專利名稱：：顯示基板、及其制造方法以及具有該基板的顯示面板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及一種顯示基板、制造該顯示基板的方法以及具有該顯示基板的顯示面板。更具體而言，本發(fā)明涉及一種能夠通過簡化制造工藝來降低制造成本并提高生產(chǎn)便利性的顯示基板，制造該顯示基板的方法以及具有該顯示基板的顯示面板。
背景技術(shù)：
：通常，顯示裝置為用戶顯示圖像以便識別由信息處理單元處理的數(shù)據(jù)。平板顯示裝置具有例如小型化、重量輕的結(jié)構(gòu)、高清晰度等等的優(yōu)點，因此平板顯示裝置得到廣泛應(yīng)用。液晶顯示(“IXD”)裝置作為平板顯示裝置經(jīng)常被使用。IXD裝置利用液晶材料來顯示圖像。IXD裝置使用液晶材料來顯示圖像。液晶依據(jù)根據(jù)施于其上的電場強度來改變光透射率。IXD裝置包括具有陣列基板的IXD面板、相對基板以及液晶層。陣列基板具有形成在其上的作為開關(guān)元件的薄膜晶體管(“TFT”)。相對基板與陣列基板相組合。液晶層設(shè)置在陣列基板與相對基板之間。通常，IXD裝置具有包括操作界面的輸入部分，以及處理通過輸入部分輸入的信號的系統(tǒng)部分。LCD裝置通過單向通訊利用從系統(tǒng)部分輸出的控制信號來顯示圖像。近來，IXD裝置使用了觸摸面板，用戶的指令可以使用IXD面板的顯示圖標(biāo)直接輸入，而不是單向通訊。觸摸面板設(shè)置在IXD面板上，并在IXD面板屏幕上具有顯示圖標(biāo)。當(dāng)使用者用手指或光筆等觸摸顯示圖標(biāo)并選擇要執(zhí)行的命令時，觸摸面板檢測到觸摸點并依據(jù)所選圖標(biāo)具有的命令來驅(qū)動IXD裝置。觸摸面板可以在沒有用于計算機的例如鍵盤或鼠標(biāo)的輸入裝置時以及在沒有用于移動產(chǎn)品的小鍵盤時使用，因此，其上具有觸摸屏的觸摸面板將被越來越廣泛地使用。然而，由于觸摸面板設(shè)置在IXD面板之上，具有觸摸面板的產(chǎn)品的厚度或尺寸將變大。為了解決這個問題，觸摸面板與LCD面板將整體形成。與其中具有光傳感器的觸摸面板整體形成的LCD面板是觸摸面板的一個示例性例子。當(dāng)手指或光筆等接觸某處時，光傳感器感知來自陰影或光筆產(chǎn)生的光的輸入點。然而，當(dāng)外圍光變強或變?nèi)鯐r，光傳感器的敏感度將變大或變小。因此，具有光傳感器的LCD面板具有當(dāng)外圍光變強或變?nèi)鯐r，難以確定觸摸點的問題。為了解決上述問題，開發(fā)了一種觸摸屏類型的LCD面板。觸摸屏類型的LCD面板具有一個導(dǎo)電突起以及檢測線。當(dāng)使用者觸摸觸摸屏類型的LCD面板時，觸摸屏類型的LCD面板檢測觸摸點坐標(biāo)。具有其上形成的導(dǎo)電突起與檢測線的LCD面板，進一步包括維持陣列基板與相對基板之間的間隙并支持兩個基板的支持元件。然而，導(dǎo)電突起與支持元件難以通過一個步驟整體地制造，那么，將增加制造工藝。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明提供了一種能簡化制造工藝的顯示基板。本發(fā)明還提供了一種該顯示基板的制造方法。本發(fā)明還提供了一種具有該顯示基板的顯示面板。在依據(jù)本發(fā)明的顯示基板的實施例中，提供了具有檢測觸摸點坐標(biāo)的觸摸屏功能的顯示面板的顯示基板，顯示基板與陣列基板在觸摸點上電連接，該陣列基板具有形成在其上的多個像素部分、第一線和第二線，像素部分由多條柵線以及多條數(shù)據(jù)線確定，第一與第二線檢測觸摸點，該顯示基板包括基礎(chǔ)基板、支持圖案、第一突起圖案以及第二突起圖案。支持圖案直接形成在基礎(chǔ)基板上，其具有第一長度并與陣列基板保持均勻的分隔距離。第一和第二突起圖案直接形成在基礎(chǔ)基板上，其具有第二長度并在接觸點分別與第一和第二線電連接。第一長度可以比第二長度長。這里，第一與第二突起圖案可具有形成在其上的導(dǎo)電層，并且顯示基板可進一步包括形成在其上的與像素部分相應(yīng)的濾色器層。在依據(jù)本發(fā)明的示例性顯示基板的制造方法的示例性實施例中，制造顯示面板的顯示基板的方法，其中該顯示基板具有觸摸屏功能來確定觸摸點的坐標(biāo)并與陣列基板在觸摸點上電連接，陣列基板具有形成在其上的多個像素部分、第一線和第二線，由多條柵線以及多條數(shù)據(jù)線確定的像素部分、以及檢測觸摸點的第一線與第二線，該方法包括在基礎(chǔ)基板上涂覆有機材料層，在有機材料層的上方并與有機材料層分離地設(shè)置曝光掩模，該曝光掩模包括形成在其上的第一掩模圖案和第二掩模圖案，第一掩模圖案形成支持圖案以及第二掩模圖案形成第一突起圖案以及第二突起圖案，曝光有機材料層同時維持曝光掩模和有機材料層之間均勻分隔距離，并顯影有機材料層來形成支持圖案以及第一與第二突起圖案。該方法可進一步包括消除曝光區(qū)域中的有機材料層，以及形成濾色器層，在濾色器層、有機材料層與光阻擋層的上方形成導(dǎo)電層，在導(dǎo)電層上形成圖案，以及消除與支持圖案相應(yīng)的區(qū)域中的導(dǎo)電層。在依據(jù)本發(fā)明的示例性顯示基板的制造方法的另一個實施例中，制造與陣列基板相應(yīng)的具有形成在其上的多個像素部分以及信號線的顯示基板的方法，其中多個像素部分由多條柵線與多條數(shù)據(jù)線確定，信號線檢測觸摸點，該方法包括形成與基礎(chǔ)基板的像素部分相應(yīng)的濾色器圖案，在其上形成了濾色器圖案的基礎(chǔ)基板上形成有機材料層，構(gòu)圖有機材料層，以及分別形成具有不同直徑的支持圖案以及突起圖案，在其上形成了突起圖案的基礎(chǔ)基板上形成透明電極層，并形成覆蓋突起圖案的突起電極，以及在其上形成了透明電極層的基礎(chǔ)基板上分別通過熱壓步驟形成具有不同高度的支持圖案以及突起圖案。在依據(jù)本發(fā)明的顯示基板的制造方法的另一個的實施例中，其上形成了多個像素部分、開關(guān)元件以及信號線的顯示基板的制造方法，其中多個像素由多條柵線與多條數(shù)據(jù)線確定，開關(guān)元件形成在每個像素部分上，數(shù)據(jù)線檢測觸摸點，該方法包括在其上形成了開關(guān)元件的基礎(chǔ)基板上形成有機材料層，構(gòu)圖有機材料層，分別形成具有不同直徑的支持圖案以及突起圖案，在其上形成了支持圖案與突起圖案的基礎(chǔ)基板上形成透明電極層，構(gòu)圖透明電極層，并形成覆蓋突起圖案的突起電極和與開關(guān)元件電連接的像素電極，在其上形成了像素電極的基礎(chǔ)基板上通過熱壓步驟分別形成具有不同高度的支持圖案以及突起圖案。在依據(jù)本發(fā)明的顯示面板的另一個實施例中，顯示面板包括陣列基板與相對基板。陣列基板具有形成在其上的多個像素部分、第一信號線與第二信號線，其中多個像素部分由多條柵線與多條數(shù)據(jù)線確定，第一與第二信號線檢測觸摸點并分別形成在柵線與數(shù)據(jù)線的同一方向上。相對基板與陣列基板相組合，來容納液晶材料。相對基板包括光阻擋層、支持圖案、第一突起圖案以及第二突起圖案。光阻擋層形成在與柵線以及數(shù)據(jù)線相應(yīng)區(qū)域的基礎(chǔ)基板上。在光阻擋層上直接形成具有第一長度的支持圖案，并與陣列基板維持均勻的分隔距離。在光阻擋層上直接形成具有第二長度的第一與第二突起圖案。在依據(jù)本發(fā)明的顯示基板的另一個實施例中，具有檢測觸摸點的坐標(biāo)的觸摸屏功能的顯示面板的顯示基板，該顯示基板與相對基板在觸摸點上電連接，包括由多個在第一方向延伸的柵線以及多個在第二方向延伸的數(shù)據(jù)線確定的多個像素部分；形成在多個像素部分上的開關(guān)元件；在第一方向上延伸的第一信號線；在第二方向上延伸的第二信號線；形成在開關(guān)元件上具有第一長度的支持圖案；分別形成在第一與第二信號線上的第一與第二突起圖案，具有比第一長度小的第二長度的第一與第二突起圖案，分別形成在第一與第二突起圖案上的第一與第二感測電極，第一與第二感測電極分別與第一與第二信號線電連接。因此，執(zhí)行觸摸屏功能的突起圖案、以及支持陣列基板與相對基板之間的分隔距離的支持圖案可整體地形成，因而可簡化制造工藝。在依據(jù)本發(fā)明的顯示面板的又一個實施例中，提供了顯示面板的顯示基板，該面板具有觸摸屏功能來檢測觸摸點的坐標(biāo)，顯示基板在觸摸點上與陣列基板電連接，陣列基板具有由形成在其上的多個像素部分，第一線與第二線，該多個像素部分由多條柵線和多條數(shù)據(jù)線確定，該多個像素部分的每個包括像素電極，第一和第二線檢測觸摸點，該顯示基板包括基礎(chǔ)基板；直接形成在基礎(chǔ)基板上具有第一長度的支持圖案，其維持與陣列基板均勻分隔距離；以及直接形成在基礎(chǔ)基板上具有第二長度的第一和第二突起圖案，第一突起圖案和第二突起圖案的每個包括第一電極層，當(dāng)外部壓力施加到所述顯示基板時，該第一電極層在觸摸點上分別與第一和第二線電連接，其中第一電極層具有與像素電極相對的延伸部分。第一線在第一方向上延伸，第二線與第一線絕緣并在第二方向上延伸，第二方向與第一方向基本垂直。在依據(jù)本發(fā)明的顯示面板的又一個實施例中，提供了一種顯示面板，包括陣列基板，其具有形成在其上的多個像素部分、第一信號線與第二信號線，多個像素部分由多條柵線和多條數(shù)據(jù)線確定，多個像素部分的每個包括像素電極，第一與第二信號線檢測觸摸點并分別形成在與柵線以及數(shù)據(jù)線相同的方向上；以及與陣列基板相組合的相對基板，并容納液晶材料，其中相對基板包括在基礎(chǔ)基板上與柵線與數(shù)據(jù)線相對應(yīng)的區(qū)域中形成光阻擋層；以第一長度形成在光阻擋層上的支持圖案，該支持圖案維持與陣列基板均勻的分隔距離；以及以第二長度形成在光阻擋層上的第一突起圖案與第二突起圖案，第一突起圖案和第二突起圖案的每個包括第一電極層，當(dāng)外部壓力施加到顯示基板時，第一電極層在觸摸點分別電連接第一信號線和第二信號線，其中第一電極層具有與像素電極相對的延伸部分。第一信號線在第一方向上延伸，第二信號線與第一信號線絕緣并在第二方向上延伸，第二方向與第一方向基本垂直，當(dāng)外部壓力施加到相對基板時第一和第二信號線檢測觸摸點。本發(fā)明的以上以及其他特征與優(yōu)點可通過參考以下附圖來詳細(xì)描述其實施例，而變得顯而易見圖1為示出了依據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性顯示裝置的方框圖；圖2為示出了圖1的示例性顯示裝置的平面圖；圖3為分離地示出了圖2的示例性顯示裝置的示例性陣列基板以及示例性相對基板的分解透視圖；圖4為示出了依據(jù)本發(fā)明示例性實施例的示例性顯示面板的部分的平面圖；圖5為沿著圖4的線1-1’的部分橫截面視圖；圖6為示出了施加了外力的示例性顯示面板的彎曲形狀的橫截面視圖；圖7為示出了依據(jù)本發(fā)明一個實施例的檢測觸摸點的示例性方法的時序圖；圖8為示出了依據(jù)圖7的示例性時序圖來檢測圖1中的觸摸點的示例性檢測部分示意平面圖；圖9至16為示出了依據(jù)本發(fā)明實施例的示例性顯示基板的示例性制造工藝的橫截面圖；圖17為示出了形成在曝光掩模上的示例性掩模圖案的尺寸與在示例性顯影工藝之后的保留層的厚度之間的關(guān)系的曲線圖；圖18為示出了依據(jù)示例性曝光掩模與光敏高分子有機材料之間的分隔距離的，在示例性顯影處理之后的保留層的厚度變化的曲線圖；圖19為沿著圖4的線1-1’并示出了依據(jù)本發(fā)明另一個實施例的示例性顯示面板的部分橫截面視圖；圖20與21為示出了圖19中的突起圖案與支持圖案的示例性制造工藝的橫截面視圖；圖22與23示出了示例性顯示面板的典型裝配工藝的透視圖的步驟圖；圖24為示出了當(dāng)其上施加持續(xù)的外力時依據(jù)示例性支持圖案的截面面積的應(yīng)變變化的曲線圖；圖25A至25C為示出了示例性突起圖案以及示例性支持圖案的應(yīng)變工藝的概念圖；圖26為沿著圖4的線1-1’并示出了依據(jù)本發(fā)明另一個實施例的示例性顯示面板的部分橫截面視圖27A與27B為示出了圖26的示例性突起圖案與示例性支持圖案的典型制造工藝的橫截面視圖。具體實施方式可以認(rèn)為，以下描述的本發(fā)明的實施例可由多種不同的方法被不同地改進，而不脫離這里公開的發(fā)明原理，因此本發(fā)明的范圍不受這些具體目前的實施例限制。相反地，這里提供的實施例使得公開將是徹底的和完全的，并將通過例舉而不是限制地向本領(lǐng)域技術(shù)人員完全傳達本發(fā)明的概念。通篇相似的參考標(biāo)記代表相似的元件?？梢岳斫猱?dāng)元件被稱為在另一元件“上”時，它可以直接在其他元件上或可以存在中間的元件。相反，當(dāng)元件被稱為“直接”在其他元件“上”時，則沒有中間元件存在。這里所用的術(shù)語“和/或”包括相關(guān)列舉項目的一個或更多的任何和所有組合?？梢岳斫怆m然術(shù)語第一、第二和第三可以用于此來描述各種元件、部件、區(qū)域、層和/或部分，這些元件、部件、區(qū)域、層和/或部分應(yīng)不受這些術(shù)語限制。這些術(shù)語只用于區(qū)分一個元件、部件、區(qū)域、層或部分與其他元件、部件、區(qū)域、層或部分。因此，以下討論的第一元件、部件、區(qū)域、層或部分可以被稱為第二元件、部件、區(qū)域、層或部分，而不背離本發(fā)明的教導(dǎo)。這里所使用的術(shù)語是只為了描述特別的實施例的目的且不旨在限制本發(fā)明。如這里所用，單數(shù)形式也旨在包括復(fù)數(shù)形式，除非內(nèi)容清楚地指示另外的意思。可以進一步理解當(dāng)在此說明書中使用時術(shù)語“包括”和/或“包含”說明所述特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件和/或組分的存在，但是不排出存在或添加一個或更多其他特征、區(qū)域、整體、步驟、操作、元件、組分和/或其組。在這里為了描述的方便，可以使用空間相對術(shù)語，諸如“下面”、“下方”、“下”、“上方”、“上”等，來描述一個元件或特征和其他元件或特征如圖中所示的關(guān)系。可以理解空間相對術(shù)語旨在包含除了在圖中所繪的方向之外的裝置在使用或操作中的不同方向。例如，如果在圖中的裝置被翻轉(zhuǎn)，被描述為在其他元件或特征的“下方”或“下面”的元件則應(yīng)取向在所述其他元件或特征的“上方”。因此，示范性術(shù)語“下方”可以包含下方和上方兩個方向。裝置也可以有其它取向(旋轉(zhuǎn)90度或其它取向)且相應(yīng)地解釋這里所使用的空間相對描述語。除非另有界定，這里使用的所有術(shù)語(包括技術(shù)和科學(xué)術(shù)語)具有本發(fā)明屬于的領(lǐng)域的普通技術(shù)人員共同理解的相同的意思。還可以理解諸如那些在共同使用的字典中定義的術(shù)語應(yīng)解釋為一種與在相關(guān)技術(shù)和本公開的背景中的它們的涵義一致的涵義，而不應(yīng)解釋為理想化或過度正式的意義，除非在這里明確地如此界定。參考橫截面圖示在這里描述了本發(fā)明的實施例，該圖示是本發(fā)明的理想實施例的示意圖。因此，可以預(yù)期由于例如制造技術(shù)和/或公差引起的圖示的形狀的變化。因此，本發(fā)明的實施例不應(yīng)解釋為限于這里所示的特別的區(qū)域形狀，而是包括由于例如由制造引起的形狀的偏離。例如，示出或描述為平的區(qū)域可以通常具有粗糙和/或非線性的特征。另夕卜，示出的尖角可以是倒圓的。因此，圖中示出的區(qū)域本質(zhì)上是示意性的且它們的形狀不旨在示出區(qū)域的精確的形狀且不旨在限制本發(fā)明的范圍。在下文中，本發(fā)明的實施例將參考附圖進行詳細(xì)說明。圖1為示出了依據(jù)本發(fā)明實施例的示例性顯示裝置的方框圖，以及圖2為示出了圖1示例性顯示裝置的平面圖；參考圖1與2，顯示基板100包括顯示面板200、面板驅(qū)動部分300、位置檢測部分400、以及定位部分500。顯示面板200包括陣列基板210、相對基板220以及液晶層(未顯示)。陣列基板210具有形成在陣列基板D2方向上的m數(shù)目的數(shù)據(jù)線DLl-DLm以及形成在陣列基板210的Dl方向上的η數(shù)目的柵線GLl-GLn，其中‘m’與‘η’為自然數(shù)。數(shù)據(jù)線DLl-DLm與柵線GLl-GLn彼此交叉并彼此絕緣。例如薄膜晶體管(“TFT”)的開關(guān)元件形成在任一數(shù)據(jù)線DLl-DLm與任一柵線GLl-GLn交叉的每一個區(qū)域上。例如，第一開關(guān)元件TFTl與第一像素電極PEl均形成在第一數(shù)據(jù)線DLl與第一柵線GLl交叉的區(qū)域上。第一開關(guān)元件TFTl的柵電極與第一柵線GLl電連接。第一開關(guān)元件TFTl的源電極與第一數(shù)據(jù)線DLl電連接。與源電極同一層形成的第一開關(guān)元件TFTl的漏電極卻與源電極電隔離，而與第一像素電極PEl電連接。同樣地，開關(guān)元件TFT與像素電極PE分別形成在第二至第m數(shù)據(jù)線DL2至DLm與第二至第η柵線GL2至GLn交叉的區(qū)域上。另外，陣列基板210具有形成在其上的第一信號線與第二信號線，將如下所進一步描述的，執(zhí)行觸摸屏功能。第一信號線SLl(如圖3所示)與柵線GLl至GLn相同沿著第一方向Dl延伸，第二信號線SL2(如圖3所示)與數(shù)據(jù)線DLl至DLm相同沿著第二方向D2延伸。第一與第二信號線SLl與SL2彼此交叉，并彼此電絕緣。第一與第二信號線SLl與SL2具有驅(qū)動電壓Vid，該電壓具有預(yù)定的初始電壓水平，并且第一與第二信號線SLl與SL2與位置檢測部分400電連接。這里，第一與第二信號線SLl與SL2可形成在具有紅(R)像素、綠(G)像素與藍(B)像素的每個單元像素中，雖然形成單元像素部分的交替的色彩像素可落入這些實施例的范圍中，并也可形成在每一多單元像素中。例如，第一與第二信號線SLl與SL2可形成在每四個單元像素中。相對基板220與陣列基板210相組合，從而液晶層(未顯示)位于相對于基板220與陣列基板210之間。相對基板220具有形成在每個單元像素中的濾色器層并顯示預(yù)定的色彩。可選的，濾色器可形成在陣列基板210上。另外，相對基板220具有形成在其上的突起電極部分ER來執(zhí)行觸摸屏功能。突起電極部分ER具有形成在其上的第一突起電極ERl以及第二突起電極ER2。第一與第二突起電極ERl與ER2依據(jù)施加在其上的外力分別與第一與第二信號線SLl與SL2電連接。這里，第一與第二突起電極ERl與ER2可形成在具有例如紅(R)像素、綠(G)像素與藍(B)像素的每個單元像素中，并可形成在每多個單元像素中。例如，第一與第二信號線SLl與SL2可形成在每四個單元像素中。形成在陣列基板210上的第一與第二信號線SLl與SL2，與形成在相對基板220上的第一與第二突起電極ERl與ER2，均將參考圖3在如下做進一步描述。再次參考圖1，面板驅(qū)動部分300包括時序控制部分310、電源部分320、灰度電壓產(chǎn)生部分330、數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340與柵極驅(qū)動部分350。時序控制部分310控制顯示裝置100的操作。通過例如外部圖形控制器，紅(R)像素、綠(G)像素與藍⑶的初始數(shù)據(jù)信號DATA_0，以及第一控制信號CNTLl的主系統(tǒng)應(yīng)用到時序控制部分310中。那么，時序控制部分310控制初始數(shù)據(jù)信號DATA_0的輸出時序來在顯示面板200上顯示圖像，并輸出第一數(shù)據(jù)信號DATA1、第二控制信號CNTL2、第三控制信號CNTL3、第四控制信號CNTL4、以及第五控制信號CNTL5。特別地，第一控制信號CNTLl包括主要的時鐘信號MCLK、水平同步掃描信號HSYNC以及垂直同步掃描信號VSYNC。第二控制信號CNTL2包括水平起始信號STH、反轉(zhuǎn)信號REV以及數(shù)據(jù)載荷信號TP來控制數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340。第三控制信號CNTL3包括起始信號STV、時鐘信號CK、印刷起動信號OE等來控制柵極驅(qū)動部分350。第四控制信號CNTL4包括時鐘信號CLK、反轉(zhuǎn)信號REV等來控制電源部分320。時序控制部分310進一步輸出第五控制信號CNTL5來控制位置檢測部分400。第五控制信號CNTL5包括取樣信號SS等，來控制從電源部分320輸出的初始驅(qū)動功率Vid以被施加到第一與第二信號線SLl與SL2上。電源部分320響應(yīng)從時序控制部分310提供的第四控制信號CNTL4，輸出共用電壓Vcom與Vest、初始驅(qū)動電壓Vid、模擬驅(qū)動電壓AVDD、柵極開/關(guān)電壓VoruVoff等。共用電壓Vcom與Vest施加到顯示面板200上。初始驅(qū)動電壓Vid施加到陣列基板210上來執(zhí)行觸摸屏功能。模擬驅(qū)動電壓AVDD施加到灰度電壓產(chǎn)生部分330上。開/關(guān)電壓Von、Voff應(yīng)用到柵極驅(qū)動部分350上。灰度電壓產(chǎn)生部分330輸出多個基于分配電阻灰度水平數(shù)量相當(dāng)?shù)膮⒖蓟叶入妷篤GMA_R。分配電阻包括通過利用作為參考電壓的模擬驅(qū)動電壓AVDD而依據(jù)應(yīng)用到其上的伽馬曲率調(diào)整的電阻比率。數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340包括數(shù)據(jù)帶載封裝(“TCP”)341以及數(shù)據(jù)驅(qū)動芯片342。m數(shù)目的數(shù)據(jù)線DL可分成多個數(shù)據(jù)線塊，多個數(shù)據(jù)TCP341可以形成以分別驅(qū)動數(shù)據(jù)線塊。陣列基板210通過數(shù)據(jù)TCP341與數(shù)據(jù)印刷電路板(“PCB”)360電連接，在數(shù)據(jù)印刷電路板360上可以形成時序控制部分310。另外，數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340以從灰度電壓產(chǎn)生部分330輸出的參考灰度電壓VGMA_R為基礎(chǔ)產(chǎn)生多個灰度電壓VGMA。數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340以由時序控制部分310與灰度電壓VGMA供應(yīng)的第二控制信號CNTL2為基礎(chǔ)，將數(shù)字類型的第一數(shù)據(jù)信號DATAl轉(zhuǎn)換成模擬類型的數(shù)字信號Dl-Dm，并控制數(shù)字信號Dl-Dm的輸出時序輸出到數(shù)據(jù)線DLl-DLm中。柵極驅(qū)動部分350包括柵TCP351以及柵極驅(qū)動芯片352。η數(shù)目的柵線GL可分成多個柵線塊，并且可形成多個柵極TCP351來分別驅(qū)動?xùn)啪€塊。柵極驅(qū)動部分350響應(yīng)從時序控制部分310發(fā)出的第三控制信號CNTL3以及從電源部分320發(fā)出的柵極開/關(guān)電壓VoruVoff，產(chǎn)生柵極信號Gl_Gn，并輸出到柵線GLl_GLn。位置檢測部分400檢測施加到相對基板220上部的外力PO的位置與坐標(biāo)。例如，當(dāng)形成在相對基板220的第一突起電極ERl與形成在陣列基板210的第一信號線SLl通過外力PO相接觸時，檢測施加到第一信號線SLl的初始驅(qū)動電壓Vid的變化，并獲得外力的Y軸坐標(biāo)。另外，當(dāng)形成在相對基板220的第二突起電極ER2與形成在陣列基板210的第二信號線SL2通過外力PO相接觸時，檢測施加到第二信號線SL2的初始驅(qū)動電壓Vid的變化，并獲得外力的X軸坐標(biāo)。位置檢測部分400包括電源控制部分以及數(shù)據(jù)取樣部分，將參考圖8在下文中作進一步描述。電源控制部分響應(yīng)第五控制信號CNTL5，供應(yīng)初始驅(qū)動功率Vid到第一與第二信號線SLl與SL2。數(shù)據(jù)取樣部分檢測第一與第二信號線SL2與SL2中的初始驅(qū)動功率Vid,并輸出第一檢測信號DSl與第二檢測信號DS2。位置檢測部分400可形成在面板驅(qū)動部分300的數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340中。位置檢測部分400可與數(shù)據(jù)驅(qū)動芯片340整體形成在數(shù)據(jù)驅(qū)動部分340的數(shù)據(jù)TCP341上。當(dāng)數(shù)據(jù)檢測部分400與數(shù)據(jù)驅(qū)動芯片340整體形成時，數(shù)據(jù)驅(qū)動芯片342可進一步包括與第一與第二信號線SLl與SL2電連接的附加焊盤。定位部分500基于由位置檢測部分400輸出的第一與第二檢測信號DSl與DS2來處理X軸與Y軸的坐標(biāo)，并確定在顯示面板200上施加外力PO的精確的點。圖3為分離地示出圖2的示例性顯示裝置的示例性陣列基板以及示例性相對基板的分解透視圖。參考圖3，顯示面板200包括陣列基板210與相對基板220。陣列基板210具有多個形成在其上并在D2方向上延伸的數(shù)據(jù)線DL，以及多個形成在其上并在Dl方向上延伸的柵線GL。另外，陣列基板210具有形成在其上的多個第一信號線SLl與多個第二信號線SL2來執(zhí)行觸摸屏功能。第一信號線SLl沿著第一方向Dl延伸，以及第二信號線SL2沿著第二方向D2。陣列基板210可進一步包括多個形成在第一與第二信號線SLl與SL2的上部的感測電極ES。感測電極ES包括分別穿過接觸孔CTHl與CTH2與第一與第二信號線SLl與SL2電連接的第一與第二感測電極ESl與ES2。相對基板220具有多個突起電極ER以及多個支持圖案226。突起電極ER具有第一長度來執(zhí)行觸摸屏功能。多個支持圖案226具有第二長度來為維持分隔距離，例如陣列基板210與相對基板220之間的單元間隙。突起電極ER與支持圖案226直接形成在相對基板220的基礎(chǔ)基板上，來與包括在陣列基板210中的基礎(chǔ)基板相接觸。突起電極ER包括與第一信號線SLl可電連接的第一突起電極ER1，以及與第二信號線SL2可電連接的第二突起電極ER2。第一突起電極ERl形成在相對基板220上，從而第一突起電極ERl與第一感測電極ESl相對應(yīng)，第二突起電極ERl形成在相對基板220上，從而第二突起電極ER2與第二感測電極ES2相對應(yīng)。當(dāng)其上施加外力PO時，由于突起電極ER的第一長度比支持圖案226的第二長度更小，第一突起電極ERl與第一感測電極ESl電接觸，第二突起電極ER2與第二感測電極ES2電接觸。因此，當(dāng)施加外力PO時，分別與第一與第二感測電極ESl與ES2電連接的第一與第二信號線SLl與SL2分別與第一與第二突起電極ERl與ER2電連接。另外，圖1所示的從電源部分輸出的共用電壓Vcom施加到突起電極ER上。從電源部分320輸出的初始驅(qū)動電壓Vid施加到第一與第二信號線SLl與SL2上。由于施加了共用電壓Vcom的突起電極ER與感測電極ES通過外力PO電接觸，在觸摸點上施加到第一與第二信號線SLl與SL2上的初始驅(qū)動電壓Vid的電勢將改變。在第一信號線SLl中的初始驅(qū)動電壓Vid的電勢改變被用來確定Y軸或第一方向Dl的坐標(biāo)。在第二信號線SL2中的初始驅(qū)動電壓Vid的電勢改變被用來確定X軸或第二方向D2的坐標(biāo)。圖4為示出了依據(jù)本發(fā)明實施例的示例性顯示面板的部分的平面圖；圖5為沿著圖4的線1-1’的部分橫截面視圖；以及圖6為示出了施加了外力的示例性顯示面板的彎曲形狀的橫截面視圖。參考圖4與5，顯示基板200包括陣列基板210、相對基板220以及設(shè)置在陣列基板210與相對基板220之間的液晶層(未顯示)。陣列基板210具有多個像素，像素作為在基礎(chǔ)基板上顯示圖像的標(biāo)準(zhǔn)單元，以矩陣形狀形成在其上。在多個像素之間，第ji像素Pji包括第j柵線GLj、第i數(shù)據(jù)線DLi、第jiTFTTji以及第ji像素電極PEji。第j柵線GLj在第一方向Dl上延伸。第i數(shù)據(jù)線DLi與第j柵線GLj彼此間電絕緣。第i數(shù)據(jù)線DLi在與第一方向Dl基本垂直的第二方向D2上延伸，與第j柵線GLj交叉。第ji像素區(qū)域PAji由分別靠近第i+Ι數(shù)據(jù)線DLi+Ι以及第j_l柵線GLj-I的第i數(shù)據(jù)線DLi與第j柵線GLj確定。第ji像素區(qū)域PAji具有形成在其上的第jiTFTTji以及第ji像素電極PEji。第jiTFTTji的柵電極G從第j柵線GLj中分叉出，源電極S從第i數(shù)據(jù)線DLi中分叉出，并且漏電極D與第ji像素電極PEji電連接。數(shù)據(jù)信號通過第i數(shù)據(jù)線DLi傳送，并且柵信號施加到第j柵線GLj上。因此，TFTTji響應(yīng)柵信號，輸出數(shù)據(jù)信號到第ji像素電極PEji。另外，第ji像素電極Pji可進一步包括第ji存儲電壓線SEji，其用來接收共用電壓Vcom以及確定子電容器Cst。陣列基板210具有形成在其上并在與柵線GL相平行的第一方向上延伸的第一信號線SL1，以及形成在其上并與數(shù)據(jù)線DL相平行的第二方向上延伸的第二信號線SL2。第一信號線SLl可形成在與柵線GL形成的同一層上，并且第二信號線SL2可形成與數(shù)據(jù)線DL形成的同一層上，來減少陣列基板210的制造工藝以及顯示面板200的厚度。向第一信號線SLl與第二信號線SL2施加初始驅(qū)動電壓Vid。陣列基板210包括形成在其上的第一感測電極ESl，第一感測電極ESl設(shè)置在第一信號線SLl的上部上方并且與形成在相對基板220上的第一突起電極ERl電連接。另外，陣列基板210進一步包括形成在其上的第二感測電極ES2，第二感測電極ES2設(shè)置在第二信號線SL2的上部上方并且與形成在相對基板220上的第二突起電極ERl電連接。參考圖4與5，陣列基板210包括第一基礎(chǔ)基板211、TFT陣列層212以及像素電極PE。第一基礎(chǔ)基板211包括例如，但不限于例如玻璃的透明材料。第一基礎(chǔ)基板211具有形成在其上的TFT陣列層212。TFT陣列層212包括多個TFT、保護層213、平面化層214以及第一信號線SLl。多個TFT中的每一個均包括柵電極212a、柵絕緣層212b、有源層212c、歐姆接觸層212d、源電極212f以及漏電極212e。保護層213或鈍化層，包括，例如，有機絕緣層，無機絕緣層，或其組合物，來覆蓋TFT。另外，接觸孔CTH3形成在保護層213與平面化層214上來暴露TFT的漏電極212e。由于第一數(shù)據(jù)線SLl形成在與柵電極212a形成的同一層上，柵絕緣層212b、保護層213與平面化層214覆蓋了第一信號線SLl的上部。因此，第一信號線SLl與第一突起電極ERl電絕緣。第二信號線SL2可形成在柵絕緣層212b上，該柵絕緣層212b是與源電極212f、漏電極212e以及數(shù)據(jù)線DL基本相同的層。保護層213與平面化層214覆蓋了第二信號線SL2。因而，第二信號線SL2與第二突起電極ER2電絕緣。像素電極PE包括例如氧化銦錫(“ΙΤ0”)的透明導(dǎo)電材料，并與每個像素區(qū)域相對應(yīng)形成在平面化層214上。使第一信號線SLl與第一突起電極ERl電接觸的第一感測電極ESl通過用于形成像素電極PE的蝕刻工藝形成。因此，第一感測電極ESl與像素電極PE—樣形成在平面化層214的上部上。同樣的，使第二信號線SL2與第二突起電極ER2電接觸的第二感測電極ES2與像素電極PE—樣形成在平面化層214上。柵絕緣層212b、保護層213與平面化層214具有形成在其上的接觸孔CTH1，并且接觸孔CTHl暴露第一信號線SLl或第一信號線SLl的支線BR(圖4所示)，使第一感測電極ESl與第一信號線SLl電接觸。第二感測電極ES2可通過部分暴露第二信號線SL2的接觸孔CTH2與第二信號線SL2電連接。用來部分暴露第二數(shù)據(jù)線SL2的接觸孔CTH2穿過保護層213與平面化層214形成。相對基板220包括第二基礎(chǔ)基板221、光阻擋層(或黑矩陣)222、濾色器層223、平面化層224、突起圖案225、支持圖案226以及共用電極層227。第二基礎(chǔ)基板221包括例如玻璃或聚碳酸酯(“PC”)的透明絕緣材料。在一個實施例中，當(dāng)施加了外力PO時第二基礎(chǔ)基板221是柔性的以被彎曲，從而顯示面板200具有觸摸屏功能，在這種情況下第二基礎(chǔ)基板221可進一步包括例如PC的塑料材料基板?？蛇x的，玻璃基板可被蝕刻或研磨而具有大約0.2mm至0.5mm的薄的厚度，并且具有大約0.2mm至大約0.5mm厚度的玻璃基板可被用作第二基礎(chǔ)基板221。形成相對基板220的光阻擋層222來面對陣列基板210的TFT、數(shù)據(jù)線DL、柵線GL、第一信號線SLl以及第二信號線SL2。光阻擋層222阻擋光穿過設(shè)置在不被像素電極PE控制的區(qū)域的液晶，并提高了顯示面板的對比度。濾色器層223包括，例如，紅色濾色器圖案R、綠色濾色器圖案G以及藍色濾色器圖案B，并相應(yīng)于像素形成。例如，濾色器層223部分與光阻擋層222重疊。平面化層224形成在濾色器層223的上部上，可以是使相對基板220平面化的有機絕緣層。突起圖案225與支持圖案226可通過光刻步驟形成。換句話說，光敏高分子有機材料PP涂覆在具有形成在其上的光阻擋層222的第二基礎(chǔ)基板221上，曝光掩模設(shè)置在光敏高分子有機材料上。那么，有機材料將被曝光及顯影?；谝罁?jù)曝光總量或曝光時間的不同的顯影特性，形成的突起圖案225與支持圖案226具有彼此不同的長度。因此，支持圖案226具有第一長度al來維持與陣列基板210與相對基板220之間的單元間隙基本相等的分隔距離，突起圖案225具有比支持圖案226的第一長度al較小的第二長度a2，來執(zhí)行觸摸屏功能。因而，支持圖案226充當(dāng)了顯示面板200的一組柱狀間隔物(columnspacer)。另外，多個突起圖案225形成在與形成在陣列基板210上的第一信號線SLl相對應(yīng)的區(qū)域中。同樣的，多個突起圖案225形成在與形成在陣列基板210上的第二信號線SL2相對應(yīng)的區(qū)域中。例如，支持圖案226形成在屏蔽區(qū)，而不由于支持圖案226而影響顯示面板200的光透射率。支持圖案226可形成在每個像素上，或具有預(yù)定數(shù)目的像素的每個單元像素中。例如，支持圖案226以均勻的密度形成。共用電極層227包括例如氧化銦錫(“ΙΤ0”)、氧化鋅銦(“ΙΖ0”)等的透明導(dǎo)電材料，并形成在平面化層224上，從而共用電極層227覆蓋了突起圖案225。在形成共用電極227的工藝中，透明導(dǎo)電層可形成在支持圖案226的頂部上。優(yōu)選地，形成在支持圖案226頂部上的透明導(dǎo)電層被移開。此外，覆蓋了支持圖案226的保留部分的透明導(dǎo)電層被移開。形成共用電極層227，從而共用電極層227覆蓋了突起圖案225的上部，因此完成了包括突起圖案225與共用電極層227的第一突起電極ER1。同時，可以理解，共用電極層227進一步覆蓋了突起圖案225的上部，因此完成了包括突起圖案225與共用電極層227的第二突起電極ER2。因此，如圖6所示，第一突起電極ERl與第二基礎(chǔ)基板221—起由于外力PO而彎曲，朝著陣列基板210移動，第一突起電極ERl與第一感測電極ESl電連接。如上所述，施加到信號線SL上的初始驅(qū)動電壓Vid的電勢依據(jù)突起電極ER與感測電極ES的接觸而變化，因而，將可以檢測施加到其上的外力PO的坐標(biāo)。第一突起電極ERl形成在光阻擋層222之上。換句話說，形成不與像素的傳送區(qū)域相重疊的第一突起電極ERl與第一感測電極ES1，因此將不影響像素的開口率。為了這個目的，第一信號線SLl具有與其連接的支線BR，并且第一突起電極ERl與第一感測電極ESl可形成在光阻擋層區(qū)域中。支線BR從沿著第一方向Dl延伸的第一信號線SLl沿著第二方向D2延伸，并形成在光阻擋層區(qū)域上。另外，為了形成第一突起電極ERl，光阻擋層222優(yōu)選形成具有覆蓋在單元像素與相鄰單元像素之間的第一突起電極ERl的足夠的寬度。單元像素包括，例如，均顯示R、G、B色彩的第ji-Ι像素Pji-I，第ji像素Pji，第ji+Ι像素Pji+1。而且，第一感測電極ESl形成在與第ji+Ι像素電極PEji+1相同的層上，并與第ji+Ι像素電極PEji+1具有分隔距離，來阻止第一感測電極ESl與第ji+Ι像素電極PEji+1之間的耦合現(xiàn)象。因此，與第一感測電極ESl相鄰的像素電極PEji+Ι形成了具有一個朝著第ji+Ι像素電極PEji+Ι的凹槽區(qū)域，因此，如圖4所示當(dāng)在平面上觀察時，像素電極PEji+Ι具有一個凹面。如上所述，突起電極ER與信號線SL已經(jīng)參考第一突起ERl與第一信號線SLl進行描述，但對于本領(lǐng)域技術(shù)人員來說是顯而易見的，與其相關(guān)聯(lián)的，第二突起電極ER2與第二信號線SL2可以通過與形成第一突起ERl與第一信號線SLl基本相同的方法來形成。而且，已經(jīng)在本發(fā)明的一個實施例中示出了第一與第二突起電極ERl與ER2，并且分別與第一與第二突起電極ERl與ER2相對應(yīng)的第一與第二感測電極ESl與ES2形成在與光阻擋層222相對應(yīng)的區(qū)域上?？蛇x的，第一與第二突起電極ERl與ER2彼此相鄰，并且通過彼此相鄰在同一光阻擋層222上形成第一信號線SLl的支線BR與第二信號線SL2，并在支線BR的上部分與第二信號線SL2上分別形成第一與第二感測電極ESl與ES2，第一與第二感測電極ESl與ES2形成在同一光阻擋層區(qū)域上。而且，在可選的實施例中，通過彼此相鄰在同一光阻擋層222上形成第一與第二感測電極ESl與ES2，并通過整體形成第一與第二突起圖案225，第一與第二突起電極ERl與ER2可整體形成，來形成一體化的突起電極。執(zhí)行顯示面板的觸摸屏功能的方法將在下文中進行描述圖7為示出了依據(jù)本發(fā)明一個實施例的檢測觸摸點的典型方法的時序圖，且圖8為示出了實現(xiàn)依據(jù)圖7的示例性時序圖來檢測圖1中的觸摸點的示例性檢測部分平面示意圖。參考圖7與8，在共用電極層227具有施加到其上(SYl之前的周期)的共有電壓Vcom的情況下，電源控制部分410響應(yīng)從圖1的時序控制部分310輸出的第五控制信號CNTL5而被驅(qū)動。然后，從電源部分320輸出的初始驅(qū)動電壓Vid施加到第一與第二信號線SLl與SL2上(在SYl與SY2之間的周期中)。當(dāng)在形成在第一與第二信號線SLl與SL2上的第一與第二突起電極ERl與ER2之間的預(yù)定的突起電極ERlp+q與ER2p+q，分別通過外力接觸第一與第二信號線SLl與SL2時(在SY2與SY3之間的期間中)，由突起電極ERl與ER2接觸的第一與第二信號線SLl與SL2的電壓水平變化。當(dāng)共用電壓Vcom的電勢低于初始驅(qū)動電壓Vid時，例如當(dāng)共用電壓Vcom大約為OV而初始驅(qū)動電壓Vid大約為5V時，由第一與第二信號線SLl與SL2傳送的電流被施加到共用電極層227上，第一與第二信號線SLl與SL2的電壓水平接近或變成共用電壓Vcom的電勢(在SY3與SY4之間的周期中)。在這種情況下，數(shù)據(jù)取樣部分420響應(yīng)由時序控制部分310供給的取樣信號SS，例如在SY3與SY4之間的周期，來鎖閉(latch)第一與第二信號線SLl與SL2的不同的電壓水平，并產(chǎn)生以及輸出第一與第二檢測信號DSl與DS2。為了達到這個目的，數(shù)據(jù)取樣部分420可包括接收取樣信號SS作為控制輸入的鎖存器(latch)。數(shù)據(jù)取樣部分420獨立地形成在每個第一與第二信號線SLl與SL2上。另外，電源控制部分410可與例如金屬氧化物半導(dǎo)體(“M0S”)晶體管等的開關(guān)元件一起形成，并可共同地與第一與第二信號線SLl與SL2相連接。其后，如圖1所示的定位部分500，組合了Y與X軸坐標(biāo)并確定在顯示面板200上施加外力的觸摸點。基于由數(shù)據(jù)取樣部分420輸出的第一與第二檢測信號DSl與DS2來確定Y與X軸坐標(biāo)。圖9至16為示出了依據(jù)本發(fā)明實施例的示例性顯示基板的示例性制造工藝的橫截面。具體而言，示出了具有圖5的形成在其上的突起圖案225與支持圖案226的相對基板220。參考圖9，每個像素在相對基板220的第二基礎(chǔ)基板221的上部上被劃分，光阻擋層222形成在每個像素中從而光將不能從外部進入每個像素中。光阻擋層222可包括例如鉻(Cr)的金屬薄膜或例如碳酸酯的有機材料。光阻擋層222可進一步包括例如鉻(Cr)/氧化鉻(CrOx)的雙層來減少反射率。當(dāng)描述特殊的示例性材料時，可以理解，可選的適合材料將落入這些實施例的范圍。參考圖10，光敏高分子有機材料PP涂在具有形成在其上的光阻擋層222的第二基礎(chǔ)基板221的整個區(qū)域上。光敏高分子有機材料PP的厚度優(yōu)選地與圖5所示的支持圖案226的第一長度al相同。參考圖11，曝光掩模MASK設(shè)置在光敏高分子有機材料PP上部預(yù)定的距離b上。光源設(shè)置在曝光掩模MASK上方，然后曝光光敏高分子有機材料PP。曝光掩模MASK包括例如鉻(Cr)的屏蔽材料來屏蔽光。另外，曝光掩模具有形成在其上的第一掩模圖案MPl與第二掩模圖案MP2，光屏蔽區(qū)域LCA形成在第一與第二掩模圖案MPl與MP2之外。第一掩模圖案MPl是形成第二基礎(chǔ)基板221上的支持圖案226的掩模圖案，第二掩模圖案MP2是形成第二基礎(chǔ)基板221上的突起圖案225的掩模圖案。另外，第一掩模圖案MPl具有與第二掩模圖案MP2基本相同的外圍形狀，但比第二掩模圖案MP2相對較大。例如，當(dāng)?shù)谝慌c第二掩模圖案MPl與MP2具有環(huán)形形狀時，第一掩模圖案MPl的直徑比第二掩模圖案MP2的直徑更長。參考圖12，當(dāng)光敏高分子有機材料PP由鄰近型(proximitytype)曝光工藝?yán)闷毓庋谀ASK曝光時，在對第一與第二掩模圖案MPl與MP2相對應(yīng)的區(qū)域中的光敏高分子有機材料PP將被曝光，但是與光屏蔽區(qū)域LCA相對應(yīng)的光敏高分子有機材料PP將不被曝光。依據(jù)第一與第二掩模圖案MPl與MP2的尺寸，光衍射將改變，并因而曝光面積變化。換句話說，具有較第二掩模圖案MP2相對更大尺寸的第一掩模圖案MPl具有較小的衍射量。因此，在與第一掩模圖案MPl相對應(yīng)的區(qū)域中的光敏高分子有機材料PP將比在與第二掩模圖案MP2相對應(yīng)的區(qū)域中的光敏高分子有機材料PP曝光得更多。對具有不同曝光量的光敏高分子有機材料進行焙烘工藝與顯影工藝。然后，消除與光屏蔽區(qū)域LCA相對應(yīng)的光敏高分子有機材料PP。因此，依據(jù)不同的曝光量，幾乎維持了光敏高分子有機材料PP的初始涂層厚度以及具有第一長度al的支持圖案226形成在第一掩模圖案MPl的下部上。另外，依據(jù)不同的曝光量，突起圖案225形成在第二掩模圖案MP2的下部上，突起圖案225從光敏高分子有機材料PP的初始涂層厚度上消除預(yù)定的厚度并具有第二長度a2。光敏高分子有機材料PP與曝光掩模MASK之間的分隔距離b可控制支持圖案226的第一長度al與突起圖案225的第二長度a2。換句話說，在鄰近型曝光工藝中，由于曝光工藝通過控制分隔距離b的裝置來完成，支持圖案226與突起圖案225的長度可以得到控制。就是說，當(dāng)分隔距離b增大時具有90°的入射角減小且由此曝光量減小，以及當(dāng)分隔距離b減小時具有90°的入射角減大且由此曝光量增加的原理，可用來控制光敏高分子有機材料PP的曝光量。如圖17所示，利用形成在曝光掩模MASK的掩模圖案MPl與MP2來完成曝光與顯影工藝，那么，正比于掩模圖案MPl與MP2的尺寸來決定光敏高分子有機材料PP的保留厚度。另外，如圖18所示，反比于曝光掩模MASK與光敏高分子有機材料PP之間的分隔距離b來決定光敏高分子有機材料PP的保留厚度。參考圖13，濾色器層223形成在具有形成在其上的支持圖案226與突起圖案225的第二基礎(chǔ)基板221的上部上。濾色器層223形成在濾色器圖案R、G與B例如，與沿著光阻擋層222的像素單元相對應(yīng)的位置上。濾色器層223通過例如為了獲得均勻厚度的旋涂工藝來形成。在旋涂工藝中，形成濾色器的顏料從相對于支持圖案226與突起圖案225的上部分的較低的部分噴出，因而濾色器層223不在支持圖案226與突起圖案225的上部上形成。參考圖14，平面化層224形成在具有形成在其上的濾色器層223的第二基礎(chǔ)基板221的上部。平面化層224保護濾色器層223并使相對基板220平面化。平面化層224可包括丙稀或聚酰亞胺樹脂。參考圖15，共用電極層227形成在具有形成在其上的平面化層224的第二基礎(chǔ)基板221的上部上。共用電極層227涂布在平面化層224以及突起圖案225與支持圖案226上。用于將共用電壓Vcom施加到液晶材料中的共用電極層227，通過濺射與沉積例如ITO的具有高透射率、導(dǎo)電率、化學(xué)穩(wěn)定性以及熱穩(wěn)定性的透明導(dǎo)電材料來形成。突起圖案225與共用電極層227形成突起電極ER，并且突起電極ER與圖5中所示的信號線SL通過外力PO電接觸。電接觸如圖7中所述改變了初始驅(qū)動電壓Vid的電壓水平，并因而檢測到了施加到其上的外力的坐標(biāo)。參考圖16，通過附加的工藝來從支持圖案226消除共用電極層227并形成非導(dǎo)電的支持圖案226。因此，由于如圖5所示的陣列基板210的電連接，阻止了施加到共用電極層227上的共用電壓Vcom的改變，并因此沒有出現(xiàn)由于共用電壓Vcom而對于在陣列基板210上形成的元件的電效應(yīng)。在這個示例性實施例中，當(dāng)已經(jīng)描述了負(fù)型(negativetype)曝光工藝，其中光敏高分子有機材料PP通過顯影工藝進行保留，可以理解，正性曝光工藝也可運用到這個可選的實施例中。如之前所提到的，圖17為示出了形成在曝光掩模上的示例性掩模圖案的尺寸與在示例性顯影工藝之后的保留層的厚度之間的關(guān)系的曲線圖。參考圖17，可以看到，掩模圖案具有越大的尺寸，在顯影工藝后的保留層的厚度也越大。圖18為示出了依據(jù)示例性曝光掩模與光敏高分子有機材料之間的分隔距離的，在示例性顯影工藝之后的保留層的厚度變化的曲線圖。參考圖18，可以看到，掩模與光敏高分子有機材料PP之間的分隔距離越大，在顯影工藝后的保留層的厚度也越大。圖19為沿著圖4的線1-1’并示出了依據(jù)本發(fā)明另一個實施例的示例性顯示面板的部分橫截面視圖。參考圖19，顯示面板600包括陣列基板210、相對基板620、以及設(shè)置在陣列基板210與相對基板620之間的液晶層(未顯示)。參考圖5與19，圖19的顯示面板600包括與圖5的顯示面板200同樣結(jié)構(gòu)的陣列基板210。因此，將省略對圖19所示的陣列基板210的具體描述。相對基板620包括基礎(chǔ)基板621、黑矩陣622、濾色器層623、平面化層624、突起圖案625、支持圖案626以及共用電極層627?；A(chǔ)基板621、黑矩陣622與濾色器層623可形成具有與依據(jù)本發(fā)明的實施例的顯示面板200的相對基板220相同的結(jié)構(gòu)。因此，將省略這些元件的任何進一步的描述。平面化層624形成在濾色器層623上，包括使相對基板620平面化的有機絕緣層。突起圖案625與支持圖案626可通過包括在平面化層624上涂覆光敏高分子有機材料PP、在光敏高分子有機材料PP的上部設(shè)置掩模并曝光掩模的光刻工藝形成。突起圖案625與支持圖案626可在與在依據(jù)本發(fā)明的實施例的顯示面板200上形成突起圖案225與支持圖案226的相同位置上形成。突起圖案625形成在基礎(chǔ)基板621上。突起圖案625朝著陣列基板210的方向以預(yù)定的突起高度突起。形成的突起圖案625的突起高度比陣列基板210與相對基板620之間的單元間隙小。支持圖案626與突起圖案625同時形成，并具有較突起圖案625更大的直徑。另夕卜，形成的支持圖案626的高度與陣列基板210與相對基板620之間的單元間隙相同。因此，支持圖案626維持陣列基板210與相對基板620之間的單元間隙并支持陣列基板210與相對基板620。優(yōu)選地，支持圖案626形成在黑矩陣上方，從而不影響顯示面板600的光透射率。另外，由于共用電極層627形成在支持圖案626上，支持圖案626優(yōu)選形成在黑矩陣區(qū)域中，其中支持圖案626不與形成在陣列基板210上的像素電極PE或者第一感測電極ESl電接觸。支持圖案626可形成在每個像素或每個具有預(yù)定數(shù)目像素的像素單元上。優(yōu)選地，支持圖案626以均勻的密度形成在整個顯示面板600上。共用電極層627包括例如氧化銦錫(“ΙΤ0”)、氧化鋅銦(“ΙΖ0”)等的透明導(dǎo)電材料，并形成在基礎(chǔ)基板621的前表面上來覆蓋突起圖案625與支持圖案626。從基礎(chǔ)基板621朝著陣列基板210的方向突起的第一突起電極ER1，通過形成在突起圖案625的上部分上的突起圖案625與共用電極層627形成。圖20與21為示出了圖19中的示例性突起圖案與示例性支持圖案的示例性制造工藝的橫截面視圖。參考圖20，相對基板620的平面化層624具有形成在其上的厚度均勻的光敏高分子有機材料PP。曝光光敏高分子有機材料PP的曝光掩模MASK設(shè)置在光敏高分子有機材料PP上方。曝光掩模MASK包括屏蔽材料。曝光掩模MASK包括第一掩模圖案MPl與第二掩模圖案MP2。第二掩模圖案MP2的直徑比第一掩模圖案MPl的直徑大。光屏蔽區(qū)域LCA形成在第一與第二掩模圖案MPl與MP2之外。當(dāng)光敏高分子有機材料PP被曝光時，在與第一與第二掩模圖案MPl與MP2相對應(yīng)的區(qū)域中的光敏高分子有機材料PP被曝光，但是在與光屏蔽區(qū)域LCA相對應(yīng)的區(qū)域中的光敏高分子有機材料PP沒有被曝光。參考圖20與21，當(dāng)曝光的光敏高分子有機材料PP被顯影時，消除了沒有被曝光的光敏高分子有機材料PP，均具有柱狀間隔物形狀的突起圖案部分625a與支持圖案部分626a形成在基礎(chǔ)基板621上。突起圖案部分625a通過第一掩模圖案MPl曝光并形成。支持圖案部分626a通過第二掩模圖案MP2曝光并形成。突起圖案部分626a與支持圖案部分625a具有同樣高度。支持圖案部分626a具有比突起圖案部分625a更寬的直徑。例如，突起圖案部分625a的直徑大約為ΙΟμπι，支持圖案部分626a的直徑大約為17μm。突起圖案部分625a與支持圖案部分626a的兩個表面?zhèn)瓤蔀榫哂醒刂嚵谢宓姆较蛑睆綔p小的階梯形狀。與陣列基板接觸的邊緣部分可為圓形。圖22與23示出了示例性顯示面板的典型裝配工藝的步驟圖。參考圖22，密封劑通過密封劑分配器SD沿著陣列基板210的周圍分布，并與陣列基板210的外圍相鄰形成密封圖案SP。密封劑，例如，包括熱固性樹脂，并且密封圖案SP的寬度與高度可是基本均勻的。然后，參考圖23，陣列基板210與相對基板620彼此相對設(shè)置，然后密封圖案SP中的密封劑通過熱壓工藝硬化。通過熱壓工藝，陣列基板210與相對基板620彼此組合并具有均勻的距離，通過熱壓工藝的外力使形成在相對基板620中的突起圖案部分625a與支持圖案部分626a變形。圖24為示出了當(dāng)其上施加持續(xù)的外力時依據(jù)示例性支持圖案的截面面積的應(yīng)變的變化的曲線圖。參考圖24，可以發(fā)現(xiàn)，當(dāng)增大支持圖案(柱狀間隔物)的橫截面面積時，固定的外力導(dǎo)致的應(yīng)變減小，并且當(dāng)減少支持圖案(柱狀間隔物)的橫截面面積時，應(yīng)變增大。因此，在將陣列基板與相對基板壓在一起的熱壓工藝中，具有比支持圖案部分小的直徑的突起圖案部分具有更大的壓縮應(yīng)變比。表1展示了在具有不同支持圖案的顯示面板施加了相同外力后液晶的單元間隙。表1<table>tableseeoriginaldocumentpage20</column></row><table>樣品1包括具有ΙΟμπι直徑的支持圖案的顯示面板，樣品2包括具有17μm直徑的支持圖案的顯示面板。在樣品1與樣品2中支持圖案的高度與在施加外力前的單元間隙相等?？紤]到表1的結(jié)果，樣品1具有大約3.27μm的平均單元間隙而樣品2為大約3.35μm。換句話說，具有較小直徑的支持圖案樣品1中的液晶的單元間隙要比樣品2的小。因此，可以注意到，與支持圖案的直徑減小相一致，壓縮應(yīng)變比增大了。圖25A至25C為示出了示例性突起圖案以及示例性支持圖案的應(yīng)變工藝的概念圖。圖25A為示出了在執(zhí)行熱壓工藝前的顯示面板600的橫截面視圖，圖25B為示出了在執(zhí)行熱壓工藝中的顯示面板600的橫截面視圖，以及圖25C為示出了執(zhí)行了熱壓工藝后的顯示面板600的橫截面視圖。參考圖25A與25B，在執(zhí)行熱壓工藝之前以及形成密封圖案SP之后的突起圖案部分625a與支持圖案部分626a具有相同的第一高度a。在熱壓工藝期間，由于熱壓工藝的外力，突起圖案部分625a與支持圖案部分626a具有相同的第二高度b，其中a>b。參考圖25B與25C，由于突起圖案部分625a具有與支持圖案部分626a相比較小的直徑以及較大的壓縮應(yīng)變比，突起圖案部分625a的高度在熱壓工藝后將無法重新恢復(fù)。然而，由于支持圖案部分626a具有與突起圖案部分625a相比較大的直徑以及較小的壓縮應(yīng)變比，支持圖案部分626a的高度幾乎可以恢復(fù)到第一高度a。因此，出現(xiàn)了突起圖案部分625a與支持圖案部分626a之間的高度差，同時出現(xiàn)支持圖案部分626a的高度比突起圖案部分625a更大。因而，突起圖案部分625a變成在施加外力PO期間具有足夠高度來接觸陣列基板的突起支持圖案625。突起圖案625通過形成在相對基板的整個表面上的包括覆蓋了突起圖案625的共用電極層627，成為具有觸摸屏功能的突起電極ER。因為支持圖案部分626a由于其較低的壓縮應(yīng)變比經(jīng)歷了高度上的微小變化，支持圖案部分626a成為支持圖案626來維持陣列基板210與相對基板620之間的分隔距離。具有不同功能的突起圖案625與支持圖案626可通過陣列基板210與相對基板620的熱壓工藝同時形成。圖26為沿著圖4的線1-1’并示出了依據(jù)本發(fā)明另一個實施例的示例性顯示面板的部分橫截面視圖。參考圖26，顯示面板700包括陣列基板210、相對基板720、以及設(shè)置在陣列基板210與相對基板720之間的液晶層(未顯示)。參考圖5與26，依據(jù)本發(fā)明給出的實施例的顯示面板700，可包括與圖5的依據(jù)本發(fā)明的實施例的顯示面板200具有基本相同的陣列基板。因而，相同的參考標(biāo)記將用來指代那些在圖5的實施例中描述的相同的或類似的部分。陣列基板210包括第一基礎(chǔ)基板211、TFT陣列層212、第一突起電極ER1、支持圖案226以及像素電極PE。雖然沒有示出，但可以理解，陣列基板210進一步包括第二突起電極ER2。第一基礎(chǔ)基板211包括例如玻璃的透明材料。TFT陣列層212形成在第一基礎(chǔ)基板211上。TFT陣列層212包括多個TFT、保護層213以及第一信號線SL1。雖然沒有示出，但可以理解，TFT陣列層212進一步包括第二信號線SL2。多個TFT的每個包括柵電極212a、柵絕緣層212b、有源層212c、歐姆接觸層212d、源電極212f以及漏電極212e。保護層213包括，例如，覆蓋TFT的有機絕緣層。另外，為了使TFT的漏電極212e暴露，接觸孔CTH3穿過保護層213形成。保護層213可進一步包括使陣列基板210平面化的平面化層。由于第一信號線SLl形成在與柵電極212a形成的同一層上，柵絕緣層212b與保護層213覆蓋了第一信號線SLl的上部。TFT陣列層212具有形成在其上的突起圖案225以及支持圖案226。突起圖案225以及支持圖案226利用圖20與21中所述的基本相同的光刻法形成，但在這個實施例中，突起圖案225以及支持圖案226形成在陣列基板210上。換句話說，光敏高分子有機材料PP涂覆在其上形成有保護層213的陣列基板210上，利用曝光掩模完成光刻工藝，然后形成突起圖案225以及支持圖案226。多個突起圖案225與第一信號線SLl相對應(yīng)形成，多個突起圖案225與第二信號線SL2(未顯示)相對應(yīng)形成。突起圖案225從陣列基板210朝著相對基板720的方向以預(yù)定的突起高度突起。形成的突起圖案225的突起高度比陣列基板210與相對基板720之間的單元間隙小。支持圖案226與突起圖案225同時形成，并具有比突起圖案225更大的直徑。另外，形成的支持圖案226具有與陣列基板210與相對基板720之間的單元間隙相同的高度。因此，支持圖案226在與相對基板720相隔一定分隔距離的位置上設(shè)置陣列基板210，并支持陣列基板210與相對基板720。優(yōu)選地，支持圖案226形成在黑矩陣722之下，從而不由于支持圖案226的形狀而影響顯示面板700的光透射率。支持圖案226可形成在每個像素或每個具有預(yù)定數(shù)目像素的像素單元上。優(yōu)選地，支持圖案226在整個顯示面板700上以均勻的密度形成。像素電極層PE包括例如氧化銦錫(“ΙΤ0”)的透明導(dǎo)電材料，并相應(yīng)于每個像素形成在保護層213上。在形成像素電極層PE的光刻工藝中，第一感測電極ESl形成在突起圖案225上。在施加外力PO時，第一感測電極ESl使第一信號線SLl與形成在相對基板720中的共用電極727電連接。第一感測電極ESl包括與像素電極PE相同的材料并形成在與像素電極PE形成的同一層上。第二感測電極ES2(未顯示)可形成在與像素電極PE形成的同一層上。第一突起電極ERl通過突起圖案225與形成在突起圖案225上表面上的第一感測電極ESl從陣列基板210朝著相對基板720的方向突起。柵絕緣層212b與保護層213具有穿其而過的接觸孔CTHl(未顯示)，接觸孔CTHl暴露第一信號線SLl使第一感測電極ESl與第一信號線SLl電連接。相對基板720包括基礎(chǔ)基板721、黑矩陣722、濾色器層723、平面化層724、以及共用電極層727。基礎(chǔ)基板721包括例如玻璃或聚碳酸酯(“PC”)的透明絕緣材料。在施加小的外力下基礎(chǔ)基板721可彎曲，來賦予顯示面板200觸摸屏功能，從而基礎(chǔ)基板721可包括例如聚碳酸酯(“PC”)的塑料材料。黑矩陣722與TFT、數(shù)據(jù)線DL、柵線(未顯示)、第一信號線SLl與第二信號線(未顯示)相對應(yīng)形成。濾色器層723，例如，包括紅色濾色器圖案、綠色濾色器圖案以及藍色濾色器圖案，與像素相對應(yīng)形成。濾色器層723優(yōu)選與黑矩陣722的小部分重疊。平面化層724形成在濾色器層723與黑矩陣722的暴露部分的上部上，并包括使第二基板120平面化的有機絕緣層。共用電極層727包括例如氧化銦錫(“ΙΤ0”)或氧化鋅銦(“ΙΖ0”)的透明導(dǎo)電材料，并形成在平面化層724上。雖然已經(jīng)描述了第一突起電極ERl與第一信號線SL1，但是可以理解，如圖4所示的第二突起電極ER2與第二信號線SL2可利用基本相同的方法形成。圖27A與27B為示出了圖26的示例性突起圖案與示例性支持圖案的典型制造工藝的橫截面視圖。參考圖27A，光敏高分子有機材料PP在陣列基板210的保護層213上以均勻厚度形成。曝光掩模MASK設(shè)置在光敏高分子有機材料PP上方來構(gòu)圖光敏高分子有機材料PP。曝光掩模MASK包括屏蔽材料來屏蔽光。另外，曝光掩模MASK具有形成在其上的第一掩模圖案MPl與第二掩模圖案MP2，并且光屏蔽區(qū)域LCA形成在第一與第二掩模圖案MPl與MP2之外。第一掩模圖案MPl是在陣列基板210上形成支持圖案226的掩模圖案，第二掩模圖案MP2是在陣列基板210上形成突起圖案225的掩模圖案。另外，第一掩模圖案MPl具有與第二掩模圖案MP2基本相同的形狀，并具有比第二掩模圖案MP2相對較大的尺寸。例如，當(dāng)?shù)谝慌c第二掩模圖案MP1、MP2以圓形形狀形成時，第一掩模圖案MPl的直徑要比第二掩模圖案MP2的直徑長。當(dāng)光敏高分子有機材料PP被曝光時，與第一與第二掩模圖案MPl與MP2相對應(yīng)的光敏高分子有機材料PP的上表面將完全被曝光，但是與光屏蔽區(qū)域LCA相對應(yīng)的光敏高分子有機材料PP沒有被曝光。如圖27B所示，當(dāng)曝光的光敏高分子有機材料PP被顯影時，就消除了沒有被曝光的光敏高分子有機材料PP。因此，有源層213具有突起圖案部分225a與支持圖案部分226a，這兩者都具有形成在其上的柱狀間隔物的形狀。突起圖案部分以及支持圖案部分225a與226a具有同樣的高度。支持圖案部分226a具有比突起圖案部分225a更寬的直徑。例如，突起圖案部分225a的直徑可大約為10μm,而支持圖案部分226a的直徑可大約為17μm。雖然在附圖中未顯示，通過光刻工藝，相對應(yīng)于每個像素部分的像素電極PE以及相對應(yīng)于突起圖案部分225a的第一感測電極ES1，形成在其上形成有突起圖案部分225a以及支持圖案部分226a的保護層213上。那么，陣列基板210與相對基板720利用如圖22與23所述的組裝工藝進行熱壓。形成在陣列基板上的突起圖案部分225a與支持圖案部分226a通過在如圖22與23所述的組裝工藝中的外力而變形。在這種情況下，如圖24與表1所述，由于具有較小直徑的突起圖案部分225a具有較大的壓縮應(yīng)變比，突起圖案部分225a的應(yīng)變比支持圖案部分226a的應(yīng)變更大。因此，參考圖26與27B，當(dāng)通過施加在顯示面板700上的外力使相對基板彎曲時，突起圖案部分225a成為具有足夠高度來接觸相對基板720的突起圖案225。突起圖案225通過形成在突起圖案225上部上的第一感測電極ES1，成為具有觸摸屏功能的第一突起電極ER1。由于支持圖案部分226a具有較小的壓縮應(yīng)變比以及在組裝工藝期間經(jīng)歷高度上的微小變化，支持圖案部分226a成為在距離相對基板720—定分隔距離的位置上設(shè)置陣列基板210的支持圖案226。依據(jù)本發(fā)明，顯示面板的相對基板與具有第一與第二信號線的陣列基板電連接來檢測觸摸點，并具有觸摸功能來確定觸摸點的定位坐標(biāo)。在這種情況下，制造顯示基板的工藝總數(shù)可以通過在一個工藝中形成突起圖案以及支持部件來減少工藝。突起圖案與第一與第二信號線電連接，并檢測觸摸點的定位坐標(biāo)。支持部件保持陣列基板與相對基板之間的分隔距離。因此，制造顯示基板的工藝總數(shù)可以簡化，提高了制造的便利性以及降低了成本價格。已經(jīng)描述了本發(fā)明的實施例及其優(yōu)勢，可以注意到，在不脫離權(quán)利要求定義的本發(fā)明的精神與范圍的情況下，本發(fā)明可以作出多種改變、替換以及變化。權(quán)利要求一種顯示面板的顯示基板，該面板具有觸摸屏功能來檢測觸摸點的坐標(biāo)，顯示基板在觸摸點上與陣列基板電連接，陣列基板具有由形成在其上的多個像素部分，第一線與第二線，該多個像素部分由多條柵線和多條數(shù)據(jù)線確定，該多個像素部分的每個包括像素電極，第一和第二線檢測觸摸點，該顯示基板包括基礎(chǔ)基板；直接形成在基礎(chǔ)基板上具有第一長度的支持圖案，其維持與陣列基板均勻分隔距離；以及形成在基礎(chǔ)基板上具有第二長度的第一和第二突起圖案，第一突起圖案和第二突起圖案的每個包括第一電極層，當(dāng)外部壓力施加到所述顯示基板時，該第一電極層在觸摸點上分別與第一和第二線電連接，其中所述第一電極層具有與所述像素電極相對的延伸部分。2.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示基板，其中第一長度比第二長度長。3.根據(jù)權(quán)利要求2的顯示基板，其中第一與第二突起圖案彼此間以預(yù)定的距離分隔開。4.根據(jù)權(quán)利要求2的顯示基板，其中第一與第二突起圖案彼此相鄰形成。5.根據(jù)權(quán)利要求2的顯示基板，進一步包括形成在基礎(chǔ)基板上的光阻擋層，該光阻擋層相對應(yīng)于像素部分將基礎(chǔ)基板定義成多個區(qū)域，其中支持圖案以及第一與第二突起圖案形成在光阻擋層上。6.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示基板，其中支持圖案以及第一與第二突起圖案通過單一曝光工藝形成。7.根據(jù)權(quán)利要求1的顯示基板，其中所述第一線在第一方向上延伸，所述第二線與所述第一線絕緣并在第二方向上延伸，所述第二方向與所述第一方向基本垂直。8.—種制造顯示面板的顯示基板的方法，該顯示面板具有觸摸屏功能來檢測觸摸點的坐標(biāo)，顯示基板與陣列基板在觸摸點上電連接，陣列基板具有形成在其上的多個像素部分、第一線和第二線，該多個像素部分由多條柵線和多條數(shù)據(jù)線確定，第一和第二線檢測觸摸點，該方法包括在基礎(chǔ)基板上涂上有機材料層；在有機材料層上部上方設(shè)置曝光掩模，從而曝光掩模與有機材料層分離，曝光掩模包括形成支持圖案的第一掩模圖案以及形成第一突起圖案與第二突起圖案的第二掩模圖案；曝光有機材料層，同時維持曝光掩模與有機材料層之間的均勻的分隔距離；以及顯影曝光的有機材料層形成支持圖案以及第一與第二突起圖案。9.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進一步包括在基礎(chǔ)基板上形成光阻擋層，該光阻擋層對應(yīng)于確定多個像素部分的區(qū)域。10.根據(jù)權(quán)利要求9的方法，其中維持曝光掩模與有機材料層之間的分隔距離控制支持圖案與突起圖案的長度。11.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，進一步包括消除與支持圖案以及第一與第二突起圖案不相對應(yīng)的有機材料層；形成濾色器層；在基礎(chǔ)基板上形成其上形成了濾色器層的導(dǎo)電層；構(gòu)圖導(dǎo)電層；以及消除相對應(yīng)于支持元件的區(qū)域中的導(dǎo)電層。12.根據(jù)權(quán)利要求11的方法，其中形成濾色器層包括利用旋涂步驟。13.根據(jù)權(quán)利要求8的方法，其中支持圖案以及第一與第二突起圖案通過鄰近型曝光工藝形成。14.一種制造顯示基板的方法，該顯示基板與具有形成在其上的多個像素部分以及信號線的陣列基板相應(yīng)，其中多個像素部分由多條柵線與多條數(shù)據(jù)線確定，信號線檢測觸摸點，該方法包括相對應(yīng)于像素部分在基礎(chǔ)基板上形成濾色器圖案；在其上形成有濾色器圖案的基礎(chǔ)基板上形成有機材料層；構(gòu)圖有機材料層，以及分別形成具有不同直徑的支持圖案以及突起圖案；在其上形成有突起圖案的基礎(chǔ)基板上形成透明電極層來形成覆蓋了突起圖案的突起電極；以及通過熱壓步驟在其上形成了透明電極層的基礎(chǔ)基板上形成具有彼此不同高度的支持圖案以及突起圖案。15.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中支持圖案的直徑比突起圖案大，并且在熱壓步驟前支持圖案的高度與突起圖案的基本相同。16.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中陣列基板與顯示基板通過熱壓步驟利用密封劑組合o17.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中在熱壓步驟后突起圖案的高度比支持圖案的高度低。18.根據(jù)權(quán)利要求14的方法，其中支持圖案維持陣列基板與顯示基板之間的間隙，并且其中在施加了外部觸摸力時突起電極與信號線電連接。19.一種顯示面板，包括陣列基板，其具有形成在其上的多個像素部分、第一信號線與第二信號線，多個像素部分由多條柵線和多條數(shù)據(jù)線確定，所述多個像素部分的每個包括像素電極，第一與第二信號線檢測觸摸點并分別形成在與柵線以及數(shù)據(jù)線相同的方向上；以及與陣列基板相組合的相對基板，并容納液晶材料，其中相對基板包括在基礎(chǔ)基板上與柵線與數(shù)據(jù)線相對應(yīng)的區(qū)域中形成光阻擋層；以第一長度形成在光阻擋層上的支持圖案，該支持圖案維持與陣列基板均勻的分隔距離；以及以第二長度形成在光阻擋層上的第一突起圖案與第二突起圖案，第一突起圖案和第二突起圖案的每個包括第一電極層，當(dāng)外部壓力施加到所述顯示基板時，所述第一電極層在所述觸摸點分別電連接所述第一信號線和所述第二信號線，其中所述第一電極層具有與所述像素電極相對的延伸部分。20.權(quán)利要求19的顯示面板，其中第一與第二突起圖案形成在與數(shù)據(jù)線相對應(yīng)的光阻擋層的區(qū)域上。21.權(quán)利要求20的顯示面板，其中第一與第二突起圖案彼此間以預(yù)定的距離分開。22.權(quán)利要求20的顯示面板，其中第一與第二突起圖案彼此相鄰形成。23.權(quán)利要求19的顯示面板，其中陣列基板進一步包括第一檢測電極與第二檢測電極，第一與第二檢測電極分別形成在第一與第二信號線上，并且其上形成了所述第一電極層的第一與第二突起圖案在觸摸點上分別與第一與第二信號線電連接。24.權(quán)利要求19的顯示面板，其中支持圖案以及第一與第二突起圖案通過鄰近型曝光工藝形成。25.權(quán)利要求24的顯示面板，其中第一長度比第二長度長。26.權(quán)利要求19的顯示面板，所述第一信號線在第一方向上延伸，所述第二信號線與所述第一信號線絕緣并在第二方向上延伸，所述第二方向與所述第一方向基本垂直，當(dāng)外部壓力施加到所述相對基板時所述第一和第二信號線檢測觸摸點。全文摘要一種通過簡單工藝來降低成本價格以及方便地制造的顯示基板，包括基礎(chǔ)基板、支持圖案以及第一與第二突起圖案。該顯示基板具有觸摸屏功能來檢測觸摸點并在觸摸點上與其上形成了多個像素部分以及第一與第二信號線的陣列基板電連接。該支持圖案以第一長度形成在基礎(chǔ)基板上，并維持其與陣列基板的分隔距離。第一與第二突起圖案以第二長度形成在基礎(chǔ)基板上，并分別與第一與第二信號線電連接。同時形成突起圖案與支持圖案，因而簡化了制造工藝。文檔編號G02F1/133GK101833188SQ20101016760公開日2010年9月15日申請日期2006年11月3日優(yōu)先權(quán)日2005年11月3日發(fā)明者全珍,盧水貴,樸商鎮(zhèn),李知恩申請人:三星電子株式會社