專利名稱：防塵薄膜組件的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種防塵薄膜組件，在半導體裝置、印刷基板或液晶顯示器等設備的 制造中作為防塵罩使用。更具體地說，本發(fā)明涉及一種便于重新貼附的防塵薄膜組件。
背景技術：
在制造LSI、超LSI等半導體裝置或液晶顯示器時，曝光用光通過光掩?；蚓芄?掩模(以下總稱為“光掩模”)照射到半導體晶片或液晶用原板上，將光掩模圖案轉印于半 導體晶片或液晶用原板。因此，若使用的光掩模附著了微塵等異物，則曝光用光會被該異物反射或吸收， 導致轉印于半導體晶片或液晶用原板的圖案變形，或圖案的邊緣部分不清晰，無法在半導 體晶片或液晶用原板上形成所希望的光掩模圖案，產生半導體裝置或液晶用原板的性能降 低，成品率降低的問題。為了避免上述問題，半導體晶片或液晶用原板的曝光作業(yè)在無塵室內進行。即便 如此，要完全防止異物附著于光掩模表面仍十分困難，因此，通常在光掩模表面安裝一種對 曝光用光具有高透光性的稱為防塵薄膜組件的防塵罩，以便對半導體晶片或液晶用原板進 行曝光。防塵薄膜組件一般是通過以下步驟制成用硝化纖維素、醋酸纖維素等纖維類樹 脂和氟樹脂等材料制成對曝光用光具有高透光率的防塵薄膜，并且，用鋁、不銹鋼、聚乙烯 等材料構成防塵薄膜組件框架，在防塵薄膜組件框架的一面粘接防塵薄膜，在防塵薄膜組 件框架的另一面形成由聚丁烯樹脂、聚醋酸乙烯酯樹脂、丙烯酸樹脂、硅樹脂等材料制成的 粘著層，用于粘接光掩模，而且，在粘著劑層的表面粘附上保護該粘著劑層的保護膜(隔離 部)。用上述方法制成防塵薄膜組件，將其安裝于光掩模表面，并對半導體晶片或液晶 用原板進行曝光，此時，微塵等異物不會直接附著于光掩模表面，而是附著于防塵薄膜組件 的表面，因此，照射曝光用光，使焦點對準形成在光掩模上的圖案即可，而能消除微塵等異 物所造成的影響。在將上述防塵薄膜組件貼附到光掩模時，首先調整防塵薄膜組件與光掩模相互的 位置關系，之后，使防塵薄膜組件框架與光掩模平行并加壓一定時間，從而將防塵薄膜組件 貼附于光掩模。這樣，隔著貼附于光掩模的防塵薄膜組件，對半導體晶片或液晶用原板進行曝光， 隨著使用次數(shù)的增加，防塵薄膜上不可忽視的相當大的區(qū)域會附著臟物或受損等，當防塵 薄膜出現(xiàn)破損時，需要將其從光掩模剝離。圖10是表示以往的將防塵薄膜組件從光掩模剝離方法的簡略正視圖。如圖10所示，以往，一般使用以下方法進行剝離將前端形成了較薄突起的剝離 夾具40插入光掩模25和防塵薄膜組件框架11之間，利用杠桿原理將防塵薄膜組件框架11 向上抬起，由此將粘著劑層16從光掩模25剝離；或者，向在防塵薄膜組件框架外側面形成的圓孔中插入銷狀夾具，利用杠桿原理將防塵薄膜組件框架11向上抬起，將粘著劑層16從 光掩模25剝離。這些現(xiàn)有技術能夠簡便又容易地將防塵薄膜組件從光掩模25剝離，但需要施加 大于粘著劑層16和光掩模25之間粘接力的力量，強制性地將防塵薄膜組件框架11從光掩 模25表面拉開，因此，在剝離后，光掩模25表面殘留的粘著劑量增多，需花費大量時間與勞 力去清洗光掩模25。不僅如此，使用以往的剝離方法將防塵薄膜組件框架11從光掩模25 剝離時，還會出現(xiàn)粘著劑層16粘著于光掩模25的圖案上，損壞或污臟圖案的問題。而且， 在使用大型防塵薄膜組件時，由于其邊長較長，必須將防塵薄膜組件框架11 一部分一部分 地從光掩模25剝離，而且該防塵薄膜組件框架11的剝離有必要不使從光掩模25剝離的防 塵薄膜組件框架11的部分再次粘接于光掩模25上，因此，有操作性低的問題。因此，日本特開2006-146085號公報(專利文獻1)提出了一種方法，通過將粘著 劑層從光掩模和防塵薄膜組件框架之間原樣地拖出而除去，從而將防塵薄膜組件框架從光 掩模剝離。專利文獻1 日本特開2006-146085號公報該方法的優(yōu)點是將防塵薄膜組件框架剝離后光掩模表面殘留的粘著劑量減少，但 是，也存在著將粘著劑層從光掩模和防塵薄膜組件框架之間拖出的初始階段是困難的這一 問題。將粘著劑層從光掩模和防塵薄膜組件框架之間拖出有以下幾種公知的方法如圖 IlA所示，使用鑷子50將粘著劑層16從光掩模25和防塵薄膜組件框架11之間夾出；如圖 IlB所示，使粘著性物質32粘著在金屬板31上構成粘著劑層拉出工具33，并使用該粘著劑 層拉出工具33使粘著劑層16粘附在粘著性物質32上，并將其從光掩模25和防塵薄膜框 架11之間拖出。但是，如粘著劑層16沒有從光掩模25和防塵薄膜組件框架11之間露出 的場合，使用圖IlA所示的方法，用鑷子50夾住粘著層16是困難的，而使用圖IlB所示的 方法，將粘著劑層拉出工具33插入光掩模25和防塵薄膜組件框架11之間，但要使得粘著 劑層16粘結到粘著性物質32也是困難的，這不僅操作性低，還可能導致光掩模25的圖案 面受損。特別是在使用防塵薄膜組件框架11寬度較寬的大型防塵薄膜組件的情況下，粘著 劑層16大多不設置于整個寬度上，僅設置于防塵薄膜組件框架的內側，因此，防塵薄膜組 件外側面沒有粘著劑層16露出，要如期地將粘著劑層16從光掩模25和防塵薄膜框架11 之間拖出是非常困難的。因此，專利文獻1提出的方法盡管有防塵薄膜組件框架剝離后殘留在光掩模的粘 著劑量減少的優(yōu)點，但沒有達到實用的水平。

發(fā)明內容
因此，本發(fā)明的目的在于提供一種防塵薄膜組件，能夠容易地將粘著劑層從光掩 模和防塵薄膜組件框架之間除去，并從光掩模剝離。本發(fā)明的目的是提供一種防塵薄膜組件，在該防塵薄膜組件框架的一表面上，僅 在從所述防塵薄膜組件框架的內側開始至所述防塵薄膜組件框架的寬度的80%以下的區(qū) 域形成粘著劑層，在形成了所述粘著劑層的區(qū)域外側的所述防塵薄膜組件框架上，具有向 所述防塵薄膜組件框架的另一表面傾斜的傾斜面。按照本發(fā)明，在防塵薄膜組件框架的一表面上，即使僅在從所述防塵薄膜組件框架的內側開始至所述防塵薄膜框架的寬度的80%以下的區(qū)域形成粘著劑層的場合，由于形 成了向防塵薄膜組件框架的另一表面傾斜的傾斜面，因此，能夠容易地從外部辨認出粘著 劑層，不僅大大提高辨認性，而且，在粘著劑層拖出用工具的插入部分，防塵薄膜組件框架 和光掩模之間的間隙寬，能夠容易地將粘著劑層抓住、拖出，故大大提高了操作性，因此，既 利用了防塵薄膜組件剝離后光掩模面殘留的粘著劑量減少之優(yōu)點，又能夠容易地將粘著劑 層拖出，如期地將防塵薄膜組件框架從光掩模面剝離。本發(fā)明的優(yōu)選實施方式中，所述防塵薄膜組件框架有四條以上的邊，并且，在所述 防塵薄膜組件框架的至少一個角部形成所述傾斜面。按照本發(fā)明的優(yōu)選實施方式，因為僅規(guī)定在防塵薄膜組件框架的至少一個角部形 成傾斜面，因此，可將防塵薄膜組件框架的剛性降低控制在最小限度，由此防止了由于防塵 薄膜的張力導致防塵薄膜組件框架變形。另一方面，由于在防塵薄膜組件框架的至少一個 角部形成傾斜面，因此，將粘著劑層拖出用工具從形成了傾斜面的角部插入，就能夠容易地 將粘著劑層拖出，如所希望的那樣將防塵薄膜組件從光掩模面剝離。本發(fā)明更優(yōu)選的實施方式中，所述傾斜面相對于所述防塵薄膜組件框架的所述一 表面，形成10度至30度的角度。按照本發(fā)明更優(yōu)選的實施方式，傾斜面形成10度至30度的角度，因此，可將防塵 薄膜組件框架的剛性降低控制在最小限度，防止了由于防塵薄膜的張力導致的防塵薄膜組 件框架變形，同時，大大提高粘著劑層的辨認性以及將粘著劑層拖出時的操作性。本發(fā)明更優(yōu)選的實施方式中，防塵薄膜通過粘結劑層被粘結在所述防塵薄膜組件 框架的另一表面上。本發(fā)明更優(yōu)選的實施方式中，所述粘著劑層含有硅樹脂。本發(fā)明更優(yōu)選實施方式中，所述粘著劑層由硅樹脂形成。按照本發(fā)明，能提供一種防塵薄膜組件，其能夠容易地將粘著劑層從光掩模和防 塵薄膜組件框架之間除去，并從光掩模剝離。


圖1是本發(fā)明優(yōu)選實施方式涉及的用于防塵薄膜組件的防塵薄膜組件框架的簡 略平面圖；圖2是圖1所示防塵薄膜組件框架的各邊的簡略縱截面圖；圖3是圖1所示防塵薄膜組件框架的各角部的簡略縱截面圖；圖4是在圖1所示防塵薄膜組件框架上形成了粘著劑層的防塵薄膜組件的簡略立 體圖；圖5是表示將粘著劑層從防塵薄膜組件除去的方法的簡略立體圖，是從圖4的反 方向看防塵薄膜組件的圖；圖6是表示將粘著劑層從防塵薄膜組件除去的方法的簡略立體圖，是從圖4的反 方向看防塵薄膜組件的圖；圖7A、圖7B、圖7C、圖7D、圖7E、圖7F是表示將粘著劑層從防塵薄膜組件框架的傾 斜面和光掩模之間拖出的工序圖；圖8是表示本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方式涉及的防塵薄膜組件在以下的場合，與光掩模的接觸面的圖該防塵薄膜組件的傾斜面形成在防塵薄膜組件框架的直線形部分，將 粘著劑層拉出工具插入防塵薄膜組件框架的傾斜面和光掩模之間的間隙，使粘著在粘著劑 層拉出工具前端部的粘著性物質與粘著劑層粘著在一起，并將粘著劑層16拖出。圖9是表示本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方式涉及的防塵薄膜組件在以下的場合，與光 掩模的接觸面的圖該防塵薄膜組件的傾斜面形成在防塵薄膜組件框架的角部，將粘著劑 層拉出工具插入防塵薄膜組件框架的傾斜面和光掩模之間的間隙，使粘著在粘著劑層拉出 工具前端部的粘著性物質與粘著劑層粘著在一起，并將粘著劑層拖出。圖10是表示以往的將防塵薄膜組件從光掩模剝離方法的簡略正視圖；圖11A、圖IlB是表示與圖10所示方法不同的以往的將防塵薄膜組件從光掩模剝 離方法的簡略正視圖。
具體實施例方式圖1是本發(fā)明優(yōu)選實施方式涉及的防塵薄膜組件框架的簡略平面圖。如圖1所示，防塵薄膜組件框架11構成四邊形，其具有四條互為約90度角的邊， 在其平坦的上表面形成與光掩模(沒有圖示)粘著的粘著劑層，在其平坦的下表面形成與 防塵薄膜(沒有圖示)粘接的粘接劑層(沒有圖示)。圖2是圖1所示防塵薄膜組件框架11的各邊的簡略縱截面圖，圖3是圖1所示防 塵薄膜組件框架11的各角部的簡略縱截面圖。如圖2、圖3所示，防塵薄膜組件框架11除了各角部之外構成矩形截面，具有相互 平行的上表面12與下表面13，也就是說，具有要形成粘著劑層側的表面12 (以下，稱為“粘 著劑層形成側表面”)和要粘接防塵薄膜側的表面13(以下，稱為“防塵薄膜粘接側表面”)， 在各角部形成傾斜面15，該傾斜面15從防塵薄膜組件框架11的粘著劑層形成側表面12向 防塵薄膜粘接側表面13傾斜，該傾斜面15與防塵薄膜組件框架11的粘著劑層形成側表面 12構成角度α。圖4是在防塵薄膜組件框架11上形成了粘著劑層的防塵薄膜組件的簡略立體圖。如圖3、圖4所示，在防塵薄膜組件框架11的各角部形成臺階14，并在該臺階14 上涂布含硅樹脂材料的粘著劑，形成粘著劑層16。在防塵薄膜組件框架11的各角部形成傾 斜面15，該傾斜面15從防塵薄膜組件框架11的粘著劑層形成側表面12向防塵薄膜粘接側 表面13傾斜。本實施方式中，粘著劑層16形成在從防塵薄膜組件框架11內側向外側，防塵薄膜 組件框架11寬度的80%以下的區(qū)域上，以便將該粘著劑層16的表面粘著到光掩模(沒有 圖示)上。如圖3所示，傾斜面15與防塵薄膜組件框架11的粘著劑層形成側表面12構成角 度α。本實施方式中，傾斜面15與防塵薄膜組件框架11的粘著劑層形成側表面12構成 的角度α以10度至30度為好。如角度α超過30度，則傾斜面15外側端部的防塵薄膜 組件框架11的厚度太薄，不易對防塵薄膜組件框架11進行操作；而另一方面，如角度α不 滿10度，當光掩模(沒有圖示)形成在粘著劑層16的上面時，防塵薄膜組件框架11和光 掩模之間的間隙太窄，不但不易辨認粘著劑層16，而且，不易將粘著劑層拉出工具(沒有圖示)插入防塵薄膜組件框架11和光掩模之間的間隙而拖出粘著劑層16，且無法充分提高操 作性。圖5、圖6是表示將粘著劑層從防塵薄膜組件除去方法的簡略立體圖，從圖4的相 反側看防塵薄膜組件的圖。如圖5、圖6所示，防塵薄膜組件10包括粘接劑層21和粘著劑層16，所述粘接劑 層21將防塵薄膜20粘接在防塵薄膜組件框架11，所述粘著劑層16粘著在光掩模25上。 這里，由于傾斜面15設置在防塵薄膜組件框架11的下側，因此，圖5與圖6中沒有圖示。將粘著劑層16從光掩模25除去時，如圖5所示，將粘著劑層拉出工具33插入形 成于防塵薄膜組件框架11角部的傾斜面15(圖5與圖6中沒有圖示)和光掩模25之間。 所述粘著劑層拉出工具33是由不銹鋼等的金屬薄板31構成，并使得粘著性物質32粘著在 該金屬薄板31的前端部表面。由此，粘著在粘著劑層拉出工具33的金屬薄板31前端部表面的粘著性物質32與 粘著了光掩模25的粘著劑層16粘著在一起。此時，防塵薄膜組件框架11形成了傾斜面15，因此，防塵薄膜組件框架11和光掩 模25之間的間隙較寬，故不僅能夠容易地從外部辨認出粘著劑層16，而且，將粘著劑層拉 出具33插入防塵薄膜組件框架11和光掩模25之間，能夠容易且確實地使得粘著劑層16 向粘著在粘著劑層拉出具33前端部的粘著性物質32粘著。因此，若將粘著劑層拉出工具33慢慢地從傾斜面15和光掩模之間拉出，則如圖6 所示，與粘著在粘著劑層拉出具33的金屬板31前端部表面的粘著性物質32粘著在一起的 粘著劑層16被從光掩模25剝開，粘著劑層16象條繩子似的被拉出。這樣，通過粘著劑層拉出工具33將粘著劑層16象條繩子似的從傾斜面15和光掩 模25之間拖出，因此，通過使粘著劑層拉出工具33沿防塵薄膜組件框架11的周向移動，能 夠將粘著劑層16拖出。圖7A、圖7B、圖7C、圖7D、圖7E以及圖7F是表示將粘著劑層16從防塵薄膜組件 框架11的傾斜面(圖7A、圖7B、圖7C、圖7D、圖7E以及圖7F中沒有圖示)和光掩模25之 間拖出的工序圖。如圖7A所示，將粘著劑層拉出工具33插入粘著在防塵薄膜組件框架11角部形成 的傾斜面15和光掩模25之間隙的粘著劑層16，并使得粘著在粘著劑層拉出工具33前端部 的粘著性物質32與粘著劑層16粘著在一起。接著，如圖7B所示，若將粘著劑層拉出工具33慢慢地從傾斜面15和光掩模25之 間拖出，則與粘著劑層拉出具33前端部的粘著性物質32粘著在一起的粘著劑層16象條繩 子似的，與粘著劑層拉出工具33 —起被拖出。此時，若粘著劑層16以兩條繩子似的形狀被曳出，則不易操作，因此，如圖7C所 示，通過剪刀等切斷工具將繩狀粘著劑層16中的一條切斷，并用鑷子等夾持工具夾持從粘 著劑層拉出具33切斷的繩狀粘著劑層16，如圖7D、7E以及7F所示的那樣，使夾持了帶狀 粘著劑層16的夾持工具沿防塵薄膜組件框架11的周方向移動，依次將繩狀粘著劑層16拖出ο如上所述，按照本實施方式，在防塵薄膜組件框架11的角部形成傾斜面15，該傾 斜面15相對于防塵薄膜組件框架11的粘著劑層形成側表面12構成10度至30度的角度α。因此，防塵薄膜組件框架11和光掩模25之間的間隙較寬，不僅能夠從外部容易地辨認 出粘著劑層16，而且，將粘著劑層拉出工具33插入防塵薄膜組件框架11和光掩模25之間， 能夠容易且確實地使得粘著劑層16向粘著在粘著劑層拉出具33前端部的粘著性物質32 粘著，將該粘著劑層16拖出，從而使其從光掩模25剝離。圖8是表示本發(fā)明的另一優(yōu)選實施方式涉及的防塵薄膜組件在以下的場合與光 掩模的接觸面的圖該防塵薄膜組件的傾斜面形成在防塵薄膜組件框架的直線部分，將粘 著劑層拉出工具插入防塵薄膜組件框架的傾斜面和光掩模之間的間隙，使粘著在粘著劑層 拉出工具前端部的粘著性物質與粘著劑層粘著在一起，并將粘著劑層16拖出。圖8是表示防塵薄膜組件在以下的場合，與光掩模的接觸面的圖傾斜面15形成 在防塵薄膜組件框架11的直線形部分，將粘著劑層拉出具33插入防護組件框架11的傾斜 面15和光掩模(圖8中沒有顯示)之間的間隙，使得粘著在粘著劑層拉出具33前端部的 粘著性物質32與粘著劑層16粘著在一起，將粘著劑層16拖出。另一方面，圖9是表示防 塵薄膜組件在以下的場合，與光掩模的接觸面的圖與上述實施方式相同，傾斜面15形成 在防塵薄膜組件框架11的角部，將粘著劑層拉出工具33插入防塵薄膜組件框架11的傾斜 面15和光掩模(圖9中沒有顯示)之間的間隙，使得粘著在粘著劑層拉出工具33前端部 的粘著性物質32與粘著劑層16粘著在一起，將粘著劑層16拖出。對圖8與圖9進行比較，在向與對粘著劑層16施加的拉力垂直的平面，對從拉力 的作用點開始到規(guī)定的距離的某一部分進行投影時，圖8的長度較長，因此，阻力較大，故 更優(yōu)選圖9所示的，將傾斜面15形成在防塵薄膜組件11的角部的情況。下面，為了表明本發(fā)明的效果，具體介紹實施例。實施例通過機械加工，將Α5052鋁合金軋制板制成四邊形的防塵薄膜組件框架，其外側 尺寸為1748mm、內側尺寸為1493X 1711mm、整體厚度為6. 2mm,并且，沿著形成粘著 劑層側的一表面內側設有寬度為6mm、高度為0. 2mm的臺階。而且，該防塵薄膜組件框架11的四個角部設有傾斜面，該傾斜面在臺階外側向著 粘接防塵薄膜側的另一表面傾斜，并與防塵薄膜組件框架的一面構成15度角。機械加工結束后，對防塵薄膜組件框架的兩個表面實施噴砂處理，進而，實施黑色 氧化鋁膜處理。用甲苯稀釋有機硅粘著劑(信越化學工業(yè)株式會社制造商品名稱“KR3700”)，對 該防塵薄膜組件框架的另一表面進行涂布并形成粘接層，其干燥膜厚度約為100 μ m。用甲苯稀釋有機硅粘著劑(信越化學工業(yè)株式會社制造商品名稱“KR3700”)，在 該防塵薄膜組件框架的一表面，對防塵薄膜組件框架的臺階上進行涂布，從防塵薄膜組件 框架內側開始的寬度為6mm，形成粘著劑層，完成的粘著劑層厚度約2mm。之后，在130°C對防塵薄膜組件框架進行加熱，除去粘著劑層及粘接劑層中的溶 媒，同時，使得有機硅粘著劑充分交聯(lián)。這樣，得到如圖4所示的防塵薄膜組件框架11，在其各角部形成了臺階14、粘著劑 層16以及傾斜面15。接著，將表面研磨平滑，尺寸為1620X 1780mm的石英基板洗凈，并使其干燥。之 后，采用擠壓式涂法，將氟樹脂(旭硝子株式會社制商品名“Cytop”)涂布在其一面，該涂布要使干燥后膜厚為6 μ m。之后，用烘箱將涂布了氟樹脂層的石英基板加熱到200 V，并除去溶媒。冷卻后，使框架形薄膜剝離夾具粘接在氟樹脂層上，并從石英基板慢慢剝離，得到 防塵薄膜。最后，將通過上述工序得到的防塵薄膜與防塵薄膜組件框架11的粘接層粘貼合 在一起，并用刀具切除外側的多余部分。這樣，制成了防塵薄膜組件10。接著，用400kgf負荷將防塵薄膜組件10的粘著劑層16貼附到尺寸為 1620mmX 1780mm、厚度為17mm、并附有Cr薄膜的石英基板光掩模25上。之后，如圖5、圖6所示，將粘著劑層拉出工具33插入防塵薄膜組件10的角部的傾 斜面15和光掩模25之間的間隙，將粘著劑層16從防塵薄膜組件10角部的傾斜面15和光 掩模25之間拖出。也就是說，將信越化學工業(yè)株式會社制的有機硅粘著劑膠帶32粘著到厚度為 0. 8mm的不銹鋼薄板31前端部，制成粘著劑層拉出工具33，將該粘著劑層拉出工具33插入 防塵薄膜組件10角部的傾斜面15和光掩模25之間的間隙，使得粘著在薄板31前端的有 機硅粘著劑膠帶32與粘著劑層16粘著在一起，如圖6所示，將粘著劑層拉出工具33拉出， 并將粘著在有機硅粘著劑膠帶32上的粘著劑層16從防塵薄膜組件10角部的傾斜面15和 光掩模25之間拖出，如圖7A、圖7B、圖7C、圖7D以及圖7E所示，將粘著劑層16拖出，并如 圖7F所示，將粘著劑層完全除去。這些操作所需時間為5分鐘，即便不是熟練的操作人員，也能夠容易地將粘著劑 層從防塵薄膜組件10角部的傾斜面15和光掩模25之間拖出。這樣，在除去粘著劑層16之后，用目視檢查光掩模25的表面，幾乎看不到光掩模 25表面殘留的粘著劑層16，即使有殘留的粘著劑層16，只需用浸漬甲苯的刮板輕輕擦拭就 能夠徹底除去。比較例除了沒有形成傾斜面15之外，其余工序和上述實施例相同，制成防塵薄膜組件 10。接著，用400kgf負荷將防塵薄膜組件10的粘著劑層16貼附到尺寸為 1620mmX 1780mm、厚度為17mm、并附有Cr薄膜的石英基板光掩模25。之后，與上述實施例完全相同，將制作的粘著劑層拉出工具33插入防塵薄膜組件 框架11和光掩模25之間的間隙，想將粘著劑層16拖出，但粘著劑層16不能如期地與粘著 在粘著劑層拉出具33的薄板31前端部的粘著性物質粘著，無法將該粘著劑層16從防塵薄 膜組件框架11和光掩模25之間拖出。反復進行了相同操作，仍無法將粘著劑層16從防塵薄膜組件框架11和光掩模25 之間拖出。根據(jù)上述實施例與比較例可以得知，比較例中，防塵薄膜組件框架11上沒有形成 傾斜面15，很難從外部辨認防塵薄膜組件框架11和光掩模25之間的粘著劑層16，即使將 粘著劑層拉出工具33插入防塵薄膜組件框架11和光掩模25之間，粘著劑層16也不能如 期地與粘著在粘著劑層拉出具33的薄板31前端部的粘著性物質粘著，相對這一點，本發(fā)明實施例中，在防塵薄膜組件框架11的角部，從要形成粘著劑層16的面向著要形成粘接劑層 21的面，形成傾斜面15，由此能夠容易地從外部辨認出防塵薄膜組件框架11和光掩模25 之間的粘著劑層16，因此，如將粘著劑層拉出工具33插入防塵薄膜組件框架11和光掩模 25之間，就能夠容易且確實地使得粘著劑層16向粘著在粘著劑層拉出工具33的薄板31前 端部的粘著性物質粘著，從而，能夠容易地將該粘著劑層16從防塵薄膜組件框架11和光掩 模25之間拖出，并從光掩模25剝離。本發(fā)明并不僅限于上述實施例，還可在權利要求中記載的發(fā)明范圍內進行種種變 更，當然，這些也都包含在本發(fā)明的范圍內。例如，在上述實施例中，任一防塵薄膜組件框架11都是矩形形狀，但本發(fā)明并不 僅限于此，也可以是五角形、六角形等角部比矩形多的多角形狀，而且，還可以是圓形等沒 有角部的形狀。而且，在圖1至圖7F、以及圖9所示的實施例中，傾斜面15僅形成在防塵薄膜組件 框架11的角部，但本發(fā)明并不僅限于此，也可將傾斜面15在防塵薄膜組件框架11的其他 部分，而且，還可以將傾斜面15形成在防塵薄膜組件框架11的全周。但是，若將傾斜面15 形成在防塵薄膜組件框架11的全周，則防塵薄膜組件框架11的剛性降低，由于防塵薄膜的 張力可能導致防塵薄膜組件框架變形，因此，將傾斜面15設置在防塵薄膜組件框架11的角 部以外的部分時，優(yōu)選將傾斜面形成在防塵薄膜組件框架11角部以外的若干部位，而不是 形成在防塵薄膜組件框架的全周。上述實施例中，采用擠壓式涂法將氟樹脂涂布在石英基板上，形成防塵薄膜，但本 發(fā)明并不僅限于此，也可采用旋涂法、狹縫&旋涂法等方法，將氟樹脂涂布在石英基板上。而且，本發(fā)明沒有特別限定防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜的尺寸，無論是一邊 長度超過500mm的防塵薄膜組件框架寬度較寬的液晶制造用防塵薄膜組件，還是一邊長度 約為150mm的用于半導體的小型防塵薄膜組件都可適用，其尺寸與用途沒有特別限制。上述實施例中，使用氟樹脂形成防塵薄膜，也可使用硝化纖維素、醋酸纖維素等纖 維類樹脂形成防塵薄膜。
權利要求
1. 一種防塵薄膜組件，其特征在于，在防塵薄膜組件框架的一表面上，僅在從所述防塵薄膜組件框架的內側開始至所述防 塵薄膜組件框架的寬度的80%以下的區(qū)域形成粘著劑層，在形成了所述粘著劑層的區(qū)域 的外側的所述防塵薄膜組件框架上，具有向所述防塵薄膜組件框架的另一表面傾斜的傾斜
2.根據(jù)權利要求1中所述的防塵薄膜組件，其特征在于，所述防塵薄膜組件框架有四條以上的邊，在所述防塵薄膜組件框架的至少一個角部形 成所述傾斜面。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的防塵薄膜組件，其特征在于，所述傾斜面相對于所述防塵薄膜組件框架的所述一表面，形成10度至30度的角度。
4.根據(jù)權利要求1 3中任一項所述的防塵薄膜組件，其特征在于，防塵薄膜通過粘結 劑層被粘結在所述防塵薄膜組件框架的另一表面上。
5.根據(jù)權利要求1 4中任一項所述的防塵薄膜組件，其特征在于，所述粘著劑層含有 硅樹脂。
6.根據(jù)權利要求5所述的防塵薄膜組件，其特征在于， 所述粘著劑層由硅樹脂形成。
全文摘要
本發(fā)明提供一種防塵薄膜組件，能夠容易地將粘著劑層從光掩模和防塵薄膜組件框架之間除去，從而從光掩模剝離。在防塵薄膜組件框架(11)的一表面(12)上，僅在從所述防塵薄膜組件框架的內側開始至所述防塵薄膜組件框架(11)的寬度的80％以下的區(qū)域形成使其向光掩模粘著的粘著劑層(16)，在形成的所述粘著劑層(16)的區(qū)域外側的所述防塵薄膜組件框架(11)上，具有向所述防塵薄膜組件框架(11)的與防塵薄膜(20)粘接的另一表面(13)傾斜的傾斜面(15)。
文檔編號G03F1/64GK102053484SQ20101052771
公開日2011年5月11日 申請日期2010年10月26日 優(yōu)先權日2009年11月2日
發(fā)明者關原一敏 申請人:信越化學工業(yè)株式會社