專利名稱：觸控面板、其形成方法以及觸控顯示裝置的制作方法
觸控面板、其形成方法以及觸控顯示裝置
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是有關(guān)于一種觸控面板，特別有關(guān)于一種電容感應(yīng)的外掛式觸控面板。背景技術(shù)：
目前的觸控面板可使用電阻式、電容式或其他方式，例如紅外線或表面聲波等，達(dá)到觸碰感應(yīng)的效果，其中電容式觸控面板是利用監(jiān)測(cè)使用者的手指或觸控筆與電容式觸控感應(yīng)電極之間所產(chǎn)生的電容值來判定觸碰的位置，因?yàn)殡娙菔接|控面板不需要施加壓力就能達(dá)到觸控效果，為未來觸控面板的發(fā)展主流。目前的電容式觸控面板可分為兩種，一種為外掛式(add on)觸控面板，其是將電容式觸控面板外加于顯示面板外，但這種觸控面板需要由兩片玻璃基板組成，一片玻璃基板用于制作電容式觸控元件在其上，另一片玻璃基板則作為保護(hù)電容式觸控元件的外蓋， 因此這種觸控面板會(huì)造成觸控顯示裝置的整體厚度增加。另一種觸控面板為將電容式觸控元件制作在顯示面板的彩色濾光片(color filter ；簡(jiǎn)稱CF)基板的背面上(on CF)，然后使用一片玻璃基板作為保護(hù)電容式觸控元件的外蓋，雖然這種觸控面板可以減少一片玻璃基板的使用，但是先制作的電容式觸控元件在后續(xù)彩色濾光片基板的雙面制程中容易被刮傷。因此，業(yè)界亟需一種觸控面板，其可以克服上述問題，亦即僅使用一片玻璃基板完成觸控面板的制作，以降低觸控顯示裝置的整體厚度，并減少一片玻璃基板的成本，同時(shí)還可以減少觸控面板的制程次數(shù)。

發(fā)明內(nèi)容依據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，提供一種觸控面板，其具有動(dòng)作區(qū)及框架區(qū)，其中框架區(qū)圍繞動(dòng)作區(qū)，此觸控面板包括基板，圖案化第一導(dǎo)電層設(shè)置于基板的動(dòng)作區(qū)上，遮蔽層具有第一部份與第二部分，其中第一部份設(shè)置于圖案化第一導(dǎo)電層上，第二部分設(shè)置于基板的框架區(qū)上，圖案化第二導(dǎo)電層設(shè)置于遮蔽層上，以及保護(hù)層全面性地覆蓋在基板之上。所述的觸控面板，其特征在于該遮蔽層的材料為黑色絕緣遮光材料、彩色絕緣遮光材料或白色絕緣遮光材料其中之一或其組合。所述的觸控面板，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層包括復(fù)數(shù)個(gè)第一島狀物，該遮蔽層的該第一部份包括復(fù)數(shù)個(gè)第二島狀物，且其中該第二島狀物設(shè)置在同一列或同一行的任兩個(gè)相鄰的該些第一島狀物之間。所述的觸控面板，其特征在于該第二島狀物的尺寸小于該第一島狀物的尺寸。所述的觸控面板，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層的材料包括一透明導(dǎo)電材料。所述的觸控面板，其特征在于該圖案化第二導(dǎo)電層包括一架橋結(jié)構(gòu)以及一導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，該架橋結(jié)構(gòu)設(shè)置于該遮蔽層的該第一部份上，該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)設(shè)置于該遮蔽層的該第二部份上，且其中該架橋結(jié)構(gòu)的尺寸小于或等于該遮蔽層的該第一部份的尺寸。所述的觸控面板，其特征在于該架橋結(jié)構(gòu)的材料包括一透明導(dǎo)電材料或一金屬材料，且該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)的材料包括一金屬材料。所述的觸控面板，其特征在于該保護(hù)層直接覆蓋該圖案化第二導(dǎo)電層、該圖案化第一導(dǎo)電層、該遮蔽層，以及該基板。所述的觸控面板，其特征在于該基板較該保護(hù)層更靠近一使用者的觸碰位置。依據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，提供一種觸控顯示裝置，包括如上所述之觸控面板，以及顯示面板設(shè)置于觸控面板之下，其中觸控面板的保護(hù)層鄰近顯示面板的顯示面。此外，依據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，提供一種觸控面板的形成方法，包括提供基板，基板可劃分為動(dòng)作區(qū)及框架區(qū)，其中框架區(qū)圍繞動(dòng)作區(qū)；形成圖案化第一導(dǎo)電層于基板的動(dòng)作區(qū)上；形成圖案化遮蔽層于圖案化第一導(dǎo)電層與基板的框架區(qū)上；形成圖案化第二導(dǎo)電層于圖案化遮蔽層上；以及形成保護(hù)層，全面性地覆蓋在基板之上。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于形成該圖案化第一導(dǎo)電層與該圖案化第二導(dǎo)電層的步驟包括沉積、微影以及蝕刻制程。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于形成該圖案化遮蔽層的步驟包括微影制程。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于形成該圖案化遮蔽層的步驟在形成該圖案化第一導(dǎo)電層的步驟之后進(jìn)行，并且形成該圖案化第二導(dǎo)電層的步驟在形成該圖案化遮蔽層的步驟之后進(jìn)行。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化遮蔽層的材料為黑色絕緣遮光材料、彩色絕緣遮光材料或白色絕緣遮光材料其中之一或其組合。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層包括復(fù)數(shù)個(gè)第一島狀物，該圖案化遮蔽層包括復(fù)數(shù)個(gè)第二島狀物以及一框架，且其中該第二島狀物設(shè)置在同一列或同一行的任兩個(gè)相鄰的該些第一島狀物之間。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該第二島狀物的尺寸小于該第一島狀物的尺寸。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化第二導(dǎo)電層包括一架橋結(jié)構(gòu)以及一導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，該架橋結(jié)構(gòu)設(shè)置于該圖案化遮蔽層的該些第二島狀物上，該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)設(shè)置于該圖案化遮蔽層的該框架上，且其中該架橋結(jié)構(gòu)的尺寸小于或等于一個(gè)該第二島狀物的尺寸。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層的材料包括一透明導(dǎo)電材料，該圖案化第二導(dǎo)電層的該架橋結(jié)構(gòu)的材料包括一透明導(dǎo)電材料或一金屬材料，且該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)的材料包括一金屬材料。所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該保護(hù)層直接覆蓋該圖案化第二導(dǎo)電層、該圖案化第一導(dǎo)電層、該圖案化遮蔽層以及該基板。為了讓本發(fā)明的上述目的、特征、及優(yōu)點(diǎn)能更明顯易懂，以下配合所附圖式，作詳細(xì)說明如下

圖1是顯示依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的觸控面板的平面示意圖。圖2是顯示沿著圖1的剖面線2-2’，本發(fā)明一實(shí)施例的觸控面板的剖面示意圖。
圖3是顯示依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的觸控顯示裝置的剖面示意圖。圖4是顯示發(fā)明人所熟知的一種觸控顯示裝置的剖面示意圖。圖5是顯示發(fā)明人所熟知的另一種觸控顯示裝置的剖面示意圖。圖6A至6D是顯示依據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，形成圖2的觸控面板100的制造方法的剖面示意圖。100、10AU0B 觸控面板；100A 動(dòng)作區(qū)；100B 框架區(qū)；102 基板；104a、104b 圖案化第一導(dǎo)電層(電容式感應(yīng)電極)；106aU06b 圖案化遮蔽層；108a、108b 圖案化第二導(dǎo)電層；110 保護(hù)層；120 手指或觸控筆；200 顯示面板；200A 顯示面；202 彩色濾光片基板；204 薄膜電晶體陣列基板；206 液晶層；12J4 玻璃基板；14,30 電容式感應(yīng)電極；16、20、28、；34 隔離層；18 金屬層(架橋結(jié)構(gòu))；22 黑色框架；26 透明導(dǎo)電層(架橋結(jié)構(gòu))；32 導(dǎo)線層；300、400、500 觸控顯示裝置。
具體實(shí)施方式
本發(fā)明之一實(shí)施例是提供電容感應(yīng)的外掛式觸控面板，其是將電容式觸控感應(yīng)電極制作在觸控面板的保護(hù)外蓋(cover lens)上，并使用保護(hù)層覆蓋在電容式觸控感應(yīng)電極上，藉此可使得觸控面板的制作減少一片玻璃基板的使用，降低觸控顯示裝置的整體厚度與節(jié)省一片玻璃基板的成本。此外，依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的觸控面板的制造方法，可減少制造觸控面板所需的制程次數(shù)，降低觸控面板的制作成本，并提高生產(chǎn)良率。同時(shí)，依據(jù)本發(fā)明一實(shí)施例的觸控面板，可避免電容式觸控感應(yīng)電極的金屬架橋結(jié)構(gòu)所產(chǎn)生的反光問題。請(qǐng)參閱圖1，其是顯示本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板的平面示意圖。觸控面板100具有動(dòng)作區(qū)(active area) 100A及框架(frame)區(qū)100B，其中框架區(qū)100B圍繞動(dòng)作區(qū)100A。 在觸控面板100的動(dòng)作區(qū)100A內(nèi)具有復(fù)數(shù)個(gè)電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b，其為島狀的透明導(dǎo)電層，例如為菱形的銦錫氧化物(indium tin oxide ；IT0)層，雖然在圖1中僅顯示8個(gè)電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b，然而在此技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者當(dāng)可了解， 在觸控面板100的動(dòng)作區(qū)100A內(nèi)具有更多的電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b，其中電極 104a串連排列成列，電極104b則串連排列成行。在一實(shí)施例中，同一行的電極104b是利用形成電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b的透明導(dǎo)電層層直接連接，而同一列的電極10 則利用導(dǎo)電的架橋結(jié)構(gòu)108b電性連接，每一行與每一列的電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b 所得到的觸控訊號(hào)可藉由導(dǎo)線結(jié)構(gòu)108a傳遞至軟性電路板(flexible print circuit ； FPC)(未繪出)，再經(jīng)由軟性電路板傳送至觸控顯示裝置中的積體電路(IC)(未繪出)，進(jìn)行觸控訊號(hào)的處理。依據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，在架橋結(jié)構(gòu)108b與電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b之間設(shè)置有島狀(island type)的遮蔽層106b，以避免同一行的電極104b與同一列的電極 10 相交處發(fā)生短路，并且島狀遮蔽層106b的位置是對(duì)應(yīng)至架橋結(jié)構(gòu)108b的位置。在一實(shí)施例中，位于動(dòng)作區(qū)100A的島狀遮蔽層106b與位于框架區(qū)100B的遮蔽層106a可利用
6相同材料同時(shí)形成，遮蔽層106b與106a的材料為絕緣遮光材料，例如為黑色絕緣遮光材料、彩色絕緣遮光材料或白色絕緣遮光材料，此絕緣遮光材料可以是感光性的材料，例如為黑色光阻，因此島狀的遮蔽層106b與框架區(qū)100B的遮蔽層106a可利用曝光顯影的方式同時(shí)形成。請(qǐng)參閱圖2，其是顯示沿著圖1的剖面線2-2’，本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板的剖面示意圖。觸控面板100包含透明的基板102，其是作為觸控面板100的保護(hù)外蓋，例如為玻璃基板或塑膠基板，當(dāng)使用者的手指或觸控筆120接觸觸控面板100時(shí)，基板102可保護(hù)觸控面板100的感應(yīng)電極10 及104b，避免感應(yīng)電極10 及104b被手指或觸控筆120刮傷。同時(shí)，請(qǐng)參閱圖6A至圖6D，其是顯示依據(jù)本發(fā)明之一實(shí)施例，形成圖2的觸控面板 100之制造方法的剖面示意圖。如圖6A所示，首先在基板102上形成圖案化的第一導(dǎo)電層 104a，作為電容式觸控感應(yīng)電極。雖然圖6A中未顯示出電極104b (如圖1中所示)，但電容式觸控感應(yīng)電極104b與10 是同時(shí)形成，其制程步驟包含沉積透明的第一導(dǎo)電層(未繪出)，例如為銦錫氧化物層，接著利用微影與蝕刻制程將第一導(dǎo)電層圖案化，形成島狀的電容式觸控感應(yīng)電極104b與104a，在一實(shí)施例中，同一行的電極104b互相連接，而同一列的電極10 則互相隔開。參閱圖6B，在基板102的框架區(qū)100B上形成圖案化的遮蔽層106a，同時(shí)在基板 102的動(dòng)作區(qū)100A上形成圖案化的遮蔽層106b，其中遮蔽層106a為圍繞動(dòng)作區(qū)100A的框架，而遮蔽層106b則為介于同一列的任兩個(gè)相鄰的電容式觸控感應(yīng)電極10 之間的島狀物，并且部分的遮蔽層106b覆蓋在電容式觸控感應(yīng)電極10 上方。如圖1所示，島狀遮蔽層106b的尺寸小于電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b的尺寸。在一實(shí)施例中，遮蔽層106a 及106b的材料為感光性的絕緣遮光材料，例如黑色光阻，因此圖案化的遮蔽層106a及106b 可藉由曝光及顯影制程同時(shí)形成。參閱圖6C，在圖案化的遮蔽層106a及106b上分別形成圖案化的第二導(dǎo)電層108a 及108b，其中圖案化的第二導(dǎo)電層108a是作為電容式觸控感應(yīng)電極10 及104b的導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，藉此傳遞電極10 及104b的觸控訊號(hào)，而圖案化的第二導(dǎo)電層108b則作為電容式觸控感應(yīng)電極10 之間的架橋結(jié)構(gòu)，藉此電性連接同一列中任兩個(gè)相鄰的感應(yīng)電極l(Ma。在一實(shí)施例中，圖案化的第二導(dǎo)電層108a及108b可以由相同材料形成，例如為金屬材料，可藉由先沉積一金屬層，然后利用微影與蝕刻制程將金屬層圖案化，同時(shí)形成圖案化的第二導(dǎo)電層108a及10汕。在另一實(shí)施例中，圖案化的第二導(dǎo)電層108a及108b可由不同材料形成，例如圖案化的第二導(dǎo)電層108a可由金屬材料形成，而圖案化的第二導(dǎo)電層108b則可由透明導(dǎo)電材料形成。在一實(shí)施例中，如圖1中所示，圖案化的第二導(dǎo)電層108b的尺寸可小于圖案化的遮蔽層106b的尺寸。在另一實(shí)施例中，圖案化的第二導(dǎo)電層108b的尺寸可等于圖案化的遮蔽層106b的尺寸。參閱圖6D，形成保護(hù)層110全面性地覆蓋在基板102之上，完成如圖2之觸控面板 100的制作。保護(hù)層110的材料例如為壓克力樹脂、氮化硅、氧化硅或氮氧化硅等材料。保護(hù)層110直接覆蓋圖案化的第二導(dǎo)電層108a與108b、圖案化的遮蔽層106a與106b、圖案化的第一導(dǎo)電層(電容式感應(yīng)電極)10 與104b，以及基板102。
接著，請(qǐng)參閱圖3，其是顯示本發(fā)明一實(shí)施例之觸控顯示裝置300的剖面示意圖。 觸控顯示裝置300包含圖2的觸控面板100以及顯示面板200，其中觸控面板100的保護(hù)層 110貼附至顯示面板200的顯示面200A側(cè)，鄰近顯示面板200的上基板202。在一實(shí)施例中，顯示面板200可以是液晶顯示面板，其包含上基板202、下基板204，以及液晶層206夾設(shè)在上基板202與下基板204之間。上基板202例如為彩色濾光片基板，下基板204例如為薄膜電晶體陣列基板。在此技術(shù)領(lǐng)域中具有通常知識(shí)者當(dāng)可了解，觸控顯示裝置300還可包含其他元件，例如設(shè)置在顯示面板200下方的背光源(未繪出)，貼附在上基板202與下基板204外側(cè)的一對(duì)偏光片(未繪出)，以及設(shè)置在觸控面板100與顯示面板200之間的粘著層(未繪出)。另外，請(qǐng)參閱圖4，其為發(fā)明人所熟知的一種觸控顯示裝置400之剖面示意圖。如圖4所示，觸控顯示裝置400包含觸控面板IOA以及顯示面板200，其中觸控面板IOA是由兩片玻璃基板12及M所形成，在玻璃基板12上形成電容式觸控感應(yīng)電極14，兩個(gè)相鄰的電容式觸控感應(yīng)電極14之間具有隔離層16，然后在隔離層16上具有金屬層18作為電容式觸控感應(yīng)電極14之間的架橋結(jié)構(gòu)，電性連接兩個(gè)相鄰的電容式感應(yīng)電極14，并在玻璃基板12之上覆蓋隔離層20，接著提供具有黑色框架22形成于其上的玻璃基板M作為保護(hù)外蓋，貼附在隔離層20上，完成觸控面板IOA的制作。以本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100與圖4的觸控面板IOA相較之下，本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100可以減少一片玻璃基板的使用。此外，圖4的觸控面板IOA需要5道光罩、2次沉積制程、5次微影制程以及2次蝕刻制程，以完成黑色框架22、電容式觸控感應(yīng)電極14、隔離層16及20，以及金屬架橋18的制作；而本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100則僅需要4道光罩、2次沉積制程、4次微影制程以及2次蝕刻制程，就可完成圖案化的第一導(dǎo)電層(電容式感應(yīng)電極)10 與104b、圖案化的遮蔽層106a與106b、圖案化的第二導(dǎo)電層 108a與108b，以及保護(hù)層110的制作。因此，本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100的制程次數(shù)相較于圖4之觸控面板IOA的制程次數(shù)，可以減少1道光罩以及1次微影制程。此外，本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100具有島狀遮蔽層106b對(duì)應(yīng)至架橋結(jié)構(gòu)108b 的位置，因此可以解決金屬架橋結(jié)構(gòu)108b的反光問題；而圖4之觸控面板IOA中的金屬架橋18則會(huì)產(chǎn)生反光問題。接著，請(qǐng)參閱圖5，其是顯示發(fā)明人所熟知的另一種觸控顯示裝置500的剖面示意圖。如圖5所示，觸控顯示裝置500包含觸控面板IOB以及顯示面板200，其中觸控面板IOB 包含一片玻璃基板M作為保護(hù)外蓋，在玻璃基板M上形成黑色框架22，在黑色框架22上形成透明導(dǎo)電層26，作為電容式觸控感應(yīng)電極30的架橋結(jié)構(gòu)，接著形成隔離層觀覆蓋透明導(dǎo)電層沈與黑色框架22，然后在隔離層觀上形成感應(yīng)電極30與金屬導(dǎo)線層32，并形成隔離層；34覆蓋感應(yīng)電極30與金屬導(dǎo)線層32，完成觸控面板IOB的制作。以本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100與圖5的觸控面板IOB相較之下，圖5的觸控面板IOB需要6道光罩、4次沉積制程、6次微影制程以及4次蝕刻制程，以完成黑色框架22、 透明導(dǎo)電層26、隔離層觀與34、電容式感應(yīng)電極30以及金屬導(dǎo)線層32的制作；而本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100則僅需要4道光罩、2次沉積制程、4次微影制程以及2次蝕刻制程，就可完成圖案化的第一導(dǎo)電層(電容式感應(yīng)電極)10 與104b、圖案化的遮蔽層106a 與106b、圖案化的第二導(dǎo)電層108a與108b，以及保護(hù)層110的制作。因此，本發(fā)明一實(shí)施例之觸控面板100的制程次數(shù)相較于圖5之觸控面板IOB的制程次數(shù)，可以減少2道光罩、 2次沉積制程、2次微影制程以及2次蝕刻制程。綜上所述，本發(fā)明實(shí)施例之觸控面板是將電容式觸控感應(yīng)電極制作在觸控面板的保護(hù)外蓋上，藉此可將電容式觸控感應(yīng)電極以及保護(hù)外蓋的功能整合在同一片基板上，減少觸控顯示裝置的整體厚度，并減少一片基板的成本。此外，相較于目前觸控面板的制造方法，本發(fā)明實(shí)施例之觸控面板的制造方法還可以減少制程次數(shù)，藉此降低觸控面板的制造成本，提升生產(chǎn)良率。同時(shí)，本發(fā)明實(shí)施例之觸控面板還可以解決電容式觸控感應(yīng)電極的金屬架橋所產(chǎn)生的反光問題。雖然本發(fā)明已揭露較佳實(shí)施例如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此項(xiàng)技藝者，在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可做些許更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明之保護(hù)范圍當(dāng)視申請(qǐng)專利范圍所界定為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種觸控面板，具有一動(dòng)作區(qū)及一框架區(qū)，該框架區(qū)圍繞該動(dòng)作區(qū)，該觸控面板包括一基板；一圖案化第一導(dǎo)電層，設(shè)置于該基板的該動(dòng)作區(qū)；一遮蔽層，具有一第一部份與一第二部分，其中該第一部份設(shè)置于該圖案化第一導(dǎo)電層上，該第二部分設(shè)置于該基板的該框架區(qū)；一圖案化第二導(dǎo)電層，設(shè)置于該遮蔽層上；以及一保護(hù)層，全面性地覆蓋在該基板之上。
2.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該遮蔽層的材料為黑色絕緣遮光材料、 彩色絕緣遮光材料或白色絕緣遮光材料其中之一或其組合。
3.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層包括復(fù)數(shù)個(gè)第一島狀物，該遮蔽層的該第一部份包括復(fù)數(shù)個(gè)第二島狀物，且其中該第二島狀物設(shè)置在同一列或同一行的任兩個(gè)相鄰的該些第一島狀物之間。
4.如權(quán)利要求3所述的觸控面板，其特征在于該第二島狀物的尺寸小于該第一島狀物的尺寸。
5.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層的材料包括一透明導(dǎo)電材料。
6.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該圖案化第二導(dǎo)電層包括一架橋結(jié)構(gòu)以及一導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，該架橋結(jié)構(gòu)設(shè)置于該遮蔽層的該第一部份上，該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)設(shè)置于該遮蔽層的該第二部份上，且其中該架橋結(jié)構(gòu)的尺寸小于或等于該遮蔽層的該第一部份的尺寸。
7.如權(quán)利要求6所述的觸控面板，其特征在于該架橋結(jié)構(gòu)的材料包括一透明導(dǎo)電材料或一金屬材料，且該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)的材料包括一金屬材料。
8.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該保護(hù)層直接覆蓋該圖案化第二導(dǎo)電層、該圖案化第一導(dǎo)電層、該遮蔽層，以及該基板。
9.如權(quán)利要求1所述的觸控面板，其特征在于該基板較該保護(hù)層更靠近一使用者的觸碰位置。
10.一種觸控顯示裝置，包括 一如權(quán)利要求1所述的觸控面板；以及一顯示面板，設(shè)置于該觸控面板之下，其中該觸控面板的該保護(hù)層鄰近該顯示面板。
11.一種觸控面板的形成方法，包括提供一基板，具有一動(dòng)作區(qū)及一框架區(qū)，其中該框架區(qū)圍繞該動(dòng)作區(qū)； 形成一圖案化第一導(dǎo)電層于該基底的該動(dòng)作區(qū)上； 形成一圖案化遮蔽層于該圖案化第一導(dǎo)電層上與該基底的該框架區(qū)上； 形成一圖案化第二導(dǎo)電層于該圖案化遮蔽層上；以及形成一保護(hù)層，全面性地覆蓋在該基板之上。
12.如權(quán)利要求11所述的觸控面板的形成方法，其特征在于形成該圖案化第一導(dǎo)電層與該圖案化第二導(dǎo)電層的步驟包括沉積、微影以及蝕刻制程。
13.如權(quán)利要求11所述的觸控面板的形成方法，其特征在于形成該圖案化遮蔽層的步驟包括微影制程。
14.如權(quán)利要求11所述的觸控面板的形成方法，其特征在于形成該圖案化遮蔽層的步驟在形成該圖案化第一導(dǎo)電層的步驟之后進(jìn)行，并且形成該圖案化第二導(dǎo)電層的步驟在形成該圖案化遮蔽層的步驟之后進(jìn)行。
15.如權(quán)利要求11所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化遮蔽層的材料為黑色絕緣遮光材料、彩色絕緣遮光材料或白色絕緣遮光材料其中之一或其組合。
16.如權(quán)利要求11所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層包括復(fù)數(shù)個(gè)第一島狀物，該圖案化遮蔽層包括復(fù)數(shù)個(gè)第二島狀物以及一框架，且其中該第二島狀物設(shè)置在同一列或同一行的任兩個(gè)相鄰的該些第一島狀物之間。
17.如權(quán)利要求16所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該第二島狀物的尺寸小于該第一島狀物的尺寸。
18.如權(quán)利要求16所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化第二導(dǎo)電層包括一架橋結(jié)構(gòu)以及一導(dǎo)線結(jié)構(gòu)，該架橋結(jié)構(gòu)設(shè)置于該圖案化遮蔽層的該些第二島狀物上， 該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)設(shè)置于該圖案化遮蔽層的該框架上，且其中該架橋結(jié)構(gòu)的尺寸小于或等于一個(gè)該第二島狀物的尺寸。
19.如權(quán)利要求18所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該圖案化第一導(dǎo)電層的材料包括一透明導(dǎo)電材料，該圖案化第二導(dǎo)電層的該架橋結(jié)構(gòu)的材料包括一透明導(dǎo)電材料或一金屬材料，且該導(dǎo)線結(jié)構(gòu)的材料包括一金屬材料。
20.如權(quán)利要求11所述的觸控面板的形成方法，其特征在于該保護(hù)層直接覆蓋該圖案化第二導(dǎo)電層、該圖案化第一導(dǎo)電層、該圖案化遮蔽層以及該基板。
全文摘要
一種觸控面板、其形成方法以及觸控顯示裝置，本發(fā)明之實(shí)施例提供觸控面板，其具有動(dòng)作區(qū)及框架區(qū)，框架區(qū)圍繞動(dòng)作區(qū)，此觸控面板包括圖案化第一導(dǎo)電層設(shè)置于基板的動(dòng)作區(qū)上，遮蔽層具有第一部份與第二部分，第一部份設(shè)置于圖案化第一導(dǎo)電層上，第二部分設(shè)置于基板的框架區(qū)上，圖案化第二導(dǎo)電層設(shè)置于遮蔽層上，以及保護(hù)層全面性地覆蓋在基板之上。
文檔編號(hào)G02F1/133GK102479008SQ20101055792
公開日2012年5月30日 申請(qǐng)日期2010年11月19日 優(yōu)先權(quán)日2010年11月19日
發(fā)明者劉軒辰, 吳許合, 林文奇, 林松君, 詹建廷 申請(qǐng)人:瀚宇彩晶股份有限公司