專(zhuān)利名稱(chēng)：帶有光束監(jiān)控器的光學(xué)投影儀的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明大體涉及光學(xué)圖案投影，并具體涉及監(jiān)控投影儀的性能。
背景技術(shù)：
光學(xué)圖案投影用于多種應(yīng)用，諸如光學(xué)三維(3D)繪圖、區(qū)域照明以及LCD背光應(yīng) 用(IXD kicklighting)。在一些應(yīng)用中，使用衍射光學(xué)元件(DOE)來(lái)產(chǎn)生所需的投影圖案。 在諸如美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公布文本2009/0185274中描述了基于DOE的投影儀設(shè)計(jì)，其公開(kāi)內(nèi)容 以引證方式在此納入。

發(fā)明內(nèi)容
由于一開(kāi)始的制造公差以及隨后所應(yīng)用的領(lǐng)域的條件，給定類(lèi)型的光學(xué)投影儀的 性能會(huì)發(fā)生變化。在一些應(yīng)用中，重要的是確保這樣的變化不會(huì)超過(guò)特定的限度。因此，根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，所提供的光學(xué)設(shè)備包括了裝置外殼和輻射源，所述 輻射源被容納在外殼中，并配置為發(fā)出相干輻射的光束。衍射光學(xué)元件(DOE)安裝在外殼 內(nèi)，以將來(lái)自輻射源的射線(xiàn)接收并衍射成為包括多個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定的圖案。光學(xué)探測(cè)器被 置于外殼內(nèi)，以接收和檢測(cè)DOE的所選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度。在一些實(shí)施方案中，所述光學(xué)探測(cè)器被配置為輸出響應(yīng)于所述強(qiáng)度的信號(hào)，以及 所述設(shè)備包括控制器，該控制器被聯(lián)接以用于接收和處理所述信號(hào)，以監(jiān)控設(shè)備的性能。所 述控制器通常被配置為當(dāng)所述信號(hào)超出預(yù)定范圍時(shí)，停止所述設(shè)備的運(yùn)行。在一個(gè)公開(kāi)的實(shí)施方案中，所述輻射源包括激光二極管。所選擇的衍射級(jí)可以是DOE的零級(jí)，以及光學(xué)探測(cè)器可以被定位用于接收從DOE 反射回來(lái)的所述零級(jí)。在一個(gè)實(shí)施方案中，DOE相對(duì)于由輻射源發(fā)出的光束的軸線(xiàn)呈傾斜 狀態(tài)，以將背反射的(back-reflected)零級(jí)指向光學(xué)探測(cè)器。在另一個(gè)實(shí)施方案中，所選擇的衍射級(jí)是DOE的高衍射級(jí)。通常，所述設(shè)備被配置 為將圖案投影在預(yù)定的角度范圍內(nèi)，且所述光學(xué)探測(cè)器被置于所述角度范圍之外的角度處 以接收傳輸通過(guò)DOE的射線(xiàn)。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，還提供了一種光學(xué)方法，其包括將相干輻射的光束傳輸 穿過(guò)安裝在外殼內(nèi)的衍射光學(xué)元件(DOE)，以將射線(xiàn)衍射成為包括多個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定圖案。 通過(guò)使用位于外殼中的光學(xué)探測(cè)器檢測(cè)DOE的所選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度，監(jiān)控DOE的性能。根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，還提供了一種繪圖設(shè)備，其包括投影配件，該投影配件包 括裝置外殼；輻射源，其容納在外殼之內(nèi)，并被配置為發(fā)出相干輻射的光束；以及衍射光 學(xué)元件(DOE)，其安裝在外殼內(nèi)，以將來(lái)自輻射源的射線(xiàn)接收和衍射成為包括多個(gè)衍射級(jí)的 預(yù)定圖案。光學(xué)探測(cè)器被置于外殼內(nèi)，以接收DOE的所選擇的衍射級(jí)，并輸出響應(yīng)于該所選 擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度的信號(hào)。成像配件被配置為捕獲在目標(biāo)上投影的所述圖案的圖像。處理 電路配置為處理所述圖像，以產(chǎn)生目標(biāo)的三維(3D)繪圖，以及處理所述信號(hào)以監(jiān)控DOE的 性能。
以下將結(jié)合附圖，詳細(xì)描述本發(fā)明的實(shí)施方案，通過(guò)該描述，將更充分地理解本發(fā) 明。


圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，用于光學(xué)3D繪圖的系統(tǒng)的示意圖；圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的光學(xué)圖案投影儀的示意性截面圖；圖3A和IBB分別是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的用于光學(xué)圖案投影儀的輻射源組件的 示意性的截面圖和俯視圖；圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方案的光學(xué)圖案投影儀的示意性截面圖；以及圖5是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的示意性示出了投影儀光束監(jiān)控器的性能的圖表。
具體實(shí)施例方式基于衍射光學(xué)元件(DOE)的光學(xué)投影儀有時(shí)會(huì)遭遇“零級(jí)問(wèn)題”，該問(wèn)題在上述美 國(guó)專(zhuān)利公布文本2009/0185274中進(jìn)行過(guò)描述投影儀輸入光束的一部分(衍射零級(jí)(zero diffraction order))可能無(wú)法被投影光學(xué)器件衍射，而是可能因此繼續(xù)傳輸至投影體積 (projection volume)0DOE的“效率”是指與輸入光束的能量相比，DOE所衍射的輸入能量的測(cè)量值。這 一效率會(huì)由于制造公差而在制造過(guò)程中發(fā)生變化。該效率也會(huì)因?yàn)楦鞣N原因而隨投影儀的 使用壽命和運(yùn)行而發(fā)生變化，例如 進(jìn)入投影儀的濕氣可能凝結(jié)在DOE表面上，從而降低其效率?！?在制造過(guò)程中所使用的)膠合劑的蒸汽可能附著至D0E，并降低其性能。 由于故障或誤操作產(chǎn)生的過(guò)量的熱量可能使DOE變形并降低其效率。這種效率變化和與之伴隨的零級(jí)強(qiáng)度(intensity)的增強(qiáng)都將危及系統(tǒng)的性能， 并可能產(chǎn)生各種其他的不期望的后果。下文所描述的本發(fā)明的實(shí)施方案通過(guò)將集成光學(xué)探測(cè)器形式的內(nèi)置的光束監(jiān)控 器納入基于DOE的投影儀中來(lái)解決此問(wèn)題。所述探測(cè)器信號(hào)可以通過(guò)控制器持續(xù)地或間歇 地被監(jiān)控，以估算DOE的效率，并在信號(hào)超出一特定安全范圍時(shí)，停止投影儀的運(yùn)行。因此， 這樣的實(shí)施方案避免了在DOE效率隨投影儀的使用壽命的增長(zhǎng)而降低后所可能引起的用 戶(hù)視力的安全隱患。在所公開(kāi)的實(shí)施方案中，光學(xué)設(shè)備包括輻射源，其容納在裝置外殼中，并配置為發(fā) 出相干輻射的光束。所述輻射源可以包括例如激光二極管，并可以發(fā)出可見(jiàn)、紅外或紫外線(xiàn) 范圍(所述的光譜區(qū)域被概括地稱(chēng)之為“光”)的輻射。安裝在外殼內(nèi)的DOE將來(lái)自輻射源 的射線(xiàn)衍射成為包括多個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定的圖案。光學(xué)探測(cè)器(諸如光電二極管)被置于外 殼內(nèi)，以接收和檢測(cè)DOE的所選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度。所述“所選擇的衍射級(jí)”可以被獨(dú)立地 檢測(cè)，或者可替代地也可以與一個(gè)或多個(gè)相鄰衍射級(jí)一起被檢測(cè)。不同的實(shí)施方案中可以具有不同的探測(cè)配置。例如，探測(cè)器可以直接檢測(cè)DOE的 零級(jí)(為了不干擾投影圖案，通常是反射零級(jí))?？商娲?，探測(cè)器可以檢測(cè)通過(guò)DOE傳輸 的高衍射級(jí)，該衍射級(jí)的角度通常位于投影圖案本身之外。本文中的“高衍射級(jí)”是指至少 第二衍射級(jí)，或也可能是第三、第四或更高的衍射級(jí)。CN 102062952 A
說(shuō)明書(shū)
3/5頁(yè)雖然下文描述的實(shí)施方案特別涉及光學(xué)圖案投影的應(yīng)用，并具體關(guān)于三維(3D) 繪圖的應(yīng)用，這些實(shí)施方案的原理可以類(lèi)似地被應(yīng)用于其他應(yīng)用，只要這些應(yīng)用需要監(jiān)控 DOE的衍射性能。系統(tǒng)描述圖1是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案，用于光學(xué)3D繪圖的系統(tǒng)10的示意圖。在PCT國(guó) 際公布文本 W02007/043036、W02007/105205、W02008/120217 以及 W02010/004542 中，描述 了在此類(lèi)系統(tǒng)中用于基于投影圖案的3D繪圖的方法和系統(tǒng)，所述公布文本的公開(kāi)內(nèi)容以 引證方式在此納入。系統(tǒng)10包括成像裝置12，該成像裝置12包括投影配件14，該配件產(chǎn)生圖案并將 其投影至一個(gè)區(qū)域。(在圖示的實(shí)施例中，所述區(qū)域包括系統(tǒng)的用戶(hù)。)這類(lèi)的投影配件的 可能的設(shè)計(jì)和運(yùn)行的細(xì)節(jié)在后續(xù)圖示中示出，并將在下文中參考這些圖示來(lái)進(jìn)行描述。裝 置12中的圖像捕獲配件16捕獲了呈現(xiàn)給用戶(hù)的圖案的圖像。圖像處理器18處理由裝置 12產(chǎn)生的圖像數(shù)據(jù)，以重建用戶(hù)的3D繪圖，如前述的PCT公布文本中所闡釋的。雖然為了 簡(jiǎn)明起見(jiàn)，圖1示出的處理器18是作為與成像裝置12相分立的單元，但是處理器18的一 些或所有處理功能可以通過(guò)成像裝置12的外罩內(nèi)的或以其他方式與成像裝置相關(guān)聯(lián)的嵌 入式控制器和/或其他適合的專(zhuān)用電路執(zhí)行。由處理器18產(chǎn)生的3D繪圖可以用于不同目的的廣泛范圍。例如，所述繪圖可以 用于提供基于手勢(shì)的用戶(hù)界面，其中通過(guò)裝置12探測(cè)的用戶(hù)運(yùn)動(dòng)控制了交互式的計(jì)算機(jī) 應(yīng)用程序，諸如游戲?？商娲?，系統(tǒng)20還可以用于其中需要3D坐標(biāo)輪廓的基本所有的應(yīng)用。如圖1所示，投影配件14將射線(xiàn)投向用戶(hù)，一部分所述射線(xiàn)可能進(jìn)入用戶(hù)的眼 睛。當(dāng)使用相干輻射(其優(yōu)點(diǎn)是具有較高的亮度和效率，尤其是在與DOE結(jié)合時(shí))進(jìn)行 投影時(shí)，重要的是確保零級(jí)分量不會(huì)超過(guò)眼睛的安全限度。前述美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)公布文本 2009/0185274以及遞交于2010年7月21日的美國(guó)專(zhuān)利申請(qǐng)12/840，312—其公開(kāi)內(nèi)容以 引證方式在此納入一描述了用于降低零級(jí)強(qiáng)度的光學(xué)設(shè)計(jì)。不過(guò)，為了確保零級(jí)強(qiáng)度保持 在允許的限度內(nèi)，監(jiān)控投影儀的性能也是需要的。實(shí)施例I圖2是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的光學(xué)圖案投影儀的示意性截面圖。該投影儀可以 取代配件14(圖1)而安裝和使用在裝置12中。投影儀20包括輻射源組件22，其包括激光 二極管以及監(jiān)控光電二極管，它們將參考圖3A和;3B在后文中得到詳細(xì)描述。組件22安裝 在基座M上，并與投影儀20的其他部件一起被容納在裝置外殼沈中。這些部件包括準(zhǔn)直 透鏡(collimating lens)沘和 DOE 30。圖3A和;3B分別是輻射源組件22的示意性的截面圖和俯視圖。激光二極管 40—其通常發(fā)出紅外輻射一安裝在子座(subm0unt)42上，該子座被固定至殼座(package stem) 44上，該殼座44位于“管殼(can) ” 46內(nèi)，諸如標(biāo)準(zhǔn)T0-56管殼。激光二極管通過(guò)管 殼的上側(cè)的窗48發(fā)出射線(xiàn)。監(jiān)控光電二極管(MPD) 50形式的光學(xué)探測(cè)器在激光二極管下 方被安裝在所述管殼內(nèi)。返回參考圖2，激光二極管40發(fā)出射線(xiàn)的輸出光束32，其通過(guò)透鏡觀校準(zhǔn)。DOE 30衍射所述校準(zhǔn)光束以生成包括多個(gè)衍射級(jí)的圖案，所述圖案通過(guò)外殼沈的出射窗34投影出來(lái)。所述投影光束包括某些零級(jí)分量(DOE可以被設(shè)計(jì)為使所述零級(jí)分量最小化)。所 述零級(jí)分量的一部分從DOE被反射回外殼26。這一部分在圖示中被標(biāo)記為反射光束36。為了使得MPD 50能夠檢測(cè)這種反射的零級(jí)分量，DOE 30可以相對(duì)于光束32的軸 線(xiàn)略微傾斜。通常，為了本實(shí)施方案的目的，2-3°的傾斜即足夠了(所述角度在圖2中出 于顯示清晰的目的被夸大了)。這樣的傾斜對(duì)于投影圖案并不產(chǎn)生顯著影響，但將使得反 射光束36相對(duì)于輸出光束32發(fā)生偏移，從而投向MPD 50。所述MPD響應(yīng)于反射光束的強(qiáng) 度，經(jīng)由連接器38輸出一個(gè)信號(hào)(所述連接器上的其他引腳可以用于提供激光二極管的驅(qū) 動(dòng)電流。)。MPD檢測(cè)到的強(qiáng)度可以包括一個(gè)或多個(gè)相鄰、更高衍射級(jí)的分量?？商娲?， MPD也可以被放置為檢測(cè)一個(gè)或多個(gè)更高衍射級(jí)的反射，而不檢測(cè)零衍射級(jí)，且所述更高衍 射級(jí)的強(qiáng)度可以提供如下文的實(shí)施例II中的衍射效率的指示。諸如處理器18(圖1)之類(lèi)的控制器監(jiān)控MPD信號(hào)。如果信號(hào)水平增加至超過(guò)某 個(gè)閾值水平，則控制器可以確定投影儀的零級(jí)強(qiáng)度增加了。所述控制器可以接著一通常通 過(guò)降低或關(guān)閉激光二極管40的驅(qū)動(dòng)電流一停止投影儀20的運(yùn)行，以確保該強(qiáng)度不超過(guò)允 許的安全限度。附加地或可替代地，控制器可以對(duì)投影儀操作者發(fā)出一個(gè)警告，或采取其他 適合的措施。在圖3A和;3B示出的MPD 50的位置，MPD接收的不僅是反射光束36，還有來(lái)自激 光二極管40的發(fā)射后瓣(back-lobe emission)。在這一配置中，MPD既可以用于監(jiān)控零級(jí) 強(qiáng)度的增加，也可以用于監(jiān)控由于激光二極管隨時(shí)間的老化而產(chǎn)生的總強(qiáng)度的降低。如果 MPD信號(hào)增大，控制器將如上所述，停止投影儀的運(yùn)行。另一方面，在MPD信號(hào)減小的情況 下，控制器可以增加激光二極管的驅(qū)動(dòng)電流，以維持投影儀的期望輸出強(qiáng)度。此外，如果不需要激光二極管40的后瓣監(jiān)控，MPD 50可以被移動(dòng)至遠(yuǎn)離激光二極 管，例如在圖3A示出的圖示中進(jìn)一步向右移動(dòng)。實(shí)施例II圖4是根據(jù)本發(fā)明的另一實(shí)施方案的光學(xué)圖案投影儀60的示意性截面圖。投影 儀60及其部件與投影儀20的運(yùn)行相似，其不同之處在于，在投影儀60中，光學(xué)探測(cè)器并不 直接監(jiān)控零級(jí)強(qiáng)度，而是通過(guò)檢測(cè)DOE傳輸?shù)囊粋€(gè)或多個(gè)高衍射級(jí)的強(qiáng)度來(lái)進(jìn)行監(jiān)控。投影儀60包括輻射源組件62，其通常包括激光二極管，但可以包括或不包括監(jiān)控 光電二極管。組件62安裝在基座64上，并與投影儀20的其他部件一起被包括在裝置外殼 66中，所述其他部件包括準(zhǔn)直透鏡68和DOE 70。由DOE 70生成的圖案通過(guò)出射窗72被 投影，所述出射窗限定了投影圖案的角度范圍。監(jiān)控光電二極管(MPD) 74通常在投影圖案的角度范圍之外的角度處檢測(cè)DOE 70 生成的一個(gè)或多個(gè)高衍射級(jí)。這些更高衍射級(jí)通常在投影儀的視區(qū)之外，且在DOE的效率 開(kāi)始降低時(shí)，它們通常將首先減小。換言之，如果DOE的衍射效率減小了，通過(guò)MPD 74檢測(cè) 的高衍射級(jí)衍射射線(xiàn)將同樣減小。這種減小通常伴隨著零級(jí)強(qiáng)度的增大。因此，如果控制 器(諸如處理器18)從MPD 74接收的信號(hào)降低至小于所允許的水平，則控制器將停止激光 二極管的驅(qū)動(dòng)電流，如上所述。圖5是根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方案的示意性示出了投影儀60的MPD 74監(jiān)控函數(shù)的性 能的圖表。所述圖表示出了實(shí)驗(yàn)結(jié)果，其中橫軸對(duì)應(yīng)于所測(cè)量的從投影儀60發(fā)出的零級(jí) 光學(xué)功率；縱軸對(duì)應(yīng)于與基線(xiàn)值相比，從MPD 74輸出的電流信號(hào)的減少。該圖表顯示了，MPD信號(hào)的減小是零級(jí)強(qiáng)度增加的可靠指示。當(dāng)MPD信號(hào)降低至低于某個(gè)允許的范圍的時(shí) 候，控制器可以確認(rèn)，零級(jí)強(qiáng)度產(chǎn)生了具有危險(xiǎn)性的增加，并可以接著采取必要的措施以停 止投影儀的運(yùn)行。 雖然所述實(shí)施方案僅涉及特定的具體投影儀配置和這些投影儀的特定應(yīng)用，用于 監(jiān)控特定衍射級(jí)的集成光學(xué)探測(cè)器可以類(lèi)似地被用在其他配置和應(yīng)用中。因此應(yīng)認(rèn)識(shí)到的 是，上述的實(shí)施方案僅以實(shí)施例的方式被引述，本發(fā)明并不限于上文中被特別示出和描述 的內(nèi)容。相反，本發(fā)明的范圍包括上文所述的各種特征的結(jié)合和子結(jié)合，以及現(xiàn)有技術(shù)中未 公開(kāi)的、本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在閱讀上述描述之后能夠想到的所述特征的改變和修改。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)設(shè)備，包括裝置外殼；輻射源，其被容納在外殼中，并配置為發(fā)出相干輻射的光束；衍射光學(xué)元件(DOE)，其安裝在外殼內(nèi)，以將來(lái)自所述輻射源的射線(xiàn)接收并衍射成為包 括多個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定的圖案；以及光學(xué)探測(cè)器，其被置于所述外殼內(nèi)，以接收和檢測(cè)DOE的所選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述光學(xué)探測(cè)器被配置為輸出響應(yīng)于所述強(qiáng)度的 信號(hào)；并包括控制器，該控制器被聯(lián)接用于接收和處理所述信號(hào)，以監(jiān)控所述設(shè)備的性能。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的設(shè)備，其中所述控制器被配置為當(dāng)所述信號(hào)超出預(yù)定范圍 時(shí)，停止所述設(shè)備的運(yùn)行。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的設(shè)備，其中所述輻射源包括激光二極管。
5.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所選擇的衍射級(jí)是DOE的零級(jí)。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的設(shè)備，其中所述光學(xué)探測(cè)器可以被定位用于接收從所述DOE 反射回來(lái)的所述零級(jí)。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的設(shè)備，其中所述DOE相對(duì)于由所述輻射源發(fā)出的光束的軸線(xiàn) 呈傾斜狀態(tài)，以將背反射的零級(jí)指向光學(xué)探測(cè)器。
8.根據(jù)權(quán)利要求1-4任一項(xiàng)所述的設(shè)備，其中所選擇的衍射級(jí)是DOE的高衍射級(jí)。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的設(shè)備，其中所述設(shè)備被配置為將圖案投影在預(yù)定的角度范 圍內(nèi)，且其中所述光學(xué)探測(cè)器被置于所述角度范圍之外的角度處以接收傳輸通過(guò)DOE的射 線(xiàn)。
10.一種光學(xué)方法，包括將相干輻射的光束傳輸穿過(guò)安裝在外殼內(nèi)的衍射光學(xué)元件(DOE)，以將射線(xiàn)衍射成為 包括多個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定圖案；以及通過(guò)使用位于外殼中的光學(xué)探測(cè)器檢測(cè)DOE的所選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度，監(jiān)控所述DOE 的性能。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中監(jiān)控所述性能包括生成響應(yīng)于所述強(qiáng)度的信 號(hào)，以及處理該信號(hào)以監(jiān)控所述性能。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的方法，其中還包括當(dāng)所述信號(hào)超出預(yù)定范圍時(shí)，停止所述 光束。
13.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中所述輻射源包括激光二極管。
14.根據(jù)權(quán)利要10-13任一項(xiàng)所述的方法，其中所選擇的衍射級(jí)是DOE的零級(jí)。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的方法，其中監(jiān)控所述性能包括接收和測(cè)量從所述DOE反射 回來(lái)的所述零級(jí)。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的方法，其中所述DOE相對(duì)于由所述輻射源發(fā)出的光束的軸 線(xiàn)呈傾斜狀態(tài)，以將背反射的零級(jí)指向光學(xué)探測(cè)器。
17.根據(jù)權(quán)利要求10-13任一項(xiàng)所述的方法，其中所選擇的衍射級(jí)是DOE的高衍射級(jí)。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的方法，其中所述DOE被配置為將圖案投影在預(yù)定的角度范 圍內(nèi)，且其中監(jiān)控所述性能包括在所述角度范圍之外的角度處接收和測(cè)量傳輸通過(guò)DOE的 射線(xiàn)。
19. 一種繪圖設(shè)備，包括 投影配件，其包括 裝置外殼；輻射源，其容納在外殼之內(nèi)，并被配置為發(fā)出相干輻射的光束； 衍射光學(xué)元件(DOE)，其安裝在外殼內(nèi)，以將來(lái)自輻射源的射線(xiàn)接收和衍射成為包括多 個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定圖案；以及光學(xué)探測(cè)器，其被置于所述外殼內(nèi)，以接收DOE的所選擇的衍射級(jí)，并輸出響應(yīng)于該所 選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度的信號(hào)；成像配件，其被配置為捕獲在目標(biāo)上投影的所述圖案的圖像；以及 處理電路，其配置為處理所述圖像，以產(chǎn)生目標(biāo)的三維(3D)繪圖，以及處理所述信號(hào) 以監(jiān)控DOE的性能。
全文摘要
一種光學(xué)設(shè)備，其包括裝置外殼，并帶有容納在外殼中的輻射源，該輻射源配置為發(fā)出相干輻射的光束。衍射光學(xué)元件(DOE)安裝在外殼內(nèi)，以將來(lái)自輻射源的射線(xiàn)接收并衍射成為包括多個(gè)衍射級(jí)的預(yù)定的圖案。光學(xué)探測(cè)器被置于外殼內(nèi)，以接收和檢測(cè)DOE的所選擇的衍射級(jí)的強(qiáng)度。
文檔編號(hào)G02B27/00GK102062952SQ201010547499
公開(kāi)日2011年5月18日 申請(qǐng)日期2010年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月15日
發(fā)明者A·斯龐特, D·沃斯奇納, N·蓋勒澤, R·阿克曼, T·賽格夫, Y·艾瑞利, Z·莫爾 申請(qǐng)人:普萊姆森斯有限公司