專利名稱：顯影裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本實(shí)用新型涉及液晶顯示裝置的矩陣(array)工藝技術(shù)，尤其涉及一種顯影裝置。
背景技術(shù)：
液晶顯示器是目前常用的平板顯示器，其中薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor Liquid Crystal Display，簡稱TFT-LCD)是液晶顯示器中的主流產(chǎn)品。主動矩陣驅(qū)動的TFT-IXD中顯示開關(guān)為TFT，而構(gòu)圖工藝是形成TFT圖案 (pattern)的重要工藝。構(gòu)圖工藝包括涂膠、曝光和顯影等步驟。隨著玻璃基板變大和對顯示分辨率 要求的提高，對于影印石版工藝中的關(guān)鍵尺寸(Critical Dimension,⑶)均勻度(⑶ uniformity)的控制要求也在提高。CD均勻度受眾多工藝參數(shù)影響，其中，顯影對CD均勻度的影響很大。顯影工藝分為兩部分，前半部分為水平顯影，后半部分為姿勢變換。顯影裝置包括 水平顯影液噴嘴。如圖1所示，基板1在水平顯影階段處于水平狀態(tài)，顯影裝置通過顯影液 噴嘴2使基板表面顯影液21分布較均勻，之后基板1進(jìn)入姿勢變換部分即顯影姿勢變換單 元，在一個(gè)氣缸的驅(qū)動下，基板1從水平狀態(tài)變換到傾斜狀態(tài)，從而使顯影液21從基板1上 面流到下面再流入顯影槽里，達(dá)到停止顯影、回收顯影液的目的。最后是結(jié)束顯影，水洗過 程，循環(huán)水噴嘴3在基板1處于傾斜狀態(tài)下時(shí)噴淋循環(huán)水31，進(jìn)行沖洗。然而在姿勢變換過程中，由于基板處于傾斜狀態(tài)，基板上顯影液的量從基板上部 到基板下部逐漸增加，會造成顯影后整個(gè)基板上CD均勻度的差異。為解決上述問題，現(xiàn)有技術(shù)中通過在基板傾斜時(shí)，在基板上方噴灑相同濃度的顯 影液，達(dá)到在傾斜過程中基板上下顯影液均勻分布的目的?，F(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷在于上方噴灑顯影液的過程結(jié)束時(shí)，顯影液還是會從基板 的上方流到基板的下方再到回收槽，因此基板傾斜時(shí)朝上的部分到朝下的部分，顯影液的 分布仍然是從上到下逐漸增多，基板在顯影效果上仍然存在差異，造成整個(gè)基板顯影程度 不同，從而導(dǎo)致顯影后CD均勻度較差。
實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型提供一種顯影裝置，以實(shí)現(xiàn)提高基板的顯影后⑶均勻度。本實(shí)用新型提供一種顯影裝置，包括在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋稀釋后的顯影液的稀釋顯影液噴嘴，與所述基板的運(yùn) 行方向平行，且與所述待顯影的基板平行，位于所述待顯影的基板傾斜時(shí)朝上的部分的上方。如上所述的顯影裝置還可包括在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋水的水噴嘴，與所述 基板的運(yùn)動方向平行，且與所述待顯影的基板平行，位于所述待顯影的基板傾斜時(shí)朝下的部分的上方。并且，進(jìn)一步地，如上所述的顯影裝置還可包括控制所述稀釋顯影液噴嘴開 關(guān)的第一控制單元，所述第一控制單元與所述稀釋顯影液噴嘴相連。如上所述的顯影裝置還可包括控制所述水噴嘴開啟且控制所述水噴嘴在所述稀 釋顯影液噴嘴關(guān)閉前關(guān)閉的第二控制單元，所述第二控制單元與所述水噴嘴相連。其中，所述稀釋顯影液噴嘴可與所述待顯影的基板同寬。所述水噴嘴可與所述待 顯影的基板同寬。所述稀釋顯影液噴嘴可為多個(gè)。本實(shí)用新型提供的顯影裝置，通過基板上方設(shè)置的稀釋顯影液噴嘴在基板傾斜時(shí) 噴淋稀釋后的顯影液，稀釋后的顯影液經(jīng)過與基板上部分的反應(yīng)進(jìn)一步稀釋，而不會加重 基板下一部分的顯影，因而可使整個(gè)基板上的顯影達(dá)到一個(gè)動態(tài)平衡，解決了現(xiàn)有技術(shù)中 顯影裝置顯影后的基板CD均勻度差的問題，提高了基板顯影后的CD均勻度。
圖1為現(xiàn)有技術(shù)中顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖及顯影過程示意圖；圖2為本實(shí)用新型第一實(shí)施例提供的顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖及顯影過程示意圖；圖3為本實(shí)用新型第二實(shí)施例提供的顯影裝置的結(jié)構(gòu)示意圖及顯影過程示意圖。
具體實(shí)施方式
為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本實(shí)用新 型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描 述的實(shí)施例是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施 例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于 本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型第一實(shí)施例如圖2所示，顯影裝置包括顯影液噴嘴2、稀釋顯影液噴嘴 4及第一控制單元(圖中未示出)。稀釋顯影液噴嘴4在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋稀釋后 的顯影液41，稀釋后的顯影液41濃度小于顯影液噴嘴2噴淋的顯影液21。稀釋顯影液噴嘴4與基板1的運(yùn)行方向平行，且與待顯影的基板1平行，并位于待 顯影的基板1傾斜時(shí)朝上的部分的上方。第一控制單元與稀釋顯影液噴嘴4相連，用來控制稀釋顯影液噴嘴4的開關(guān)，使其 在待顯影的基板1開始旋轉(zhuǎn)時(shí)打開，噴淋稀釋后的顯影液41。所述第一控制單元可設(shè)置于 姿勢變換單元中的控制設(shè)備中。其中，稀釋顯影液噴嘴4可與待顯影的基板1同寬。使用第一實(shí)施例提供的顯影裝置顯影時(shí)，水平時(shí)顯影僅打開顯影液噴嘴2噴淋顯 影液21。當(dāng)基板1開始姿勢變換時(shí)，稀釋顯影液噴嘴4便開始噴淋稀釋后的顯影液41。這 樣，在傾斜的過程中，整個(gè)基板1都在進(jìn)行顯影反應(yīng)，并且噴淋的稀釋后的顯影液41經(jīng)過與 基板1上部分的反應(yīng)進(jìn)一步稀釋，而不會加重基板下一部分的顯影，因而可使整個(gè)基板上 的顯影達(dá)到一個(gè)動態(tài)平衡。直到基板1完全傾斜，噴淋結(jié)束，進(jìn)入下一步水洗階段，由循環(huán) 水噴嘴3噴淋循環(huán)水31清洗基板1上顯影后殘留的顯影液。循環(huán)水31可為純水。本實(shí)用新型第二實(shí)施例如圖3所示，顯影裝置不僅包括第一實(shí)施例中的顯影液噴 嘴2及稀釋顯影液噴嘴4，還包括水噴嘴5及第二控制單元(圖中未示出)，用于在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋純水51，水噴嘴5與基板1的運(yùn)行方向平行，且與待顯影的基板1平行， 并位于待顯影的基板1傾斜時(shí)朝下的部分的上方。第二控制單元與所述水噴嘴相連，用于控制水噴嘴5開啟且控制水噴嘴5在稀釋 顯影液噴嘴4關(guān)閉前關(guān)閉，以保證上下基板顯影均勻，又可以使流到玻璃基板下方的顯影 液快速稀釋，在最短時(shí)間內(nèi)，使整個(gè)基板的顯影反應(yīng)處于一個(gè)平衡的狀態(tài)。其中，水噴嘴5可與待顯影的基板1同寬。使用第二實(shí)施例提供的顯影裝置時(shí)，基板1變換姿勢的情況下，上面稀釋顯影液 噴嘴4開始噴淋稀釋后的顯影液41，同時(shí)下方水噴嘴5開始噴淋純水51，基板1完全傾斜 時(shí)，下方水噴嘴5先停止噴淋，然后上方稀釋顯影液噴嘴4再停止噴淋，進(jìn)入下一步水洗階 段，可以在最短的時(shí)間內(nèi)使整個(gè)基板上的顯影反應(yīng)處于一個(gè)平衡的狀態(tài)。本實(shí)用新型通過在顯影單元姿勢變換部分設(shè)置一組可以在玻璃基板上方噴淋稀 釋顯影液的噴嘴(nozzle)或上方噴淋稀釋顯影液和下方噴淋純水同時(shí)進(jìn)行的兩組噴嘴， 就可以解決一直以來由于受基板從水平到傾斜姿勢變化，基板上下部的顯影液分不不均， 以至玻璃基板顯影后CD均勻度較差的問題。本實(shí)用新型上述實(shí)施例通過在顯影姿勢變換單元玻璃基板上方設(shè)置一個(gè)或一組 可以噴淋稀釋顯影液的噴嘴，或上方噴淋稀釋顯影液和下方噴淋純水的兩組噴嘴，實(shí)現(xiàn)了 在最短時(shí)間內(nèi)使整個(gè)基板上顯影液分布相對均勻，提高了顯影后CD均勻度。相對于現(xiàn)有技 術(shù)，本實(shí)用新型上述實(shí)施例提供了兩種在顯影姿勢變換單元提高玻璃基板面內(nèi)顯影均勻的 方法，優(yōu)化了姿勢變換狀態(tài)時(shí)顯影液的分布，解決了現(xiàn)有技術(shù)中基板在顯影后CD均勻度差 的問題。最后應(yīng)說明的是以上實(shí)施例僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案，而非對其限制； 盡管參照前述實(shí)施例對本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)的說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解 其依然可以對前述各實(shí)施例所記載的技術(shù)方案進(jìn)行修改，或者對其中部分技術(shù)特征進(jìn)行等 同替換；而這些修改或者替換，并不使相應(yīng)技術(shù)方案的本質(zhì)脫離本實(shí)用新型各實(shí)施例技術(shù) 方案的精神和范圍。
權(quán)利要求1.一種顯影裝置，其特征在于，包括在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋稀釋后的顯影液的稀釋顯影液噴嘴，與所述基板的運(yùn)行方 向平行，且與所述待顯影的基板平行，位于所述待顯影的基板傾斜時(shí)朝上的部分的上方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯影裝置，其特征在于，還包括在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋水的水噴嘴，與所述基板的運(yùn)動方向平行，且與所述待顯 影的基板平行，位于所述待顯影的基板傾斜時(shí)朝下的部分的上方。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置，其特征在于，還包括控制所述稀釋顯影液噴 嘴開關(guān)的第一控制單元，所述第一控制單元與所述稀釋顯影液噴嘴相連。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯影裝置，其特征在于，還包括控制所述水噴嘴開啟且控制 所述水噴嘴在所述稀釋顯影液噴嘴關(guān)閉前關(guān)閉的第二控制單元，所述第二控制單元與所述 水噴嘴相連。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置，其特征在于，所述稀釋顯影液噴嘴與所述待顯 影的基板同寬。
6.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯影裝置，其特征在于，所述水噴嘴與所述待顯影的基板同覓ο
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的顯影裝置，其特征在于，所述稀釋顯影液噴嘴為多個(gè)。
專利摘要本實(shí)用新型公開了一種顯影裝置，包括在待顯影的基板傾斜時(shí)噴淋稀釋后的顯影液的稀釋顯影液噴嘴，與所述基板的運(yùn)行方向平行，且與所述待顯影的基板平行，位于所述待顯影的基板傾斜時(shí)朝上的部分的上方。通過基板上方設(shè)置的稀釋顯影液噴嘴在基板傾斜時(shí)噴淋稀釋后的顯影液，稀釋后的顯影液經(jīng)過與基板上部分的反應(yīng)進(jìn)一步稀釋，而不會加重基板下一部分的顯影，因而可使整個(gè)基板上的顯影達(dá)到一個(gè)動態(tài)平衡，解決了現(xiàn)有技術(shù)中顯影裝置顯影后的基板CD均勻度差的問題，提高了基板顯影后的CD均勻度。
文檔編號G03F7/30GK201828770SQ20102056801
公開日2011年5月11日 申請日期2010年10月13日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月13日
發(fā)明者占偉, 孫亮, 孟春霞, 林承武, 秦穎 申請人:京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 北京京東方顯示技術(shù)有限公司