流動(dòng)方向。明顯地，當(dāng)該氣流流至該狹長(zhǎng)的流道的末段時(shí)(即靠近感應(yīng)面1450處)，該氣流 所含的塵土量已明顯減少，故能沉積在感應(yīng)面1450上的塵土也就明顯少于未設(shè)有止擋塊 1446的情形。進(jìn)一步來說，增長(zhǎng)該狹長(zhǎng)的流道的長(zhǎng)度即可增加該氣流在到達(dá)感應(yīng)面1450 之前的塵土沉積量，亦即減少感應(yīng)面1450上的塵土沉積量。于本實(shí)施例中，停滯表面1452 可較佳地遮蓋約90度旋轉(zhuǎn)角度1430的旋轉(zhuǎn)表面1426，即該狹長(zhǎng)的流道的長(zhǎng)度約旋轉(zhuǎn)元件 1422四分之一的周長(zhǎng)。但本發(fā)明不以此為限，停滯表面1452的遮蓋角度可為90度以上或 是較小的角度，如30度、45度或60度亦可。因此，感應(yīng)面1450上的塵土覆蓋減少，光學(xué)感 應(yīng)器1444也就能延長(zhǎng)正常運(yùn)作的時(shí)間，亦即旋轉(zhuǎn)元件1422的轉(zhuǎn)速可被正確地控制，投影機(jī) 1才能投影出正確的影像。請(qǐng)參閱圖5，其為止擋塊1446的側(cè)視圖。為使流經(jīng)該狹長(zhǎng)的流道的氣流中更多的 塵土可沉積于停滯表面1452上，故于實(shí)際應(yīng)用上，可于停滯表面1452上形成復(fù)數(shù)個(gè)凹陷 1458，以留滯沉積于停滯表面1452上的塵土，亦同時(shí)可增加塵土沉積量，進(jìn)而減少流經(jīng)感 應(yīng)面1450的氣流的塵土含量，即減少沉積于感應(yīng)面1450的塵土沉積量。同理，停滯表面 1452亦可形成波浪或鋸齒狀的表面形態(tài)，亦有留滯沉積的塵土效果。另外，停滯表面1452 亦可形成粗糙表面，同樣具有留滯塵土及增加塵土沉積量的效果，尤其是對(duì)極細(xì)微的塵土 效果更佳。補(bǔ)充說明的是，圖5中的凹陷1458是夸大繪示，于實(shí)際應(yīng)用中，其于停滯表面 1452上各處的設(shè)置數(shù)量及密度，可依實(shí)際產(chǎn)品試驗(yàn)而定，不應(yīng)受圖5限制。請(qǐng)參閱圖6，其為具有用來清潔旋轉(zhuǎn)表面1426的清潔裝置與旋轉(zhuǎn)元件1422及光 學(xué)感應(yīng)裝置144的簡(jiǎn)化的示意圖，其架構(gòu)與圖3大致相同，故相同的元件不再贅述。該清潔 裝置包含毛刷柄1460、刷毛1462、彈簧1464、磁性物體1466及磁力產(chǎn)生元件1468。毛刷柄 1460夾住刷毛1462并且可相對(duì)座體1442 (或?yàn)殡娐钒?448)旋轉(zhuǎn)。彈簧1464 (或其他彈 性物體)提供彈力以將毛刷柄1460拉向座體1442、或推向座體1442 (例如彈簧1464設(shè)置 于毛刷柄1460與磁力產(chǎn)生元件1468之間)。磁性物體1466固定于毛刷柄1460上。磁力 產(chǎn)生元件1468用來產(chǎn)生磁力，藉以吸引磁性物體1466，以使毛刷柄1460克服彈簧1464拉 力而旋離座體1442，并使刷毛1462接觸旋轉(zhuǎn)表面1426，進(jìn)而清潔旋轉(zhuǎn)表面1426，例如附著 于旋轉(zhuǎn)表面1426上的塵土及其他雜質(zhì)。磁力產(chǎn)生元件1468可利用電磁鐵達(dá)成。若磁性物體1466為永久磁鐵，且磁力產(chǎn)生 元件1468為電磁鐵，則可藉由對(duì)磁力產(chǎn)生元件1468的線圈通以不同流向的電流以達(dá)到對(duì)該永久磁鐵產(chǎn)生吸引或排斥的效果，而無需前述彈簧1464的設(shè)置。當(dāng)然，若磁性物體1466 與磁力產(chǎn)生元件1468均為電磁鐵時(shí)，亦可藉由控制兩者的磁極方向來達(dá)到兩者間的吸引 或排斥效果。另外，毛刷柄1460的作動(dòng)亦可為滑動(dòng)于座體1442上(如圖7所示)，以取代 前述旋轉(zhuǎn)作動(dòng)方式，意即其可藉由滑軌實(shí)現(xiàn)。補(bǔ)充說明的是，于圖6及圖7中，以虛線表示 該清潔裝置處于待命狀態(tài)的位置。另外，若刷毛1462使用較柔軟的材料制成時(shí)，刷毛1462 可始終保持在清潔旋轉(zhuǎn)表面1426的位置，而無需前述磁性物體1466及磁力產(chǎn)生元件1468 等用來將刷毛1462移離旋轉(zhuǎn)表面1426的元件設(shè)置。同理，亦可于旋轉(zhuǎn)元件1422上設(shè)置感應(yīng)面1450清潔裝置，用來清潔感應(yīng)面1450， 例如用來清潔附著于感應(yīng)面1450上的塵土及其他雜質(zhì)。請(qǐng)參閱圖8，其為具有用來清潔感 應(yīng)面1450的清潔裝置與旋轉(zhuǎn)元件1422及光學(xué)感應(yīng)裝置144的簡(jiǎn)化的示意圖，其中止擋塊 1446以虛線表示。于圖8的配置中，清潔裝置可單純地僅包含刷毛1462(或含一小部分用 來固著刷毛1462的毛刷柄)，設(shè)置于旋轉(zhuǎn)表面1426上。當(dāng)旋轉(zhuǎn)元件1422旋轉(zhuǎn)時(shí)，刷毛1462 即可刷過感應(yīng)面1450以清除附著于感應(yīng)面1450上的塵土及其他雜質(zhì)，當(dāng)然，附著于停滯表 面1452上的塵土及其他雜質(zhì)亦將一并清除。于此情形，止擋塊1446可略而不用。若考慮 止擋塊1446的功能，刷毛1462無需不間斷地清潔感應(yīng)面1450，故清潔裝置可計(jì)設(shè)成可伸縮 于旋轉(zhuǎn)元件1422內(nèi)，當(dāng)需要清潔時(shí)，清潔裝置的刷毛1462伸出于旋轉(zhuǎn)表面1426即可。補(bǔ) 充說明的是，前述分別用來潔清旋轉(zhuǎn)表面1426及感應(yīng)面1450的清潔裝置可同時(shí)存在，不限 前述各圖中所示的配置。再補(bǔ)充說明的是，前述各具體實(shí)施例雖以投影機(jī)及其濾光裝置為例，但本發(fā)明不 以此為限。舉凡需利用光學(xué)感應(yīng)器感應(yīng)旋轉(zhuǎn)元件的應(yīng)用中，本發(fā)明均有其適用，例如電氣箱 的散熱風(fēng)扇的轉(zhuǎn)速監(jiān)控。綜上所述，本發(fā)明的具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)可有效減 少塵土沉積于光學(xué)感應(yīng)器的感應(yīng)面上的沉積量，而不致阻礙機(jī)體內(nèi)氣流對(duì)旋轉(zhuǎn)元件等元件 的冷卻作用。故當(dāng)流入機(jī)體內(nèi)的氣流含有過多的塵土?xí)r，本發(fā)明的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置 及投影機(jī)仍能正常運(yùn)作，不會(huì)如一般投影機(jī)因塵土遮蓋光學(xué)感應(yīng)器而無法正常判斷出色輪 轉(zhuǎn)速以正確地控制色輪轉(zhuǎn)速、投影出正確的影像。以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例，凡依本發(fā)明權(quán)利要求范圍所做的均等變化與 修飾，皆應(yīng)屬本發(fā)明的涵蓋范圍。
權(quán)利要求
一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置，用于感應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)元件，該轉(zhuǎn)動(dòng)元件具有旋轉(zhuǎn)表面，該旋轉(zhuǎn)表面沿旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)，其特征在于該光學(xué)感應(yīng)裝置包含有座體；光學(xué)感應(yīng)器，其設(shè)置于該座體上，該光學(xué)感應(yīng)器具有感應(yīng)面，該感應(yīng)面朝向該轉(zhuǎn)動(dòng)元件，該感應(yīng)面與該旋轉(zhuǎn)表面間形成有第一距離；以及止擋塊，其設(shè)置于該光學(xué)感應(yīng)器的一側(cè)，該止擋塊與該光學(xué)感應(yīng)器依該旋轉(zhuǎn)方向依序設(shè)置于該座體上，該止擋塊具有停滯表面，該停滯表面與該旋轉(zhuǎn)表面間形成有第二距離，其中該第二距離小于或等于該第一距離。
2.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)感應(yīng)裝置，其特征在于該感應(yīng)面低于該停滯表面。
3.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)感應(yīng)裝置，其特征在于該停滯表面遮蓋45度以上旋轉(zhuǎn)角度 的該旋轉(zhuǎn)表面。
4.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)感應(yīng)裝置，其特征在于該停滯表面為弧形表面。
5.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)感應(yīng)裝置，其特征在于復(fù)數(shù)個(gè)凹陷形成于該停滯表面上。
6.如權(quán)利要求1所述的光學(xué)感應(yīng)裝置，其特征在于該停滯表面為粗糙表面。
7.一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的濾光裝置，其特征在于該濾光裝置包含有如權(quán)利要求1至6任意一項(xiàng)所述的光學(xué)感應(yīng)裝置；以及色輪模組，其設(shè)置于該座體上并包含該轉(zhuǎn)動(dòng)元件。
8.如權(quán)利要求7所述的濾光裝置，其特征在于該色輪模組包含濾光鏡片，該濾光鏡片 固定于該轉(zhuǎn)動(dòng)元件上。
9.一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的投影機(jī)，其特征在于該投影機(jī)包含有機(jī)體，其內(nèi)形成有容置空間；以及如權(quán)利要求7所述的濾光裝置，該座體設(shè)置于該容置空間中。
10.如權(quán)利要求9所述的投影機(jī)，其特征在于該色輪模組包含濾光鏡片，該濾光鏡片固 定于該轉(zhuǎn)動(dòng)元件上。全文摘要
本發(fā)明揭露一種具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)，光學(xué)感應(yīng)裝置用于感應(yīng)轉(zhuǎn)動(dòng)元件，轉(zhuǎn)動(dòng)元件具有旋轉(zhuǎn)表面，旋轉(zhuǎn)表面沿旋轉(zhuǎn)方向旋轉(zhuǎn)。光學(xué)感應(yīng)裝置包含座體、光學(xué)感應(yīng)器及止擋塊。止擋塊位于光學(xué)感應(yīng)器的一側(cè)并與光學(xué)感應(yīng)器依旋轉(zhuǎn)方向依序設(shè)置于座體上。止擋塊的停滯表面與旋轉(zhuǎn)表面間的距離小于光學(xué)感應(yīng)裝置的感應(yīng)面與旋轉(zhuǎn)表面間的距離。當(dāng)氣流流經(jīng)停滯表面與旋轉(zhuǎn)表面之間時(shí)，其所攜帶的塵土可部分沉積于停滯表面上，進(jìn)而減少感應(yīng)面上的塵土沉積量。本發(fā)明的具有抗塵結(jié)構(gòu)的光學(xué)感應(yīng)裝置、濾光裝置及投影機(jī)可有效減少塵土沉積于光學(xué)感應(yīng)器的感應(yīng)面上的沉積量，而不致阻礙機(jī)體內(nèi)氣流對(duì)旋轉(zhuǎn)元件等元件的冷卻作用。
文檔編號(hào)G03B21/14GK101957174SQ20101016615
公開日2011年1月26日 申請(qǐng)日期2010年4月18日 優(yōu)先權(quán)日2010年4月18日
發(fā)明者施富雄, 沈俊明 申請(qǐng)人:蘇州佳世達(dá)光電有限公司;佳世達(dá)科技股份有限公司