專利名稱：光重新定向膜和包括所述光重新定向膜的顯示系統(tǒng)的制作方法
技術領域：
本發(fā)明整體涉及用于重新定向光的光學膜。本發(fā)明還適用于包括此類光學膜的光學系統(tǒng)，例如顯示系統(tǒng)。
背景技術：
顯示系統(tǒng)(例如液晶顯示(LCD)系統(tǒng))用于多種應用和市售的裝置中，例如(如) 計算機監(jiān)視器、個人數(shù)字助理(PDA)、移動電話、微型音樂播放器、和薄LCD電視。大多數(shù)LCD 包括液晶面板和用于照射液晶面板的擴展區(qū)域光源(通常稱為背光源)。背光源通常包括一個或多個燈以及多個光控制膜(例如(如)光導、反射鏡膜、光重新定向膜、延遲膜、光偏振膜、和漫射膜)。通常包括漫射膜以隱藏光學缺陷和改善背光源發(fā)射的光的亮度均勻性。

發(fā)明內容
一般來講，本發(fā)明涉及光重新定向膜。在一個實施例中，光重新定向膜包括第一主表面和第二主表面，所述第一主表面包括沿第一方向延伸的多個第一微結構，所述第二主表面背對第一主表面并且包括多個第二微結構。第二主表面具有在約4%至約20 %范圍內的光學霧度和在約20%至約60%范圍內的光學清晰度。光重新定向膜具有不小于約1. 55 的平均有效透射比。在一些情況下，多個第一微結構包括沿第一方向延伸的多個線性棱柱。 在一些情況下，多個第一微結構中的一個微結構的最大高度不同于多個第一微結構中的另一個微結構的最大高度。在一些情況下，多個第一微結構中的微結構的高度沿第一方向而變化。在一些情況下，多個第二微結構包括多個凸起。在一些情況下，多個第二微結構包括多個凹陷。在一些情況下，多個第二微結構覆蓋第二主表面的至少約40%、或至少約50%。 在一些情況下，多個第二微結構覆蓋第二主表面的約40%至約95%、或約50%至約90%。 在一些情況下，多個第二微結構形成規(guī)則圖案。在一些情況下，多個第二微結構形成不規(guī)則圖案。在一些情況下，第二主表面的不超過約7%具有大于約9度、或大于約8度、或大于約 7度的傾斜度值。在一些情況下，第二主表面的不超過約3%具有大于約10度、或大于約9 度、或大于約8度的傾斜度值。在一些情況下，第二主表面具有在約4%至約18%、或約4% 至約15%、或約5%至約12%、或約5%至約10%范圍內的光學霧度。在一些情況下，第二主表面具有在約25%至約60%、或約30%至約60%、或約30%至約55%范圍內的光學清晰度。在一些情況下，光重新定向膜的平均有效透射比不小于約1.58、或不小于約1.6。在一些情況下，第二微結構的主體部分未設置在平均粒度大于約0. 5微米的顆粒上。在一些情況下，光重新定向膜不包括平均粒度大于約0. 5微米、或大于約0. 2微米、或大于約0. 1 微米的顆粒。在一些情況下，多個第二微結構的平均高度不大于約4微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米。在一些情況下，多個第二微結構中的微結構具有半峰半寬(HWHM) 在約2度至約6度、或約2. 5度至約5. 5度、或約3度至約5度范圍內的傾斜度分布。在一些情況下，光重新定向膜包括具有相對的第一和第二主表面的基底層、設置在基底層的第一主表面上并且包括光重新定向膜的第一主表面的第一層、以及設置在基底層的第二主表面上并且包括光重新定向層的第二主表面的糙面層。在一些情況下，第一層具有不小于約 1. 5、或不小于約1. 55、或不小于約1. 6、或不小于約1. 65、或不小于約1. 7的折射率。在一些情況下，第一層具有在約1. 5至約1. 8范圍內的折射率。在一些情況下，糙面層具有不小于約1. 4、或不小于約1. 5的折射率。在一些情況下，糙面層具有在約1. 4至約1. 6范圍內的折射率。在一些情況下，糙面層包括多個顆粒，所述多個顆粒的平均粒度是多個第二微結構的平均粒度的至多1/5、或至多1/10。在一些情況下，如果糙面層包括顆粒，則糙面層的平均厚度比顆粒的平均粒度大至少2微米。在一些情況下，如果糙面層包括顆粒，則糙面層的平均厚度是顆粒的平均粒度的至少2倍。在一些情況下，第二主表面在整個第二主表面上具有傾斜度分布，其中所述傾斜度分布具有在約2度至約6度、或約2度至約5. 5度、或約2. 5度至約5. 5度、或約2. 5度至約5度、或約3度至約5度范圍內的半峰半寬(HWHM)。 在一些情況下，第二主表面的傾斜度值分布具有至少一個峰。在一些情況下，第二主表面的傾斜度值分布具有一個峰，其中在一些情況下，所述一個峰設置成小于約4度、或小于約 3. 5度的角度。在一些情況下，第二主表面的傾斜度值分布具有至少兩個峰，其中在一些情況下，第一峰設置成小于約4度的第一角度并且第二峰設置成在約4度至約8度范圍內的第二角度。在一些情況下，第一峰設置成小于約4度的第一角度并且第二峰設置成在約4 度至約6度范圍內的第二角度。在一些情況下，第一峰設置成小于約2度的第一角度并且第二峰設置成在約6度至約8度范圍內的第二角度。在一些情況下，第二主表面的表面特征的二維傅里葉譜圖包括沿第一主方向的多個峰。多個峰包括不對應于零頻率的最低頻率峰。與最低頻率峰相鄰的谷限定基線。最低頻率峰限定位于最低頻率峰和基線之間的第一區(qū)域以及位于基線下方的第二區(qū)域。第一區(qū)域相對第二區(qū)域的比率小于約2、或小于約1. 75、或小于約1. 5、或小于約1. 25、或小于約1、 或小于約0. 8。在一些情況下，背光源包括光源、從光源接收光的第一光重新定向膜、以及設置在第一光重新定向膜上的第二光重新定向膜。用于第一光重新定向膜的第一方向不同于用于第二光重新定向膜的第一方向。在一些情況下，第一和第二光重新定向膜中的每一個的第二主表面面向光源并且第一和第二光重新定向膜中的每一個的第一主表面背向光源。在另一個實施例中，光重新定向膜包括第一主表面和第二主表面，所述第一主表面包括多個線性微結構，所述第二主表面背對第一主表面并且包括多個第二微結構。第二主表面具有在約4%至約20%范圍內的光學霧度和在約20%至約60%范圍內的光學清晰度。光重新定向膜與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光重新定向膜相比具有不低或低不超過約2 %的平均有效透射比。在一些情況下，光重新定向膜與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光重新定向膜相比具有低不超過約1. 5%的平均有效透射比。在另一個實施例中，光學疊堆包括第一光重新定向膜，所述第一光重新定向膜包括第一主表面和相對的第二主表面。第一主表面包括沿沿第一方向延伸的第一多個微結構。第二主表面包括第二多個微結構。光學疊堆還包括第二光重新定向膜，所述第二光重新定向膜包括第三主表面和相對的第四主表面。第三主表面面向第一光重新定向膜的第二主表面并且包括沿不同于第一方向的第二方向延伸的第三多個微結構。第二主表面具有在約4 <%至約20 <%范圍內的光學霧度和在約20 <%至約60 <%范圍內的光學清晰度。第四主表面具有不大于約0.5%的光學霧度。在一些情況下，第二主表面具有在約4%至約18%、或約4%至約15%、或約5%至約15%、或約5%至約12%范圍內的光學霧度。在一些情況下， 第二主表面具有在約25%至約60%、或約30%至約60%、或約30%至約55%的光學清晰度。在一些情況下，光學疊堆具有不小于約2. 1、或不小于約2. W、或不小于約2. 5的有效透射比。在另一個實施例中，光學疊堆包括第一光重新定向膜，所述第一光重新定向膜包括第一主表面和相對的第二主表面。第一主表面包括沿沿第一方向延伸的第一多個微結構。光學疊堆還包括第二光重新定向膜，所述第二光重新定向膜包括第三主表面和相對的第四主表面。第三主表面面向第一光重新定向膜的第二主表面并且包括沿不同于第一方向的第二方向延伸的第三多個微結構。第二主表面具有在約4%至約20 %范圍內的光學霧度和在約20%至約60%范圍內的光學清晰度。光學疊堆與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二表面的光學疊堆相比具有不低或低不超過約6%的有效透射比。在一些情況下，與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光學疊堆相比，平均有效透射比低不超過約5. 5%、或不超過約5%、或不超過約4. 5%。在一些情況下，第四主表面具有不大于約 0.5%的光學霧度。


結合附圖對本發(fā)明的各種實施例所做的以下詳細描述將有利于更完整地理解和領會本發(fā)明，其中圖1為光重新定向膜的示意性側視圖；圖2為用于測定有效透射比的光學系統(tǒng)的示意性側視圖；圖3A為凹陷微結構的示意性側視圖；圖;3B為凸起微結構的示意性側視圖；圖4A為規(guī)則設置的微結構的示意性俯視圖；圖4B為不規(guī)則設置的微結構的示意性俯視圖；圖5為微結構的示意性側視圖；圖6為相對表面分數(shù)“f”的計算光學霧度；圖7為相對表面分數(shù)“f”的計算光學清晰度；圖8為相對光學霧度的計算光學清晰度；圖9為光學膜的示意性側視圖；圖10為另一個光學膜的示意性側視圖；圖11為切削工具系統(tǒng)的示意性側視圖；圖12A-12D為各種切削器的示意性側視圖；圖13A為微結構化表面的三維AFM表面輪廓；
圖13B-13C為圖13A中的微結構化表面分別沿χ-和y_方向的橫截面輪廓；圖14A為另一個微結構化表面的三維AFM表面輪廓；圖14B-14C為圖14A中的微結構化表面分別沿χ-和y_方向的橫截面輪廓；圖15A為另一個微結構化表面的三維AFM表面輪廓；圖15B-15C為圖15A中的微結構化表面分別沿χ-和y_方向的橫截面輪廓；圖16A為另一個微結構化表面的三維AFM表面輪廓；圖16B-16C為圖16A中的微結構化表面分別沿x_和y_方向的橫截面輪廓；圖17A為另一個微結構化表面的三維AFM表面輪廓；圖17B-17C為圖17A中的微結構化表面分別沿χ-和y_方向的橫截面輪廓；圖18A為另一個微結構化表面的三維AFM表面輪廓；圖18B-18C為圖18A中的微結構化表面分別沿χ-和y_方向的橫截面輪廓；圖19和20為微結構化表面沿相應χ-和y_方向的傾斜度分布百分比；圖21為各種微結構化表面的傾斜度值分布百分比；圖22為各種微結構化表面的累積傾斜度分布百分比；圖23-28為各種微結構化表面的經計算絕對二維傅里葉譜圖；圖四為光學疊堆的示意性側視圖；圖30為顯示系統(tǒng)的示意性側視圖；并且圖31為微結構化表面沿重復方向的傅里葉譜圖。在說明書中，多個附圖中使用的相同附圖標號是指具有相同或類似特性和功能的相同或類似元件。
具體實施例方式本發(fā)明整體涉及光重新定向膜，其能夠顯著增強顯示系統(tǒng)的亮度而同時隱藏和/ 或消除物理缺陷(例如刮痕)和不利的光學缺陷(例如波紋和彩色云紋)。本發(fā)明所公開的光重新定向膜消除或降低顯示器中對于一個或多個常規(guī)膜(例如一個或多個漫射膜)的需要。本發(fā)明所公開的光重新定向膜包括用于改善亮度的線性微結構陣列和用于改善顯示美觀性的糙面表面。糙面表面遮蔽、消除、和/或降低物理缺陷、波紋、彩色云紋的可見性并且基本上消除或降低與糙面表面直接接觸的膜的刮痕。糙面表面的光學霧度在基本上保持亮度的范圍內，并且糙面表面的光學清晰度在基本上遮蔽和/或消除缺陷的范圍內。圖1為用于將入射光重新定向至所需方向的光重新定向膜100的示意性側視圖。 光重新定向膜100包括第一主表面110，所述第一主表面110包括沿y-方向延伸的多個微結構150。光重新定向膜100還包括第二主表面120，所述第二主表面120背對第一主表面 110并且包括多個微結構160。光重新定向膜100還包括基底層170，所述基底層170設置在相應的第一和第二主表面110和120之間并且包括第一主表面172和相對的第二主表面174。光重新定向膜 100還包括棱柱層130和糙面層140，所述棱柱層130設置在基底層的第一主表面172上并且包括光重新定向膜的第一主表面110，所述糙面層140設置在基底層的第二主表面174上并且包括光重新定向膜的第二主表面120。糙面層具有背對主表面120的主表面142。示例性的光重新定向膜100包括三層130、170和140。一般來講，光重新定向膜可具有一個或多個層。例如，在一些情況下，光重新定向膜可具有包括相應的第一和第二主表面110和120的單個層。又如，在一些情況下，光重新定向膜可具有多個層。例如，在這種情況下，基底170可具有多個層。微結構150主要被設計為沿所需方向(例如沿正ζ-方向)來重新定向入射到光重新定向膜的主表面120上的光。在示例性的光重新定向膜100中，微結構150為棱柱線性結構。一般來講，微結構150可為任何類型的微結構，所述微結構能夠通過(例如)折射入射光的一部分并且循環(huán)利用入射光的不同部分來重新定向光。例如，微結構150的橫截面輪廓可為或可包括彎曲和/或分段的線性部分。例如，在一些情況下，微結構150可為沿 y-方向延伸的線性圓柱透鏡。各個線性棱柱微結構150均包括頂角152和從公共基準面(例如(如)主平面表面17 測定的高度154。在一些情況下，例如當希望減少光學耦合或浸透并且/或者改善光重新定向膜的耐久性時，棱柱微結構150的高度可沿y_方向變化。例如，棱柱線性微結構151的棱柱高度沿y_方向變化。在這種情況下，棱柱微結構151具有沿y-方向變化的局部高度、最大高度155、和平均高度。在一些情況下，棱柱線性微結構(例如線性微結構 153)沿y_方向具有恒定的高度。在這種情況下，微結構具有等于最大高度和平均高度的恒定局部高度。在一些情況下，例如當希望減少光學耦合或浸透時，線性微結構中的一些為較短的并且線性微結構中的一些為較高的。例如，線性微結構153的高度156低于線性微結構 157的高度158。頂角或二面角152可具有可在應用中需要的任何值。例如，在一些情況下，頂角 152可在約70度至約110度、或約80度至約100度、或約85度至約95度的范圍內。在一些情況下，微結構150具有可(例如)在約88或89度至約92或91度范圍內(例如90度) 的相等頂角。棱柱層130可具有可在應用中需要的任何折射率。例如，在一些情況下，棱柱層的折射率在約1.4至約1.8、或者約1.5至約1.8、或者約1.5至約1.7的范圍內。在一些情況下，棱柱層的折射率不小于約1. 5、或不小于約1. 55、或不小于約1. 6、或不小于約1. 65、 或不小于約1. 7。在一些情況下，例如當光重新定向膜100用于液晶顯示系統(tǒng)中時，光重新定向膜 100可增加或改善顯示器的亮度。在這種情況下，光重新定向膜具有大于1的有效透射比 (ET)或相對增益。如本文所用，“有效透射比”為顯示系統(tǒng)中存在就位膜的顯示系統(tǒng)的亮度與其中不存在就位膜的顯示器的亮度的比率?？衫霉鈱W系統(tǒng)200來測定有效透射比，所述光學系統(tǒng)200的示意性側視圖示于圖2中。光學系統(tǒng)200以光軸250為中心并且包括中空朗伯光箱210、線性光吸收型偏振器 220、和光檢測器230，所述中空朗伯光箱210通過發(fā)射或離開表面212發(fā)射朗伯光215。利用通過光纖270連接至光箱的內部觀0的穩(wěn)定寬帶光源260來照射光箱210。將有待通過光學系統(tǒng)測定ET的測試樣品設置在位于光箱和吸收型線性偏振器之間的位置240處?？赏ㄟ^將光重新定向膜設置在位置240處來測定光重新定向膜100的ET，其中線性棱柱150面向光檢測器并且微結構160面向光箱。然后，通過光檢測器來測定透過線性吸收型偏振器的光譜加權軸亮度I1 (沿光軸250的亮度)。然后，移除光重新定向膜并且在不存在光重新定向膜設置于位置240處的情況下來測定光譜加權亮度12。ET為比率I1A215 ETO為當線性棱柱150沿平行于線性吸收型偏振器220的偏振軸的方向延伸時的有效透射比，并且ET90為當線性棱柱150沿垂直于線性吸收型偏振器的偏振軸的方向延伸時的有效透射比。平均有效透射比(ETA)為ETO和ET90的平均值。本文所公開的測定有效透射比值是利用用于光檢測器230的 Spectrakan PR-650 光譜色度計(得自 Photo Research 公司(Chatsworth，CA))來測定的。光箱210為具有約85%的總反射率的特氟隆立方體。在一些情況下，例如當光重新定向膜100用于顯示系統(tǒng)中以增加亮度并且線性棱柱具有大于約1. 6的折射率時，光重新定向膜的平均有效透射比(ETA)不小于約1. 5、或不小于約1. 55、或不小于約1. 58、或不小于約1. 6、或不小于約1. 65、或不小于約1. 7、或不小于約1. 75、或不小于約1. 8。糙面層140中的微結構160主要被設計用于隱藏不利的物理缺陷(例如(如)刮痕)和/或光學缺陷(例如(如)得自顯示器或照射系統(tǒng)中的燈的不利亮點或“熱”點)， 其中所述微結構160對光重新定向膜重新定向光和增加亮度的能力不具有或具有極少不利影響。在這種情況下，第二主表面120具有在約3%至約25%、或約3%至約20%、或約 4%至約20%、或約4%至約18%、或約4%至約15%、或約5%至約12%、或約5%至約10% 范圍內的光學霧度；和在約15%至約65%、或約15%至約60%、或約20%至約60%、或約 25%至約60%、或約30%至約60%、或約30%至約55%范圍內的光學清晰度。如本文所用，光學霧度被定義為偏離法向大于4度的透射光與總透射光的比率。 本文公開的測定光學霧度值是利用Haze-Gard Plus霧度計(可得自BKardiner，Silver SpringS，Md.)根據ASTM D 1003中描述的程序進行測定的。如本文所用，光學清晰度是指表達式(T1-T2V(I^T2),其中T1為偏離法向1.6至2度的透射光，T2為距法向0至0.7度的透射光。本文所公開的測定光學清晰度值是使用得自肌K-Gardiner的Haze-Gard Plus 霧度計測得的。微結構160可為可在應用中需要的任何類型的微結構。在一些情況下，微結構160 可為凹陷。例如，圖3A為類似于糙面層140并且包括凹陷微結構320的糙面層310的示意性側視圖。在一些情況下，微結構160可為凸起。例如，圖:3B為類似于糙面層140并且包括凸起微結構340的糙面層330的示意性側視圖。在一些情況下，微結構160可形成規(guī)則圖案。例如，圖4A為類似于微結構160并且在主表面415中形成規(guī)則圖案的微結構410的示意性俯視圖。在一些情況下，微結構160 可形成不規(guī)則圖案。例如，圖4B為類似于微結構160并且形成不規(guī)則圖案的微結構420的示意性俯視圖。在一些情況下，微結構160可形成顯得無規(guī)的偽無規(guī)圖案。一般來講，微結構160可具有任何高度和任何高度分布。在一些情況下，微結構 160的平均高度(即，平均最大高度減去平均最小高度)不大于約5微米、或不大于約4微米、或不大于約3微米、或不大于約2微米、或不大于約1微米、或不大于約0. 9微米、或不大于約0. 8微米、或不大于約0. 7微米。圖5為糙面層140的一部分的示意性側視圖。具體地講，圖5示出了位于主表面 120中并且面向主表面142的微結構160。微結構160具有在整個微結構表面上的傾斜度分布。例如，微結構在位置510處具有傾斜度Θ，其中θ為法線520與切線530之間的角度，所述法線520垂直于在位置510處的微結構表面(α = 90度)，所述切線530相切于在相同位置處的微結構表面。傾斜度θ也為切線530和糙面層的主表面142之間的角度。利用類似于市售光線跟蹤程序(例如(如)TracePro (得自Lambda Research公司(Littleton，·)))的程序來計算糙面層140的光學霧度和清晰度。在實施計算中，假定各個微結構均具有半峰半寬(HWHM)等于s的高斯傾斜度分布。另外還假定糙面層具有等于1.5的折射率。計算結果示于圖6、7和8中。圖6為針對九種不同的ο值而言相對表面分數(shù)“f”的計算光學霧度，其中f為主表面120中由微結構160覆蓋的面積百分比。圖 7為相對f的計算光學清晰度。圖8為相對計算光學霧度的計算光學清晰度。在一些情況下，例如當微結構160在未降低或極少降低亮度的情況下有效隱藏物理和/或光學缺陷時， 多個微結構160覆蓋第二主表面120的至少約40%、或至少約45%、或至少約50%、或至少約55%、或至少約60%、或至少約65%、或至少約70%。在一些情況下，例如當微結構160 在未降低或極少降低亮度的情況下有效隱藏物理和/或光學缺陷時，多個微結構160覆蓋第二主表面120的約10%至約95%、或約20%至約95%、或約30%至約95%、或約40%至約95%、或約50%至約95%、或約50%至約90%、或約55%至約90%。在一些情況下，例如當微結構具有高斯或正態(tài)傾斜度分布時，該分布的HWHMo在約2度至約6度、或約2度至約5. 5度、或約2. 5度至約5. 5度、或約2. 5度至約5度、或約 3度至約5. 5度、或約3度至約5度、或約3. 5度至約5度的范圍內。在上文所公開的示例性計算中，假定微結構160具有HWHM等于ο的高斯傾斜度分布。一般來講，微結構可具有在應用中需要的任何分布。例如，在一些情況下，例如當微結構為球形部分時，微結構可具有介于兩個臨界角之間的均勻分布。其他示例性的傾斜度分布包括洛倫茲分布、拋物線分布、以及不同分布(例如高斯分布)的組合。例如，在一些情況下，微結構可具有結合或合并第二高斯分布的第一高斯分布，其中第一高斯分布具有較小的HWHM σ工，第二高斯分布具有較大的HWHM σ 2。在一些情況下，微結構可具有不對稱的傾斜度分布。在一些情況下，微結構可具有對稱的分布。圖9為光學膜800的示意性側視圖，所述光學膜800包括設置在類似于基底170的基底850上的糙面層860。糙面層860包括附接至基底850的第一主表面810、背對第一主表面的第二主表面820、和分散于粘結劑840中的多個顆粒830。第二主表面820包括多個微結構870。微結構870的主體部分(例如至少約50%、或至少約60%、或至少約70%、或至少約80%、或至少約90%)設置在顆粒830上，且主要因顆粒830而形成。換句話講，顆粒830為微結構870形成的主要原因。在這種情況下，顆粒830具有大于約0. 25微米、或大于約0. 5微米、或大于約0. 75微米、或大于約1微米、或大于約1. 25微米、或大于約1. 5 微米、或大于約1. 75微米、或大于約2微米的平均粒度。在一些情況下，糙面層140可類似于糙面層860并且可包括多個顆粒，所述多個顆粒為第二主表面120中形成微結構160的主要原因。顆粒830可為可在應用中需要的任何類型的顆粒。例如，顆粒830可由聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、聚苯乙烯(PS)、或可在應用中需要的任何其他材料構成。一般來講，顆粒 830的折射率不同于粘結劑840的折射率，但在一些情況下，它們可具有相同的折射率。例如，顆粒830的折射率可為約1. 35、或約1. 48、或約1. 49、或約1. 50，并且粘結劑840的折射率可為約1. 48、或約1. 49、或約1. 50。
在一些情況下，糙面層140不包括顆粒。在一些情況下，糙面層140包括顆粒，但顆粒并非為微結構160形成的主要原因。例如，圖10為光學膜900的示意性側視圖，所述光學膜900包括設置在類似于基底170的基底950上的類似于糙面層140的糙面層960。 糙面層960包括附接至基底950的第一主表面910、背對第一主表面的第二主表面920、和分散于粘結劑940中的多個顆粒930。第二主表面970包括多個微結構970。盡管糙面層 960包括顆粒930，但顆粒并非為微結構970形成的主要原因。例如，在一些情況下，顆粒遠小于微結構的平均尺寸。在這種情況下，可通過(例如)微復制結構化工具來形成微結構。 在這種情況下，顆粒930的平均粒度小于約0. 5微米、或小于約0. 4微米、或小于約0. 3微米、或小于約0. 2微米、或小于約0. 1微米。在這種情況下，微結構970的主體部分(例如至少約50 %、或至少約60 %、或至少約70 %、或至少約80 %、或至少約90 % )未設置在平均粒度大于約0. 5微米、或大于約0. 75微米、或大于約1微米、或大于約1. 25微米、或大于約 1. 5微米、或大于約1. 75微米、或大于約2微米的顆粒上。在一些情況下，微結構930的平均尺寸是顆粒930的平均粒度的至少約2倍、或至少約3倍、或至少約4倍、或至少約5倍、 或至少約6倍、或至少約7倍、或至少約8倍、或至少約9倍、或至少約10倍。在一些情況下，如果糙面層960包括顆粒930，則糙面層960的平均厚度“t”比顆粒的平均粒度大至少約0. 5微米、或至少約1微米、或至少約1. 5微米、或至少約2微米、或至少約2. 5微米、或至少約3微米。在一些情況下，如果糙面層包括多個顆粒，則糙面層的平均厚度比顆粒的平均厚度大至少約2倍、或至少約3倍、或至少約4倍、或至少約5倍、或至少約6倍、或至少約7倍、或至少約8倍、或至少約9倍、或至少約10倍。重新參考圖1，在一些情況下，光重新定向膜100在層的至少一些(例如棱柱層 130、基底層170、或糙面層140)中具有小顆粒以用于增加層的折射率。例如，光重新定向膜 100中的一個或多個層可包括論述于例如美國專利No. 7，074，463 (Jones等人)和美國專利公開號2006/0210726中的無機納米粒子，例如二氧化硅或氧化鋯納米粒子。在一些情況下，光重新定向膜100不包括平均粒度大于約2微米、或約1. 5微米、或約1微米、或約0. 75 微米、或約0. 5微米、或約0. 25微米、或約0. 2微米、或約0. 15微米、或約0. 1微米的任何顆粒?？墒褂每稍趹弥行枰娜魏沃苽浞椒▉碇苽湮⒔Y構160。例如，可使用得自工具的微復制來制備微結構，其中所述工具可利用任何可用的制備方法(例如通過使用雕刻或金剛石車削)進行制備。示例性的金剛石車削系統(tǒng)和方法可包括并且利用描述于(例如) PCT已公布的專利申請?zhí)朩O 00/48037以及美國專利No. 7，350，442和No. 7，328，638中的快速刀具伺服機構(FST)，上述專利的公開內容以全文引用的方式并入本文。圖11為可用于切削工具的切削工具系統(tǒng)1000的示意性側視圖，所述工具可被微復制以產生微結構160和糙面層140。切削工具系統(tǒng)1000采用螺紋切削車床車削工藝，并包括可通過驅動器1030圍繞中心軸1020旋轉和/或沿中心軸1020移動的輥1010，以及用于切削輥材料的切削器1040。切削器被安裝在伺服機構1050上，并且可通過驅動器1060 沿χ-方向移動至輥內和/或沿輥移動。通常，切削器1040垂直于輥和中心軸1020安裝， 并且在輥圍繞中心軸旋轉的同時被驅動到輥1010的可雕刻材料內。然后平行于中心軸驅動切削器以產生螺紋切削?？赏瑫r以高頻率和低位移來致動切削器1040以在輥中產生復制時得到微結構160的特征。
伺服機構1050為快速刀具伺服機構(FTS)，并且包括快速調節(jié)切削器1040位置的固態(tài)壓電(PZT)裝置(也稱為PZT疊堆)。FTS 1050允許切削器1040在χ-、y-和/或 ζ-方向上，或在偏軸方向上的高精確和高速移動。伺服機構1050可為能夠相對靜止位置產生受控移動的任何高品質位移伺服機構。在一些情況下，伺服機構1050可牢靠地且可重復地提供分辨率為約0. 1微米或更好的0至約20微米范圍內的位移。驅動器1060可沿平行于中心軸1020的x_方向移動切削器1040。在一些情況下， 驅動器1060的位移分辨率優(yōu)于約0. 1微米，或優(yōu)于約0. 01微米。驅動器1030產生的旋轉移動與驅動器1060產生的平移移動同步進行，以便精確地控制微結構160的所得形狀。輥1010的可雕刻材料可為能夠通過切削器1040進行雕刻的任何材料。示例性的輥材料包括金屬(如銅)、各種聚合物、和各種玻璃材料。切削器1040可為任何類型的切削器，并且可具有可在應用中需要的任何形狀。例如，圖12A為切削器1110的示意性側視圖，所述切削器1110具有半徑為“R”的弧形切削刀頭1115。在一些情況下，切削刀頭1115的半徑R為至少約100微米、或至少約150微米、或至少約200微米、或至少約300微米、或至少約400微米、或至少約500微米、或至少約1000 微米、或至少約1500微米、或至少約2000微米、或至少約2500微米、或至少約3000微米。又如，圖12B為切削器1120的示意性側視圖，所述切削器1120具有頂角為β的V 形切削刀頭1125。在一些情況下，切削刀頭1125的頂角β為至少約100度、或至少約110 度、或至少約120度、或至少約130度、或至少約140度、或至少約150度、或至少約160度、 或至少約170度。作為其他實例，圖12C為具有分段線性切削刀頭1135的切削器1130的示意性側視圖，并且圖12D為具有彎曲切削刀頭1145的切削器1140的示意性側視圖。重新參考圖11，當切削輥材料時，輥1010沿中心軸1020的旋轉以及切削器1040 沿χ-方向的移動限定圍繞輥的沿中心軸具有間距P1的螺紋路徑。當切削器沿垂直于輥表面的方向移動以切削輥材料時，由切削器切削的材料的寬度隨切削器移入和移出或者切入和切出而改變。參照例如圖12Α，切削器的最大穿透深度對應于切削器切削的最大寬度Ρ2。 在一些情況下，例如當光重新定向膜100中的微結構160幾何對稱且足以能夠在不降低或極少降低亮度的情況下隱藏或遮蔽物理和/或光學缺陷時，比率P2A31在約1. 5至約6、或約2至約5、或約2. 5至約4的范圍內。利用類似于切削工具系統(tǒng)1000的切削工具系統(tǒng)來制備圖案化輥并且隨后微復制圖案化工具以制備類似于糙面層140的糙面層，由此來制備具有類似于微結構160的微結構的若干樣品。將所制備樣品的表面通過原子力顯微鏡(AFM)在約200微米X約200微米的區(qū)域上進行表征。圖13Α為利用本文所公開的方法制備的樣品MM1的示例性三維AFM 表面輪廓。樣品具有約95. 2%的光學透射比、約9. 8%的光學霧度、和約55. 9%的光學清晰度。圖13Β和13C為樣品分別沿χ-和y_方向的示例性橫截面輪廓。利用樣品作為糙面層160來制備類似于光重新定向膜100的光重新定向膜。線性棱柱150具有約24 微米的間距、約90度的頂角152、和約1. 567的折射率。光重新定向膜具有約1. 620的平均有效透射比。相比之下，具有相同構造(包括材料組成)但不同的是具有平滑的第二主表面的類似光重新定向膜具有約1. 643的平均有效透射比。圖14A為利用本文所公開的方法制備的樣品MM2的示例性三維AFM表面輪廓。樣品具有約95. 5%的光學透射比、約14. 5%的光學霧度、和約29. 8%的光學清晰度。圖14B和14C為樣品MM2分別沿χ-和y-方向的示例性橫截面輪廓。利用樣品MM2作為糙面層160 來制備類似于光重新定向膜100的光重新定向膜。線性棱柱150具有約24微米的間距、約 90度的頂角152、和約1.65的折射率。光重新定向膜具有約1.8的平均有效透射比。相比之下，具有相同構造(包括材料組成)但不同的是具有平滑的第二主表面的類似光重新定向膜具有約1. 813的平均有效透射比。圖15A為利用本文所公開的方法制備的樣品PP1的示例性三維AFM表面輪廓。樣品具有約95. 4 %的光學透射比、約9. 2 %的光學霧度、和約37. 7 %的光學清晰度。圖15B和 15C為樣品PP1分別沿χ-和y-方向的示例性橫截面輪廓。利用樣品PP1作為糙面層160來制備類似于光重新定向膜100的光重新定向膜。線性棱柱150具有約24微米的間距、約90 度的頂角152、和約1. 567的折射率。光重新定向膜具有約1. 601的平均有效透射比。相比之下，具有相同構造(包括材料組成)但不同的是具有平滑的第二主表面的類似光重新定向膜具有約1. 625的平均有效透射比。圖16A為利用本文所公開的方法制備的樣品PP2的示例性三維AFM表面輪廓。樣品具有約95. 4的光學透射比、約9. 3%的光學霧度、和約37. 7%的光學清晰度。圖16B和 16C為樣品PP2分別沿χ-和y-方向的示例性橫截面輪廓。利用樣品PP2作為糙面層160來制備類似于光重新定向膜100的光重新定向膜。線性棱柱150具有約24微米的間距、約90 度的頂角152、和約1. 65的折射率。光重新定向膜具有約1. 761的平均有效透射比。圖17A為利用本文所公開的方法制備的樣品SS1的示例性三維AFM表面輪廓。樣品具有約95. 的光學透射比、約18. 的光學霧度、和約56. 6%的光學清晰度。圖17B 和17C為樣品SS1分別沿χ-和y_方向的示例性橫截面輪廓。利用樣品SS1作為糙面層160 來制備類似于光重新定向膜100的光重新定向膜。線性棱柱150具有約24微米的間距、約 90度的頂角152、和約1. 567的折射率。光重新定向膜具有約1. 653的平均有效透射比。相比之下，具有相同構造(包括材料組成)但不同的是具有平滑的第二主表面的類似光重新定向膜具有約1. 642的平均有效透射比。圖18A為利用本文所公開的方法制備的樣品SS2的示例性三維AFM表面輪廓。樣品具有約95. 4%的光學透射比、約14. 9%的光學霧度、和約57. 的光學清晰度。圖18B 和18C為樣品SS2分別沿χ-和y_方向的示例性橫截面輪廓。利用樣品SS2作為糙面層160 來制備類似于光重新定向膜100的光重新定向膜。線性棱柱150具有約24微米的間距、約 90度的頂角152、和約1. 65的折射率。光重新定向膜具有約1. 789的平均有效透射比。相比之下，具有相同構造(包括材料組成)但不同的是具有平滑的第二主表面的類似光重新定向膜具有約1. 813的平均有效透射比。圖19和20示出了所制備樣品沿相應χ-和y_方向的傾斜度分布百分比Sx和Sy。 傾斜度Sx和Sy是利用下述兩個表達式計算的Sx=dii^yydx(1)Sy=dli^yydy(2)其中H(x，y)為表面輪廓。傾斜度SjJPSy是利用0.5度的傾斜度面元(bin size) 來計算的。如圖19所指出的那樣，樣品MMpMM2和PP2沿χ-方向具有基本上不對稱的傾斜度分布，并且樣品PPp SS1和SS2沿χ方向具有基本上對稱的傾斜度分布。如圖20所指出的那樣，樣品^rMMyPPpPPy SS1和SS2沿y方向具有基本上對稱的傾斜度分布。
圖21示出了所制備的示例性樣品的傾斜度值百分比Sm，其中傾斜度值Sm是利用
下述表達式計算的
權利要求
1.一種光重新定向膜，包括第一主表面，包括沿第一方向延伸的多個第一微結構；和背對所述第一主表面的第二主表面，包括多個第二微結構，所述第二主表面具有在4% 至20%范圍內的光學霧度和在20%至60%范圍內的光學清晰度，其中所述光重新定向膜具有不小于1. 55的平均有效透射比。
2.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第一微結構包括沿所述第一方向延伸的多個線性棱柱。
3.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第一微結構中的微結構的最大高度不同于所述多個第一微結構中的另一個微結構的最大高度。
4.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第一微結構中的微結構的高度沿所述第一方向而改變。
5.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構包括多個凸起。
6.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構包括多個凹陷。
7.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構覆蓋所述第二主表面的至少40%。
8.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構覆蓋所述第二主表面的至少50%。
9.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構覆蓋所述第二主表面的40%至95%。
10.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構覆蓋所述第二主表面的50%至90%。
11.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構形成規(guī)則圖案。
12.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構形成不規(guī)則圖案。
13.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的不超過7%具有大于 9度的傾斜度值。
14.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的不超過7%具有大于 8度的傾斜度值。
15.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的不超過7%具有大于 7度的傾斜度值。
16.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的不超過3%具有大于 10度的傾斜度值。
17.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的不超過3%具有大于 9度的傾斜度值。
18.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的不超過3%具有大于 8度的傾斜度值。
19.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在4%至18%范圍內的光學霧度。
20.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在4%至15%范圍內的光學霧度。
21.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在5%至12%范圍內的光學霧度。
22.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在5%至10%范圍內的光學霧度。
23.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在25%至60%范圍內的光學清晰度。
24.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在30%至60%范圍內的光學清晰度。
25.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面具有在30%至55%范圍內的光學清晰度。
26.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述光重新定向膜的所述平均有效透射比不小于1. 58。
27.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述光重新定向膜的所述平均有效透射比不小于1.6。
28.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二微結構的主體部分未設置在平均粒度大于0. 5微米的顆粒上。
29.根據權利要求1所述的光重新定向膜，不包括平均粒度大于0.5微米的顆粒。
30.根據權利要求1所述的光重新定向膜，包括平均粒度大于0.2微米的多個顆粒。
31.根據權利要求1所述的光重新定向膜，包括平均粒度大于0.1微米的多個顆粒。
32.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構的平均高度不大于4微米。
33.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構的平均高度不大于3微米。
34.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構的平均高度不大于2微米。
35.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構中的所述微結構具有半峰半寬(HWHM)在2度至6度范圍內的傾斜度分布。
36.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構中的所述微結構具有半峰半寬(HWHM)在2. 5度至5. 5度范圍內的傾斜度分布。
37.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述多個第二微結構中的所述微結構具有半峰半寬(HWHM)在3度至5度范圍內的傾斜度分布。
38.根據權利要求1所述的光重新定向膜，包括基底層，具有相對的第一和第二主表面；第一層，設置在所述基底層的所述第一主表面上并且包括所述光重新定向膜的所述第一主表面；和糙面層，設置在所述基底層的所述第二主表面上并且包括所述光重新定向層的所述第二主表面。
39.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第一層具有不小于1.5的折射率。
40.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第一層具有不小于1.55的折射率。
41.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第一層具有不小于1.6的折射率。
42.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第一層具有不小于1.65的折射率。
43.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第一層具有不小于1.7的折射率。
44.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第一層具有在1.5至1. 8的范圍內的折射率。
45.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述糙面層具有不小于1.4的折射率。
46.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述糙面層具有不小于1.5的折射率。
47.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述糙面層具有在1.4至1. 6的范圍內的折射率。
48.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述糙面層包括多個顆粒，所述多個顆粒的平均粒度是所述多個第二微結構的平均尺寸的至多1/5。
49.根據權利要求48所述的光重新定向膜，其中所述多個顆粒的平均粒度是所述多個第二微結構的平均尺寸的至多1/10。
50.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中如果所述糙面層包括顆粒，則所述糙面層的平均厚度比所述顆粒的平均粒度大至少2微米。
51.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中如果所述糙面層包括顆粒，則所述糙面層的平均厚度是所述顆粒的平均粒度的至少2倍。
52.根據權利要求38所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面在整個所述第二主表面上具有傾斜度分布，所述傾斜度分布具有在2度至6度范圍內的半峰半寬(HWHM)。
53.根據權利要求52所述的光重新定向膜，其中所述HWHM在2度至5.5度范圍內。
54.根據權利要求52所述的光重新定向膜，其中所述HWHM在2.5度至5. 5度范圍內。
55.根據權利要求52所述的光重新定向膜，其中所述HWHM在2.5度至5度范圍內。
56.根據權利要求52所述的光重新定向膜，其中所述HWHM在3度至5度范圍內。
57.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的傾斜度值分布具有至少一個峰。
58.根據權利要求57所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的傾斜度值分布具有一個峰。
59.根據權利要求58所述的光重新定向膜，其中所述一個峰設置成小于4度的角度。
60.根據權利要求58所述的光重新定向膜，其中所述一個峰設置成小于3.5度的角度。
61.根據權利要求57所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的傾斜度值分布具有至少兩個峰。
62.根據權利要求61所述的光重新定向膜，其中所述至少兩個峰中的第一峰設置成小于4度的第一角度并且所述至少兩個峰中的第二峰設置成在4度至8度范圍內的第二角度。
63.根據權利要求61所述的光重新定向膜，其中所述至少兩個峰中的第一峰設置成小于4度的第一角度并且所述至少兩個峰中的第二峰設置成在4度至6度范圍內的第二角度。
64.根據權利要求61所述的光重新定向膜，其中所述至少兩個峰中的第一峰設置成小于2度的第一角度并且所述至少兩個峰中的第二峰設置成在6度至8度范圍內的第二角度。
65.根據權利要求1所述的光重新定向膜，其中所述第二主表面的二維傅里葉譜圖包括沿第一主方向的多個峰，所述多個峰包括不對應零頻率的最低頻率峰，與所述最低頻率峰相鄰的谷限定基線，所述最低頻率峰限定位于所述最低頻率峰和所述基線之間的第一區(qū)域以及位于所述基線下方的第二區(qū)域，所述第一區(qū)域相對所述第二區(qū)域的比率小于2。
66.根據權利要求65所述的光重新定向膜，其中所述第一區(qū)域相對所述第二區(qū)域的比率小于1. 75。
67.根據權利要求65所述的光重新定向膜，其中所述第一區(qū)域相對所述第二區(qū)域的比率小于1. 5。
68.根據權利要求65所述的光重新定向膜，其中所述第一區(qū)域相對所述第二區(qū)域的比率小于1. 25。
69.根據權利要求65所述的光重新定向膜，其中所述第一區(qū)域相對所述第二區(qū)域的比率小于1。
70.根據權利要求65所述的光重新定向膜，其中所述第一區(qū)域相對所述第二區(qū)域的比率小于0. 8。
71.一種背光源，包括光源；根據權利要求1所述的第一光重新定向膜，其接收來自所述光源的光；和根據權利要求1所述的第二光重新定向膜，其設置在所述第一光重新定向膜上，其中用于所述第一光重新定向膜的第一方向不同于用于所述第二光重新定向膜的第一方向。
72.根據權利要求71所述的背光源，其中所述第一和第二光重新定向膜中的每一個的所述第二主表面面向所述光源并且所述第一和第二光重新定向膜中的每一個的所述第一主表面背向所述光源。
73.—種光重新定向膜，包括第一主表面，包括多個線性微結構；和背對所述第一主表面的第二主表面，包括多個第二微結構，所述第二主表面具有在4% 至20%范圍內的光學霧度和在20%至60%范圍內的光學清晰度，其中所述光重新定向膜與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光重新定向膜相比具有不低或低不超過2%的平均有效透射比。
74.根據權利要求73所述的光重新定向膜，與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光重新定向膜相比具有低不超過1. 5%的平均有效透射比。
75.一種光學疊堆，包括第一光重新定向膜，包括第一主表面和相對的第二主表面，所述第一主表面包括沿第一方向延伸的第一多個微結構，所述第二主表面包括第二多個微結構；和第二光重新定向膜，包括第三主表面和相對的第四主表面，所述第三主表面面向所述第一光重新定向膜的第二主表面并且包括沿不同于所述第一方向的第二方向延伸的第三多個微結構，其中所述第二主表面具有在4%至20%范圍內的光學霧度和在20%至60%范圍內的光學清晰度；并且所述第四主表面具有不大于0.5%的光學霧度。
76.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在4%至18%范圍內的光學霧度。
77.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在4%至15%范圍內的光學霧度。
78.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在5%至15%范圍內的光學霧度。
79.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在5%至12%范圍內的光學霧度。
80.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在25%至60%范圍內的光學清晰度。
81.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在30%至60%范圍內的光學清晰度。
82.根據權利要求75所述的光學疊堆，其中所述第二主表面具有在30%至55%范圍內的光學清晰度。
83.根據權利要求75所述的光學疊堆，具有不小于2.1的有效透射比。
84.根據權利要求75所述的光學疊堆，具有不小于2.25的有效透射比。
85.根據權利要求75所述的光學疊堆，具有不小于2.5的有效透射比。
86.一種光學疊堆，包括第一光重新定向膜，包括第一主表面和相對的第二主表面，所述第一主表面包括沿第一方向延伸的第一多個微結構；和第二光重新定向膜，包括第三主表面和相對的第四主表面，所述第三主表面面向所述第一光重新定向膜的所述第二主表面并且包括沿不同于所述第一方向的第二方向延伸的第三多個微結構，其中所述第二主表面具有在4%至20%范圍內的光學霧度和在20%至 60%范圍內的光學清晰度，并且其中所述光學疊堆與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二表面的光學疊堆相比具有不低或低不超過6 %的有效透射比。
87.根據權利要求86所述的光學疊堆，與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光學疊堆相比具有低不超過5. 5%的平均有效透射比。
88.根據權利要求86所述的光學疊堆，與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光學疊堆相比具有低不超過5 %的平均有效透射比。
89.根據權利要求86所述的光學疊堆，與具有相同構造但不同的是包括平滑的第二主表面的光學疊堆相比具有低不超過4. 5 %的平均有效透射比。
90.根據權利要求86所述的光學疊堆，其中所述第四主表面具有不大于0.5%的光學霧度。
全文摘要
本發(fā)明公開了光重新定向膜。所述光重新定向膜包括第一主表面，所述第一主表面包括沿第一方向延伸的多個第一微結構。所述光重新定向膜還包括第二主表面，所述第二主表面背對第一主表面并且包括多個第二微結構。所述第二主表面具有在約4％至約20％范圍內的光學霧度和在約20％至約60％范圍內的光學清晰度。所述光重新定向膜具有不小于約1.55的平均有效透射比。
文檔編號G02B5/04GK102483473SQ201080037685
公開日2012年5月30日 申請日期2010年8月11日 優(yōu)先權日2009年8月25日
發(fā)明者加里·T·博伊德, 史蒂文·D·所羅門松, 史蒂文·H·貢, 史蒂文·J·麥克曼, 呂菲, 斯拉·延度比, 斯科特·R·卡伊特, 特里·D·彭, 米切爾·A·F·約翰遜, 約瑟夫·T·阿倫森, 羅伯特·A·亞佩爾 申請人:3M創(chuàng)新有限公司