專利名稱：一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜技術(shù)領(lǐng)域[0001 ] 本實(shí)用新型涉及一種光學(xué)薄膜，特別涉及一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜。
技術(shù)背景[0002]在各種光學(xué)機(jī)器或熒光屏、液晶顯示器等顯示裝置領(lǐng)域，通常以聚酯薄膜為支持 體，在其一面涂敷硬化層，在它的另一面蒸鍍一層導(dǎo)電材料，以實(shí)現(xiàn)觸控導(dǎo)電功能。為了提 高觸摸屏的導(dǎo)電性能，有人在蒸鍍導(dǎo)電材料之前在支持體表面先涂敷一層硬化層，以增加 支持體表面的致密性，從而達(dá)到在不增加導(dǎo)電材料厚度的情況下降低表面方阻，提高導(dǎo)電 性能。然而，帶有雙面涂層的聚酯薄膜在蒸鍍導(dǎo)電材料之前通常是收卷后成卷存放的，由于 它的兩個(gè)表面都有涂層，并且這兩個(gè)涂層都過(guò)于致密，薄膜在收卷時(shí)會(huì)緊密接觸，導(dǎo)致薄膜 在收卷過(guò)程中發(fā)澀，產(chǎn)生相對(duì)位移的阻力較大，聚集在薄膜卷之間的空氣不容易釋放出來(lái)， 在存放的過(guò)程中造成薄膜表面出現(xiàn)水印，這些水印在后期加工過(guò)程中一直存在，最終影響 顯示屏幕的外觀。為了改善這種薄膜的發(fā)澀性，有人提出，在薄膜的一個(gè)涂層加入顆粒，使 顆粒突出在涂層的表面，提高其爽滑性，此種方法雖能解決發(fā)澀現(xiàn)象，但是，顆粒的加入會(huì) 降低薄膜的光線透過(guò)率，另外，加入的顆粒在涂層固化前容易聚集，產(chǎn)生堆積團(tuán)，影響光學(xué) 膜的表觀均一性，這些缺陷反映在顯示裝置上就是視野中的瑕疵點(diǎn)。實(shí)用新型內(nèi)容[0003]本實(shí)用新型要解決的技術(shù)問(wèn)題是提供一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜。[0004]為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型采用如下技術(shù)方案[0005]一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜，它包括透明基材和涂覆在透明基材上下兩個(gè)表面 的第一硬化層和第二硬化層，其中第二硬化層的表面具有凹坑，凹坑所占的面積之和與所 述硬化層的面積之比為2 :100 99 :100。[0006]上述光學(xué)薄膜中，所述凹坑的最大幾何尺寸在0. 01 μ m 10 μ m。[0007]上述光學(xué)薄膜中，所述凹坑隨機(jī)排列在硬化層的表面。[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型提供的光學(xué)薄膜的雙硬化層中不含有顆粒，而是通 過(guò)設(shè)置在硬化層表面的凹坑，將凹坑所占的面積之和與所述硬化層的面積之比控制在2 100 99 100的范圍內(nèi)，有效地解決了含有雙面硬化層的光學(xué)薄膜在收卷過(guò)程出現(xiàn)發(fā)澀、 存放過(guò)程中容易造成表面出現(xiàn)水印的問(wèn)題，避免了薄膜表面因顆粒聚集而造起的瑕疵點(diǎn)問(wèn) 題，同時(shí)還保持的薄膜的高透光率。


[0009]圖1是本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)剖面示意圖。[0010]圖中各標(biāo)號(hào)表示為1、透明基材；2、第一硬化層；3、第二硬化層；4、凹坑。
具體實(shí)施方式
[0011]
以下結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，但本實(shí)用新型的保護(hù)并 不局限于以下實(shí)施例。[0012]實(shí)施例1[0013]如圖1所示，本實(shí)用新型的光學(xué)薄膜包括一個(gè)透明基材1，該透明基材為厚度 30 400微米的聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯層；一個(gè)第一硬化層2，該硬化層由丙烯酸樹(shù)脂、光 引發(fā)劑和丁酮溶劑混合制備的硬化涂布液在透明基材上的一面涂覆、固化而成；一個(gè)具有 凹坑4的第二硬化層3，該硬化層由丙烯酸樹(shù)脂0、光引發(fā)劑和丁酮溶劑混合制備的硬化涂 布液涂覆在透明基材的另一面，經(jīng)過(guò)預(yù)處理，然后經(jīng)紫外光照射而成，凹坑的最大幾何尺寸 在0. 01 μ m,凹坑隨機(jī)排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積之和與硬化層的面積之比為 2:100。[0014]實(shí)施例2[0015]凹坑的最大幾何尺寸在0. 5 μ m，凹坑隨機(jī)排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積 之和與硬化層的面積之比為18:100。[0016]其余同實(shí)施例1。[0017]實(shí)施例3[0018]凹坑的最大幾何尺寸在1. 0 μ m，凹坑隨機(jī)排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積 之和與硬化層的面積之比為40:100。[0019]其余同實(shí)施例1。[0020]實(shí)施例4[0021]凹坑的最大幾何尺寸在3. 0 μ m，凹坑隨機(jī)排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積 之和與硬化層的面積之比為55:100。[0022]其余同實(shí)施例1。[0023]實(shí)施例5[0024]凹坑的最大幾何尺寸在5. 0 μ m，凹坑緊密排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積 之和與硬化層的面積之比為70:100。[0025]其余同實(shí)施例1。[0026]實(shí)施例6[0027]凹坑的最大幾何尺寸在7. 0 μ m，凹坑緊密排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積 之和與硬化層的面積之比為85:100。[0028]其余同實(shí)施例1。[0029]實(shí)施例7[0030]凹坑的最大幾何尺寸在10. 0 μ m,凹坑緊密排列在硬化層的表面，凹坑所占的面積 之和與硬化層的面積之比為99:100。[0031]其余同實(shí)施例1。[0032]
權(quán)利要求1.一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜，它包括透明基材(1)和涂覆在透明基材上下兩個(gè)表 面的第一硬化層(2)和第二硬化層(3)，其特征在于，其中第二硬化層(3)的表面具有凹坑 (4)，凹坑所占的面積之和與所述硬化層的面積之比為2 100 99 :100。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述凹坑的最大幾何尺寸在 0. 01 μ m ~ 10 μ m。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，所述凹坑隨機(jī)排列在硬化層的表
專利摘要一種具有雙硬化層的光學(xué)薄膜，它包括透明基材和涂覆在透明基材上下兩個(gè)表面的第一硬化層和第二硬化層，其中第二硬化層的表面具有凹坑，凹坑所占的面積之和與所述硬化層的面積之比為2100～99100。本實(shí)用新型通過(guò)設(shè)置在硬化層表面的凹坑，達(dá)到光學(xué)薄膜需要添加顆粒時(shí)才能具有的效果，降低了摩擦系數(shù)，提高了薄膜的表面爽滑性，解決了薄膜表面因顆粒聚集引起的瑕疵點(diǎn)問(wèn)題，并同時(shí)保持的薄膜的高透光率，可廣泛應(yīng)用觸摸屏領(lǐng)域。
文檔編號(hào)G02B1/10GK201819997SQ20102056844
公開(kāi)日2011年5月4日 申請(qǐng)日期2010年10月20日 優(yōu)先權(quán)日2010年10月20日
發(fā)明者王旭亮, 申躍生, 趙保良, 霍新莉, 高青 申請(qǐng)人:中國(guó)樂(lè)凱膠片集團(tuán)公司, 保定樂(lè)凱薄膜有限責(zé)任公司, 合肥樂(lè)凱科技產(chǎn)業(yè)有限公司