專利名稱：兩面曝光裝置的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種對印刷基板等的工件(work)的兩面進行曝光的兩面曝光裝置。
背景技術：
在印刷基板等中，有在工件的兩面制作電路等的圖案的情況。為此的曝光裝置作 為“兩面曝光裝置”而被公知。作為其中的一例，有記載于專利文獻1的兩面投影曝光裝置。被記載于該專利文獻的兩面投影曝光裝置具備光照射部，曝光平臺，第1及第2 掩模，保持這兩枚掩模的掩模平臺，投影透鏡以及使工件反轉的反轉平臺等。該曝光裝置在使用第1掩模曝光工件的第1面(表面)之后，通過反轉平臺使工 件反轉，使用第2掩模曝光第2面(背面)。由此，在工件的表面曝光形成于第1掩模的圖 案，而在工件的背面曝光形成于第2掩模的圖案。專利文獻1 日本專利第4158514號公報在專利文獻1所記載的兩面投影曝光裝置中，工件的曝光處理是所謂的“先入先 出”，從先搬入裝置的工件開始，依次地對表面與背面進行曝光，并從裝置搬出。所以，用于 表面的曝光的第1掩模及用于背面的曝光的第2掩模，按每一枚工件的處理來進行切換 (更換)。在該文獻的圖2、圖3所記載的實施例的裝置中，掩模平臺能夠裝載表面用的第1 掩模與背面用的第2掩模這兩枚掩模，掩模的更換通過滑動移動掩模平臺來進行。所以，掩 模的更換時間約為較短的兩秒鐘。在表面曝光用的掩模與背面曝光用的掩模的更換時間如上述那樣較短的情況下， 即使按每一枚工件的處理地實施掩模的更換，也不會降低生產(chǎn)能力(through-put)。S卩，工 件的曝光處理的整體時間不會增加。這是因為，掩模的更換能夠在曝光裝置進行其它動作 的期間進行。但是，在專利文獻1所記載的曝光裝置中，由于滑動移動掩模而進行更換，因而無 法實現(xiàn)使用大量掩模、一面更換掩模一面對每一工件曝光不同的大量的圖案。另一方面，如圖9所示地，為了能夠利用曝光裝置來應對大量的圖案的曝光，有 按如下方式構成的結構將大量掩模保管在掩模庫(以下稱為庫)，利用被稱為處理器 (handler)的掩模搬運機構，從庫中取出需要的掩模，將其替換地裝載于掩模平臺。在圖9中，1是光照射部，例如由燈Ia與反射鏡Ib所構成，從光照射部1所放射的 光，經(jīng)由被載置于掩模平臺2上的掩模、投影透鏡3，照射到工件平臺4上的工件W。在掩模庫6中收納有多個掩模Ml，M2，M3，…，更換掩模平臺2上的掩模M時，掩 模搬運機構5利用工件手柄(work hand)等來保持掩模平臺2上的掩模M，沿著軌道5a移 動，從而將掩模M收納于掩模庫6的規(guī)定位置。另外，掩模搬運機構5從掩模庫6取出下一 次所使用的掩模，沿著軌道5a移動并被載置于掩模平臺2。在采用圖9所示的掩模的庫與搬運機構的曝光裝置的情況下，由于掩模的更換， 是進行從掩模平臺拆下要更換的掩模并將其搬運回收至庫，并將新掩模搬運并載置于掩模平臺這樣的操作，因而對于每一次掩模花費大約30秒鐘至30秒鐘以上的時間。若掩模的更換時間為大約30秒鐘，則在上述專利文獻1所述的曝光裝置中，該時 間無法被合并在曝光裝置所進行的其它動作的時間中，從而成為等待掩模更換結束的等待 時間。結果，處理一枚工件的時間會變長，而降低生產(chǎn)能力。如上所述地，在切換專利文獻1所記載的掩模而進行更換的結構中，能夠迅速地 進行掩模更換，但難以使用多枚掩模進行曝光，另外，如圖9所示地，在具有掩模的庫的結 構中，能進行多枚掩模的更換，但掩模更換費時，從而存在生產(chǎn)能力降低的問題。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是鑒于上述情況而做出的，本發(fā)明的目的在于，在具備能夠保管大量掩模 而對其進行更換的掩模庫的兩面曝光裝置中，提供一種能夠縮短工件的曝光處理所需要的 整體時間，防止生產(chǎn)能力降低的兩面曝光裝置。在本發(fā)明中，為了解決上述技術問題，對曝光裝置設計掩模庫與掩模搬運機構，在 掩模庫中收藏多枚掩模。并且，設置對完成了第1面(表面)的曝光的工件進行保管的工 件保管部，而且，在載置并曝光工件的工件平臺與工件保管部之間，設置進行工件的反轉的 反轉平臺部，在工件平臺與反轉平臺部、反轉平臺部與工件保管部之間，設置搬運工件的工 件搬運機構。于是，如下地進行曝光處理。(1)在掩模平臺上載置表面曝光用的第1掩模。使工件表面朝上地被搬入至工件 平臺，對工件的表面進行曝光。若表面的曝光結束，則將工件從工件平臺搬運至反轉平臺部，反轉平臺部使工件 反轉。(2)反轉后的工件被搬運至工件保管部。工件保管部依次保管反轉后的工件。將 此針對于1批的所有工件(1批由20枚 50枚的工件所構成)來進行。即，針對于全部工 件，僅先曝光表面，經(jīng)反轉而以第2面(背面)朝上的狀態(tài)進行暫時保管。(3)然后，將掩模平臺的掩模更換成背面曝光用的第2掩模，之后，從工件保管部 取出背面朝上的工件，搬運至工件平臺，進行背面的曝光。完成背面的曝光的工件被搬出至 裝置的外面。一直進行直到被保管在工件保管部的所有工件沒有為止。即，背面的曝光按 與曝光表面的順序(保管于工件保管部的順序)相反的順序來處理。另外，在曝光表面或背面的途中，例如以A — B — C…的方式更換掩模，在1批的工 件的表面(或是背面)以A圖案，B圖案，C圖案，…的方式曝光不同的圖案也可以。另外，也可以將完成表面的曝光的工件不進行反轉地保管在工件保管部，為了曝 光背面，在從工件保管部移動至工件平臺時，在反轉平臺部進行反轉。即，在本發(fā)明中，如下地解決上述技術問題。(1) 一種兩面曝光裝置，具備照射曝光光的光照射部；保持形成有圖案的掩模的 掩模平臺；載置工件的曝光平臺；用于在工件的第1面(表面)曝光圖案的第1掩模；用于 在第2面(背面)曝光圖案的第2掩模；保管上述第1掩模與第2掩模的掩模庫；在上述掩 模庫與上述掩模平臺之間搬運掩模的掩模搬運機構；將形成于第1與第2掩模的掩模圖案 投影在被載置于上述曝光平臺的工件的面上的投影透鏡；將第1面曝光了的工件反轉的反轉平臺部；以及對來自上述光照射部的曝光光的照射、利用上述掩模搬運機構的第1掩模 及第2掩模的更換、利用上述反轉平臺部的工件的反轉、上述工件的搬運進行控制的控制 部，其特征在于具備對多個第1面曝光了的工件進行保管的工件保管部，上述控制部針對 于由多個工件構成的1批的工件的所有工件，首先曝光第1面并保管在上述工件保管部，對 1批工件的所有工件完成第1面的曝光之后，將第1掩模更換成第2掩模，曝光第2面。(2)在上述(1)中，由多個掩模群構成工件的第1面(表面)曝光用掩模，上述控 制部在上述1批的工件的第1面的曝光途中，更換第1掩模，在上述1批的工件的第1面， 曝光不同的掩模圖案。(3)在上述(1)中，由多個掩模群構成工件的第2面(背面)曝光用掩模，上述控 制部在上述1批的工件的第2面的曝光途中，更換第2掩模，在上述1批的工件的第2面， 曝光不同的掩模圖案。(4)在上述(1)，(2)，(3)中，上述控制部同時地進行曝光后的工件的利用上述反 轉平臺部的反轉及上述第1掩模與第2掩模的更換。在本發(fā)明中，能夠得到以下的效果。(1)由于首先針對于1批的所有工件進行表面的曝光、然后進行背面的曝光，因而 掩模的更換在1批的曝光處理中進行1次即可。因此，即使掩模的更換時間變長，也不會極 度地增加工件的曝光處理的整體時間。所以能夠防止生產(chǎn)能力的降低。(2)由于具備保管大量掩模的掩模庫，因而在工件的第1面(表面)或第2面的曝 光途中更換掩模，能夠在1批的工件表面(或背面)進行不同的圖案曝光。在這種情況下，由于在第1面(表面)或第2面(背面)的曝光中更換掩模，因 而，雖然會相應地增加處理時間，但是，由于同時地進行工件的利用反轉平臺部的反轉與掩 模的更換，因此處理時間的增加很微小。(3)通過同時地進行曝光后的工件的利用反轉平臺部的反轉及第1掩模與第2掩 模的更換，能夠縮短處理時間。


圖1是表示本發(fā)明的實施例的兩面曝光裝置的概略結構的圖。 圖2是表示本實施例的兩面曝光裝置的具體的結構例的圖。 圖3是表示工件搬運機構的概略結構的圖。 圖4是表示反轉平臺部的概略結構的圖。 圖5是表示工件保管部的概略結構的圖。 圖6是說明反轉平臺部的動作的圖。 圖7是說明工件保管貨架的動作的圖(1)。 圖8是說明工件保管貨架的動作的圖(2)。 圖9是表示具備掩模庫的曝光裝置的結構例的圖。

1光照射部
2掩模平臺
3投影透鏡
5
4 工件平臺
5 掩模搬運機構
6 掩模庫
7 對準顯微鏡
8a，8b 工件手柄
10曝光機主體
20工件搬入搬出部
30反轉平臺部
31棍
32旋轉軸
33保持框
34電動機
35輥旋轉機構
36旋轉軸
37反轉電動機
40工件保管部
41棍
42旋轉軸
43保持框
44電動機
45輥旋轉機構
46第3工件搬運機構
47叉架
48叉架支持板
49叉架支持板移動機構
50a 第1工件搬運機構
50b 第2工件搬運機構
51棍
52旋轉軸
53保持框
54電動機
55輥旋轉機構
60控制部
具體實施例方式圖1是表示本發(fā)明的實施例的兩面曝光裝置的概略結構的圖。本實施例的兩面曝光裝置大致分成曝光機主體10、工件搬入搬出部20、反轉平臺 部30和工件保管部40。另外，曝光機主體10具備出射曝光光的光照射部1 ；載置掩模M的掩模平臺2，該掩模M形成有對工件形成的電路等的圖案(掩模圖案)；載置進行曝光的工件W的工件平 臺4 ；對工件平臺4上的工件W投影掩模圖案的投影透鏡3 ；保管多個掩模的掩模庫6等。另外，曝光機主體10具備掩模平臺2的移動機構；工件平臺4的移動機構；用于 進行掩模M與工件W的對位的對準顯微鏡；在掩模庫6與掩模平臺2之間搬運掩模的掩模 搬運機構5 ；在工件搬入搬出部20與工件平臺4之間，或工件平臺4與反轉平臺部30之間、 反轉平臺部30與工件保管部40之間搬運工件的工件搬運機構等，但在圖1中僅表示了掩 模搬運機構5的位置，其它被省略。并且，曝光裝置具備對來自光照射部1的曝光光的照射、掩模搬運機構5的掩模更 換、反轉平臺部30的工件反轉、在工件搬入搬出部20與工件平臺4之間的工件W的搬運、 在工件平臺4與反轉平臺部30之間的工件W的搬運、在反轉平臺部30與工件保管部40之 間的工件W的搬運等進行控制的控制部60。另外，曝光機主體10的光照射部1具備作為光源的燈，放射包括曝光光的光；反 射從燈所放射的光的反射鏡；控制來自光照射部的光的出射的光閘(shutter)等。這些也 省略圖示。工件搬入搬出部20，是將多枚(20枚至50枚)的工件作為1批來進行兩面曝光處 理的工件，利用工廠的搬運機構(未圖示)搬運來之后，放置這些工件的部分。被放置在工 件搬入搬出部20的工件，通過工件搬運機構(未圖示)，一枚一枚地被搬運至曝光機主體 10的工件平臺4而被曝光。另外，完成了兩面的曝光的工件也通過工件搬運機構從工件平 臺4被搬出到工件搬入搬出部20。被載置于工件平臺4的工件，利用真空吸附等而被保持在工件平臺4。從光照射部 1照射的曝光光，照射到保持于掩模平臺2的掩模M上。在掩模M上形成有電路等的圖案， 該圖案通過投影透鏡3而被投影并曝光于保持于工件平臺4的工件W。反轉平臺部30是使由曝光機主體10完成了表面曝光且由工件搬運機構所搬運來 的工件進行反轉的部分。反轉平臺部30具備裝載工件而反轉180°的平臺。關于詳細的結 構在以下說明。工件保管部40是保管由反轉平臺部30所反轉了的工件的部分。工件保管部40 具備對利用工件搬運機構所搬運來的工件進行依次堆積并保管的貨架。關于詳細的結構在 以下說明。圖2是表示本實施例的兩面曝光裝置的具體結構例的圖，是從工件保管部側觀看 內(nèi)部的立體圖。此外，在該圖中，圖1所示的工件搬入搬出部20、光照射部1、掩模平臺2、掩 模庫6等被省略。在該圖中，從該圖左邊起，是將工件從工件搬入搬出部20搬運至工件平臺4的第 1工件搬運機構50a，工件平臺4，將工件從工件平臺4搬運至反轉平臺部30的第2工件搬 運機構50b，含有從反轉平臺部30搬運工件的第3工件搬運機構46的工件保管部40。在工件平臺4的上側，設有用于掩模M與工件W的對位的對準顯微鏡7及投影透 鏡3。另外，在工件平臺4的使用者近前的一側(正交于搬運方向的方向)設有預對準平臺 4a，在其上方，設有吸附工件而將工件從第1工件搬運機構50a搬運至預對準平臺4a，或是 從預對準平臺4a搬運至第2工件搬運機構50b的一對工件手柄8a、Sb。控制部60除了如上述地控制光照射部1與利用掩模搬運機構5的掩模更換等以外，還控制上述第1工件搬運機構50a與第2工件搬運機構50b進行的工件搬運、反轉平臺 部30進行的工件反轉、工件保管部40進行的工件的保管動作等。利用第1工件搬運機構50a從工件搬入搬出部10所搬運的工件，通過在該圖中以 虛線所表示的工件手柄8a被把持，并被載置于工件平臺4的使用者近前一側的預對準平臺 4a上而被預對準，并利用未圖示的搬運機構被搬運至工件平臺4。被搬運至工件平臺4上的工件W使用對準顯微鏡7而被對位，來自未圖示的光照 射部并通過了投影透鏡3的曝光光，經(jīng)由掩模而照射到工件上，進行掩模圖案的曝光處理。被曝光處理過的工件W利用未圖示的搬運機構被搬運至預對準平臺4a，利用工件 手柄8b被搬運至第2工件搬運機構50b。另外，與此同時地，利用第1工件搬運機構50a而 從工件搬入搬出部10所搬運來的下一個工件，利用工件手柄8a被吸附并被載置于預對準 平臺4a上。完成曝光處理的工件W利用第2工件搬運機構50b被搬運至反轉平臺部30而被 反轉(翻轉)，并利用第3工件搬運機構46被搬運并保管至工件保管部40。以下，針對于圖2所示的工件搬運機構50a、50b，反轉平臺部30，工件保管部40的 結構例進行說明。圖3表示工件搬運機構50的概略結構。如該圖所示地，工件搬運機構50具有由被安裝于旋轉軸52的柔軟樹脂制的輥 (roller) 51所構成的輥旋轉機構55，該機構在保持框53上安裝有多個。在旋轉軸52上安 裝有電動機54，電動機54同步地旋轉驅動旋轉軸52。由此，輥51旋轉，當將工件(印刷基板)放置于輥51上時，則工件向輥51的旋轉 方向被搬運。圖4表示反轉平臺部30的概略結構。反轉平臺部30也與工件搬運機構50同樣地，具有在安裝有電動機34的旋轉軸 32上安裝了多個輥31的輥旋轉機構35，該輥旋轉機構35成為上下兩列地被安裝于保持框 33。在保持框33上，安裝有利用反轉電動機37所驅動的旋轉軸36，若反轉電動機37 旋轉，則保持框33整體也旋轉。在排列成上下兩列的輥旋轉機構35之間放進工件，若在該狀態(tài)下利用反轉電動 機37使保持框33旋轉180°，則工件反轉。圖5表示工件保管部40的概略結構。工件保管部40也具有與工件搬運機構50同樣的、安裝有多個輥41的旋轉軸42， 并具備由在保持框43上安裝有該旋轉軸42的多個輥旋轉機構45及驅動旋轉軸42的電動 機44所構成的第3工件搬運機構46。另外，從下面一枚一枚地支持工件W的多列叉架(fork) 47安裝于叉架支持板48。在叉架支持板48上安裝有叉架支持板驅動機構49，沿圖紙的上下方向移動叉架 支持板48 (輥旋轉機構45不會上下移動)。由此，叉架47在輥旋轉機構45之間上下地移動。圖6表示反轉平臺部30的動作。在該圖中，左側為第2工件搬運機構50b，中央為 反轉平臺部30，右側為工件保管部40的第3工件搬運機構46。
如圖6 (a)所示地，對表面進行了曝光的工件W被搬運到第2工件搬運機構50b。如圖6(b)所示地，第2工件搬運機構50b的輥51與反轉平臺部30的輥31進行 旋轉，工件W被搬運到反轉平臺部30的、配置為上下兩列的輥旋轉機構35之間。工件W通 過上下的輥旋轉機構35被夾持。如圖6(c)所示地，驅動安裝于圖4所示的反轉平臺部30 的保持框33的反轉電動機37，在利用輥旋轉機構35夾住工件W的狀態(tài)下，保持框33整體 進行旋轉。如圖6(d)所示地，反轉平臺部30旋轉180°。工件W被反轉，第2面(背面)向上。如圖6 (e)所示地，反轉平臺部30的輥31與第3工件搬運機構47的輥41進行旋 轉，工件W在反轉的狀態(tài)下被搬運至工件保管貨架40。圖7、圖8表示工件保管貨架40的動作。在該圖中，左邊為反轉平臺部30，右邊為 工件保管貨架40。如圖7 (a)所示地，反轉平臺部30的輥31與工件保管棚40的工件搬運機構47的 輥41進行旋轉，反轉后的第1工件Wl被搬運至工件保管貨架40。叉架支持板驅動機構49動作，叉架支持板48上升。由此，如圖7(b)所示地，第1 叉架47a在輥41之間上升，載置并抬高第1工件W1，并停止上升。在反轉平臺部30，第2 工件W2被反轉。如圖7(c)所示地，第2工件W2從反轉平臺部30被搬運至工件保管貨架40。叉架支持板驅動機構49動作，叉架支持板48上升。由此，如圖7(d)所示地，第2 叉架47b在輥41之間上升，載置并抬高第2工件W2，并停止上升。在反轉平臺部30，第3 工件W3被反轉。一直到完成1批(20枚至50枚)的所有工件的表面的曝光為止，重復上述動作， 將1批量的工件保管到保管貨架40。以下，針對于上述的本實施例的兩面曝光裝置的動作加以說明。在此，主要使用上述圖1進行說明。此外，在以下所說明的各動作中，使能夠并列 地進行的動作并列地進行。這樣是為了縮短處理時間。工件W被搬運至工件搬入搬出部20。該工件W的搬運利用設置曝光裝置的工廠方 面的搬運機構(未圖示)來進行搬運。有將1批的工件(由20枚至50枚的工件所構成)放進盒體(case)而一并搬運的 情況，但也有將放置有1批工件的盒體放入到曝光裝置的工件搬入搬出部20以外的場所， 并將工件從該場所1枚1枚地搬運至工件搬入搬出部20的情況。曝光裝置的控制部60驅動第1工件搬運機構50a，將被搬運至工件搬入搬出部20 的工件W搬運至曝光機主體的工件平臺4。之后，利用掩模搬運機構(未圖示)，從掩模庫 6取出工件W的第1面(表面)曝光用的第1掩模M1，設置在掩模平臺2上。進行掩模M與工件W的對位之后，從光照射部1出射曝光光。曝光光經(jīng)由掩模M 與投影透鏡3，照射工件平臺4上的工件W。形成于第1掩模Ml的圖案被曝光于工件W的 表面。完成表面的曝光的工件W利用第2工件搬運機構50b被搬運到反轉平臺部30?？刂撇?0驅動反轉平臺部30，按照圖6所示的順序，使工件W反轉。另外，將下一個工件W從工件搬入搬出部20搬運至工件平臺4。在反轉平臺部30進行了反轉的工件W被搬運至工件保管部40，按照圖7、圖8所 示的順序，被保管在工件保管部40。一直到完成1批量的所有工件的表面的曝光為止，重復此順序。若完成所有工件W的表面的曝光，則控制部60利用掩模搬運機構5，從掩模平臺2 拆下表面曝光用的第1掩模M1，回收至掩模庫6。并且，下一次從掩模庫6取出工件W的第 2面(背面)曝光用的第2掩模M2，設置在掩模平臺2上。若最后進行了表面曝光的工件W在反轉平臺部30被反轉，則該工件W不被送往工 件保管部40，而是返回到第2工件搬運機構50b。由于工件W被反轉，因而第2面(背面)朝向上方。此外，同時地進行最后進行了 兩面曝光的工件的反轉與掩模的更換。控制部60利用第2工件搬運機構50b，將背面向上的工件W搬運至工件平臺4。并且，如上述地，進行掩模M與工件W的對位之后，從光照射部1出射曝光光。曝 光光經(jīng)由掩模M與投影透鏡3，照射工件平臺4上的工件W。形成于第2掩模M2的圖案曝 光于工件W的背面。完成背面的曝光的工件W利用第1工件搬運機構50b，被搬運至工件搬入搬出部 20。另一方面，從工件保管貨架40，由倒數(shù)第2個進行了表面曝光的工件(工件保管貨 架下方的工件)開始，依次地按照第3工件搬運機構47 —反轉平臺部30 (但是在此不進行 反轉動作)一第2工件搬運機構50b —工件平臺4的順序進行搬運，并進行背面曝光，完成 了曝光的工件依次被搬運至工件搬入搬出部20。被搬運至工件搬入搬出部20的工件W，被 一枚一枚地從曝光裝置搬出，或是集中1批地放進盒體而從曝光裝置搬出。此外，在本實施例中，工件保管部40保管反轉后的工件。但是，將完成了表面曝光 的工件不反轉地保管在工件保管部40，當為了曝光背面而從工件保管部40移動至工件平 臺4時在反轉平臺部30進行反轉也可以。在上述中，針對于在1批的所有工件的第1面(表面)曝光第1掩模Ml的圖案， 而在第2面(背面)曝光第2掩模M2的圖案的情況進行了說明，但在上述1批的工件的第 1面或第2面的曝光途中，更換第1掩?；虻?掩模，從而在上述1批的工件的第1面或第 2面曝光不同的掩模圖案也可以。以下，針對于在第1面及第2面的曝光途中更換掩模時的動作進行簡單地說明。當工件W被搬運至工件搬入搬出部20時，控制部60驅動第1工件搬運機構50a， 將被搬運至工件搬入搬出部20的工件W搬運至曝光機主體的工件平臺4。之后，利用掩模 搬運機構(未圖示)，從掩模庫6取出工件W的第1面(表面)曝光用的第1掩模M11，設 置在掩模平臺2上。并且，在進行了工件W的對位之后，從光照射部1出射曝光光，將形成于第1掩模 Ml的圖案曝光于工件W的表面。完成表面的曝光的工件W利用第2工件搬運機構50b被搬運至反轉平臺部30而 進行反轉，并被搬運并保管至工件保管部40。以下同樣地，在1批工件中，在對規(guī)定枚數(shù)的工件的第1面曝光了掩模Mll的掩模圖案之后，從掩模庫6取出工件W的第1面(表面)曝光用的第2掩模Ml2，設置在掩模平 臺2上。此外，通過與反轉平臺部30的曝光結束的工件的反轉操作同時地進行該掩模的 更換操作，可縮短處理時間。并且，在進行了工件W的對位之后，從光照射部1出射曝光光，將形成于第2掩模 M12的圖案曝光于工件W的表面。完成表面的曝光的工件W利用第2工件搬運機構50b被搬運至反轉平臺部30而 進行反轉，并被搬運并保管至工件保管部40。如上所述地，在曝光1批的工件的第1面(表面)的途中，將掩模更換成例如M11， M12，M13，…，Mln，從而將如掩模Mll的圖案，M12的圖案，M13的圖案，…，Mln的圖案那 樣的不同圖案曝光于1批的工件的第1面(表面)。若完成所有工件W的表面曝光，則從掩模平臺2拆下表面曝光用的第1面曝光用 的最后的掩模Mln，回收至掩模庫6。并且，下一次從掩模庫6取出工件W的第2面(背面) 曝光用的第2掩模M21，設置在掩模平臺2。并且，如上述地曝光工件的第2面(背面)，但與第1面的曝光同樣，在曝光1批 的工件的第2面(背面)的途中，將掩模更換成例如M21，M22，M23，…，M2n，從而將如掩模 M21的圖案，M22的圖案，M23的圖案，…那樣的不同圖案曝光于1批的工件的第2面(背 面)°完成背面的曝光的工件W，利用第1工件搬運機構50b，被搬運至工件搬入搬出部 20。此外，在上述中，針對于在工件的第1面的曝光途中，及在第2面的曝光途中，分別 更換掩模的情況進行了說明，但僅在第1面或第2面的曝光中更換掩模也可以。
權利要求
1. 一種兩面曝光裝置，具備 光照射部，照射曝光光；掩模平臺，保持形成有圖案的掩模； 工件平臺，載置工件；第1掩模，用于對工件的第1面曝光圖案； 第2掩模，用于對工件的第2面曝光圖案； 掩模庫，保管上述第1掩模與第2掩模； 掩模搬運機構，在上述掩模庫與上述掩模平臺之間搬運掩模； 投影透鏡，將形成于第1掩模與第2掩模的掩模圖案，投影到載置于上述工件平臺的工 件的面上；反轉平臺，將第1面被曝光了的工件反轉；及控制部，對來自上述光照射部的曝光光的照射、利用上述掩模搬運機構的第1掩模及 第2掩模的更換、利用上述反轉平臺的工件的反轉、上述工件的搬運進行控制， 其特征為具備對第1面被曝光了的多個工件進行保管的工件保管部，上述控制部，對由多個工件所構成的1批工件的所有工件，首先曝光第1面，并保管在 上述工件保管部，對1批工件的所有工件完成了第1面的曝光之后，將第1掩模更換成第2掩模，曝光第 2面。
2.如權利要求1所述的兩面曝光裝置，其特征為 上述第1掩模包括多個掩模，上述控制部在上述1批工件的第1面的曝光途中，更換第1掩模，對上述1批工件的第 1面曝光不同的掩模圖案。
3.如權利要求1所述的兩面曝光裝置，其特征為 上述第2掩模包括多個掩模，上述控制部在上述1批工件的第2面的曝光途中，更換第2掩模，對上述1批工件的第 2面曝光不同的掩模圖案。
4.如權利要求1 3中任一項所述的兩面曝光裝置，其特征為上述控制部同時地進行利用上述反轉平臺的曝光后的工件的反轉及上述第1掩模與 第2掩模的更換。
全文摘要
提供一種具有掩模庫的兩面曝光裝置，縮短工件的曝光處理所需要的整體時間，防止生產(chǎn)能力的降低。將被搬運至工件搬入搬出部(20)的工件(W)搬運至工件平臺(4)，將形成于從掩模庫(6)所取出的第1面(表面)曝光用掩模的圖案對工件(W)進行曝光。并且，在反轉平臺部(30)反轉(翻轉)工件(W)，并將工件(W)保管在工件保管部(40)。這樣，曝光1批量的所有工件的第1面(表面)。之后，將掩模更換成第2面(背面)曝光用的掩模，從工件保管部(40)取出第1面曝光結束的工件，曝光工件的第2面(背面)。完成背面的曝光的工件(W)，利用第1工件搬運機構(50b)，被搬運到工件搬入搬出部(20)。
文檔編號G03F7/20GK102004398SQ20101025067
公開日2011年4月6日 申請日期2010年8月10日 優(yōu)先權日2009年8月28日
發(fā)明者佐藤善彥, 友永竹彥 申請人:優(yōu)志旺電機株式會社