專利名稱：曝光裝置和器件制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及曝光裝置和器件制造方法。
背景技術(shù)：
對(duì)于用于半導(dǎo)體制造過程中的曝光裝置，考慮重要的三大性能作為微構(gòu)圖 (micropatterning)的指標(biāo)的分辨率、用于指示各層的對(duì)準(zhǔn)性能的覆蓋(overlay)精度以 及用于指示生產(chǎn)率的產(chǎn)量。為了提高產(chǎn)量，例如，增大單位時(shí)間的曝光能量，縮短基板臺(tái)架 跨各行程地(across shots)逐步地移動(dòng)所花費(fèi)的時(shí)間，縮短交換和傳輸基板所花費(fèi)的時(shí) 間，或者縮短掃描儀的掃描時(shí)間。為了縮短基板交換時(shí)的傳輸時(shí)間以提高產(chǎn)量，有效的措施是縮短傳輸距離。然而， 為了獲得高的分辨率和高的覆蓋精度，必須不可避免地確定曝光裝置中的布局以優(yōu)化投影 光學(xué)系統(tǒng)、用作光源的照明系統(tǒng)、基板臺(tái)架和基板位置測量單元的位置。出于這種原因，通 過縮短傳輸距離來縮短傳輸時(shí)間是極難的。為了縮短傳輸時(shí)間，提出對(duì)傳輸臂的驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)進(jìn)行升級(jí)。但是，驅(qū)動(dòng)電動(dòng)機(jī)的體 積隨著電動(dòng)機(jī)的升級(jí)而增大。這造成諸如電動(dòng)機(jī)不能位于有限的裝置空間內(nèi)、發(fā)熱量隨著 驅(qū)動(dòng)能量的增多而增多以及隨著傳輸速度和加速度的升高而使得基板掉落的風(fēng)險(xiǎn)增大之 類的問題。為了縮短傳輸時(shí)間，日本專利公開No. 2006-66636公開了使用裝載臂和卸載臂幾 乎同時(shí)地執(zhí)行向基板臺(tái)架供給未曝光的基板和從基板臺(tái)架回收曝光的基板的機(jī)構(gòu)。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種曝光裝置，該曝光裝置通過縮短交換基板所花費(fèi)的時(shí)間來提高其
生產(chǎn)率。根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供一種將基板曝光的曝光裝置，該裝置包括基板臺(tái) 架，所述基板臺(tái)架保持基板并且可沿從在χ-γ-ζ坐標(biāo)系中定義的X-Y面上的第一位置到所 述X-Y面上的第二位置的第一路線移動(dòng)；傳輸臂，所述傳輸臂保持基板并可沿從所述X-Y面 上的第三位置到所述第二位置的第二路線移動(dòng)；升降部件，所述升降部件位于基板臺(tái)架上， 并且可沿在X-Y-Z坐標(biāo)系中定義的Z軸方向進(jìn)行上/下移動(dòng)，以便在第二位置向傳輸臂傳 送基板；以及控制器，其中，使2為所述X-Y面中基板臺(tái)架和傳輸臂之間的預(yù)定間隔，所述預(yù) 定間隔對(duì)于避免正在進(jìn)行升降操作的升降部件所保持的基板和傳輸臂之間的碰撞和正在 進(jìn)行升降操作的升降部件和傳輸臂所保持的基板之間的碰撞是必要的，控制器在升降部件 的升降操作結(jié)束的時(shí)間點(diǎn)處判斷已開始向所述第二位置移動(dòng)的基板臺(tái)架是否到達(dá)第四位 置，其中所述升降部件的升降操作是為了向傳輸臂傳送基板而開始的，所述第四位置從所 述第二位置沿第一路線向前側(cè)偏移預(yù)定間隔&并且，如果控制器判斷基板臺(tái)架沒有到達(dá)第 四位置，那么控制器控制基板臺(tái)架的移動(dòng)、升降部件的升降以及傳輸臂的移動(dòng)，以使傳輸臂 在升降部件的升降操作結(jié)束之前開始向所述第二位置移動(dòng)。
根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供一種器件制造方法，該方法包括使用在所述第一方 面中限定的曝光裝置將基板曝光；將曝光的基板顯影；以及處理顯影的基板以制造器件。參照附圖閱讀示例性實(shí)施例的以下描述，本發(fā)明的其它特征將變得清晰。


圖1是用于解釋曝光裝置的透視圖；圖2是用于解釋基板傳輸路線的示意性平面圖；圖3是控制器的內(nèi)部配置的解釋性框圖；圖4中的4A 4E是當(dāng)橫向觀察接收臂從X_Y臺(tái)架接收基板的過程時(shí)的示意性側(cè) 視圖；圖5中的5Α 5C是從上面觀察接收臂從Χ_Υ臺(tái)架接收基板的過程時(shí)的示意性平 面圖；圖6是示出現(xiàn)有技術(shù)中的三銷(pin)機(jī)構(gòu)、X-Y臺(tái)架和接收臂的操作的示意曲線 圖；圖7是用于解釋根據(jù)本發(fā)明的基板的接收方法的示意圖；以及圖8中的8A 8D是當(dāng)橫向觀察接收臂從X_Y臺(tái)架接收基板的過程時(shí)的另一示意 性側(cè)視圖。
具體實(shí)施例方式〔曝光裝置〕以下將參照附圖描述曝光裝置的實(shí)施例。如圖1所示，將基板曝光的曝光裝置包 括照明系統(tǒng)1、標(biāo)線片(reticle)臺(tái)架3、標(biāo)線片位置測量器件4、投影光學(xué)系統(tǒng)5、基板臺(tái)架 以及用于測量基板9的焦點(diǎn)位置的自動(dòng)聚焦單元10。照明系統(tǒng)1包含光源和快門。標(biāo)線片 臺(tái)架3保持上面繪制有電路圖案的標(biāo)線片2。標(biāo)線片位置測量器件4測量標(biāo)線片臺(tái)架3上 的標(biāo)線片2的位置?；迮_(tái)架包含可沿兩個(gè)方向在X-Y-Z坐標(biāo)系中定義的X-Y面上的X 方向和Y方向移動(dòng)的X-Y臺(tái)架6和可垂直移動(dòng)基板9的Z驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)?；鍔A具 8被設(shè)置在用于基板9的Z驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)上，并且夾持和保持基板9。激光干涉計(jì)7 測量X-Y臺(tái)架6的位置。自動(dòng)聚焦單元10測量基板9的焦點(diǎn)位置，并且，用于基板9的Z 驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)(未示出)基于獲得的測量結(jié)果來調(diào)整曝光中的基板9的焦點(diǎn)(以下，該操作將 被稱為聚焦)。圖2是當(dāng)從該裝置上表面觀察時(shí)的示意性平面圖，用于解釋當(dāng)曝光裝置在半導(dǎo)體 工廠中與外部裝置連接的情況下對(duì)曝光裝置進(jìn)行操作時(shí)基板9被傳輸?shù)穆肪€。曝光裝置位 于用于以預(yù)定的溫度和濕度保持曝光環(huán)境的曝光室20內(nèi)?？梢匝豘軸方向上/下移動(dòng)以 便傳送基板9的升降部件(三銷機(jī)構(gòu))Ila Ilc位于X-Y臺(tái)架6上。曝光裝置包括未曝光的基板9所位于的裝載站16、曝光的基板9所位于的卸載站 17、控制曝光裝置的控制器15以及用于對(duì)準(zhǔn)基板9的預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元13。曝光裝置還包括在曝 光室20中傳輸基板9的接收臂14和發(fā)送臂12。接收臂14從裝載站16向預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元13 傳輸裝載的基板9，并將位于三銷機(jī)構(gòu)11上的曝光的基板9傳輸?shù)叫遁d站17。發(fā)送臂12 從預(yù)對(duì)準(zhǔn)單元13向三銷機(jī)構(gòu)11傳輸預(yù)對(duì)準(zhǔn)的基板9。發(fā)送臂12和接收臂14形成保持基板9并且向/從升降部件(三銷機(jī)構(gòu))11傳送/接收基板9的傳輸臂。雖然三銷機(jī)構(gòu)11a、 lib和lie在本實(shí)施例中將被示例為升降部件，但是，只要可以上/下移動(dòng)并且向/從傳輸 臂傳送/接收基板9，升降部件就不限于這樣的三銷機(jī)構(gòu)。下面將描述基板9的傳送。發(fā)送臂12在基板供給位置19處向位于X_Y臺(tái)架6上 的三銷機(jī)構(gòu)11傳遞基板9。接收臂14在基板回收位置18處從位于X-Y臺(tái)架6上的三銷機(jī) 構(gòu)11接收基板9?；寤厥瘴恢?8和基板供給位置19實(shí)際上沒被標(biāo)有具有圖2所示的形 狀并且位于其處的物體，而是僅指示在X-Y臺(tái)架6的可動(dòng)面(X-Y面)上的特定位置?？苫?于例如關(guān)于曝光裝置的運(yùn)行狀態(tài)的信息或關(guān)于用于曝光處理的過程的信息在曝光裝置正 被使用時(shí)改變基板回收位置18和基板供給位置19。曝光裝置與用于向/從外部裝置和用 作基板載體的FOUP (未示出)傳送/接收基板9的FOUP傳送裝置22連接。FOUP傳送裝置 22與涂敷和顯影裝置21連接，所述涂敷和顯影裝置21用于用抗蝕劑涂敷未曝光的基板9 并將曝光的基板9顯影。用于控制曝光裝置的控制器15可以是單個(gè)計(jì)算機(jī)，或者包括多個(gè) 計(jì)算機(jī)?，F(xiàn)在將參照?qǐng)D3描述控制器15的內(nèi)部配置。最終處理位置信息存儲(chǔ)單元151基 于曝光布局信息計(jì)算當(dāng)對(duì)基板9的曝光處理結(jié)束時(shí)的X-Y臺(tái)架6的最終處理位置信息，并 且存儲(chǔ)和保持所述信息。如果對(duì)基板9的最終處理是測量處理，那么最終處理位置信息存 儲(chǔ)單元151計(jì)算執(zhí)行該測量處理的位置，并且將其存儲(chǔ)和保持為最終處理位置。最終處理 位置信息存儲(chǔ)單元151將保持的最終處理位置信息發(fā)送到臺(tái)架控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元153。接 收臂控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元152存儲(chǔ)當(dāng)接收臂14從待機(jī)位置移動(dòng)到它接收基板9的基板回收 位置18時(shí)的接收臂14的控制廓形(profile)(速度、加速度和持續(xù)時(shí)間)信息。接收臂控 制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元152將該信息發(fā)送到基板交換控制器154。臺(tái)架控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元153存 儲(chǔ)當(dāng)為了將基板9傳遞到接收臂14而沿Z方向升降三銷機(jī)構(gòu)IlaUlb和Ilc時(shí)的三銷機(jī) 構(gòu)11的控制廓形信息。臺(tái)架控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元153還使用從最終處理位置信息存儲(chǔ)單元 151發(fā)送的最終處理位置信息來存儲(chǔ)當(dāng)X-Y臺(tái)架6從最終處理位置移動(dòng)到它將基板9傳遞 到接收臂14的回收位置時(shí)的X-Y臺(tái)架6的水平控制廓形信息。臺(tái)架控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元153 將X-Y臺(tái)架6的水平控制廓形信息和三銷機(jī)構(gòu)11的控制廓形信息發(fā)送到基板交換控制器 154。基板交換控制器IM從接收臂控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元152接收接收臂14的控制廓形 信息，并且從臺(tái)架控制數(shù)據(jù)存儲(chǔ)單元153接收X-Y臺(tái)架6和三銷機(jī)構(gòu)11的各條控制廓形信 息?；诮邮盏母鳁l信息，基板交換控制器154向接收臂控制器155和臺(tái)架/三銷控制器 156發(fā)出指令，使得在不導(dǎo)致三銷機(jī)構(gòu)11和接收臂14之間的任何碰撞的情況下使基板交 換時(shí)間最小化。接收臂控制器155基于來自基板交換控制器154的指令來控制接收臂14。 臺(tái)架/三銷控制器156基于來自基板交換控制器154的指令來控制X-Y臺(tái)架6和三銷機(jī)構(gòu) 11。圖4中的4A 4E是按時(shí)間序列示出當(dāng)橫向觀察時(shí)、接收臂14從三銷機(jī)構(gòu)11接 收位于基板夾具8上的曝光基板9的處理的示意性側(cè)視圖。參照?qǐng)D4中的4A，位于基板夾 具8上的曝光基板9的夾持被取消。參照?qǐng)D4中的4B，三銷機(jī)構(gòu)11向上移動(dòng)并將基板9提 升到基板夾具8之上的位置。參照?qǐng)D4中的4C，接收臂14進(jìn)入基板夾具8和基板9之間。 參照?qǐng)D4中的4D，接收臂14向上移動(dòng)并且獲得基板9。參照?qǐng)D4中的4E，接收臂14取走獲得的基板9。圖5中的5A 5C是當(dāng)從上面觀察接收臂14從三銷機(jī)構(gòu)11接收位于基板夾具8 上的曝光基板9的處理時(shí)的示意性平面圖。圖5中的5A示出最終曝光行程(shot)位置在 基板的中心的情況。圖5中的5B示出最終曝光行程位置為基板上的左上位置的情況。圖 5中的5C示出最終曝光行程位置為基板上的右下位置的情況。接收臂14從待機(jī)位置移動(dòng) 到它準(zhǔn)備接收基板的基板回收位置18。粗實(shí)心箭頭指示曝光處理結(jié)束之后X-Y臺(tái)架6向基 板回收位置18移動(dòng)的路線。此外，粗空心箭頭指示接收臂14向基板回收位置18移動(dòng)的路 線。最終曝光行程位置處的X-Y臺(tái)架6的位置是為了將基板9傳送到接收臂14而使X-Y 臺(tái)架6開始移動(dòng)的第一位置，基板回收位置18是X-Y臺(tái)架6將基板9傳送到接收臂14的 第二位置。此外，由粗實(shí)心箭頭指示的從最終曝光行程位置到基板回收位置18的移動(dòng)路線 是為了將基板9傳送到接收臂14而使X-Y臺(tái)架6移動(dòng)的第一路線。接收臂14的待機(jī)位置 是為了從X-Y臺(tái)架6上的三銷機(jī)構(gòu)11接收基板9而使接收臂14開始移動(dòng)的第三位置。此 外，由粗空心箭頭指示的移動(dòng)路徑是為了接收基板9而使接收臂14移動(dòng)的第二路線。使La為在圖5中的5A的情況下X_Y臺(tái)架6的移動(dòng)距離、Lb為在圖5中的5Β的 情況下X-Y臺(tái)架6的移動(dòng)距離，Lc為在圖5中的5C的情況下X-Y臺(tái)架6的移動(dòng)距離，Lc > La > Lb。雖然最終處理是在圖5中的5A、5B和5C的所有情況下對(duì)基板9的曝光處理， 但是，作為對(duì)基板9的曝光處理的替代，它可以是對(duì)于設(shè)置在X-Y臺(tái)架6上的測量基準(zhǔn)標(biāo)記 (未示出)的測量處理或者是對(duì)于設(shè)置在基板9上的標(biāo)記的測量處理。圖6是用于解釋當(dāng)從基板夾具8向三銷機(jī)構(gòu)11傳送基板9并進(jìn)一步從三銷機(jī)構(gòu) 11向接收臂14傳送基板9時(shí)的根據(jù)現(xiàn)有技術(shù)的控制方法的曲線圖。圖6示出X-Y臺(tái)架6 的兩種類型的驅(qū)動(dòng)廓形如圖5中的5C所示，當(dāng)最終曝光位置遠(yuǎn)離基板回收位置時(shí)的“X-Y 臺(tái)架驅(qū)動(dòng)(1) ”；以及如圖5中的5B所示，當(dāng)最終曝光位置接近基板回收位置時(shí)的“X-Y臺(tái) 架驅(qū)動(dòng)( ”。經(jīng)受了對(duì)基板的最終曝光處理的X-Y臺(tái)架6執(zhí)行從最終曝光行程位置移動(dòng)到 基板回收位置18的處理以及向上(沿Z方向)驅(qū)動(dòng)三銷機(jī)構(gòu)11并從基板夾具8接收基板 9的處理。接收臂14執(zhí)行從待機(jī)位置移動(dòng)到基板回收位置18的處理。三銷機(jī)構(gòu)11在圖6 中的點(diǎn)2處在夾具內(nèi)待機(jī)，開始它們的向上驅(qū)動(dòng)，并且到達(dá)點(diǎn)b處接近基板9附近。在該時(shí) 間點(diǎn)處，三銷機(jī)構(gòu)11不與基板9接觸。三銷機(jī)構(gòu)11從點(diǎn)c到點(diǎn)d逐漸加速，并且從基板夾 具8接收基板9。從點(diǎn)d到點(diǎn)e，三銷機(jī)構(gòu)11迅速加速，因此，安裝在三銷機(jī)構(gòu)11上的基板 9上升到接收臂14可進(jìn)入基板夾具8和基板9之間的間隙的位置。X-Y臺(tái)架6從三銷機(jī)構(gòu)11從基板夾具8接收到基板9的點(diǎn)d2或d3開始它的向基 板回收位置18的驅(qū)動(dòng)。X-Y臺(tái)架6的用于指示臺(tái)架驅(qū)動(dòng)速度、加速度和時(shí)間的驅(qū)動(dòng)廓形根 據(jù)最終曝光位置是接近還是遠(yuǎn)離基板回收位置18而不同。圖6所示的“X-Y臺(tái)架驅(qū)動(dòng)(1)，， 與最終曝光位置遠(yuǎn)離基板回收位置18的情況對(duì)應(yīng)，并且，圖6所示的“X-Y臺(tái)架驅(qū)動(dòng)(2)，， 與最終曝光位置接近基板回收位置18的情況對(duì)應(yīng)。在兩種情況下，接收臂14從點(diǎn)e2或e3 開始其驅(qū)動(dòng)，在所述點(diǎn)e2或e3處，三銷機(jī)構(gòu)11已被驅(qū)動(dòng)到使接收臂14、三銷機(jī)構(gòu)11和基 板9變得沒有了碰撞的風(fēng)險(xiǎn)的程度，并且接收臂14在點(diǎn)h2或h3處到達(dá)基板回收位置18。 該操作與圖4中的4A 4E所示的解釋圖一致。圖7是用于解釋使用根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)以經(jīng)由三銷機(jī)構(gòu)11從基板夾具8向接收 臂14傳送基板9的控制方法的示圖。使&為X-Y臺(tái)架6和接收臂14之間的預(yù)定間隔(例如，最小間隔)，所述預(yù)定間隔是為了避免由正在進(jìn)行升降操作的三銷機(jī)構(gòu)11保持的基板9 和接收臂14之間的碰撞以及正在進(jìn)行升降操作的三銷機(jī)構(gòu)11和由接收臂14保持的基板 9之間的碰撞而所需的。已開始向基板回收位置(第二位置)18移動(dòng)的X-Y臺(tái)架6到達(dá)的 并且從基板回收位置18向前側(cè)沿移動(dòng)路線偏移預(yù)定間隔2的位置被定義為第四位置。根 據(jù)X-Y臺(tái)架6是否在三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處到達(dá)第四位置，將X-Y臺(tái)架 6、三銷機(jī)構(gòu)11和接收臂14的控制過程分成兩種情況?；褰粨Q控制器巧4基于當(dāng)曝光處 理結(jié)束時(shí)X-Y臺(tái)架6的最終處理位置信息，以及接收臂14、三銷機(jī)構(gòu)11和X-Y臺(tái)架6的控 制廓形來判斷這種情況劃分。預(yù)定間隔2可被設(shè)為給定的值。但是，可根據(jù)圖5中的5A 5C所示的、X-Y臺(tái)架6進(jìn)入基板回收位置18的路線，三銷機(jī)構(gòu)11的處所以及接收臂14的 形狀來改變預(yù)定間隔&雖然X-Y臺(tái)架6進(jìn)入基板回收位置18的路線在圖5中的5A 5C 中被假定為直線，但是，它不需要總是直線?！睬闆r1在三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處X-Y臺(tái)架6沒有到達(dá)第四 位置〕在情況1中，如圖5中的5C所示，作為X-Y臺(tái)架6的移動(dòng)開始位置的曝光處理結(jié) 束的位置遠(yuǎn)離基板回收位置18，并且，三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作在X-Y臺(tái)架6到達(dá)第四位置 之前結(jié)束。在這種情況下，不應(yīng)出現(xiàn)由正在進(jìn)行升降操作的三銷機(jī)構(gòu)11保持的基板9和接 收臂14之間的碰撞，也不應(yīng)出現(xiàn)正在進(jìn)行升降操作的三銷機(jī)構(gòu)11和由接收臂14保持的基 板9之間的碰撞。即，如圖7所示的“X-Y臺(tái)架驅(qū)動(dòng)(1)”中的陰影線(hatched)部分所示， 無論接收臂14在其移動(dòng)路線中處于哪個(gè)位置，都不出現(xiàn)碰撞。由此，由于接收臂14可以與 X-Y臺(tái)架6的移動(dòng)操作和三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作無關(guān)地開始移動(dòng)，因此接收臂14可如現(xiàn)有 技術(shù)中那樣在三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束之前開始移動(dòng)。在這種情況下，當(dāng)接收臂14與 X-Y臺(tái)架6同時(shí)地或比它早地到達(dá)基板回收位置18時(shí)，可進(jìn)一步縮短基板交換時(shí)間?！睬闆r2在三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處X-Y臺(tái)架6到達(dá)了第四位 置〕在情況2中，如圖5中的5B所示，作為X-Y臺(tái)架6的移動(dòng)開始位置的曝光處理結(jié)束 的位置接近基板回收位置18，并且，三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作在X-Y臺(tái)架6穿過第四位置之 后結(jié)束。在這種情況下，如果接收臂14過早地前進(jìn)到基板回收位置18，那么，例如，由已穿 過第四位置并且正在進(jìn)行升降操作的三銷機(jī)構(gòu)11保持的基板9和接收臂14會(huì)相互碰撞。 但是，如果接收臂14處于落入由圖7所示的“X-Y臺(tái)架驅(qū)動(dòng)(2) ”中的陰影線部分指示的范 圍內(nèi)的位置，那么，例如，不應(yīng)出現(xiàn)由正在進(jìn)行升降操作的三銷機(jī)構(gòu)11保持的基板9和接收 臂14之間的碰撞。即，接收臂14可與X-Y臺(tái)架6的移動(dòng)操作和三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作無 關(guān)地前進(jìn)到落入由圖7所示的“X-Y臺(tái)架驅(qū)動(dòng)(2) ”中的陰影線部分指示的范圍內(nèi)的位置。 由此，在情況2中，與現(xiàn)有技術(shù)不同，同樣不需要為了開始接收臂14的移動(dòng)而等待直到三銷 機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束。當(dāng)在三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處的X-Y臺(tái)架6和 接收臂14之間的間隔變得比預(yù)定間隔&稍大時(shí)，縮短基板交換時(shí)間的效果很大。這里，“三 銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)”不應(yīng)限于當(dāng)三銷機(jī)構(gòu)11的驅(qū)動(dòng)完全停止的時(shí)間點(diǎn)。 例如，“三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)”可以是三銷機(jī)構(gòu)11的升降操作前進(jìn)到其 中接收臂14在物理上不干擾三銷機(jī)構(gòu)11和基板9的狀態(tài)時(shí)的時(shí)間點(diǎn)。圖8中的8A 8D是按時(shí)間序列示出當(dāng)被橫向觀察時(shí)、圖7所示的情況1中的接收臂14從三銷機(jī)構(gòu)11接收位于基板夾具8上的曝光基板9的處理的示意性側(cè)視圖。參照 圖8中的8A，位于基板夾具8上的曝光基板9的夾持被取消。參照?qǐng)D8中的8B，三銷機(jī)構(gòu) 11向上移動(dòng)并將基板9提升到基板夾具8之上的位置。同時(shí)，接收臂14從待機(jī)位置移動(dòng)到 基板回收位置18。參照?qǐng)D8中的8C，X-Y臺(tái)架6完成它的向正在基板回收位置18處待機(jī) 的接收臂14的移動(dòng)。參照?qǐng)D8中的8D，接收臂14向上移動(dòng)并且獲得基板9。以上使用其中接收臂14從X-Y臺(tái)架6接收基板9的操作描述了本發(fā)明。但是，當(dāng) 然的是，即使在發(fā)送臂12向X-Y臺(tái)架6傳送基板9的操作中，也可使用上述的方法。如上所述，根據(jù)本發(fā)明，可以在不改變曝光裝置中的布局或不升高基板臺(tái)架或傳 輸臂的驅(qū)動(dòng)速度的情況下提高半導(dǎo)體制造裝置的生產(chǎn)率?！财骷圃旆椒ā诚旅鎸⒚枋鍪褂蒙鲜銎毓庋b置的器件制造方法。在這種情況下，通過使用上述曝 光裝置將基板曝光的步驟、將曝光的基板顯影的步驟以及隨后的已知步驟來制造器件。所 述器件可以為例如半導(dǎo)體集成電路器件或液晶顯示器件?；蹇梢詾槔缇虿ＡО?。 已知步驟包括例如氧化、成膜、氣相淀積、摻雜、平面化(planarization)、切割、接合和封裝步驟。雖然已參照示例性實(shí)施例描述了本發(fā)明，但應(yīng)理解，本發(fā)明不限于所公開的示例 性實(shí)施例。所附權(quán)利要求的范圍應(yīng)被賦予最寬的解釋以包含所有這樣的變更方式以及等同 的結(jié)構(gòu)和功能。
權(quán)利要求
1.一種用于將基板曝光的曝光裝置，該裝置包括基板臺(tái)架，所述基板臺(tái)架保持基板并能夠沿從在X-Y-Z坐標(biāo)系中定義的X-Y面上的第 一位置到所述X-Y面上的第二位置的第一路線移動(dòng)；傳輸臂，所述傳輸臂保持基板并能夠沿從所述X-Y面上的第三位置到第二位置的第二 路線移動(dòng)；升降部件，所述升降部件位于所述基板臺(tái)架上并且能夠?yàn)榱嗽诘诙恢锰幭蛩鰝鬏?臂傳送基板而沿在X-Y-Z坐標(biāo)系中定義的Z軸方向上/下移動(dòng)；以及控制器，其中，使2為所述X-Y面中的所述基板臺(tái)架和所述傳輸臂之間的預(yù)定間隔，所述預(yù)定間 隔是為了避免由正在進(jìn)行升降操作的所述升降部件保持的基板和所述傳輸臂之間的碰撞 以及正在進(jìn)行升降操作的所述升降部件和由所述傳輸臂保持的基板之間的碰撞而所需的，在為了向所述傳輸臂傳送基板而開始的所述升降部件的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處， 所述控制器判斷已開始向第二位置移動(dòng)的所述基板臺(tái)架是否到達(dá)從第二位置沿第一路線 向前側(cè)偏移預(yù)定間隔2的第四位置，并且，如果所述控制器判斷所述基板臺(tái)架沒有到達(dá)第 四位置，那么所述控制器控制所述基板臺(tái)架的移動(dòng)、所述升降部件的升降以及所述傳輸臂 的移動(dòng)，使得所述傳輸臂在所述升降部件的升降操作結(jié)束之前開始向第二位置移動(dòng)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置，其中，如果所述控制器在所述判斷中判斷所述基板臺(tái)架沒 有到達(dá)第四位置，那么所述控制器控制所述基板臺(tái)架的移動(dòng)、所述升降部件的升降以及所 述傳輸臂的移動(dòng)，使得所述傳輸臂與所述基板臺(tái)架同時(shí)地或比所述基板臺(tái)架早地到達(dá)第二 位置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置，其中，如果所述控制器在所述判斷中判斷所述基板臺(tái)架到 達(dá)第四位置，那么所述控制器進(jìn)一步控制所述基板臺(tái)架的移動(dòng)、所述升降部件的升降以及 所述傳輸臂的移動(dòng)，使得已開始向第二位置移動(dòng)的所述傳輸臂和已開始向第二位置移動(dòng)的 所述基板臺(tái)架之間的X-Y面中的間隔在所述升降部件的升降操作結(jié)束時(shí)的時(shí)間點(diǎn)處變得 大于預(yù)定間隔
4.根據(jù)權(quán)利要求1的裝置，其中，第一位置是當(dāng)對(duì)于由所述基板臺(tái)架保持的基板進(jìn)行 的曝光處理或測量處理結(jié)束時(shí)所述基板臺(tái)架的位置。
5.一種器件制造方法，所述方法包括使用在權(quán)利要求1 4中的任一項(xiàng)中限定的曝光裝置將基板曝光；將曝光的基板顯影；以及處理顯影的基板以制造器件。
全文摘要
本發(fā)明涉及曝光裝置和器件制造方法。一種曝光裝置，包括基板臺(tái)架，可從第一位置移動(dòng)到第二位置；傳輸臂，可從第三位置移動(dòng)到第二位置；升降部件，在第二位置處將基板傳送到臂；以及控制器。為了避免基板和臂之間的碰撞以及升降部件和基板之間的碰撞，控制器在升降操作結(jié)束時(shí)判斷臺(tái)架是否到達(dá)從第二位置向前側(cè)偏移預(yù)定間隔的第四位置。如果控制器判斷臺(tái)架沒有到達(dá)第四位置，那么控制器控制臺(tái)架和臂的移動(dòng)以及升降部件的升降，使得臂在升降操作結(jié)束之前開始向第二位置移動(dòng)。
文檔編號(hào)G03F7/00GK102063017SQ20101054012
公開日2011年5月18日 申請(qǐng)日期2010年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月16日
發(fā)明者平野真一 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社