專利名稱：鹽及包含該鹽的光致抗蝕劑組合物的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鹽以及含有該鹽的光致抗蝕劑組合物。
背景技術(shù)：
用于采用光刻工藝的半導(dǎo)體微組裝的化學(xué)增幅正性抗蝕劑組合物含有產(chǎn)酸劑，該 產(chǎn)酸劑包含可通過輻射產(chǎn)生酸的化合物。美國專利申請US 2006/0194982A1公開了三苯基锍1-(3_羥基金剛烷基)甲氧基 羰基二氟代甲烷磺酸鹽以及含有樹脂和作為產(chǎn)酸劑的三苯基锍1-(3_羥基金剛烷基)甲氧 基羰基二氟代乙烷的光致抗蝕劑組合物。美國專利申請US 2004/0018445A1公開了三苯基锍三異丙基苯磺酸鹽和N-(乙 基磺酰氧基)琥珀酰亞胺，以及含有樹脂和作為產(chǎn)酸劑的三苯基锍三異丙基苯磺酸鹽和 N-(乙基磺酰氧基)琥珀酰亞胺的組合物的光致抗蝕劑組合物。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種新穎的鹽、由該鹽衍生的新穎的聚合物、以及含有該 鹽的光致抗蝕劑組合物。本發(fā)明涉及如下<1> 一種如通式(I-Pb)所表示的鹽
/RPb zPb+ O9C-Xpc—Rpc (工-Pb) YPbZ其中Xpb表示單鍵或-0-；Rpb表示單鍵、Cl-Cio 二價(jià)脂肪烴基、C4-C36 二價(jià)脂環(huán)烴基或C6-C36 二價(jià)芳香烴 基，并且二價(jià)脂肪烴基和二價(jià)脂環(huán)烴基中的一個以上亞甲基可被-0-或-co-取代；Ypb表示可聚合的基團(tuán)；Zpb表示有機(jī)基團(tuán)；Xpc表示單鍵或C1-C4亞烷基；并且Rpe表示可具有一個以上取代基的Cl-ClO脂肪烴基、可具有一個以上取代基的 C4-C36脂環(huán)烴基、或可具有一個以上取代基的C6-C36芳香烴基，并且脂肪烴基和脂環(huán)烴基 中的一個以上亞甲基可被-ο-或-co-取代；<2>根據(jù)<1>中的鹽，其中，可聚合的基團(tuán)為乙烯基、丙烯?；⒓谆；⒈?烯酰氧基、或甲基丙烯酰氧基，并且乙烯基、丙烯?；?、甲基丙烯?；?、丙烯酰氧基以及甲基 丙烯酰氧基可具有一個以上取代基；
<3>根據(jù)<1>或<2>中的鹽，其中，-Zpb+是如通式(I-Pb-zl)所表示的基團(tuán)
權(quán)利要求
一種如通式(I Pb)所示的鹽其中XPb表示單鍵或 O ；RPb表示單鍵、C1 C10二價(jià)脂肪烴基、C4 C36二價(jià)脂環(huán)烴基、或C6 C36二價(jià)芳香烴基，其中所述二價(jià)脂肪烴基和所述二價(jià)脂環(huán)烴基中的一個以上的亞甲基可被 O 或 CO 取代；YPb表示可聚合的基團(tuán)；ZPb表示有機(jī)基團(tuán)；XPc表示單鍵或C1 C4亞烷基；以及RPc表示可具有一個以上取代基的C1 C10脂肪烴基、可具有一個以上取代基的C4 C36脂環(huán)烴基、或可具有一個以上取代基的C6 C36芳香烴基，其中所述脂肪烴基和所述脂環(huán)烴基中的一個以上的亞甲基可被 O 或 CO 取代。FSA00000202271100011.tif
2.如權(quán)利要求1所述的鹽，其特征在于，所述可聚合的基團(tuán)為乙烯基、丙烯酰基、甲基 丙烯酰基、丙烯酰氧基、或甲基丙烯酰氧基，并且所述乙烯基、丙烯酰基、甲基丙烯酰基、丙 烯酰氧基、或甲基丙烯酰氧基可具有一個以上取代基。
3.如權(quán)利要求1所述的鹽，其特征在于，-Zpb+是如通式(I-Pb-zl)所示的基團(tuán)
4.如權(quán)利要求1所述的鹽，其特征在于，-Zpb+是如通式(I-Pb-z2)所示的基團(tuán)
5.一種含有由如權(quán)利要求1所述的鹽衍生的結(jié)構(gòu)單元的聚合物。
6.一種含有如權(quán)利要求5所述的聚合物和產(chǎn)酸劑的光致抗蝕劑組合物。
7.—種光致抗蝕劑組合物，其包含如下組分如權(quán)利要求1所述的鹽、產(chǎn)酸劑、和含有 具有酸不穩(wěn)定性基團(tuán)的結(jié)構(gòu)單元的樹脂，所述樹脂不溶于或微溶于堿性水溶液、但在酸的作用下變得可溶于堿性水溶液。
8.如權(quán)利要求6或7所述的光致抗蝕劑組合物，其特征在于，所述光致抗蝕劑組合物進(jìn) 一步包含堿性化合物。
9.一種用于形成光致抗蝕圖案的方法，其包括如下步驟(1)至(5)(1)將如權(quán)利要求6、7、或8所述的光致抗蝕劑組合物施用在基材上，(2)通過進(jìn)行干燥來形成光致抗蝕劑薄膜，(3)使光致抗蝕劑薄膜曝露在輻射下，(4)烘焙經(jīng)曝露的光致抗蝕劑薄膜，以及(5)用堿性顯影劑顯影經(jīng)烘焙的光致抗蝕劑薄膜，由此形成光致抗蝕圖案。
全文摘要
一種如通式(I-Pb)所示的鹽其中XPb表示單鍵或-O-；RPb表示單鍵等；YPb表示可聚合的基團(tuán)；ZPb表示有機(jī)基團(tuán)；XPc表示單鍵或C1-C4亞烷基；以及RPc表示可具有一個以上取代基的C1-C10脂肪烴基等。
文檔編號G03F7/004GK101955453SQ20101023401
公開日2011年1月26日 申請日期2010年7月12日 優(yōu)先權(quán)日2009年7月14日
發(fā)明者山下裕子, 市川幸司, 杉原昌子 申請人:住友化學(xué)株式會社