專利名稱：照明干涉式調制器顯示器的系統(tǒng)和方法
技術領域：
本發(fā)明涉及微機電系統(tǒng)(MEMS)。
背景技術：
微機電系統(tǒng)(MEMS)包括微機械元件、激勵器和電子設備。微機械元件可采用沉 積、蝕刻或其他可蝕刻掉襯底及/或沉積材料層部分或可添加若干層以形成電氣和機電裝 置的微機械加工工藝制成。一種類型的MEMS裝置被稱為干涉式調制器。干涉式調制器可 包含一對導電板，其中之一或兩者可為完全或部分透明及/或反射，且能在施加適當?shù)碾?信號時相對運動。其中一個板可包含沉積在一襯底上的一個穩(wěn)定層，另一個板可包含借助 一氣隙而與所述穩(wěn)定層隔開的金屬膜。上述裝置具有廣泛的應用范圍，且在此項技術中，利 用及/或修改這些類型的裝置的特性以使其特征可用于改善現(xiàn)有產(chǎn)品及制造目前尚未開 發(fā)的新產(chǎn)品將頗為有益。

發(fā)明內容
本發(fā)明的系統(tǒng)、方法及裝置各具有多個方面，任何單一方面均不能單獨決定其所 期望的屬性?，F(xiàn)將對其更突出的特性作簡要論述，此并不限定本發(fā)明的范圍。在考慮這一 論述，尤其是在閱讀了 “具體實施方式
”部分之后，人們即可理解本發(fā)明的特征如何提供相 對于其他顯示裝置的優(yōu)點。本發(fā)明的一個實施例包含一個反射式顯示設備，其包括一具有第一表面的襯底； 復數(shù)個安置在所述襯底的與所述第一表面相對的第二表面上的干涉式調制器；和一具有第 三表面的蓋罩，所述蓋罩定位為與所述第一表面成光連通，其中所述第一與第三表面之間 存在一間隙，所述蓋罩包含復數(shù)個光重導向器，所述光重導向器配置為將至少一部分入射 到蓋罩第三表面上的光重新導向到所述第一表面上。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造一反射式顯示器的方法，其包括將復數(shù)個 干涉式調制器定位到一襯底的第一表面上；在一蓋罩的內部或上面形成復數(shù)個光重導向 器，所述蓋罩具有第二表面；且將所述蓋罩定位成與所述復數(shù)個干涉式調制器光連通，以使 得所述第二表面與所述襯底上與所述第一表面相對的第三表面之間存在一間隙，所述光重 導向器配置為將至少一部分入射到第二表面上的光重新導向到所述第三表面上。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示設備，其包括用來提供支撐的構件； 用來干涉式調制光的構件；和用來覆蓋所述支撐構件和所述調制構件的構件，所述覆蓋構 件定位成與所述支撐構件光連通，且兩者之間有一間隙，所述覆蓋構件包含用來重新導向 光的構件，所述光重導向構件配置為將至少一部分入射到所述覆蓋構件的光重導向到所述 支撐構件上。
本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示設備，其包括一具有第一表面的襯底； 復數(shù)個安置在所述襯底的與所述第一表面相對的第二表面上的反射式顯示元件；和復數(shù)個 光重導向器，其與所述襯底及反射式顯示元件光連通，以便將至少一部分沿傾斜于所述第 一表面的路徑發(fā)出的光重新導向到所述襯底和反射式顯示元件內。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示設備，其包括用來提供反射圖像內容 的第一構件；用來支撐所述第一構件的第二構件；和復數(shù)個用來將沿傾斜于所述第二構件 的路徑發(fā)出的光重新導向到所述第一構件內的第三構件。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造一反射式顯示器的方法，其包括將復數(shù)個 反射式顯示元件定位到一襯底的第一表面上；且將復數(shù)個光重導向器定位成與所述襯底和 反射式顯示元件光連通，以便將至少一部分沿傾斜于所述襯底的與所述第一表面相對的第 二表面的路徑發(fā)出的光重新導向到所述襯底和反射式顯示元件內。本發(fā)明的另一個實施例包含一種照明一反射式顯示器的方法，其包括將光沿傾 斜于一反射式顯示面板的路徑傳輸?shù)剿鲲@示面板上；且將至少一部分所述傳輸?shù)墓庵匦?導向，以便將經(jīng)重新導向的光導向成其傳輸路徑與所述顯示面板的傾斜角度小于所述所傳 輸?shù)墓?。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示設備，其包括用來提供反射圖像內容 的第一構件；用來對沿傾斜于所述第一構件的路徑發(fā)出的光進行重新導向的第二構件；和 用來向所述第二構件提供光的第三構件。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示設備，其包括一襯底，其在第一表面上 安置有復數(shù)個反射式顯示元件；安置在所述襯底的與所述第一表面相對的第二表面上的第 一材料，所述第一材料包含復數(shù)個光重導向器。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示設備，其包括用來進行反射式顯示的 構件；用來支撐的構件，所述用來反射式顯示的構件安置在所述用來支撐的構件的第一側 上；用來重新導向光的構件，其安置在所述支撐構件的第二側上，所述用來重新導向光的構 件具有第一折射率。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造一反射式顯示器的方法，其包括將復數(shù)個 干涉式調制器定位在一襯底的第一表面上；將第一材料安置在所述襯底的與所述第一表面 相對的第二表面上，所述第一材料包含復數(shù)個光重導向器。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造一反射式顯示器的方法，其包括將復數(shù)個 干涉式調制器定位在一襯底上；且將復數(shù)個光重導向器定位成與所述干涉式調制器光連 通，所述光重導向器配置為將至少一部分入射到光重導向器上的光重新導向到所述干涉式 調制器內。本發(fā)明的另一個實施例包含一用來照明一反射式顯示器的系統(tǒng)，其包括一配置 為放置在所述反射式顯示器前方且包含復數(shù)個光重導向器的顯示器蓋罩，所述顯示器蓋罩 具有配置為面向所述反射式顯示器正面的第一表面，所述第一表面與所述顯示器的正面之 間存在一間隙；和一配置為將光沿傾斜于所述顯示器蓋罩的路徑傳輸?shù)斤@示器蓋罩的第一 表面上的光源，其中所述光重導向器配置為將至少一部分入射光重新導向到所述反射式顯 示器的正面上。本發(fā)明的另一個實施例包含一種照明一反射式顯示器的方法，其包括將光沿傾斜于顯示器蓋罩的路徑傳輸?shù)剿錾w罩的第一表面上，所述顯示器蓋罩的第一表面面向反 射式顯示器的第二表面，所述第一表面與所述第二表面之間存在一間隙；且將至少一部分 所傳輸?shù)墓庵匦聦虺沙蚍瓷涫斤@示器的第二表面。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造用來照明一反射式顯示器的系統(tǒng)的方法，其 包括在一蓋罩內形成復數(shù)個光重導向器，所述蓋罩具有第一表面；將所述蓋罩定位在反 射式顯示器前方，其中所述第一表面與所述顯示器正面之間存在一間隙；且對一光源進行 定位，以將光沿傾斜于所述顯示器蓋罩的路徑傳輸?shù)斤@示器蓋罩的第一表面上，其中所述 光重導向器配置為將至少一部分入射光重新導向到反射式顯示器的正面上。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示系統(tǒng)，其包括復數(shù)個反射式顯示元件； 和熒光或磷光材料，所述材料定位成與所述顯示元件光連通，且配置成使得所述材料吸收 具有第一波長的光，并將具有不同于所述第一波長的第二波長的光發(fā)射進所述反射式顯示 元件內。本發(fā)明的另一個實施例包含一反射式顯示系統(tǒng)，其包括用來提供反射圖像內容 的第一構件；和用來吸收具有第一波長的光并將具有不同于第一波長的第二波長的光發(fā)射 到所述第一構件上的第二構件。本發(fā)明的另一個實施例包含一種照明一反射式顯示器的方法，其包括將光傳輸 到能吸收掉至少一部分所述光的熒光或磷光材料上；且從所述熒光或磷光材料發(fā)射波長與 所述傳輸?shù)墓獠煌墓獾椒瓷涫斤@示元件上。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造一反射式顯示系統(tǒng)的方法，其包括將熒光 或磷光材料定位成與復數(shù)個反射式顯示元件光連通，其中所述材料吸收掉具有第一波長的 光，且將具有不同于第一波長的第二波長的光發(fā)射到所述反射式顯示元件內。本發(fā)明的另一個實施例包含一干涉式調制器顯示設備，其包括復數(shù)個具有一正 面的干涉式調制器，入射光從所述正面反射；復數(shù)個至少可部分透光的支柱，其支撐所述干 涉式調制器的反射表面；和復數(shù)個與所述支柱對準的光重導向器。本發(fā)明的另一個實施例包含一干涉式調制器顯示設備，其包括用來提供反射圖 像內容的構件，所述提供圖像內容的構件包括用來進行反射的第一和第二構件；用來支撐 第一反射構件并借助一間隙將第一反射構件與第二反射構件隔開的構件，所述支撐構件能 傳導光；和用來重新導向所述支撐構件所傳導的光的構件。本發(fā)明的另一個實施例包含一干涉式調制器顯示設備，其包括一襯底；復數(shù)個 干涉式調制器，其安置在所述襯底上且具有一正面，入射光從所述正面反射；復數(shù)個至少可 部分透光的支柱，其支撐所述干涉式調制器的反射表面；和復數(shù)個安置在所述襯底上或內 部的光重導向器。本發(fā)明的另一個實施例包含一種照明一反射式顯示器的方法，其包括將光穿過 復數(shù)個至少可部分透光的支柱而傳輸進一襯底內，其中所述支柱支撐安置在襯底上的復數(shù) 個干涉式調制器的反射表面；且將至少一部分所述傳輸?shù)墓庵匦聦虻剿龈缮媸秸{制器 內。本發(fā)明的另一個實施例包含一種制造一干涉式調制器顯示器的方法，其包括形 成復數(shù)個至少可部分透光的支柱，用以支撐復數(shù)個干涉式調制器的反射表面，所述干涉式 調制器具有一正面，入射光從所述正面反射；且將復數(shù)個光重導向器定位成與所述支柱對準。


圖1為等角視圖，其描繪一干涉式調制器顯示器的一個實施例的一部分，其中第 一干涉式調制器的一可移動反射層處于釋放位置，且第二干涉式調制器的可移動反射層處 于受激勵位置。圖2為系統(tǒng)方框圖，其說明一包含一 3X3干涉式調制器顯示器的電子裝置的一個 實施例。圖3為圖1所示干涉式調制器的一個例示性實施例的可移動鏡位置與所施加電壓 的關系圖。圖4為可用于驅動干涉式調制器顯示器的一組行電壓和列電壓的示意圖。圖5A說明圖2所示3X3干涉式調制器顯示器內的顯示數(shù)據(jù)的一個例示性幀。圖5B說明可用于寫入圖5A所示的幀的行信號和列信號的一個例示性時序圖。圖6A為圖1所示的裝置沿圖1中6A-6A線所截取的截面圖。圖6B為沿圖1中6A-6A線截取的截面圖，但其說明的是一干涉式調制器的另一實 施例。圖6C為沿圖1中6A-6A線截取的截面圖，但其說明的是一干涉式調制器的另一實 施例。圖7示意說明一干涉式調制器陣列，其利用一正面光連同一光板，以將光導向進 干涉式調制器元件內。圖8A示意說明一采用背光的干涉式調制器陣列，其中由定位在支撐鏡面元件的 支柱內的反射結構將來自背光的光反射進干涉式調制器元件內。圖8B示意說明另一采用背光的干涉式調制器陣列，其中由定位于襯底本身內的 反射結構將經(jīng)過透明支柱的來自背光的光反射進干涉式調制器元件內。圖8C示意說明另一采用背光的干涉式調制器陣列，其中由定位于襯底內的反射 結構將經(jīng)過所述陣列內的間隙的來自背光的光反射進干涉式調制器元件內。圖8D示意說明另一采用背光的干涉式調制器陣列，其中由定位于襯底上方的薄 膜內的反射結構將經(jīng)過所述陣列內的間隙的來自背光的光導向進干涉式調制器元件內。圖8E示意說明另一采用背光的干涉式調制器陣列，其中由定位于襯底上方的薄 膜內的散射中心將經(jīng)過透明支柱的來自背光的光散射進干涉式調制器元件內。圖9示意說明一正面光，它用于采用了附接到一蓋罩玻璃的反射或光散射結構的 干涉式調制器陣列。圖10示意說明一將襯底本身用作正面光的干涉式調制器陣列。圖IlA示意說明一干涉式調制器陣列的一個實施例，其中結合角度散射中心使用 側面照明，以用來向陣列內的干涉式調制器元件供光。圖IlB示意說明一干涉式調制器陣列的一個實施例，其中結合與光源方向對準的 角度散射元件來使用側面照明，以便向干涉式調制器元件供光。圖12A示意說明一采用磷光或熒光材料來改良色域的干涉式調制器陣列。圖12B示意說明一采用磷光或熒光材料以向所述陣列供光的干涉式調制器陣列，且所述陣列在所述磷光或熒光材料的表面上含有一種吸光材料。圖13A和13B為說明一包括復數(shù)個干涉式調制器的視覺顯示裝置的一個實施例的 系統(tǒng)方框圖。
具體實施例方式以下是針對本發(fā)明的某些具體實施例的詳細描述。但是，本發(fā)明可通過許多種不 同的方式實施。在以下描述中將參照附圖，在附圖中，相同零件自始至終標以相同的編號。 根據(jù)以下描述將不難發(fā)現(xiàn)，本發(fā)明可在任何被配置以顯示無論是運動(視頻)或靜止(靜 止圖像)且無論是文字或圖片形式的圖像的裝置中實施。更具體而言，預期本發(fā)明可在多 種電子裝置中實施或與這些電子裝置相關聯(lián)，這些裝置例如是(但不限于)移動電話、無線 裝置、個人數(shù)據(jù)助理(PDA)、手持式計算機或便攜式計算機、GPS接收器/導航器、照相機、 MP3播放器、攝錄機(camcorder)、游戲機、手表、時鐘、計算器、電視監(jiān)視器、平板顯示器、計 算機監(jiān)視器、汽車顯示器(例如，里程表顯示器等)、駕駛艙控制器及/或顯示器、照相機視 圖顯示器(例如，車輛的后視照相機顯示器)、電子照片、電子告示牌或標牌、投影儀、建筑 結構、包裝及美學結構(例如，一件珠寶的圖像顯示器)。與本文所描述的裝置結構相似的 MEMS裝置也可用在例如電子開關裝置的非顯示器應用中。干涉式調制器顯示器的一個實施例包含圖1所示的干涉式MEMS顯示元件。在這 些裝置中，像素處于亮狀態(tài)或暗狀態(tài)。在亮(“開(on)”或“打開(open)”)狀態(tài)下，顯示元 件將大部分入射可見光反射給用戶。當處于暗(“關(off)”或“關閉(closed)”)狀態(tài)下 時，顯示元件幾乎不將入射可見光反射給用戶。根據(jù)這個實施例，可顛倒“開”和“關”狀態(tài) 的光反射性質。MEMS像素還可配置成主要反射選定的顏色，從而除黑白顯示外還可進行彩 色顯示。圖1為等角視圖，其描繪視覺顯示器的一系列像素中的兩個相鄰像素，其中每個 像素均包含一 MEMS干涉式調制器。在有些實施例中，干涉式調制器顯示器包含由這些干涉 式調制器組成的行/列陣列。每個干涉式調制器均包括一對反射層，它們彼此間的距離是 可變且可控制的，以便形成一至少具有一個可變維的光學諧振腔。在一個實施例中，其中一 個反射層可在兩個位置之間移動。在第一位置中(本文將其稱為釋放狀態(tài))，所述可移動層 位于距一固定的部分反射層相對較遠的位置處。在第二位置中，所述可移動層位于與所述 部分反射層更緊密相鄰的位置處。從兩個層反射的入射光根據(jù)可移動反射層的位置而相長 干涉或相消干涉，從而為每個像素產(chǎn)生完全反射或非反射的狀態(tài)。圖1中所示的像素陣列部分包括兩個相鄰的干涉式調制器12a和12b。在左邊的 干涉式調制器12a中，顯示可移動且高反射層14a是處于距一固定的部分反射層16a預定 距離處的釋放位置中。在右邊的干涉式調制器12b中，顯示可移動的高反射層14b是處于 與一固定的部分反射層16b相鄰的受激勵位置中。固定層16a、16b具導電性，部分透明且部分反射，并可(例如)通過在透明襯底 20上沉積一個或一個以上鉻和氧化銦錫層來制成。所述層可圖案化成平行的條帶，且可在 下文將進一步描述的顯示裝置中形成行電極?？梢苿訉?4a、14b可形成為一系列由一個或 一個以上沉積在支柱18頂部上的沉積金屬層(與行電極16a、16b正交)和沉積在各支柱 18之間的介入犧牲材料所形成的平行條帶。當犧牲材料被蝕刻掉時，借助已確定的氣隙19使可變形金屬層與固定金屬層隔開。可用一種例如鋁的高導電且反射的材料來形成可變形 層，且這些條帶可在一顯示裝置中形成列電極。當未施加電壓時，腔19保持在層14a與16a之間，且可變形層處于機械放松狀態(tài)， 如圖1中像素12a所示。但是，當對選定的行和列施加電位差時，在相應像素的行和列電極 相交處形成的電容被充電，且靜電力將電極拉到一起。如果電壓足夠高，則可移動層會變 形，且被壓抵到固定層上(可在固定層上沉積一種此圖中未展示的介電材料，以防止短路 且控制間距)，如圖1中右邊的像素12b所示。不論所施加的電位差的極性如何，運轉狀態(tài) (behavior)均相同。通過這種方式，可控制反射對非反射像素狀態(tài)的行/列激勵在許多方 面都與常規(guī)的LCD和其他顯示技術相似。圖2至圖5說明一個在顯示器應用中使用干涉式調制器陣列的例示性方法及系 統(tǒng)。圖2為系統(tǒng)方框圖，其說明可包含本發(fā)明若干方面的電子裝置的一個實施例。在例示 性實施例中，電子裝置包括一處理器21，其可為任何通用單芯片或多芯片微處理器(例如 ARM、Pentium 、Pentium II Pentium III 、Pentium IV > Pentium Pro>8051> MIPS > Power PC 、ALPHA )或任何專用微處理器(例如數(shù)字信號處理器、微控制器或可編程門陣 列)。按照業(yè)內慣例，可將處理器21配置成執(zhí)行一個或一個以上軟件模塊。除執(zhí)行一個操 作系統(tǒng)外，還可將處理器配置成執(zhí)行一個或一個以上軟件應用程序，包括網(wǎng)頁瀏覽器、電話 應用程序、電子郵件程序或任何其他軟件應用程序。在一個實施例中，處理器21還可配置成與一陣列控制器22進行連通。在一個實 施例中，陣列控制器22包括向像素陣列30提供信號的行驅動電路24和列驅動電路26。圖 1中所示陣列的橫截面在圖2中以線1-1示出。對于MEMS干涉式調制器來說，行/列激勵 協(xié)議可利用圖3所示的這些裝置的滯后性質。它可能需要例如10伏的電位差來使可移動 層從釋放狀態(tài)變形成受激勵狀態(tài)。然而，當電壓從這個值降低時，在電壓回降到低于10伏 時，可移動層仍保持其狀態(tài)。在圖3所示的例示性實施例中，在電壓降至低于2伏之前，可 移動層都不會完全釋放。因而存在一電壓范圍(在圖3所示的實例中為約3V至7V)，在該 電壓范圍中存在一施加電壓窗口，在該施加電壓窗口內，裝置將穩(wěn)定地處于釋放狀態(tài)或受 激勵狀態(tài)。本文中將此稱為“滯后窗口”或“穩(wěn)定窗口”。對于具有圖3所示的滯后特性的 顯示器陣列來說，可將行/列激勵協(xié)議設計成在行選通期間，向選通行中待激勵的像素施 加約10伏的電壓差，并向待釋放的像素施加接近0伏的電壓差。在選通之后，向像素施加 約5伏的穩(wěn)態(tài)電壓差，以使其保持處于行選通使其所處的任何狀態(tài)。在寫入之后，在這個實 例中，每一像素都經(jīng)歷3-7伏的“穩(wěn)定窗口”內的電位差。這個特性使圖1所示的像素設計 在相同的施加電壓條件下穩(wěn)定在既有的受激勵狀態(tài)或釋放狀態(tài)。由于無論是處于受激勵狀 態(tài)還是釋放狀態(tài)，每一像素的干涉式調制器基本上都是一由固定反射層及移動反射層形成 的電容器，所以這個穩(wěn)定狀態(tài)可保持在滯后窗口內的電壓下而幾乎無功率消耗。如果施加 的電位是固定的，則基本上沒有電流流入像素。在典型應用中，可根據(jù)第一行中期望的一組受激勵像素來確定一組列電極而形成 一顯示幀。此后，將行脈沖施加于行1的電極，從而激勵與所確定的列線對應的像素。此后， 將所確定的一組列電極變成與第二行中所期望的一組受激勵像素對應。此后，將脈沖施加 于行2的電極，從而根據(jù)所確定的列電極來激勵行2中的適當像素。行1的像素不受行2 的脈沖影響，且保持在它們在行1的脈沖期間所設定的狀態(tài)下?？砂错樞蛐詫φ麄€系列的行重復此過程，以形成所述幀。通常，通過以期望的某數(shù)目幀/秒的速度連續(xù)重復此過程， 來用新的顯示數(shù)據(jù)刷新及/或更新這些幀。其他還有很多種用于驅動像素陣列的行及列電 極以形成顯示幀的協(xié)議也為人們所熟知，且可與本發(fā)明結合使用。圖4、5A和5B說明用于在圖2所示的3X3陣列上形成一顯示幀的一個可能的激勵 協(xié)議。圖4說明可用于那些展現(xiàn)圖3的滯后曲線的像素的一組可能的列及行電壓電平。在 圖4所示的實施例中，激勵一像素包括將適當?shù)牧性O定成-Vbias，并將適當?shù)男性O定成+ Δ V， 這兩個值可分別對應一 5伏和+5伏。將適當?shù)牧性O定成+Vbias并將適當?shù)男性O定成相同的 + Δ V，從而在像素上產(chǎn)生零伏的電位差，借此來實現(xiàn)像素的釋放。在那些行電壓保持在0伏 的行中，像素穩(wěn)定于最初所處的任何狀態(tài)，而與這個列是處于+Vbias還是-Vbias無關。圖5Β為一顯示一系列施加給圖2所示的3X3陣列的行和列信號的時序圖，這將 形成圖5Α所示的顯示配置，其中受激勵像素為非反射性的。在寫入圖5Α所示的幀之前，像 素可處于任何狀態(tài)，且在這個實例中，所有的行均處于0伏，且所有的列均處于+5伏。在這 些所施加的電壓下，所有像素均穩(wěn)定在其現(xiàn)有的受激勵狀態(tài)或釋放狀態(tài)。在圖5Α所示的幀中，像素(1，1)、(1,2), (2,2), (3,2)及(3,3)受激勵。為實現(xiàn) 此，在行1的“行時間(line time) ”期間，將列1及列2設定為-5伏，且將列3設定為+5 伏。這不會改變任何像素的狀態(tài)，因為所有的像素均保持處于3-7伏的穩(wěn)定窗口內。此后， 通過0伏上升到5伏然后又下降回0伏的脈沖來選通行1。這會激勵像素(1，1)和(1，2) 并釋放像素(1，3)。陣列中的其他像素均不受影響。為將行2設定為所期望的狀態(tài)，將列2 設定為_5伏，且將列1及列3設定為+5伏。此后，向行2施加相同的選通脈沖，其將激勵 像素(2，2)并釋放像素(2，1)和(2，3)。同樣，陣列中的其他像素均不受影響。類似地，通 過將列2和列3設定為-5伏并將列1設定為+5伏而對行3進行設定。行3的選通脈沖將 行3像素設定為如圖5A所示。在寫入幀之后，行電位為0，而列電位可保持在+5或-5伏， 且此后顯示將穩(wěn)定為圖5A所示的配置。應了解，可對由數(shù)十或數(shù)百個行和列構成的陣列使 用相同的過程。還應了解，用于執(zhí)行行激勵和列激勵的電壓的定時、順序及電平可在上述的 通用原理內廣泛變化，且上述實例僅為例示性的，且任何激勵電壓方法均可用于本發(fā)明。按照上述原理運行的干涉式調制器的結構細節(jié)可有很大不同。例如，圖6A到圖6C 說明移動鏡結構的三個不同實施例。圖6A為圖1所示實施例的截面圖，其中金屬材料條帶 14沉積在正交延伸的支撐件18上。在圖6B中，可移動反射材料14僅在隅角處(在系鏈32 上)附接到支撐件。在圖6C中，可移動反射材料14從可變形膜34懸掛下來。本實施例具 有優(yōu)勢，因為反射材料14的結構設計和所用材料可在光學特性方面得到優(yōu)化，且可變形層 34的結構設計和所用材料可在所期望的機械特性方面得到優(yōu)化。在許多公開文件中描述了 各種不同類型的干涉式裝置的制造，包括(例如)第2004/0051929號美國公開申請案?？?使用很多種熟知技術來制造上述結構，其中包括一系列材料沉積、圖案化和蝕刻步驟。一般將干涉式調制器用于高度反射的直視平板顯示器中。由于其具有高度反射 性，所以干涉式調制器在大多數(shù)照明條件下幾乎不需要照明。一般消費者希望能在某些缺 乏周圍照明的情況下閱讀電子顯示器。因此，對于通常采用周圍照明的干涉式調制器及其 他完全反射性的空間光調制器來說，有些照明形式是合乎需要的。典型的背面照明技術在液晶顯示器(LCD)中得以廣泛使用，但其對于完全反射性 的空間光調制器則并不奏效。在完全反射性的空間光調制器中，光無法從后向前穿過其傳輸以照明調制器元件?？梢栽谕耆瓷湫钥臻g光調制器的元件之間留出間隙，以使得背面 照明可從中穿過且在面板正面顯現(xiàn)，但光將不會包含任何圖像信息，因為光實際上并未照 明所述元件，其在穿過顯示面板的路徑上掠過了這些元件。因而，需要提供導向到反射式顯 示器中的反射式顯示元件正面的照明。如下文將更詳細描述，本發(fā)明的各種實施例提供了光重導向器，用以對來自位于 反射式顯示器內各個位置上的光源的光重新導向，以便將光導向到反射式顯示器中的反射 式顯示元件的正面上。經(jīng)導向的lH面光在圖7所示的一個實施例中，干涉式調制器陣列采用了經(jīng)導向的正面光。正面光 板200附接到襯底300的前表面302。雖然正面光板200顯示為直接附接到襯底300，但在 其他實施例中，光板200可懸掛在襯底300上方，或附接到覆蓋在襯底上面的薄膜或其他層。將例如LED的光源100連接至正面光板200，以使得從光源100處發(fā)射的光202可 進入正面光板200。在圖7所示的實施例中，光源100連接到正面光板200的側面304上。 正面光板200的結構經(jīng)過最優(yōu)化，以使得從光源100進入正面光板200的光202被重新導 向進所述陣列的元件310內。雖然圖7及隨后的圖式中描繪了單一光線202，但應當了解， 光源100發(fā)射出具有特定散度的光束，因此使整個正面光板200填滿了光。相應地，被重導 向進元件310的光將由復數(shù)個光束組成。最好以盡量窄的光束將光202導向進所述陣列的 元件310內。因而，本文中所使用的術語“光202”代表多個光束，且說明這些光束內的多個 光路中的一個。在一個實施例中，光源100發(fā)射的光202以全內反射保持在正面光板200的內部， 直到光202接觸表面204為止，光202從所述表面204處反射穿過襯底300且進入元件310 內。光板200可包含許多凹槽210，其提供了用來反射光202的表面204。最好以狹窄的光 束將光202重新導向進元件310內，所述光束與襯底300的前表面大致垂直。最好將大多數(shù) 導向進元件310內的光202從元件310中反射出來，且將其傳輸穿過襯底300和光板200， 而不會受到凹槽210顯著影響。在一個實施例中，元件310是干涉式調制器。在其他實施例中，所述元件是其他能 反射具有期望波長的光的光學裝置。與僅僅使用周圍光相比，通過將來自正面光100的光 202直接導向進干涉式調制器元件310內，可提高顯示器的亮度，在周圍光有限的情況下尤 其如此。此外，這種配置還使得所述顯示器可用于基本沒有或完全沒有周圍光的情況下。在圖7所示的實施例中，由于大多數(shù)光202以大致垂直于襯底300前表面的角度 而被反射出干涉式調制元件310，所以其視角相對狹窄。然而，通過改變凹槽210的深度和 間距或通過采用其他結構，可對光202入射進干涉式調制器元件310內的角度進行控制。例 如，通過改變所示凹槽210的傾斜側面204的角度，可控制導向進干涉式調制器內的光的角 度。因此，可控制視角。所屬領域的技術人員將認識到，除了凹槽之外，還可在光板200中 采用其他結構，以便以期望的角度來將來自光源100的光重新導向至元件310內。例如，可 以對角方式將反射材料條帶整合進正面光板200內部。含有凹槽210的正面光板200可通過注入成型、受控蝕刻或所屬領域技術人員已 知的其他任何處理來構建。正面光板200中所用的材料可為任何合適的透明或部分透明的材料，例如塑料或玻璃。在一個實施例中，將反射結構210分隔開來，以使得光被導向到元件310，而不是 導向到元件320之間的間隙。在另一個實施例中，正面光板200內部或上面放置的不是凹槽210，而是反射材料 線條，以將光重新導向進元件310內。在一個實施例中，正面光板200可如圖7中所示抵靠襯底300放置。在另一個實 施例中，正面光板200可定位成板200與襯底300之間存在一間距。光源100(以及本文中所描述的其他光源)可為所屬領域已知的任何合適 光源。所述光源的實例非常多，其中包括LED或熒光燈，例如冷緊湊型熒光燈(Cold CompactFluorescent Light)0背光干渉式調制器在另一個實施例中，采用背光來為干涉式調制器元件陣列提供光。例如，在已采用 了背光的裝置(例如蜂窩式電話)中，使用背光來增強干涉式調制器顯示器的功能可能有益。圖8A中說明了一采用背光的干涉式調制器的一個實施例。背光110位于干涉式 調制器結構與襯底300相對的側面上，且經(jīng)定向以使其發(fā)光表面112與襯底300平行且面 向襯底300。鏡面元件370由支柱400懸掛在襯底300下方。在一個實施例中，由于所述鏡 面元件370不透明，所以光無法從背光110直接進入干涉式調制器腔360。因而，在這個實 施例中，支柱400由透明或部分透明的材料構成，且在支柱400最靠近襯底300的末端處設 置有一光重導向器410。從背光110傳輸?shù)墓?02穿過支柱400，并被光重導向器410重新 導向至干涉式調制器結構的腔360內。此后，光202反射離開鏡面370，且最終沿觀察者50 的方向穿過襯底300而離開干涉式調制器結構。光重導向器410可包括反射性結構、光散射結構(例如復數(shù)個散射中心)、磷光或 熒光材料、或其他任何經(jīng)配置以對光進行重導向的合適材料。透明支柱400可由任何合適 的透明或部分透明的材料(例如透明氧化物或聚合物)構成，且可為無色或有少許色澤。在 一個較優(yōu)實施例中，支柱400無色且透明。光重導向器410可整合進透明支柱400內部的 任何期望位置，光可由所述光重導向器恰當?shù)貙蜻M干涉式調制器內。在圖8A所示的實施例中，光重導向器410包含配置成金屬錐形結構的對角導向 鏡。也可使用其他將光反射進腔360內的結構。例如，可用一彎曲結構來代替所述錐形結 構，以便將光更寬泛地反射進腔360內。或者，可用三角形結構來將光反射進單個干涉腔 內。光重導向器410可用所屬領域已知的任何方法來制成。例如，可這樣構成光重導向器 在支柱的頂部形成一錐形通道，然后在通道內填進反射物質。在一個實施例中，光重導向器 410是由鋁構成的。在一個實施例中，可將反射材料(例如，鋁)在一具有期望形狀的結構 上沉積成一個層。例如，可對硅或鉬進行受控蝕刻以形成錐形結構，隨后在所述錐形結構上 沉積一鋁層。在另一實施例中，光重導向器410并非位于支柱400內，而是位于襯底300內(圖 8B)。在圖8B所示的實施例中，襯底300內的光重導向器410在支柱400上方對準。在這種 情況下，光202從背光110穿過支柱400，繼而行進至緊貼支柱400上方的襯底300內部或 上面的光重導向器410。光在光重導向器410處反射出，并折回腔360內。光重導向器410可為(例如)玻璃300內的凹槽，凹槽上鍍有銀或反射物質。在一個實施例中，襯底300內 的凹槽可通過蝕刻來形成，且所述凹槽的表面可涂覆有例如鋁的反射材料。在另一個實施 例中，所述凹槽內可填滿含有反射或散射顆粒的聚合物。例如，可通過旋涂方法來沉積所述 的聚合物。在另一個實施例中，光重導向器410可定位在襯底300內，位于各個干涉式調制器 元件310之間的間隙320的上方。因此，來自背光110的光202可穿過非常微小的間隙320 而行進至光重導向器410，如圖8C所示。來自背光110的光202穿過間隙320，且從光重導 向器410處反射進干涉式調制器元件310內。如上所述，光重導向器410可為對角鏡，它是 通過在襯底內形成凹槽并在凹槽內填滿反射材料而構成。熟練的技術人員將易于了解光重 導向器410的其他形成方式。在另一個實施例中，光重導向器410形成在襯底300上方(圖8D)。例如，光重導 向器410可形成于涂覆在襯底300表面上的薄膜500內。在一個實施例中，薄膜500是漫 射體或抗反射薄膜。薄膜500可位于襯底300上，從而使得光重導向器410緊貼陣列中各 元件310之間的間隙320的上方。與上述實施例中一樣，光重導向器410可由任何能將光 反射回下方的干涉式調制器元件310內的形狀和材料制成。在有些實施例中，光重導向器 包括沉積在薄膜500內部的磷光或熒光材料或者散射中心。薄膜500的沉積方法可為層壓 法、旋涂法或其他任何合適的方法。在另一個實施例中，可將光重導向器410以較低的密度均一地分布在整個薄膜 500上。因而，例如參看圖8E，可在整個薄膜500上分布光散射中心粉末325。位于間隙320 或支柱400上方的光散射中心325部分可將光202從背光110處重新導向進干涉式調制器 元件310內。然而，由于粉末325在薄膜500內分布得較薄，所以其不會顯著干擾到干涉式 調制器310的周圍照明。在上述采用背光的實施例中的每一者內，可對光重導向器410的性質進行 控制以取得期望的效果，例如，可改變對角鏡的角度，或采用彎曲表面來代替直面鏡 (straightmirror)。例如，可修改反射結構的形狀，以產(chǎn)生更窄或更寬的反射光束。在需要 更寬視角的情況下，可采用能產(chǎn)生較寬反射光束的反射結構，而在需要從更有限的視角獲 得最大亮度的情況下，則可使用能產(chǎn)生較窄反射光束的結構。此外，在每個實施例中，最好將吸收材料定位于光重導向器的上方，以便在頂部形 成一黑色遮罩。此種遮罩會防止周圍光從光重導向器410朝觀察者50反射回，上述情況將 會降低對比度。借助蓋罩玻璃特征部件的遠程ιΗ面光在許多顯示器應用中，顯示器上方插有一蓋罩玻璃或塑料，以便保護顯示器(例 如，手機顯示屏上的表面塑料)。圖9描繪了一個實施例，其中光重導向器610可位于蓋罩 600上，以便提供反射式顯示器的照明。通常，蓋罩600與顯示器襯底300之間存在氣隙 602?？蓪碜怨庠?00的光202導向進氣隙602內及蓋罩600的底面604上?；蛘?，可將 光202導向進蓋罩600的側面606內。當光202被導向進蓋罩600的側面606內時，可將光 重導向器610定位在蓋罩600內部?？衫梦挥谏w罩600內部或上面的光重導向器610，將 來自光源100的光202重新導向進襯底300內及位于襯底300上的干涉式調制器元件310 內。以此種方式，大多數(shù)來自光源100的光202以銳角而非淺角(shallowangle)進入元件310。光以銳角進出干涉式調制器元件310，這使得帶有顯示信息的光202被導向成沿常規(guī) 觀察者的視線(與顯示器垂直)。在圖示實施例中，由于大多數(shù)光以狹角反射出干涉式調制 器元件，所以視角相對較窄。因而，如果視角變寬，顯示器的亮度會急劇下降，從而降低了對 色移效果的觀察度，通常以斜角觀察可從干涉式調制器元件處觀察到此。光重導向器610可為反射結構、散射中心、熒光或磷光材料，或其他任何合適的光 重導向器?？蓪Ψ瓷浣Y構光重導向器的形狀進行選擇，以便以期望的方式來導向光202。 其結構特征部件可為反射性，或可充當沿所有方向散射光(包括散射進干涉式調制器元件 內)的漫射型散射中心。通過改變所述特征部件的形狀和深度，可調整反射率。例如，對角 結構會如上所述將光202沿更窄的光束導向進元件310內。然而，如果采用了具有彎曲表 面的結構(未圖示)，會產(chǎn)生較寬的反射光束。需要較寬的光束(例如)來獲得較寬的視 角。然而，可能需要縮小光束的色散角，以便限制斜角角度上對色移的觀察度。因而，在一 個實施例中，調整光重導向器610的形狀以在視角與色移的低觀察度之間提供最優(yōu)平衡， 從而將光束的色散角最優(yōu)化。所屬領域的技術人員將易了解用以產(chǎn)生適于特定情況的期望 反射率的結構類型。可通過在蓋罩600的底面604上涂覆含有光重導向器610的薄膜或涂層，在蓋罩 600上形成光重導向器610。因而，可將光重導向器610放置在蓋罩600上的一疊層內。在 一個實施例中，可將光重導向器610圖案化到蓋罩600的底部上，例如用光刻法在蓋罩600 上圖案化及蝕刻特征部件。所述特征部件可包括突出物(例如圖9中所示)或下陷物(例 如上述蝕刻進蓋罩600的底面604內的凹槽)。在一個實施例中，將光重導向器610間隔 開，從而使得來自光源100的光202較優(yōu)導向至元件310，而非元件310之間的間隙320。在 其他實施例中，將光重導向器610均一地分布在蓋罩600上。也可在蓋罩600內形成例如 上述的凹槽，并添加一層材料來填滿所述凹槽并保護凹槽免受污垢及碎屑的影響，借此在 蓋罩600內形成光重導向器610。以此種方式，可將光重導向器610(例如，凹槽)定位在靠 近蓋罩600的頂面605或底面604附近?；蛘?，可將光重導向器610嵌入蓋罩內部，例如， 通過將光重導向器610浮置在蓋罩600的塑料或玻璃內。在一個實施例中，將復數(shù)個散射 中心均一地分布在整個蓋罩600上?？蓪碜怨庠?00的光202導向為入射到蓋罩600的底面604上。因而，可如圖9 所示，將光源100定位在襯底300與蓋罩600之間。或者，可將光源100定位到襯底300旁 邊，或者定位到襯底300旁邊且位于其下方，只要光202仍然入射到蓋罩600的底部上。在 另一個實施例中，可將光源100定位在蓋罩600旁邊或其側面上，以使得光導向進蓋罩600 的側面606。在此種情況下，可如上所述，將光重導向器610定位在蓋罩600內部。光202最好以盡量窄的光束導向進所述陣列的元件310內。同樣，將來自光源100 的光202以大致垂直的角度導向進干涉式調制器元件310內，借此使得帶有顯示信息的光 202導向成沿著常規(guī)觀察者的視線(與顯示器垂直)。此外，如果光束的色散角變窄，會降 低斜角角度上的色移觀察度。以襯底作為IH面光在其他實施例中，透明襯底300本身充當正面光。圖10中說明了此種構造的一個 特定實施例。例如LED的光源100附接到襯底300的一側304。來自光源100的光202在 穿過側面304而進入襯底300后，由于全內反射的緣故而被容納在襯底300內部。在襯底300的正面302上定位一薄膜500。薄膜500的折射率與襯底300的折射率相符，從而使得 光202可移入薄膜500，而不會從薄膜500與襯底300之間的界面反射。薄膜500在其與 襯底300相對的表面502內包含有凹槽520。在薄膜500內，光遇到凹槽520，后者提供了 內反射表面，從而將光202向下穿過襯底300，導向進入干涉式調制器元件310內。如上所 述，對于凹槽前板來說，可對凹槽520的形狀、深度及間距進行調整，以獲得期望的光束202 的色散角，進而獲得期望的反射錐形。以此種方式，可按特定應用的需要來調整視角。在其 他實施例中，薄膜500可包括用來重新導向光202的散射中心或者熒光或磷光材料?？赏?過層壓法、旋涂法或其他合適技術來沉積薄膜500。在有些實施例中，第一薄膜500上放置有第二薄膜700。在一個實施例中，第二薄 膜700的折射率小于第一薄膜500的折射率，以便提供內反射表面，來將光反射進干涉式調 制器元件310內。在一個較優(yōu)實施例中，第二薄膜700的折射率與空氣的折射率接近。第 二薄膜700保護第一薄膜500，且尤其保護凹槽520，例如，防止污垢或碎屑進入凹槽520。在將襯底300用作正面光的另一個實施例中，用磷光或熒光材料來代替凹槽520。 在此實施例中，這些材料通過吸收和重新發(fā)射而對光進行重新導向。在一典型情況下，光源 100為一藍/UV LED，且磷光體將吸收此波長的光，并重新發(fā)出綠光或白光。具有散射中心的側面照明可使用散射中心來將來自一定位于干涉式調制器陣列側邊的光源的光重新導向 進干涉式調制器元件內。散射中心以多個方向散射入射光。這些中心可包括具有不平坦表 面的顆粒，例如金屬顆粒。在圖IlA所示的實施例中，散射中心800定位在附接到襯底300 的前表面302的薄膜500內。薄膜可通過層壓法、旋涂法或其他任何合適方法而附接到襯 底 300。來自側光源100(例如LED)的光202導向成沿傾斜于干涉式調制器元件的路徑， 且碰撞散射中心800。光202從散射中心800沿多個方向散射。在多個散射中心800處進 行多次散射，會使得從薄膜500發(fā)射的光的方向分布得更寬。光202中有些部分會導向成 穿過襯底300而進入干涉式調制器元件310內。在另一個實施例中，散射顆粒800具有適宜的形狀，用以將光較優(yōu)地沿特定方向 散射。這些顆?？上鄬τ诠庠?00和干涉式調制器元件310的方向對準，以使得來自光源 100的光較優(yōu)導向進干涉式調制器元件310內，如圖IlB中所示。然而，并非必須將所有來 自光源的光都導向進所述元件內。相反，只需改變來自光源100的光中有些光的方向，以使 其進入元件310即可。在有些實施例中，可將角散射中心800定位于薄膜500內部。例如，可將金屬顆粒 或薄片整合進薄膜500內。在其他實施例中，在薄膜500內整合有表面特政部分，所述表面 特征部分會使得碰撞它的光被散射。在一個實施例中，所述表面特征部分是使得光發(fā)生散 射的粗糙區(qū)域。在其他實施例中，表面特征部分是使得光發(fā)生散射的幾何結構。圖IlB中的對準散射中心800可通過層壓連續(xù)的材料層來構成，每層之間沉積有 散射材料。此后，可以期望角度切割分層材料，以形成材料薄片，其中的散射材料形成進以 期望角度導向的條帶。此后，可將所述薄材料層壓到襯底300上?；蛘?，可使用反射材料或者熒光或磷光材料來代替散射中心用作光重導向器。提高的餼域
如以上各個實施例中所述，光重導向器可包括磷光或熒光材料。這種材料吸收入 射光，并又重新發(fā)射出另一頻率的光。這一特性可用來提高提供給反射式顯示器的光的色 域。如圖12A所示，磷光或熒光材料630可定位在襯底300的正面302上，所述材料會 發(fā)出具有特定波長的光。磷光或熒光材料630受到來自光源100的光激發(fā)。雖然所示光源 100配置成側光，但可在任何位置提供光源以使得光能夠激發(fā)磷光或熒光材料630。例如， 可使用光源103來直接向襯底300內提供光202。磷光或熒光材料630從光202吸收能量， 隨后又將具有特定波長的光210發(fā)射進干涉式調制器310內。一般而言，來自磷光或熒光 材料630發(fā)出的光202的波長譜比來自光源100的光202更窄，從而更有力地控制從干涉 式調制器反射給觀察者50的光的波長，且因此對色彩進行更好的控制。可對磷光或熒光材料630進行選擇，以發(fā)射具有期望波長的光。所述材料可結合 單個磷光體或熒光體，或者可包含兩個或兩個以上磷光體、熒光體的組合或者磷光體與熒 光體的混合物。在一個實施例中，所述材料包含三種以三種不同波長發(fā)光的不同材料。例 如，磷光材料630可包括三個或三個以上磷光體，用來以較窄的光線提供紅、綠、藍光。所屬 領域的技術人員可根據(jù)期望的應用來選擇期望使用的特定磷光體及/或熒光體。多種磷光 體和熒光體(包括發(fā)射紅、綠和藍色可見光的磷光體和熒光體)已為業(yè)內人士所熟知，且可 從(例如)可從美國全球貿易聯(lián)盟公司(Sc0ttSdale，AZ)購得。此外，最好對光源100進行選擇，以對材料630中的磷光體或熒光體提供足夠的激 發(fā)，從而使其發(fā)射出期望波長的光。在一個實施例中，光源100為可見光。在一個實施例中， 光源100為紫外線輻射源。在一個實施例中，光源100為發(fā)光二極管(LED)。所述LED最好 為藍光LED。在一個特定實施例中，所述LED發(fā)出的光的波長在約300nm到約400nm之間?？扇鐖D中所示，將磷光及/或熒光材料630整合進附接至襯底表面的薄膜500內， 借此來將所述材料630涂覆到襯底300的表面上。在其他實施例中，磷光材料直接附接到 襯底的一個表面上(頂面或底面上)，或者整合進襯底本身內?？赏ㄟ^在制造期間將所述材 料浮置在玻璃或薄膜材料內，將熒光體或磷光體整合進玻璃襯底或薄膜內。如上文所述，可 通過層壓法或旋涂法將薄膜涂覆到襯底上。所屬領域的技術人員將了解其他將熒光體或磷 光體整合進顯示器內的方法。所屬領域的技術人員將認識到，也可選擇能提供較寬波長照明的材料630。因而， 在有些實施例中，用材料630在黑暗或周圍光極少的情況下提供照亮顯示器所必須的照 明。在一個特定實施例中，如圖12A所示，將用來激發(fā)磷光材料630的光源103直接耦合 到襯底300上。通常情況下，光源100/103為一藍/UV LED，且磷光材料630將吸收此波長 的光并重新發(fā)出白光。在又一個實施例中，在顯示器外殼的內壁涂覆磷光材料630，借此來 產(chǎn)生輔助照明。所述顯示器外殼(未圖示)固定襯底300和與之相關的干涉式調制器元件 310。在此實施例中，光源100導向朝向顯示器外殼的壁，而不是朝向顯示器的正面。在圖12B所示的另一實施例中，可在磷光及/或熒光材料630的一部分表面上涂 覆光涂層640。例如，最好可將涂層640涂覆到磷光及/或熒光材料630與光源100相對的 側面上。涂層640可吸收光源100所發(fā)出的光202及/或磷光及/或熒光材料630所發(fā)出 的光210。用涂層640來吸收光，這樣會增加干涉式調制器元件310的方向照明，從而借此 來改善對比度。例如，具有涂層640的材料630并非沿所有方向發(fā)光，而可僅朝干涉式調制器元件310發(fā)光，因為，涂層640將吸收掉從材料630沿其他方向發(fā)出的光。也可使用LED線性照明來提高色域。在此實施例中，所采用的光源可發(fā)射出一種 特定波長或一種以上特定波長的光的窄線。由于進入干涉式調制器結構的光的波長受到限 制，因而色域得以提高。此外，隨視角改變(視角位移)而導致的色變得以最小化。在一個 實施例中，所述光源為LED，其以窄線形式發(fā)射出紅、綠及藍光。可結合本文所述的任何實施例來使用可發(fā)射出已界定波長的光的光源，以將來自 正面光源的光導向進干涉式調制器結構內。例如，可在上述圖7、9及12所示的結構中使用 一發(fā)射出(一種或一種以上)特定波長的光的LED作為光源100。圖13A和圖13B為說明一顯示裝置2040的一個實施例的系統(tǒng)方框圖。顯示裝置 2040可為(例如)一蜂窩式電話或移動電話。然而，顯示裝置2040的相同組件或其輕微變 化也可說明不同類型的顯示裝置，例如電視或便攜式媒體播放器。顯示裝置2040包括一外殼2041、一顯示器2030、一天線2043、一揚聲器2045、一 輸入裝置2048及一麥克風2046。外殼2041通常由所屬領域的技術人員熟知的許多種制造 工藝中的任何一種制成，包括注射成型及真空成形。另外，外殼2041可由許多種材料中的 任何一種制成，這些材料包括(但不限于)塑料、金屬、玻璃、橡膠及陶瓷或其組合。在一個 實施例中，外殼2041包括可與其他具有不同顏色或含有不同標志、圖片或符號的可移動部 分互換的可移動部分(未圖示)。例示性顯示裝置2040的顯示器2030可為許多種顯示器中的任何一種，包括如本 文中所述的雙穩(wěn)態(tài)顯示器。在其他實施例中，如所屬領域的技術人員所熟知，顯示器2030 包括一平板顯示器(例如，如上所述的等離子體、EL、OLED, STN IXD或TFT IXD)或一非平 板顯示器(例如CRT或其他電子管裝置)。不過，如本文所述，出于說明本實施例的目的，顯 示器2030包含一干涉式調制器顯示器。在圖13B中示意性地說明例示性顯示裝置2040的一個實施例的組件。所示例示 性顯示裝置2040包括一外殼2041且可包括其他至少部分封閉在外殼2041內的組件。例 如，在一個實施例中，例示性顯示裝置2040包括一網(wǎng)絡接口 2027，網(wǎng)絡接口 2027包括一耦 接至一收發(fā)器2047的天線2043。收發(fā)器2047連接至處理器2021，所述處理器與調節(jié)硬件 2052相連。調節(jié)硬件2052可配置成調節(jié)一信號(例如對信號進行濾波)。調節(jié)硬件2052 連接至一揚聲器2045及一麥克風2046。處理器2021也連接至一輸入裝置2048及一驅動 控制器2029。驅動控制器2029耦接至一幀緩沖器2028及陣列驅動器2022，陣列驅動器 2022又耦接至一顯示器陣列2030。一電源2050根據(jù)特定例示性顯示裝置2040的設計的 要求向所有組件提供功率。網(wǎng)絡接口 2027包括天線2043及收發(fā)器2047，以使例示性顯示裝置2040可通過網(wǎng) 絡與一個或一個以上裝置通信。在一個實施例中，網(wǎng)絡接口 2027還可具有某些處理功能， 以降低對處理器2021的要求。天線2043為所屬領域的技術人員已知的任一種用于發(fā)送和 接收信號的天線。在一個實施例中，所述天線根據(jù)IEEE 802. 11標準(包括IEEE802. 11(a)、 (b)或(g))發(fā)送和接收RF信號。在另一個實施例中，所述天線根據(jù)藍牙標準發(fā)送和接收 RF信號。倘若為一蜂窩式電話，則所述天線設計成接收用于在一無線手機網(wǎng)絡內進行通信 的CDMA、GSM、AMPS或其他已知信號。收發(fā)器2047預處理從天線2043接收的信號，以使這 些信號可由處理器2021接收及進一步處理。收發(fā)器2047還能處理從處理器2021接收到的信號，以便可通過天線2043從例示性顯示裝置2040發(fā)送這些信號。在另一個實施例中，收發(fā)器2047可由一接收器替代。在又一個實施例中，網(wǎng)絡接 口 2027可由一可存儲或生成待發(fā)送至處理器2021的圖像數(shù)據(jù)的圖像源替代。例如，所述圖 像源可為數(shù)字視頻光盤(DVD)或包含圖像數(shù)據(jù)的硬盤驅動器或生成圖像數(shù)據(jù)的軟件模塊。處理器2021通常對例示性顯示裝置2040的總體運行進行控制。處理器2021接 收數(shù)據(jù)(例如來自網(wǎng)絡接口 2027或圖像源的壓縮圖像數(shù)據(jù))，并將這些數(shù)據(jù)處理成原始圖 像數(shù)據(jù)或易于處理成原始圖像數(shù)據(jù)的格式。此后，處理器2021將經(jīng)過處理的數(shù)據(jù)發(fā)送給驅 動控制器2029或幀緩沖器2028以供存儲。原始數(shù)據(jù)通常是指在圖像內每個位置上識別圖 像特性的信息。例如，此種圖像特性可包括色彩、飽和度及灰度級。在一個實施例中，處理器2021包括用以控制例示性顯示裝置2040的運行的微處 理器、CPU或邏輯單元。調節(jié)硬件2052 —般包括放大器和濾波器，用以向揚聲器2045發(fā)送 信號，且從麥克風2046接收信號。調節(jié)硬件2052可為例示性顯示裝置2040內的離散組件， 或可整合進處理器2021或其他組件內部。驅動控制器2029直接從處理器2021或幀緩沖器2028獲取處理器2021所生成 的原始圖像數(shù)據(jù)，并對所述原始圖像數(shù)據(jù)重新格式化，以適合于向陣列驅動器2022高速傳 輸。具體地說，驅動控制器2029將原始圖像數(shù)據(jù)重新格式化成具有類似光柵的格式的數(shù)據(jù) 流，以便使其具有適合掃描整個顯示器陣列2030的時間順序。隨后，驅動控制器2029將經(jīng) 過格式化的信息發(fā)送給陣列驅動器2022。雖然例如IXD控制器的驅動控制器2029作為一 個獨立的集成電路(IC)通常與系統(tǒng)處理器2021相關聯(lián)，但這些控制器可以多種方式實施。 它們可作為硬件嵌入處理器2021內，可作為軟件嵌入處理器2021內，或以硬件形式與陣列 驅動器2022完全整合。通常，陣列驅動器2022從驅動控制器2029接收經(jīng)過格式化的信息，并將視頻數(shù)據(jù) 重新格式化成一組平行的波形，所述波形以多次/秒的頻率施加到成百條(有時成千條) 來自顯示器的x-y像素矩陣的引線。在一個實施例中，驅動控制器2029、陣列驅動器2022和顯示器陣列2030適用于 本文所述的任何類型的顯示器。例如，在一個實施例中，驅動控制器2029是常規(guī)的顯示控 制器或雙穩(wěn)態(tài)顯示控制器(例如，干涉式調制器控制器)。在另一個實施例中，陣列驅動器 2022是常規(guī)驅動器或雙穩(wěn)態(tài)顯示驅動器(例如，干涉式調制器顯示器)。在一個實施例中， 驅動控制器2029與陣列驅動器2022整合。此種實施例在例如蜂窩式電話、手表或其他小 面積顯示器的高度集成系統(tǒng)中較為普遍。在又一個實施例中，顯示器陣列2030為典型的顯 示器陣列或雙穩(wěn)態(tài)顯示器陣列(例如，一包含干涉式調制器陣列的顯示器)。輸入裝置2048使得用戶可控制例示性顯示裝置2040的運行。在一個實施例中， 輸入裝置2048包括小鍵盤(例如QWERTY鍵盤或電話按鍵)、按鈕、開關、觸摸屏、壓敏或熱 敏膜。在一個實施例中，麥克風2046為例示性顯示裝置2040的輸入裝置。當麥克風2046 被用來向所述裝置輸入數(shù)據(jù)時，用戶可提供語音命令來控制例示性顯示裝置2040的運行。電源2050可包括業(yè)內熟知的多種儲能裝置。例如，在一個實施例中，電源2050為 可充電電池，例如鎳鎘電池或鋰離子電池。在另一個實施例中，電源2050為可再生能源、電 容器或太陽能電池，包括塑料太陽能電池及太陽能電池涂膜(solar-cell paint)。在另一 個實施例中，電源2050經(jīng)配置成從壁裝電源插座接收電力。
在有些實施例中，控制可編程性如上文所述位于一驅動控制器內，所述驅動控制 器可位于電子顯示系統(tǒng)內的數(shù)個地方。在有些情況下，控制可編程性位于陣列驅動器2022 內。所屬領域的技術人員將認識到，上述最優(yōu)化效果可以任何數(shù)目的硬件及/或軟件組件 實施，并可以多種構造實施。盡管已根據(jù)某些實施例對本發(fā)明進行描述，但是所屬領域的一般技術人員將易了 解其他實施例。此外，鑒于本文所揭示的內容，所屬領域的技術人員將易了解其他組合、省 略、替代和修改。
權利要求
一種反射式顯示設備，其包括一具有一第一表面的襯底；復數(shù)個反射式顯示元件，其安置在所述襯底的與所述第一表面相對的一第二表面上；和復數(shù)個光重導向器，其與所述襯底及反射式顯示元件光連通，以將至少一部分沿一傾斜于所述第一表面的路徑發(fā)出的光重新導向至所述襯底及反射式顯示元件內。
2.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中所述反射式顯示元件包含干涉式調制器。
3.根據(jù)權利要求1所述的設備，其中所述光重導向器整合進一安置在所述第一表面上 的薄膜內部。
4.根據(jù)權利要求1所述的設備，其進一步包括一處理器，其與所述復數(shù)個反射式顯示元件電連通，所述處理器經(jīng)配置以處理圖像數(shù) 據(jù)；和一與所述處理器電連通的存儲裝置。
5.根據(jù)權利要求4所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述復數(shù)個反射式顯示元 件發(fā)送至少一個信號的驅動電路。
6.根據(jù)權利要求5所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述驅動電路發(fā)送至少一 部分所述圖像數(shù)據(jù)的控制器。
7.根據(jù)權利要求4所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述處理器發(fā)送所述圖像 數(shù)據(jù)的圖像源模塊。
8.根據(jù)權利要求7所述的設備，其中所述圖像源模塊包括一接收器、收發(fā)器和發(fā)送器 中的至少一者。
9.根據(jù)權利要求4所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以接收輸入數(shù)據(jù)并將所述輸入 數(shù)據(jù)傳遞給所述處理器的輸入裝置。
10.一種反射式顯示設備，其包括 用來提供反射圖像內容的構件； 用來支撐所述提供構件的構件；和復數(shù)個用來將沿一傾斜于所述支撐構件的路徑發(fā)出的光重新導向至所述提供構件內 的構件。
11.根據(jù)權利要求10所述的顯示器，其中所述提供構件為復數(shù)個反射式顯示元件。
12.根據(jù)權利要求11所述的顯示器，其中所述反射式顯示元件為干涉式調制器。
13.根據(jù)權利要求10所述的顯示器，其中所述支撐構件為一襯底。
14.根據(jù)權利要求10所述的顯示器，其中所述光重導向構件為光重導向器。
15.一種制造一反射式顯示器的方法，其包括將復數(shù)個反射式顯示元件定位在一襯底的一第一表面上；及將復數(shù)個光重導向器定位成與所述襯底及反射式顯示元件光連通，以便將至少一部分 沿一傾斜于所述襯底的與所述第一表面相對的一第二表面的路徑發(fā)出的光重新導向至所 述襯底及反射式顯示元件內。
16.一種通過權利要求15所述的方法制造的反射式顯示器。
17.一種用來照明一反射式顯示器的方法，其包括將光沿一傾斜于一反射式顯示面板的路徑傳輸?shù)剿鲲@示面板上；及對至少一部分所述傳輸?shù)墓膺M行重新導向，以便沿一傾斜度比所述傳輸光小的傾斜于 所述顯示面板的路徑導向經(jīng)重新導向的光。
18.根據(jù)權利要求17所述的方法，其中所述傳輸包含提供一沿一傾斜于所述顯示面板 的路徑傳輸光的光源。
19.一種反射式顯示設備，其包括用來提供反射圖像內容的構件；用來對沿一傾斜于所述提供反射圖像的構件的路徑發(fā)出的光進行重新導向的構件；和用來向所述重導向構件提供光的構件。
20.根據(jù)權利要求19所述的設備，其中所述提供反射圖像的構件為復數(shù)個干涉式調制
21.根據(jù)權利要求19所述的設備，其中所述重導向構件為復數(shù)個與所述提供反射圖像 的構件光連通的光重導向器。
22.根據(jù)權利要求19所述的設備，其中所述提供光的構件為一光源。
23.一種反射式顯示設備，其包括一襯底，其具有復數(shù)個安置在其一第一表面上的反射式顯示元件；和覆蓋在所述襯底的與所述第一表面相對的一第二表面上的第一材料，所述第一材料包 括復數(shù)個光重導向器。
24.根據(jù)權利要求23所述的設備，其進一步包括安置在所述第一材料上的第二材料， 其中所述第二材料具有一不同于所述第一材料的折射率。
25.根據(jù)權利要求23所述的設備，其進一步包括一經(jīng)調試以將光發(fā)射進所述襯底內的 光源。
26.根據(jù)權利要求23所述的設備，其中所述第一材料安置在所述第二表面上。
27.根據(jù)權利要求23所述的設備，其中所述光重導向器是由所述第一材料上的一不均 勻表面界定的，所述光源所發(fā)射的光從所述表面反射進所述反射式顯示元件內。
28.根據(jù)權利要求23所述的設備，其中所述反射式顯示元件包含干涉式調制器。
29.根據(jù)權利要求23所述的設備，其中所述光重導向器包括凹槽。
30.根據(jù)權利要求23所述的設備，其進一步包括一與所述復數(shù)個反射式顯示元件電連通的處理器，所述處理器經(jīng)配置以處理圖像數(shù) 據(jù)；和一與所述處理器電連通的存儲裝置。
31.根據(jù)權利要求30所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述復數(shù)個反射式顯示 元件發(fā)送至少一個信號的驅動電路。
32.根據(jù)權利要求31所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述驅動電路發(fā)送至少 一部分所述圖像數(shù)據(jù)的控制器。
33.根據(jù)權利要求30所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述處理器發(fā)送所述圖 像數(shù)據(jù)的圖像源模塊。
34.根據(jù)權利要求33所述的設備，其中所述圖像源模塊包括一接收器、收發(fā)器和發(fā)送 器中的至少一者。
35.根據(jù)權利要求30所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以接收輸入數(shù)據(jù)并將所述輸 入數(shù)據(jù)傳遞給所述處理器的輸入裝置。
36.一種反射式顯示設備，其包括 用來進行反射式顯示的構件；用來進行支撐的構件，所述顯示構件安置在所述支撐構件的一第一側上； 用來對光進行重新導向的構件，其安置在所述支撐構件的一第二相對側上，所述光重 導向構件具有一第一折射率。
37.根據(jù)權利要求36所述的設備，其進一步包括一用來提供所述光重導向構件上的一 第二折射率的構件，所述第二折射率與所述第一折射率不同。
38.根據(jù)權利要求36所述的設備，其中所述反射式顯示構件包括復數(shù)個反射式顯示元 件。
39.根據(jù)權利要求36所述的設備，其中所述支撐構件包括一襯底。
40.根據(jù)權利要求36所述的設備，其中所述光重導向構件包括復數(shù)個光重導向器，所 述光重導向器包括具有所述第一折射率的第一材料。
41.根據(jù)權利要求37所述的設備，其中所述提供構件包括具有所述第二折射率的第二 材料。
42.根據(jù)權利要求38所述的設備，其中所述復數(shù)個反射式顯示元件安置在所述襯底的 一第一表面上，且所述第一材料安置在所述襯底的與所述第一表面相對的一第二表面上。
43.根據(jù)權利要求40所述的設備，其中所述光重導向器包括凹槽。
44.一種制造一反射式顯示器的方法，其包括將復數(shù)個干涉式調制器定位在一襯底的一第一表面上；將第一材料定位在所述襯底的與所述第一表面相對的一第二表面上，所述第一材料包 括復數(shù)個光重導向器。
45.根據(jù)權利要求44所述的方法，其進一步包括將第二材料定位在所述第一材料上， 其中所述第二材料具有一不同于所述第一材料的折射率。
46.根據(jù)權利要求44所述的方法，其進一步包括對一光源進行定位，以將光發(fā)射進所 述襯底內。
47.根據(jù)權利要求44所述的方法，其中所述第一材料定位在所述襯底的所述第二表面上。
48.根據(jù)權利要求44所述的方法，其中所述光重導向器包括凹槽。
49.一種通過權利要求44所述的方法制造的反射式顯示器。
50.一種制造一反射式顯示器的方法，其包括 將復數(shù)個干涉式調制器定位在一襯底上；及將復數(shù)個光重導向器定位成與所述干涉式調制器光連通，所述光重導向器經(jīng)配置以將 至少一部分入射到所述光重導向器上的光重新導向至所述干涉式調制器內。
51.根據(jù)權利要求50所述的方法，其中所述光重導向器包括凹槽。
52.一種通過權利要求50或51所述的方法制造的反射式顯示器。
53.一種反射式顯示系統(tǒng)，其包括 復數(shù)個反射式顯示元件；和熒光或磷光材料，其定位成與所述顯示元件光連通，且經(jīng)配置以使得所述材料吸收具 有一第一波長的光，并將具有一不同于所述第一波長的第二波長的光發(fā)射進所述反射式顯 示元件內。
54.根據(jù)權利要求53所述的系統(tǒng)，其中所述第一波長無法用人眼看見。
55.根據(jù)權利要求53所述的系統(tǒng)，其中所述反射式顯示元件包含干涉式調制器。
56.根據(jù)權利要求53所述的系統(tǒng)，其中所述熒光或磷光材料包含兩個或兩個以上不同 類型的熒光體或磷光體。
57.根據(jù)權利要求53所述的系統(tǒng)，其進一步包括安置在所述熒光或磷光材料的一部分 表面上的吸光材料。
58.根據(jù)權利要求57所述的系統(tǒng)，其中所述吸光材料吸收具有所述第一波長的光。
59.根據(jù)權利要求57所述的系統(tǒng)，其中所述吸光材料吸收具有所述第二波長的光。
60.根據(jù)權利要求53所述的系統(tǒng)，其進一步包括一發(fā)射具有所述第一波長的光的光源。
61.根據(jù)權利要求60所述的系統(tǒng)，其中所述光源包含一LED。
62.根據(jù)權利要求60所述的系統(tǒng)，其中所述光源包含一緊湊型熒光光源。
63.根據(jù)權利要求53所述的系統(tǒng)，其進一步包括一與所述復數(shù)個反射式顯示元件電連通的處理器，所述處理器經(jīng)配置以處理圖像數(shù) 據(jù)；和一與所述處理器電連通的存儲裝置。
64.根據(jù)權利要求63所述的系統(tǒng)，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述復數(shù)個反射式顯示 元件發(fā)送至少一個信號的驅動電路。
65.根據(jù)權利要求64所述的系統(tǒng)，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述驅動電路發(fā)送至少 一部分所述圖像數(shù)據(jù)的控制器。
66.根據(jù)權利要求63所述的系統(tǒng)，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述處理器發(fā)送所述圖 像數(shù)據(jù)的圖像源模塊。
67.根據(jù)權利要求66所述的系統(tǒng)，其中所述圖像源模塊包括一接收器、收發(fā)器和發(fā)送 器中的至少一者。
68.根據(jù)權利要求63所述的系統(tǒng)，其進一步包括一經(jīng)配置以接收輸入數(shù)據(jù)并將所述輸 入數(shù)據(jù)傳遞給所述處理器的輸入裝置。
69.一種反射式顯示系統(tǒng)，其包括 用來提供反射圖像內容的構件；和用來吸收具有一第一波長的光并將具有一不同于所述第一波長的第二波長的光發(fā)射 到所述提供構件上的構件。
70.根據(jù)權利要求69所述的系統(tǒng)，其中所述提供構件包括復數(shù)個反射式顯示元件。
71.根據(jù)權利要求70所述的系統(tǒng)，其中所述反射式顯示元件為干涉式調制器。
72.根據(jù)權利要求69所述的系統(tǒng)，其中所述吸收構件包括熒光或磷光材料。
73.一種用來照明一反射式顯示器的方法，其包括將光傳輸?shù)綗晒饣蛄坠獠牧仙希霾牧蠒罩辽僖徊糠炙龉?；及將具有一不同于所述傳輸光的波長的光從所述熒光或磷光材料發(fā)射到反射式顯示元件上。
74.根據(jù)權利要求73所述的方法，其中所述傳輸?shù)墓饩哂腥搜鄄豢梢姷囊徊ㄩL。
75.根據(jù)權利要求73所述的方法，其中所述傳輸包括提供一面向所述反射式顯示元件 的一非反射表面的光源。
76.一種制造一反射式顯示系統(tǒng)的方法，其包括將熒光或磷光材料定位成與復數(shù)個反 射式顯示元件光連通，其中所述材料吸收具有一第一波長的光，并將具有一不同于所述第 一波長的第二波長的光發(fā)射進所述反射式顯示元件內。
77.一種通過權利要求76所述的方法制造的反射式顯示系統(tǒng)。
78.—種干涉式調制器顯示設備，其包括復數(shù)個具有一正面的干涉式調制器，入射光從所述正面反射；復數(shù)個至少部分透光的支柱，其支撐所述干涉式調制器的一反射表面；和復數(shù)個與所述支柱對準的光重導向器。
79.根據(jù)權利要求78所述的設備，其進一步包括一定位在與所述干涉式調制器的所述 正面相對的一側上的光源。
80.根據(jù)權利要求78所述的設備，其進一步包括一上面安置有所述干涉式調制器的襯 底，其中所述光重導向器安置在所述襯底內部。
81.根據(jù)權利要求78所述的設備，其進一步包括一上面安置有所述干涉式調制器的襯 底，其中所述光重導向器安置在所述襯底上。
82.根據(jù)權利要求78所述的設備，其中所述光重導向器安置在所述支柱內部。
83.根據(jù)權利要求78所述的設備，其中所述光重導向器包含至少部分反射的表面。
84.根據(jù)權利要求78所述的設備，其中所述光重導向器包含散射中心。
85.根據(jù)權利要求78所述的設備，其中所述光重導向器包含熒光或磷光材料，其吸收 來自所述光源的光，并以一不同于所述被吸收的光的波長發(fā)光。
86.根據(jù)權利要求85所述的設備，其中所述被吸收的光具有人眼不可見的一波長。
87.根據(jù)權利要求78所述的設備，其進一步包括一與所述復數(shù)個干涉式調制器電連通的處理器，所述處理器經(jīng)配置以處理圖像數(shù)據(jù)；和一與所述處理器電連通的存儲裝置。
88.根據(jù)權利要求87所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述復數(shù)個干涉式調制 器發(fā)送至少一個信號的驅動電路。
89.根據(jù)權利要求88所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述驅動電路發(fā)送至少 一部分所述圖像數(shù)據(jù)的控制器。
90.根據(jù)權利要求87所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以向所述處理器發(fā)送所述圖 像數(shù)據(jù)的圖像源模塊。
91.根據(jù)權利要求90所述的設備，其中所述圖像源模塊包括一接收器、收發(fā)器和發(fā)送 器中的至少一者。
92.根據(jù)權利要求87所述的設備，其進一步包括一經(jīng)配置以接收輸入數(shù)據(jù)并將所述輸 入數(shù)據(jù)傳遞給所述處理器的輸入裝置。
93.一種干涉式調制器顯示設備，其包括用來提供反射圖像內容的構件，所述提供構件包括用來反射的第一和第二構件； 用來支撐所述第一反射構件并通過一間隙將所述第一反射構件與所述第二反射構件 隔開的構件，所述支撐構件可傳導光；和用來重新導向所述支撐構件所傳導的光的構件。
94.根據(jù)權利要求93所述的設備，其進一步包括用來向所述支撐構件提供光的構件。
95.根據(jù)權利要求93所述的設備，其中所述提供圖像內容的構件包括復數(shù)個干涉式調 制器。
96.根據(jù)權利要求93所述的設備，其中所述支撐構件包括復數(shù)個至少部分透光的支柱。
97.根據(jù)權利要求93所述的設備，其中所述第一和第二反射構件包括反射表面。
98.根據(jù)權利要求93所述的設備，其中所述光重導向構件包括復數(shù)個與所述支撐構件 對準的光重導向器。
99.根據(jù)權利要求94所述的設備，其中所述提供光的構件包括一光源。
100.一種干涉式調制器顯示設備，其包括 一襯底；復數(shù)個干涉式調制器，其安置在所述襯底上且具有一正面，入射光從所述正面反射； 復數(shù)個至少部分透光的支柱，其支撐所述干涉式調制器的一反射表面；和 復數(shù)個安置在所述襯底上面或內部的光重導向器。
101.根據(jù)權利要求100所述的設備，其進一步包括一安置在與所述干涉式調制器的所 述正面相對的一側上的光源。
102.根據(jù)權利要求100所述的設備，其中所述光重導向器與所述支柱對準。
103.一種用來照明一反射式顯示器的方法，其包括將光穿過復數(shù)個至少部分透光的支柱傳輸進一襯底內，其中所述支柱支撐復數(shù)個安置 在所述襯底上的干涉式調制器的一反射表面；及將至少一部分所述傳輸?shù)墓庵匦聦蛑了龈缮媸秸{制器內。
104.根據(jù)權利要求103所述的方法，其中重新導向包括從所述襯底重新導向。
105.根據(jù)權利要求103所述的方法，其中所述傳輸包含在所述干涉式調制器后方提供 一光源。
106.一種制造一干涉式調制器顯示器的方法，其包括形成復數(shù)個至少部分透光的支柱，以便支撐復數(shù)個干涉式調制器的一反射表面，所述 干涉式調制器具有一反射入射光的正面；及將復數(shù)個光重導向器定位成與所述支柱對準。
107.根據(jù)權利要求106所述的方法，其進一步包括將一光源定位在與所述干涉式調制 器的所述正面相對的一側上。
108.一種通過權利要求106或107所述的方法制造的顯示器。全文摘要
本發(fā)明揭示了用于將來自一遠端光源的光導向至干涉式調制器結構內的方法和設備。使用包含反射結構、散射中心和熒光或磷光材料的光重導向器來將來自一光源的光重新導向進干涉式調制器結構內。
文檔編號G02B26/00GK101881879SQ201010205299
公開日2010年11月10日 申請日期2005年9月26日 優(yōu)先權日2004年9月27日
發(fā)明者威廉·J·卡明斯, 布萊恩·J·加利 申請人:高通Mems科技公司