專利名稱：雙面曝光裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及一種曝光裝置，特別是涉及一種雙面曝光裝置。
背景技術(shù)：
一般用以對(duì)電路板進(jìn)行雙面曝光的曝光機(jī)中，包括臺(tái)框機(jī)構(gòu)，且臺(tái)框機(jī)構(gòu)具有上 曝光底片與下曝光底片，待曝光的電路板是放置在上曝光底片與下曝光底片之間，接著再 通過(guò)上曝光光源與下曝光光源分別對(duì)電路板的頂面與底面進(jìn)行曝光，如中國(guó)臺(tái)灣實(shí)用新型 專利公告號(hào)陽(yáng)9438所公開的內(nèi)容。此外，一般雙面曝光機(jī)會(huì)在臺(tái)框機(jī)構(gòu)的下方設(shè)置一組取像裝置(包含C⑶攝影 機(jī))，當(dāng)待曝光的電路板放置在臺(tái)框機(jī)構(gòu)上并且在送入曝光室進(jìn)行曝光之前，通過(guò)該取像裝 置可取得待曝光基板底面與下曝光底片之間的位置誤差，進(jìn)而進(jìn)行誤差校正，然而，由于待 曝光基板的頂面與上曝光底片之間以往并沒有取像裝置可進(jìn)行取像以供后續(xù)校正，因此， 待曝光基板的頂面的曝光精度通常較差。
發(fā)明內(nèi)容本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種可提高待曝光基板的兩面 曝光精度的雙面曝光裝置。其技術(shù)方案如下一種雙面曝光裝置，包含機(jī)臺(tái)；曝光模組，設(shè)置于該機(jī)臺(tái)內(nèi)，用以對(duì)待曝光基板曝光；臺(tái)框模組，包括設(shè)置于該機(jī)臺(tái)的臺(tái)框本體以及設(shè)置于該臺(tái)框本體的上底片與下底 片，該臺(tái)框模組用以供該待曝光基板放置于該上底片與該下底片之間并且受驅(qū)動(dòng)位移至第 一位置以及對(duì)應(yīng)該曝光模組的第二位置；第一取像模組，包括多個(gè)取像單元，該當(dāng)該臺(tái)框模組處于該第一位置時(shí)，取像單元 用以取得該待曝光基板與該臺(tái)框模組的下底片的位置影像；以及第二取像模組，包括多個(gè)取像單元，當(dāng)該臺(tái)框模組處于該第二位置時(shí)，該取像單元 用以取得該待曝光基板與該臺(tái)框模組的上底片的位置影像。進(jìn)一步結(jié)構(gòu)是該第二取像模組更包括多個(gè)位移機(jī)構(gòu)，該取像單元分別設(shè)置于該位移機(jī)構(gòu)，每一 取像單元能受該位移機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)沿X軸、Y軸與Z軸方向位移。該第二取像模組更包括設(shè)置于該機(jī)臺(tái)的框架，該位移機(jī)構(gòu)與該取像單元設(shè)置于該 框架。還包含設(shè)置于該機(jī)臺(tái)的導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)，該臺(tái)框模組設(shè)置于該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)并且能沿該導(dǎo)軌 機(jī)構(gòu)位移于該第一位置與該第二位置，該第一取像模組位于該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)下方，該第二取像 模組位于該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)上方。[0016]該機(jī)臺(tái)包括曝光室以及位于該曝光室前方的操作側(cè)，當(dāng)該臺(tái)框模組位于該第一位 置時(shí)，位于該操作側(cè)，當(dāng)該臺(tái)框模組位于該第二位置時(shí)，位于該曝光室內(nèi)，該第一取像模組 位于該操作側(cè)，該第二取像模組位于該曝光室內(nèi)。該第一取像模組的取像單元與該第二取像模組的取像單元為CXD攝影機(jī)。本實(shí)用新型的功效在于，利用第一取像模組配合第二取像模組，不只能取得對(duì)待 曝光基板底面與臺(tái)框模組的下底片之間的位置影像以便于進(jìn)行誤差校正，也能取得待曝光 基板頂面與臺(tái)框模組的上底片之間的位置影像以便于進(jìn)行誤差校正，進(jìn)而提高整個(gè)待曝光 基板的曝光精度。

圖1是本實(shí)用新型所述雙面曝光裝置的一個(gè)較佳實(shí)施例的立體圖；圖2是該較佳實(shí)施例的側(cè)視圖；圖3是該較佳實(shí)施例的立體圖，且該雙面曝光裝置的機(jī)臺(tái)被局部移除而能顯示出 第一取像模組與第二取像模組；圖4是圖3中的第一取像模組位置的局部放大圖；圖5是該較佳實(shí)施例的第二取像模組的前視圖；圖6是該第二取像模組的立體圖。附圖標(biāo)記說(shuō)明1、機(jī)臺(tái)，101、前后方向，11、曝光室，12、操作側(cè)，13、光源室，2、導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)，21、導(dǎo)軌，
3、臺(tái)框模組，31、臺(tái)框本體，311、框體，4、第一取像模組，41、框架，42、位移機(jī)構(gòu)，421、馬達(dá)， 422、滑軌滑塊組，423、滾珠導(dǎo)螺桿，43、取像單元，5、第二取像模組，51、框架，52、位移機(jī)構(gòu)， 521、馬達(dá)，522、滑軌滑塊組，523、滾珠導(dǎo)螺桿，53、取像單元。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型的實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明參閱圖1與圖2，一種雙面曝光裝置，包含機(jī)臺(tái)1以及設(shè)置在機(jī)臺(tái)1的曝光模組(圖 未示)、導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)2、二臺(tái)框模組3、第一取像模組4、第二取像模組5。機(jī)臺(tái)1沿前后方向101界定出曝光室11、位于曝光室11前方的操作側(cè)12以及位 于曝光室11后方的光源室13，曝光模組設(shè)置在曝光室11內(nèi)，導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)2包括一對(duì)左右相間 隔設(shè)置在機(jī)臺(tái)1的導(dǎo)軌21 (見圖6)，該對(duì)導(dǎo)軌21由操作側(cè)12左右兩側(cè)往后延伸至曝光室 11的左右兩側(cè)，兩臺(tái)框模組3架設(shè)在導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)2的該對(duì)導(dǎo)軌21之間并且能受驅(qū)動(dòng)沿著導(dǎo)軌 機(jī)構(gòu)2前后交替位移處于操作側(cè)12或移入曝光室11內(nèi)，更詳細(xì)的說(shuō)，每一臺(tái)框模組3包括 臺(tái)框本體31以及設(shè)置在臺(tái)框本體31的上底片(圖未示)與下底片(圖未示)，臺(tái)框本體31 包括二呈矩形框狀并且上下相樞接的框體311，上底片與下底片分別設(shè)置在兩框體311，因 而上方的框體311能蓋合于下方的框體311或相對(duì)于下方的框體311往上掀離，待曝光基 板是可供放置在兩框體311之間而位于上底片與下底片之間，為方便以下說(shuō)明，定義每一 臺(tái)框模組3移至操作側(cè)12的位置為第一位置，移至曝光室11的位置為第二位置。而之所以設(shè)置兩臺(tái)框模組3的用意在于，由于待曝光基板是在臺(tái)框模組3位移至 操作側(cè)12(即第一位置)時(shí)放置于臺(tái)框模組3，并且在臺(tái)框模組3位移至曝光室11內(nèi)(即第二位置)時(shí)進(jìn)行曝光，但不論是將待曝光基板放置在臺(tái)框模組3或是進(jìn)行曝光作業(yè)，都需 要一段時(shí)間，因此，通過(guò)設(shè)置兩臺(tái)框模組3使其可交替位移在操作側(cè)12與曝光室11，當(dāng)其中 一臺(tái)框模組3進(jìn)入曝光室11曝光時(shí)，另一臺(tái)框模組3便能移至操作側(cè)12而供放置另一片 待曝光基板并且進(jìn)行其他準(zhǔn)備作業(yè)，藉此節(jié)省時(shí)間、提高產(chǎn)能。參閱圖1、圖3、圖4，第一取像模組4是設(shè)置在機(jī)臺(tái)1的操作側(cè)12并且位在導(dǎo)軌機(jī) 構(gòu)2下方，本實(shí)施例的第一取像模組4包括框架41、多個(gè)設(shè)置在框架41的位移機(jī)構(gòu)42以及 多個(gè)分別設(shè)置在該位移機(jī)構(gòu)42的取像單元43，其中，框架41是設(shè)置固定在機(jī)臺(tái)1并且位于 導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)2的下方，每一位移機(jī)構(gòu)42包括馬達(dá)421、滑軌滑塊組422以及滾珠導(dǎo)螺桿423， 馬達(dá)421與滑軌滑塊組422均設(shè)置在框架41，本實(shí)施例的每一組滑軌滑塊組422均具有前 后、左右、上下(或X軸、Y軸、Z軸)三維方向的活動(dòng)性，滾珠導(dǎo)螺桿423連接馬達(dá)421與滑 軌滑塊組422，該取像單元43分別為設(shè)置在該位移機(jī)構(gòu)42的滑軌滑塊組422的CXD攝影 機(jī)，且該CCD攝影機(jī)的鏡頭朝上，通過(guò)馬達(dá)421所提供的動(dòng)力，并且透過(guò)滾珠導(dǎo)螺桿423的 傳動(dòng)，便能帶動(dòng)取像單元43相對(duì)于框架41位移。參閱圖1、圖5、圖6，第二取像模組5是設(shè)置在機(jī)臺(tái)1的曝光室11并且位在導(dǎo)軌機(jī) 構(gòu)2上方，本實(shí)施例的第二取像模組5包括框架51、多個(gè)設(shè)置在框架51的位移機(jī)構(gòu)52以及 多個(gè)分別設(shè)置在該位移機(jī)構(gòu)52的取像單元53，其中，框架51是設(shè)置固定在機(jī)臺(tái)1的曝光室 11內(nèi)并且位于導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)2的上方，每一位移機(jī)構(gòu)52包括馬達(dá)521、滑軌滑塊組522以及滾 珠導(dǎo)螺桿523，每一組滑軌滑塊組522均具有前后、左右、上下(或X軸、Y軸、Z軸)三維方 向的活動(dòng)性，馬達(dá)521與滑軌滑塊組522均設(shè)置在框架51，滾珠導(dǎo)螺桿523連接馬達(dá)521與 滑軌滑塊組522，該取像單元53分別為設(shè)置在該位移機(jī)構(gòu)52的滑軌滑塊組522的CXD攝影 機(jī)，且該CCD攝影機(jī)的鏡頭朝下，通過(guò)馬達(dá)521所提供的動(dòng)力，并且透過(guò)滾珠導(dǎo)螺桿523的 傳動(dòng)，便能帶動(dòng)取像單元53相對(duì)于框架51位移。當(dāng)放置有待曝光基板的臺(tái)框模組3、4處在第一位置時(shí)，通過(guò)第一取像模組3的該 取像單元43，便能取得待曝光基板與臺(tái)框模組3、4的下底片的位置影像，進(jìn)而判斷兩者之 間是否存在誤差以及是否需要校正兩者之間的相對(duì)位置。而通過(guò)第二取像模組5的設(shè)置，當(dāng)臺(tái)框模組3、4被移入曝光室11內(nèi)而處于第二位 置時(shí)，通過(guò)第二取像模組5的該取像單元53，便能取得待曝光基板與臺(tái)框模組3、4的上底片 的位置影像，進(jìn)而判斷兩者之間是否存在誤差以及是否需要校正兩者之間的相對(duì)位置。當(dāng)然，當(dāng)待曝光基板移入曝光室11進(jìn)行頂面曝光時(shí)，通過(guò)第二取像模組5的該位 移機(jī)構(gòu)52的設(shè)置，可將該取像單元53移出曝光范圍外，避免取像單元53受損。且由于每 次放置在臺(tái)框模組3、4的待曝光基板的尺寸大小可能不一樣，故通過(guò)第二取像模組5的該 位移機(jī)構(gòu)52的設(shè)置，也可將該取像單元53移動(dòng)到較適當(dāng)?shù)奈恢眠M(jìn)行取像，換句話說(shuō)，進(jìn)行 不同尺寸大小的基板曝光時(shí)，同樣都可利用該第二取像模組5進(jìn)行取像。附帶說(shuō)明的是，當(dāng)臺(tái)框模組3的下底片與待曝光基板之間需要進(jìn)行位置的誤差校 正時(shí)，是通過(guò)設(shè)置在臺(tái)框模組3的位置調(diào)整機(jī)構(gòu)(圖未示)進(jìn)行，該位置調(diào)整機(jī)構(gòu)主要是利 用馬達(dá)帶動(dòng)待曝光基板相對(duì)于臺(tái)框模組3的下底片位移，相關(guān)技術(shù)可參考本案相同申請(qǐng)人 于2007年11月22日提申、于2008年6月1日公告的中國(guó)臺(tái)灣實(shí)用新型證書號(hào)M333594 所揭露的「曝光機(jī)平臺(tái)裝置」的內(nèi)容。而臺(tái)框模組3的上底片與待曝光基板頂面之間的誤 差校正，則可通過(guò)另一組設(shè)置在上方框體311的校正機(jī)構(gòu)(圖未示)進(jìn)行，其同樣也是類似透過(guò)馬達(dá)的驅(qū)動(dòng)帶動(dòng)待曝光基板相對(duì)于上底片位移而達(dá)到校正的效果。因此，由上述內(nèi)容可知，本實(shí)用新型利用第一取像模組4配合第二取像模組5，不 只能取得待曝光基板底面與臺(tái)框模組3的下底片之間的位置影像以便于進(jìn)行誤差校正，也 能取得待曝光基板頂面與臺(tái)框模組3的上底片之間的位置影像以便于進(jìn)行誤差校正，因 此，便能提高整個(gè)待曝光基板的曝光精度，故確實(shí)能達(dá)成本實(shí)用新型的目的，且如此一來(lái)， 該雙面曝光裝置也能用來(lái)進(jìn)行需要有較高的曝光精度要求的HDI制程。以上僅為本實(shí)用新型的具體實(shí)施例，并不以此限定本實(shí)用新型的保護(hù)范圍；在不 違反本實(shí)用新型構(gòu)思的基礎(chǔ)上所作的任何替換與改進(jìn)，均屬本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求1.一種雙面曝光裝置，其特征在于，包含機(jī)臺(tái)；曝光模組，設(shè)置于該機(jī)臺(tái)內(nèi)，用以對(duì)待曝光基板曝光；臺(tái)框模組，包括設(shè)置于該機(jī)臺(tái)的臺(tái)框本體以及設(shè)置于該臺(tái)框本體的上底片與下底片， 該臺(tái)框模組用以供該待曝光基板放置于該上底片與該下底片之間并且受驅(qū)動(dòng)位移至第一 位置以及對(duì)應(yīng)該曝光模組的第二位置；第一取像模組，包括多個(gè)取像單元，該當(dāng)該臺(tái)框模組處于該第一位置時(shí)，取像單元用以 取得該待曝光基板與該臺(tái)框模組的下底片的位置影像；以及第二取像模組，包括多個(gè)取像單元，當(dāng)該臺(tái)框模組處于該第二位置時(shí)，該取像單元用以 取得該待曝光基板與該臺(tái)框模組的上底片的位置影像。
2.如權(quán)利要求1所述雙面曝光裝置，其特征在于，該第二取像模組更包括多個(gè)位移機(jī) 構(gòu)，該取像單元分別設(shè)置于該位移機(jī)構(gòu)，每一取像單元能受該位移機(jī)構(gòu)驅(qū)動(dòng)沿X軸、Y軸與Z 軸方向位移。
3.如權(quán)利要求2所述雙面曝光裝置，其特征在于，該第二取像模組更包括設(shè)置于該機(jī) 臺(tái)的框架，該位移機(jī)構(gòu)與該取像單元設(shè)置于該框架。
4.如權(quán)利要求3所述雙面曝光裝置，其特征在于，還包含設(shè)置于該機(jī)臺(tái)的導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)，該 臺(tái)框模組設(shè)置于該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)并且能沿該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)位移于該第一位置與該第二位置，該第一 取像模組位于該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)下方，該第二取像模組位于該導(dǎo)軌機(jī)構(gòu)上方。
5.如權(quán)利要求4所述雙面曝光裝置，其特征在于，該機(jī)臺(tái)包括曝光室以及位于該曝光 室前方的操作側(cè)，當(dāng)該臺(tái)框模組位于該第一位置時(shí)，位于該操作側(cè)，當(dāng)該臺(tái)框模組位于該第 二位置時(shí)，位于該曝光室內(nèi)，該第一取像模組位于該操作側(cè)，該第二取像模組位于該曝光室 內(nèi)。
6.如權(quán)利要求5所述雙面曝光裝置，其特征在于，該第一取像模組的取像單元與該第 二取像模組的取像單元為CXD攝影機(jī)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種雙面曝光裝置，包含機(jī)臺(tái)、曝光模組、臺(tái)框模組、第一取像模組與第二取像模組；臺(tái)框模組包括設(shè)置于機(jī)臺(tái)的臺(tái)框本體以及設(shè)置于臺(tái)框本體的上底片與下底片，臺(tái)框模組用以供待曝光基板放置于上底片與該下底片之間并且受驅(qū)動(dòng)位移至第一位置以及第二位置；第一取像模組包括多個(gè)取像單元，取像單元用以當(dāng)臺(tái)框模組處于該第一位置時(shí)取得待曝光基板與臺(tái)框模組的下底片的位置影像；第二取像模組包括多個(gè)取像單元，取像單元用以當(dāng)臺(tái)框模組處于第二位置時(shí)取得待曝光基板與臺(tái)框模組的上底片的位置影像。本實(shí)用新型可提高待曝光基板的兩面曝光精度。
文檔編號(hào)G03F7/20GK201820072SQ20102029064
公開日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年8月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年8月12日
發(fā)明者張永裕, 李冠穎 申請(qǐng)人:志圣科技(廣州)有限公司