專利名稱：液晶顯示基板的制造方法及檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明實(shí)施例涉及液晶顯示基板在制造過(guò)程中的檢測(cè)和修補(bǔ)技術(shù)，尤其涉及一種液晶顯示基板的制造方法及檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備。
背景技術(shù)：
液晶面板是液晶顯示器中的重要部件，其主要由兩塊液晶顯示基板對(duì)盒而成。以薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay，簡(jiǎn)稱 TFT-LCD) 為例，其液晶面板由陣列基板和彩膜基板對(duì)盒而成。液晶顯示基板上需要形成各種膜層圖案，所以，在液晶顯示基板的制造過(guò)程中，構(gòu)圖工藝是必不可少的工藝。常規(guī)的構(gòu)圖工藝包括形成薄膜、涂覆光刻膠、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光顯影、對(duì)待刻蝕膜層進(jìn)行刻蝕、以及去除剩余光刻膠的操作。這其中涉及到兩次圖案成形的步驟，第一次是光刻膠曝光顯影之后形成的光刻膠圖案，第二次是對(duì)待刻蝕膜層進(jìn)行刻蝕后形成的具有設(shè)定圖案的膜層。構(gòu)圖工藝在整個(gè)液晶顯示基板的制造過(guò)程中會(huì)執(zhí)行多次， 每次構(gòu)圖工藝中所成形圖案的準(zhǔn)確性，都會(huì)影響液晶顯示基板的質(zhì)量。光刻膠圖案的準(zhǔn)確性則會(huì)直接影響膜層的圖案，例如導(dǎo)致刻蝕出的數(shù)據(jù)線和柵線發(fā)生斷線不良。為了保證成形圖案的準(zhǔn)確性，現(xiàn)有技術(shù)在圖案成形后會(huì)進(jìn)行檢測(cè)，檢測(cè)到不良時(shí)則會(huì)去除該層圖案，重新構(gòu)圖。因此，現(xiàn)有技術(shù)存在著工序復(fù)雜、時(shí)間和材料成本浪費(fèi)的缺陷。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種液晶顯示基板的制造方法及檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，以解決局部膜層缺陷導(dǎo)致液晶顯示基板產(chǎn)品不良的問(wèn)題。本發(fā)明實(shí)施例提供一種液晶顯示基板的制造方法，包括至少一次形成膜層的步驟，其中，在形成所述膜層之后，還包括對(duì)所述膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料，以修補(bǔ)所述膜層。本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，包括基板承載臺(tái)，用于承載液晶顯示基板；坐標(biāo)定位裝置，設(shè)置在所述基板承載臺(tái)和檢測(cè)裝置之間；檢測(cè)裝置，設(shè)置在所述坐標(biāo)定位裝置上，所述檢測(cè)裝置包括驅(qū)動(dòng)單元和檢測(cè)單元， 其中所述驅(qū)動(dòng)單元用于驅(qū)動(dòng)所述坐標(biāo)定位裝置動(dòng)作，以帶動(dòng)所述檢測(cè)裝置相對(duì)于所述基板承載臺(tái)運(yùn)動(dòng)；所述檢測(cè)單元用于對(duì)形成的膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；修補(bǔ)裝置，設(shè)置在所述坐標(biāo)定位裝置上，用于在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料，以修補(bǔ)所述膜層。
本發(fā)明實(shí)施例提供的液晶顯示基板的制造方法和液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備能夠及時(shí)對(duì)膜層的缺失區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)和修補(bǔ)，避免局部膜層缺陷遺漏到后續(xù)操作中無(wú)法彌補(bǔ)而導(dǎo)致整個(gè)基板廢棄或產(chǎn)生更高的維修成本，從而從液晶顯示基板的整體制造流程方面降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品合格率。
圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的液晶顯示基板的制造方法中檢測(cè)修補(bǔ)工序的流程圖；圖2A為本發(fā)明實(shí)施例二提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖；圖2B 2D為液晶顯示基板的制造過(guò)程中形成斷路缺陷的結(jié)構(gòu)示意圖；圖3為本發(fā)明實(shí)施例三提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖；圖4為本發(fā)明實(shí)施例四提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖；圖5為本發(fā)明實(shí)施例五提供的液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對(duì)本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒(méi)有作出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。實(shí)施例一圖1為本發(fā)明實(shí)施例一提供的液晶顯示基板的制造方法中檢測(cè)修補(bǔ)工序的流程圖，液晶顯示基板的制造方法中包括至少一次形成膜層的步驟，通常是反復(fù)執(zhí)行多次形成膜層的操作。所形成的膜層，可以是柵線、柵電極、數(shù)據(jù)線、源漏電極、有源層、有源層溝道、 帶有鈍化層過(guò)孔的鈍化層、像素電極、光刻膠圖案和彩色樹(shù)脂等，這類膜層通常是先形成對(duì)應(yīng)材料的薄膜再進(jìn)行構(gòu)圖工藝形成包括設(shè)定圖案的膜層。所形成的膜層還可以是無(wú)設(shè)定圖案的膜層，這類膜層只需形成薄膜的工序，例如，可以是印刷的聚亞酰胺型(Polyimide，簡(jiǎn)稱PI)液以形成取向膜層。無(wú)論是否包括圖案，各種膜層都可能會(huì)出現(xiàn)圖案的缺失，或者出現(xiàn)針孔、波紋(MURA)等不良。為了避免膜層缺陷導(dǎo)致液晶顯示基板的不良，本實(shí)施例執(zhí)行如下的檢測(cè)修補(bǔ)工序，本實(shí)施例可以適用于上述成膜工序的任意一次或幾次之后。具體是在形成膜層之后，還包括步驟110、對(duì)膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域；步驟120、在缺失區(qū)域中填補(bǔ)膜層的材料，以修補(bǔ)膜層。本實(shí)施例的技術(shù)方案，一方面，能夠在液晶顯示基板的制造過(guò)程中，在形成膜層之后立即執(zhí)行檢測(cè)操作，避免在液晶顯示基板制成之后再檢測(cè)時(shí)已無(wú)法修補(bǔ)的問(wèn)題，另一方面，檢測(cè)到缺失區(qū)域時(shí)能夠以填補(bǔ)膜層材料的方式立即修補(bǔ)膜層，該修補(bǔ)方式既能夠減少因少量缺陷就重新成膜所增加的時(shí)間和材料成本，又能夠及時(shí)修復(fù)液晶顯示基板上的缺陷，克服了局部缺陷在后續(xù)操作中無(wú)法彌補(bǔ)的問(wèn)題，因而提高了液晶顯示基板的成品率。對(duì)膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域的操作可以采用光學(xué)檢測(cè)工藝或電學(xué)檢測(cè)工藝，通過(guò)將待識(shí)別區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域或相鄰區(qū)域進(jìn)行比較來(lái)識(shí)別異常，并確定缺失區(qū)域的坐標(biāo)?？梢灶A(yù)先將整個(gè)液晶顯示基板劃分為多個(gè)相同大小的單元區(qū)域，例如像素單元。將每個(gè)單元區(qū)域作為待識(shí)別區(qū)域與一個(gè)標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域進(jìn)行比較來(lái)判斷該單元區(qū)域中是否異常。或者，將各單元區(qū)域進(jìn)行比較，與相鄰區(qū)域的一致性差的單元區(qū)域就確定為存在異
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巾ο實(shí)施例二圖2A為本發(fā)明實(shí)施例二提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖，由于液晶顯示基板上各層圖案的構(gòu)圖工藝基本相同，本實(shí)施例以柵線(Gate)膜層的構(gòu)圖工藝過(guò)程為例進(jìn)行說(shuō)明，在此構(gòu)圖工藝過(guò)程中包括了構(gòu)圖形成光刻膠圖案，還包括了構(gòu)圖形成柵線圖案的過(guò)程，本實(shí)施例中以光刻膠圖案作為待檢測(cè)修補(bǔ)的膜層為例進(jìn)行說(shuō)明。具體應(yīng)用中，諸如數(shù)據(jù)線、有源層、像素電極、公共電極線等其他圖案的構(gòu)圖工藝過(guò)程與此流程類似。本實(shí)施例所提供的柵線構(gòu)圖工藝過(guò)程包括如下步驟步驟210、在襯底基板上形成柵線薄膜；本步驟即完成薄膜(Thin Film)成膜工藝，具體可以使用磁控濺射方法，在玻璃基板上制備一層厚度在2000埃米(A )至5000A的金屬薄膜作為柵線膜層，金屬材料通?？梢允倾f(Mo)、鋁(Al)、鋁釹合金(AlNd)、鉻(Cr)、銅(Cu)、鎢(W)等金屬或其它合金金屬；步驟220、在形成上述柵線薄膜的襯底基板上形成光刻膠，該柵線薄膜即作為該光刻膠下方的待刻蝕薄膜；光刻膠的厚度可以為1 2微米(μ m)。若光刻膠材料為溶液形式，則可對(duì)襯底基板采用旋轉(zhuǎn)工藝，靠離心力使光刻膠在襯底基板上的厚度更加均勻；旋轉(zhuǎn)工藝后可以進(jìn)行邊緣除膠工藝，去掉襯底基板四周多余的光刻膠材料；而后，再進(jìn)行烘干工藝，去除掉光刻膠中多余的水份，烘干溫度為100 200°C，形成均勻固化的光刻膠。步驟230、接下來(lái)對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光顯影操作，通過(guò)與柵線圖案對(duì)應(yīng)的柵線掩膜版進(jìn)行掩膜曝光，形成光刻膠圖案；曝光工藝中，掩膜版擋住相應(yīng)位置的紫外線，將襯底基板上部分位置暴露在紫外線下，通過(guò)一定時(shí)間的紫外線照射使得曝光位置的光刻膠發(fā)生光化學(xué)反應(yīng)。顯影工藝中，將感光后的光刻膠膜層通過(guò)含有四甲基氫氧化銨(簡(jiǎn)稱TMAH)的顯影液溶解掉，TMAH的濃度為0. 0. 5%。顯影完畢后進(jìn)行清洗和再次烘干工藝烘干水分，溫度為100 200°C。在實(shí)際操作中，陣列斷線是常見(jiàn)的不良，一個(gè)主要的原因就在于光刻工藝后出現(xiàn)光刻膠脫落的情況。光刻膠圖案對(duì)其下方膜層的附著力并不均勻，由于局部光刻膠的附著力較低，很容易被顯影后的清洗過(guò)程水流沖掉。如圖2B所示，襯底基板1柵線薄膜2上的光刻膠圖案3中形成缺失區(qū)域4。經(jīng)過(guò)隨后的刻蝕工藝后，可以看到光刻膠圖案3缺失區(qū)域 4的柵線薄膜2被刻蝕掉，如圖2C所示。接著進(jìn)行剝離工藝，將光刻膠圖案3去除，則該處所對(duì)應(yīng)的柵線21就出現(xiàn)了斷路不良，如圖2D所示。為避免后續(xù)出現(xiàn)圖2B 2D所示的缺陷，本實(shí)施例在步驟230之后繼續(xù)執(zhí)行光刻膠圖案的檢測(cè)和修補(bǔ)操作步驟M0、對(duì)光刻膠圖案進(jìn)行檢測(cè)，以定位光刻膠圖案中存在的缺失區(qū)域；具體可以利用光學(xué)檢測(cè)工藝或電學(xué)檢測(cè)工藝來(lái)定位缺失區(qū)域，具體可以是檢測(cè)光刻膠圖案的花樣是否異常。例如通過(guò)各個(gè)小區(qū)域之間的對(duì)比來(lái)確定異常區(qū)域，將待識(shí)別的區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域或與相鄰區(qū)域進(jìn)行圖案比對(duì)，出現(xiàn)不一致的區(qū)域即為異常區(qū)域，進(jìn)而確定不良位置缺失區(qū)域的坐標(biāo)。
步驟250、在缺失區(qū)域中填補(bǔ)光刻膠材料，以修補(bǔ)光刻膠圖案；步驟沈0、對(duì)覆蓋有光刻膠圖案的柵線薄膜進(jìn)行刻蝕，以形成包括柵線的圖案；對(duì)柵線薄膜的刻蝕具體可采用濕刻(Wet Etch)工藝，可以通過(guò)噴淋式或浸潤(rùn)式這兩種方式施加刻蝕液，使得沒(méi)有光刻膠圖案保護(hù)位置的柵線薄膜被刻蝕掉，刻蝕液為不同酸的混合溶液?？涛g完畢后進(jìn)行清洗。步驟270、清洗后進(jìn)入剝離工藝，去除襯底基板上的光刻膠圖案。本實(shí)施例通過(guò)對(duì)構(gòu)圖成形的光刻膠圖案進(jìn)行及時(shí)的檢測(cè)和修補(bǔ)，能夠避免光刻膠圖案的缺陷延續(xù)到后續(xù)形成的膜層圖案中而導(dǎo)致液晶顯示基板整體質(zhì)量下降。在現(xiàn)有技術(shù)中，一方面，對(duì)于光刻膠圖案缺失導(dǎo)致的柵線、數(shù)據(jù)線斷路不良，往往是在液晶顯示基板制成之后，通過(guò)檢測(cè)數(shù)據(jù)線或柵線來(lái)發(fā)現(xiàn)斷路不良，而后再通過(guò)化學(xué)氣相沉積(Chemical vapor exposition，簡(jiǎn)稱CVD)方式進(jìn)行維修。然而，CVD僅能修復(fù)斷線不良，通常無(wú)法修復(fù)有源層圖案、有源層溝道圖案和像素電極圖案等由于光刻膠圖案缺失導(dǎo)致的斷裂缺陷，這在不良產(chǎn)品的原因中占據(jù)一部分的比例；CVD的修復(fù)還會(huì)增加線電阻，造成信號(hào)延遲。另一方面，當(dāng)柵線和數(shù)據(jù)線的斷線過(guò)長(zhǎng)時(shí)，即使采用CVD技術(shù)也難以修復(fù)，最終導(dǎo)致產(chǎn)品廢棄。 再一方面，現(xiàn)有技術(shù)中在液晶顯示基板制造完成之后才進(jìn)行集中修復(fù)，往往造成生產(chǎn)瓶頸， 限制了生產(chǎn)效率。本實(shí)施例的技術(shù)方案在形成光刻膠圖案之后就立即解決光刻膠缺失問(wèn)題，不會(huì)遺留到液晶顯示基板制造完成之后，則減少了使用CVD進(jìn)行修復(fù)的情況，克服了現(xiàn)有技術(shù)中的上述缺陷。并且，本實(shí)施例的技術(shù)方案不會(huì)增加掩膜構(gòu)圖工序，簡(jiǎn)單易實(shí)現(xiàn)，對(duì)產(chǎn)能影響小。在本實(shí)施例中，在缺失區(qū)域中填補(bǔ)膜層圖案的材料可以以噴嘴噴注的形式在缺失區(qū)域中填補(bǔ)固態(tài)光刻膠。光刻膠材料本身有不同的品種，其為介于液體和固體間的狀態(tài)，本實(shí)施例修補(bǔ)時(shí)所使用的固態(tài)光刻膠即為具有大致為固態(tài)特性的光刻膠材料，其流動(dòng)性差、 粘性高，易于控制其填補(bǔ)位置。所使用的噴嘴直徑一般與液晶顯示基板上的數(shù)據(jù)線、柵線的寬度等級(jí)對(duì)應(yīng)，通常是毫米級(jí)的尺寸。實(shí)施例三圖3為本發(fā)明實(shí)施例三提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖，本實(shí)施例仍以柵線的構(gòu)圖工藝過(guò)程為例進(jìn)行說(shuō)明，與實(shí)施例二的區(qū)別在于，本實(shí)施例中以柵線圖案作為需要檢測(cè)和修補(bǔ)的膜層，本實(shí)施例可普遍適用于修補(bǔ)包括設(shè)定圖案的膜層，例如數(shù)據(jù)線、源漏電極等。本實(shí)施例中柵線的構(gòu)圖工藝過(guò)程包括如下流程步驟310、在襯底基板上形成柵線薄膜，若需修補(bǔ)的膜層為其他結(jié)構(gòu)，則形成對(duì)應(yīng)于膜層的材料的薄膜；步驟320、在柵線薄膜上形成光刻膠；步驟330、對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光顯影操作以形成光刻膠圖案，此時(shí)可以如實(shí)施例二所描述的對(duì)光刻膠圖案進(jìn)行檢測(cè)和修補(bǔ)；步驟340、對(duì)覆蓋有光刻膠圖案的柵線薄膜進(jìn)行刻蝕，以形成包括設(shè)定圖案的膜層，本實(shí)施例中具體是形成了包括柵線圖案的膜層，具體應(yīng)用中膜層所包括的設(shè)定圖案還可以為柵電極、有源層、數(shù)據(jù)線和/或有源層溝道等，其構(gòu)圖工藝過(guò)程與柵線的構(gòu)圖工藝過(guò)程類似；
步驟350、去除光刻膠圖案；步驟360、對(duì)包括柵線圖案的膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位柵線圖案膜層中存在的缺失區(qū)域；步驟370、在缺失區(qū)域中填補(bǔ)柵線圖案的材料，以修補(bǔ)柵線圖案的膜層，具體可以采用噴墨印刷的方式在缺失區(qū)域中填補(bǔ)柵線膜層圖案的材料。本實(shí)施例的技術(shù)方案利用了噴墨印刷技術(shù)。噴墨印刷技術(shù)已廣泛應(yīng)用于TFT-IXD 制造過(guò)程中的成膜工藝，圖形精度高，控制容易。實(shí)施例四圖4為本發(fā)明實(shí)施例四提供的液晶顯示基板的制造方法的流程圖，本實(shí)施例具體適用于形成不包括設(shè)定圖案的整體膜層的情況，例如形成PI液膜層、公共電極膜層等。本實(shí)施例中在缺失區(qū)域中填補(bǔ)該膜層的材料，以修補(bǔ)該膜層的操作包括如下步驟步驟410、采用激光技術(shù)在缺失區(qū)域的周?chē)M(jìn)行切割，以形成設(shè)定尺寸的修補(bǔ)區(qū)域，缺失區(qū)域落入修補(bǔ)區(qū)域的范圍內(nèi)，優(yōu)選的是修補(bǔ)區(qū)域?yàn)橐粋€(gè)或多個(gè)像素單元所占據(jù)的區(qū)域，即修補(bǔ)區(qū)域是像素單元的整倍數(shù)；步驟420、在修補(bǔ)區(qū)域中填補(bǔ)膜層的材料，以修補(bǔ)缺失區(qū)域，由于修補(bǔ)區(qū)域?qū)?yīng)像素單元，使得新舊膜層的結(jié)合處位于像素單元的邊緣處，對(duì)正常顯示的影響被降到最低。缺失區(qū)域一般尺寸較小，本實(shí)施例為了降低修補(bǔ)的精度定位難度，且提高修補(bǔ)的成功率，會(huì)首先將缺失區(qū)域所在的一定范圍內(nèi)的膜層都切割掉，而后進(jìn)行修補(bǔ)，即先剝膜再補(bǔ)膜。本實(shí)施例利用了激光技術(shù)將待修補(bǔ)處的膜層去除，激光技術(shù)已廣泛應(yīng)用于TFT-LCD 制造過(guò)程的測(cè)試修復(fù)工序中，能修復(fù)各種短路、斷路等不良，具有位置精度高、控制容易等特點(diǎn)。而后進(jìn)行修補(bǔ)時(shí)可以利用噴墨設(shè)備精確補(bǔ)膜，實(shí)現(xiàn)工藝薄膜的修復(fù)。實(shí)施例五圖5為本發(fā)明實(shí)施例五提供的液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備的結(jié)構(gòu)示意圖，該設(shè)備包括基板承載臺(tái)510、坐標(biāo)定位裝置520、檢測(cè)裝置530和修補(bǔ)裝置M0。其中基板承載臺(tái)510用于承載液晶顯示基板550，可增設(shè)機(jī)械手，實(shí)現(xiàn)液晶顯示基板 550到基板承載臺(tái)510的搬運(yùn)?；宄休d臺(tái)510上可以設(shè)置真空吸盤(pán)、氬氣孔和保持裝置等，氬氣孔可以通過(guò)排除氬氣來(lái)托住液晶顯示基板陽(yáng)0，保持裝置可以對(duì)液晶顯示基板550 進(jìn)行鎖位固定，鎖定液晶顯示基板550后再停止供給氬氣，通過(guò)真空吸盤(pán)吸附固定液晶顯示基板550。坐標(biāo)定位裝置520設(shè)置在基板承載臺(tái)510和檢測(cè)裝置530之間，能夠?qū)崿F(xiàn)基板承載臺(tái)510和檢測(cè)裝置530之間的相對(duì)運(yùn)動(dòng)即可，既可以是基板承載臺(tái)510固定而檢測(cè)裝置 530運(yùn)動(dòng)，也可以是基板承載臺(tái)510運(yùn)動(dòng)而檢測(cè)裝置530固定。典型地是坐標(biāo)定位裝置520 包括橫向?qū)к?21以及滑動(dòng)設(shè)置在橫向?qū)к?21上的縱向?qū)к?22，包括橫向?qū)к?21以及滑動(dòng)設(shè)置在橫向?qū)к?21上的縱向?qū)к?22，橫向?qū)к?21和縱向?qū)к?22可分別對(duì)應(yīng)X、Y 坐標(biāo)軸，檢測(cè)裝置530和修補(bǔ)裝置540設(shè)置在縱向?qū)к?22上，可以相對(duì)于基板承載臺(tái)510 運(yùn)動(dòng)。檢測(cè)裝置530設(shè)置在縱向?qū)к?22上，該檢測(cè)裝置530具體包括驅(qū)動(dòng)單元和檢測(cè)單元，其中驅(qū)動(dòng)單元用于驅(qū)動(dòng)縱向?qū)к?22在橫向?qū)к?21上滑動(dòng)，以及驅(qū)動(dòng)檢測(cè)裝置 530在縱向?qū)к?22上滑動(dòng)，驅(qū)動(dòng)單元可以是連接電機(jī)、液動(dòng)、氣動(dòng)等動(dòng)力源。檢測(cè)單元用于對(duì)形成的膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域560。檢測(cè)單元典型地可以由顯微鏡、光源、基板角度控制系統(tǒng)、顯微鏡位置控制系統(tǒng)等部分組成。光學(xué)系統(tǒng)可以有五組不同倍數(shù)的光學(xué)鏡頭來(lái)進(jìn)行缺失區(qū)域560的檢測(cè)定位。修補(bǔ)裝置540設(shè)置在縱向?qū)к?22上，在缺失區(qū)域560中填補(bǔ)膜層的材料，以修補(bǔ)該膜層。修補(bǔ)裝置540可以連接原料儲(chǔ)備裝置，以便能連續(xù)不斷地獲取填補(bǔ)材料。本實(shí)施例所提供的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備可執(zhí)行本發(fā)明實(shí)施例提供的液晶顯示基板的制造方法中的檢測(cè)修補(bǔ)操作，具備執(zhí)行相應(yīng)功能的結(jié)構(gòu)。該檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備可以利用已有的液晶顯示基板550檢測(cè)設(shè)備，通常的檢測(cè)設(shè)備包括基板承載臺(tái)510、坐標(biāo)定位裝置520和檢測(cè)裝置530。檢測(cè)裝置530能夠?qū)σ壕э@示基板 550上的膜層進(jìn)行異常檢測(cè)和定位。在該檢測(cè)設(shè)備的基礎(chǔ)上可以集成修補(bǔ)裝置M0，使檢測(cè)之后立即進(jìn)行修補(bǔ)。該設(shè)備可實(shí)現(xiàn)在線修復(fù)，修復(fù)后的產(chǎn)品能重新投入生產(chǎn)線。修補(bǔ)裝置540可以獨(dú)立地驅(qū)動(dòng)和定位，但優(yōu)選的是修補(bǔ)裝置540利用檢測(cè)裝置530 的定位和驅(qū)動(dòng)技術(shù)。修補(bǔ)裝置540與檢測(cè)裝置530之間具有第一距離，并與檢測(cè)裝置530固定相連，使得檢測(cè)裝置530的移動(dòng)能夠帶動(dòng)修補(bǔ)裝置MO同步地移動(dòng)。檢測(cè)單元還包括修補(bǔ)觸發(fā)單元，用于在檢測(cè)單元檢測(cè)到缺失區(qū)域560時(shí)，指示驅(qū)動(dòng)單元?jiǎng)幼?，以?qū)動(dòng)檢測(cè)裝置 530滑動(dòng)第一距離，并觸發(fā)修補(bǔ)裝置540動(dòng)作。在檢測(cè)裝置530定位對(duì)準(zhǔn)缺失區(qū)域560后， 再滑動(dòng)第一距離，即使得修補(bǔ)裝置540對(duì)準(zhǔn)缺失區(qū)域560以便進(jìn)行修補(bǔ)。該方案可以省略了修補(bǔ)裝置MO的獨(dú)立定位和驅(qū)動(dòng)操作。對(duì)于不同膜層的修補(bǔ)，修補(bǔ)裝置具體可以采用不同的形式。一種情況下，該膜層為光刻膠圖案，檢測(cè)單元包括噴嘴，用于以噴嘴噴注的形式在缺失區(qū)域中填補(bǔ)固態(tài)光刻膠材料。該技術(shù)方案尤其適用于上述實(shí)施例二。另一種情況下，修補(bǔ)裝置可以包括噴墨印刷器，用于采用噴墨印刷的方式在缺失區(qū)域中填補(bǔ)膜層的材料。該技術(shù)方案尤其適用于上述實(shí)施例三。再一種情況下，修補(bǔ)裝置可以包括激光切割器和噴墨印刷器。其中，激光切割器用于采用激光技術(shù)在缺失區(qū)域的周?chē)M(jìn)行切割，以形成設(shè)定尺寸的修補(bǔ)區(qū)域，缺失區(qū)域落入修補(bǔ)區(qū)域的范圍內(nèi)；噴墨印刷器用于采用噴墨印刷的方式在修補(bǔ)區(qū)域中填補(bǔ)膜層的材料，以修補(bǔ)缺失區(qū)域。該技術(shù)方案尤其適用于上述實(shí)施例四，對(duì)缺失區(qū)域進(jìn)行剝膜，隨后再進(jìn)行補(bǔ)膜。本實(shí)施例所提供的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，檢測(cè)單元和修補(bǔ)裝置都可以由計(jì)算機(jī)進(jìn)行精確控制，使得補(bǔ)充的膜層與原膜層的結(jié)合精確，不影響正常顯示。本發(fā)明各實(shí)施例的技術(shù)方案填補(bǔ)了成膜后不能局布修復(fù)的空白，減少了整張基板由于膜層局部缺失而返工和報(bào)廢造成的浪費(fèi)，既降低了產(chǎn)品成本，又提高了成品率。最后應(yīng)說(shuō)明的是以上實(shí)施例僅用以說(shuō)明本發(fā)明的技術(shù)方案，而非對(duì)其限制；盡管參照前述實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)行了詳細(xì)的說(shuō)明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解其依然可以對(duì)前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對(duì)其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本發(fā)明各實(shí)施例技術(shù)方案的精神和范圍。
權(quán)利要求
1.一種液晶顯示基板的制造方法，包括至少一次形成膜層的步驟，其特征在于，在形成所述膜層之后，還包括對(duì)所述膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料，以修補(bǔ)所述膜層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，形成所述膜層的步驟包括形成對(duì)應(yīng)于所述膜層的材料的薄膜；在所述薄膜上形成光刻膠；對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光顯影操作以形成光刻膠圖案；對(duì)覆蓋有所述光刻膠圖案的薄膜進(jìn)行刻蝕，以形成包括設(shè)定圖案的所述膜層，所述膜層的設(shè)定圖案為柵線、柵電極、有源層、數(shù)據(jù)線和/或有源層溝道；去除所述光刻膠圖案。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料包括采用噴墨印刷的方式在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料，以修補(bǔ)所述膜層包括采用激光技術(shù)在所述缺失區(qū)域的周?chē)M(jìn)行切割，以形成設(shè)定尺寸的修補(bǔ)區(qū)域，所述缺失區(qū)域落入所述修補(bǔ)區(qū)域的范圍內(nèi)；采用噴墨印刷的方式在所述修補(bǔ)區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料，以修補(bǔ)所述缺失區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于所述修補(bǔ)區(qū)域?yàn)橐粋€(gè)或多個(gè)像素單元所占據(jù)的區(qū)域。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，所述膜層為光刻膠圖案，形成所述光刻膠圖案的步驟包括在待刻蝕薄膜上形成光刻膠；對(duì)所述光刻膠進(jìn)行曝光顯影操作以形成所述光刻膠圖案。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述光刻膠圖案的材料包括以噴嘴噴注的形式在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)固態(tài)光刻膠材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示基板的制造方法，其特征在于，對(duì)所述膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域包括采用光學(xué)檢測(cè)工藝或電學(xué)檢測(cè)工藝，通過(guò)將待識(shí)別區(qū)域與標(biāo)準(zhǔn)區(qū)域或相鄰區(qū)域進(jìn)行比較來(lái)識(shí)別異常，并確定缺失區(qū)域的坐標(biāo)。
9.一種液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，其特征在于，包括基板承載臺(tái)，用于承載液晶顯示基板；坐標(biāo)定位裝置，設(shè)置在所述基板承載臺(tái)和檢測(cè)裝置之間；檢測(cè)裝置，設(shè)置在所述坐標(biāo)定位裝置上，所述檢測(cè)裝置包括驅(qū)動(dòng)單元和檢測(cè)單元，其中所述驅(qū)動(dòng)單元用于驅(qū)動(dòng)所述坐標(biāo)定位裝置動(dòng)作，以帶動(dòng)所述檢測(cè)裝置相對(duì)于所述基板承載臺(tái)運(yùn)動(dòng)；所述檢測(cè)單元用于對(duì)形成的膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位所述膜層中存在的缺失區(qū)域；修補(bǔ)裝置，設(shè)置在所述坐標(biāo)定位裝置上，用于在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料， 以修補(bǔ)所述膜層。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，其特征在于所述坐標(biāo)定位裝置包括橫向?qū)к壱约盎瑒?dòng)設(shè)置在橫向?qū)к壣系目v向?qū)к?，所述檢測(cè)裝置和修補(bǔ)裝置設(shè)置在所述縱向?qū)к壣稀?br>
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，其特征在于所述修補(bǔ)裝置與所述檢測(cè)裝置之間具有第一距離，并與所述檢測(cè)裝置固定相連； 所述檢測(cè)單元還包括修補(bǔ)觸發(fā)單元，用于在所述檢測(cè)單元檢測(cè)到缺失區(qū)域時(shí)，指示所述驅(qū)動(dòng)單元?jiǎng)幼?，以?qū)動(dòng)所述檢測(cè)裝置滑動(dòng)所述第一距離，并觸發(fā)所述修補(bǔ)裝置動(dòng)作。
12.根據(jù)權(quán)利要求9或10或11所述的液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備，其特征在于 所述膜層為光刻膠圖案，所述修補(bǔ)裝置包括噴嘴，用于以噴嘴噴注的形式在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)固態(tài)光刻膠材料， 或所述修補(bǔ)裝置包括噴墨印刷器，用于采用噴墨印刷的方式在所述缺失區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料； 或所述修補(bǔ)裝置包括激光切割器，用于采用激光技術(shù)在所述缺失區(qū)域的周?chē)M(jìn)行切割，以形成設(shè)定尺寸的修補(bǔ)區(qū)域，所述缺失區(qū)域落入所述修補(bǔ)區(qū)域的范圍內(nèi)；噴墨印刷器，用于采用噴墨印刷的方式在所述修補(bǔ)區(qū)域中填補(bǔ)所述膜層的材料，以修補(bǔ)所述缺失區(qū)域。
全文摘要
本發(fā)明公開(kāi)了一種液晶顯示基板的制造方法及檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備。該方法包括至少一次形成膜層的步驟，其中，在形成膜層之后，還包括對(duì)膜層進(jìn)行檢測(cè)，以定位膜層中存在的缺失區(qū)域；在缺失區(qū)域中填補(bǔ)膜層的材料，以修補(bǔ)膜層。本發(fā)明提供的液晶顯示基板的制造方法和液晶顯示基板的檢測(cè)修補(bǔ)設(shè)備能夠及時(shí)對(duì)膜層的缺失區(qū)域進(jìn)行檢測(cè)和修補(bǔ)，避免局部膜層缺陷遺漏到后續(xù)操作中無(wú)法彌補(bǔ)而導(dǎo)致整個(gè)基板廢棄或產(chǎn)生更高的維修成本，從而從液晶顯示基板的整體制造流程方面降低生產(chǎn)成本，提高產(chǎn)品合格率。
文檔編號(hào)G02F1/13GK102253506SQ20101018830
公開(kāi)日2011年11月23日 申請(qǐng)日期2010年5月21日 優(yōu)先權(quán)日2010年5月21日
發(fā)明者徐紀(jì)罡, 徐超, 肖立友 申請(qǐng)人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方光電科技有限公司