專利名稱：：光學薄膜以及顯示面板的制作方法
技術領域：
：本發(fā)明關于設置在液晶顯示器(LCD)、陰極管顯示裝置(CRT)、等離子顯示器(PDP)、有機電致發(fā)光(有機EL)、電子紙終端等的顯示器(圖像顯示設備)前面的光學薄膜、具備該光學薄膜的偏振片、具備該光學薄膜或偏振片的顯示面板、及具備該光學薄膜、該偏振片或該顯示面板的顯示器。
背景技術：
：例如，電視、個人計算機、移動電話、GPS(GlcAalPositioningSystem，全球定位系統(tǒng))、汽車導航系統(tǒng)、圖形輸入板(graphicstablet)、CAD(Computer-AssistedDesign,計算機支持設計)、小型游戲機、攜帶式音響等的顯示器的圖像顯示面，要求對于來自熒光燈和太陽光等的外部光源所照射的光線的反射少，并且提高其辨識性。因此，自以往，將利用以折射率低的透明皮膜(低折射率層)被覆透明物體的表面而使反射性變小現(xiàn)象的抗反射膜設置于顯示器的顯示面，以進行降低顯示面的反射性并且提高辨識性。為了此種低折射率化，有使低折射率層內(nèi)部含有折射率為1的空氣的方法，例如，專利文獻1中使用粒子內(nèi)部為多孔質或空腔的中空粒子以實現(xiàn)折射率層的低折射率化。另外，對于含有此種中空粒子的低折射率層而言，雖然中空粒子對于低折射率化有效，但因中空粒子具有多孔質或空腔的內(nèi)部，故硬度低，且具有低折射率層本身的硬度及耐擦傷性低的問題。特別是若硬度和耐擦傷性低，則在尖銳物質接觸表面時易產(chǎn)生損傷，若發(fā)生損傷則抗反射膜的辨識性降低且連帶外觀劣化。專利文獻1中，對于此問題，提出了使用內(nèi)部既非多孔質且也非空腔，比中空粒子具有更優(yōu)異硬度的實心粒子，并再將中空粒子與實心粒子的表面以具有類似構造的交聯(lián)形成基予以修飾，使得經(jīng)交聯(lián)的中空粒子與實心粒子在低折射率層內(nèi)均勻且致密填充，并且通過交聯(lián)而可提高低折射率層(抗反射層疊體)的耐擦傷性。但是，如專利文獻1的抗反射層疊體雖獲得良好的抗反射性，但因中空粒子與實心粒子在低折射率層內(nèi)均勻且致密填充，故實心粒子的使用量變多，具有成本增大和密合性降低等問題。另外，還要求具有高抗反射性并且硬度及耐擦傷性優(yōu)異的光學薄膜(抗反射層疊體)。[現(xiàn)有技術文獻][專利文獻][專利文獻1]日本專利特開2008-107792號公報
發(fā)明內(nèi)容(發(fā)明所要解決的問題)本發(fā)明是為了解決所述問題而完成的，其目的在于提供一種具有高抗反射性，并且具備硬度及耐擦傷性優(yōu)異、密合性也優(yōu)異的低折射率層的低成本光學薄膜、使用該光學薄膜的偏振片及顯示面板、及使用該光學薄膜偏振片或顯示面板的顯示器。(解決問題的手段)本發(fā)明者等人專心研究的結果，發(fā)現(xiàn)通過使實心粒子占有低折射率層的與基材相反一側的界面(空氣界面?zhèn)?的一定范圍，則可以以少量的實心粒子獲得優(yōu)異的硬度及耐擦傷性，并且通過使中空粒子也存在于該界面及低折射率層內(nèi)部，則可以降低低折射率層的折射率，獲得具有高抗反射性的低成本的光學薄膜，從而完成了本發(fā)明。即，解決所述問題的本發(fā)明的光學薄膜，其特征在于，是在光透過性基材的一面?zhèn)染邆淠ず馾的低折射率層的光學薄膜，其中該低折射率層含有平均初級粒徑為10IOOnm的中空粒子以及分散平均粒徑為120nm且為該膜厚d的一半以下的實心粒子。在該低折射率層的膜厚方向的斷面且層平面方向的寬500nm的區(qū)域中，至少1個該中空粒子被該低折射率層的固化樹脂所被覆并且與該低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面接觸，該實心粒子占有該中空粒子接觸的部分以外的該界面的50%以上范圍，且偏在(“偏在”的含義物質偏集于某一地方存在)于從該界面至膜厚方向的該實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中。通過中空粒子被固化樹脂被覆并且與界面接觸而存在，則可確保低折射率層的良好耐擦傷性，并且利用中空粒子含有的空氣使低折射率層的反射率降低。另外，通過將實心粒子的分散平均粒徑設為膜厚d的一半以下，提高低折射率層的耐擦傷性。并且，通過在中空粒子接觸的部分以外的該界面中，實心粒子占有50%以上的范圍且偏在于至實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中，則可以以少的實心粒子的含量有效率地提高低折射率層的耐擦傷性。另外，所謂中空粒子是指外殼層所圍住的內(nèi)部為多孔質或空腔，且在粒子內(nèi)部含有空氣的粒子。所謂實心粒子是指內(nèi)部既非多孔質且也非空腔的粒子。所謂分散平均粒徑，在未凝聚粒子的情況下指其初級粒徑的平均，在粒子凝聚體的情況下指其凝聚體的粒徑的平均(平均二級粒徑)。另外，所述所謂粒子的平均粒徑，是指由固化膜斷面的透過型電子顯微鏡(TEM)照片觀察的20個粒子的平均值。所謂平均初級粒徑，即使在如此觀察到的粒子為凝聚連接的情況下，也非指其凝聚體的粒徑，是指粒子1個1個的平均粒徑。S卩，本發(fā)明的平均初級粒徑、分散平均粒徑，均是斷面TEM觀察的結果，測定所觀察粒子的粒徑所得的值。從有效率地提高低折射率層的耐擦傷性方面而言，優(yōu)選在本發(fā)明的光學薄膜中所述偏在的實心粒子的比例為所述區(qū)域中存在的實心粒子全量的40100%。在本發(fā)明的光學薄膜中，從易于提高低折射率層界面的耐擦傷性方面而言，優(yōu)選所述中空粒子的平均初級粒徑與所述實心粒子的分散平均粒徑之比(平均初級粒徑/分散平均粒徑)為2.0以上。在本發(fā)明的光學薄膜中，從獲得良好的耐擦傷性方面而言，所述低折射率層的所述界面的基于JISB0601-1998規(guī)定測定得到的最大高度Ry為0.050μm以下。在本發(fā)明的光學薄膜的優(yōu)選實施形態(tài)中，也可設成在所述光透過性基材與所述低折射率層之間進一步設置有選自由硬涂層、高折射率層、中折射率層、防靜電層及防眩層所組成的一組中的1種以上的層的層結構。在本發(fā)明的光學薄膜的優(yōu)選實施形態(tài)中，也可設成在所述低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面進一步設置有防污層的層結構。本發(fā)明的偏振片的特征在于，具備所述本發(fā)明的光學薄膜。另外，本發(fā)明的顯示面板的特征在于，含有所述本發(fā)明的光學薄膜或偏振片。另外，本發(fā)明的顯示器的特征在于，在背面?zhèn)葮嫾囊暵犝咭粋染邆渌霰景l(fā)明的光學薄膜、偏振片或顯示面板。發(fā)明效果通過至少一部分的中空粒子經(jīng)固化的樹脂被覆并且和低折射率層的與光透過性基材的相反一側的界面接觸而存在，則可確保低折射率層的良好耐擦傷性，并且利用中空粒子所含有的空氣使低折射率層的反射率降低。此外，通過使實心粒子的分散平均粒徑為膜厚d的一半以下，且在中空粒子存在的部分以外的該界面中實心粒子占有50%以上的范圍，且偏在于至實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中，則可以以少含量的實心粒子有效率地提高低折射率層的耐擦傷性。通過將所述這些綜合，則可獲得具有高抗反射性，并且具備硬度及耐擦傷性優(yōu)異、密合性也優(yōu)異的低折射率層的低成本光學薄膜。圖1是表示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的一例的示意圖。圖2是表示本發(fā)明的光學薄膜的低折射率層的膜厚方向的斷面、且層平面方向的寬500nm區(qū)域中的粒子分布的一例的示意圖。圖3是表示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的其他一例的示意圖。圖4是表示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的其他一例的示意圖。圖5是表示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的其他一例的示意圖。圖6是實施例2的光學薄膜的膜厚方向的斷面的TEM照片。圖7是示意性地表示圖6照片的低折射率層中的粒子分布的狀態(tài)的圖。符號說明1、2、3、4光學薄膜10光透過性基材20低折射率層21區(qū)域30硬涂層40低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面50中空粒子60中空粒子接觸的部分70實心粒子80實心粒子的2個分散粒徑的深度90界面中的實心粒子未占有的部分100低折射率層的光透過性基材一側的界面110高折射率層120中折射率層130防靜電層140防污層150中空粒子接觸的部分以外的界面中實心粒子占有的范圍具體實施例方式以下，說明本發(fā)明的光學薄膜、偏振片、顯示面板及顯示器。在本發(fā)明中，(甲基)丙烯酸酯表示丙烯酸酯和/或甲基丙烯酸酯。另外，本發(fā)明的光不僅包括可見及非可見區(qū)域波長的電磁波，還包括像電子射線那樣的粒子射線、以及總稱為電磁波和粒子線的放射線或電離放射線。在本發(fā)明中，所謂「硬涂層」，是指JISK5600-5-4(1999)規(guī)定的鉛筆硬度試驗(4.9Ν載荷)中顯示「H」以上的硬度的層。另外，薄膜與薄片在JIS-K6900的定義中，所謂薄片是指薄、一般其厚度在和長度、寬度的比例上為小且平的制品，所謂薄膜是指厚度相比于長度和寬度極小、且最大厚度被任意地限定的薄平制品，通常以滾筒形式供給。因此，在薄片中厚度特別薄的也可稱為薄膜，但薄片與薄膜的界線并不確定，且難以明確地區(qū)分開，因此本發(fā)明中，「薄膜」定義中包含厚度厚的和薄的兩種膜。在本發(fā)明中，所謂樹脂是除了包括單體和低聚物以外還包括聚合物的概念，是指固化后成為HC層、其他功能層的基質的成分。在本發(fā)明中，所謂分子量，在具有分子量分布的情況下，是指于THF溶劑中利用凝膠滲透層析(GPC)測定的聚苯乙烯換算值的重均分子量，且在不具有分子量分布的情況下，是指化合物本身的分子量。在本發(fā)明中，所謂粒子的平均粒徑，是指由固化膜斷面的透過型電子顯微鏡(TEM)照片觀察的20個粒子的平均值。平均初級粒徑、分散平均粒徑均依據(jù)此定義。以下，說明本發(fā)明的光學薄膜及其制造方法。(光學薄膜)本發(fā)明的光學薄膜，其特征在于是在光透過性基材的一面?zhèn)染邆淠ず馾的低折射率層的薄膜，該低折射率層包含平均初級粒徑為10IOOnm的中空粒子、以及分散平均粒徑為120nm且為該膜厚d的一半以下的實心粒子，在該低折射率層的膜厚方向的斷面且層平面方向的寬500nm的區(qū)域中，至少1個該中空粒子被該低折射率層的固化樹脂所被覆并且與該低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面接觸。該實心粒子占有該中空粒子接觸的部分以外的該界面的50%以上范圍，且偏在于從該界面至膜厚方向的該實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中。圖1是表示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的一例的示意圖。在光透過性基材10的一面?zhèn)?，從光透過性基材一側依次設置有硬涂層30及低折射率層20。圖2是表示在本發(fā)明的光學薄膜的低折射率層的膜厚方向的斷面且層平面方向的寬500nm區(qū)域中的粒子分布的一例的TEM斷面觀察照片的示意圖。低折射率層的區(qū)域21中，至少1個中空粒子50被低折射率層的固化樹脂所被覆且與界面40接觸。此處，所謂「被樹脂所被覆且與界面接觸」，是指中空粒子隔著極薄的樹脂層與空氣界面接觸。此外，實心粒子70占有中空粒子50接觸的部分60以外的界面40的50%以上范圍，且偏在于從界面40至膜厚方向中實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度(符號80)中。所謂「中空粒子50接觸的部分60」，是指實施TEM斷面觀察時，在寬度方向延伸至500nm的直線上的區(qū)域中，從與空氣界面接觸的各中空粒子50所占部分的投影區(qū)域中減去與空氣界面接觸的中空粒子50和與空氣界面接觸的實心粒子70重疊的部分的投影區(qū)域后剩下的區(qū)域。圖2中，具體而言，是指「500nm-(部分60X3)」的界面。此例中表示的是全部為相同粒徑的情況。觀察斷面中的粒徑只不過是此時在斷面所觀察到的粒子直徑，與平均粒徑不同。另外，為了簡化說明，在圖2中改變膜厚方向和層平面方向的縮尺予以示意性表示通過中空粒子被固化樹脂被覆且存在于低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面(以下，只要無特別指明，界面是指低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面)，與未被固化樹脂被覆而由界面突出中空粒子的情況相比，可確保良好的耐擦傷性，并且利用中空粒子含有的空氣使低折射率層的反射率降低。另外，通過在中空粒子接觸的部分以外的界面中使實心粒子接觸的部分占有50%以上的范圍，且偏在于至實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中，則可以以少含量的實心粒子有效率地提高低折射率層的耐擦傷性。另外，該實心粒子所占的范圍并不是指至2個分散平均粒徑為止的深度(例如，在圖2中以符號80所示的深度)的面積的范圍，而是指中空粒子接觸的部分以外的空氣界面中的占有范圍(例如，在圖2中，「50011!11-(部分60\3)-(部分90\2)」)。S卩，所謂「實心粒子接觸的部分」，是指實施TEM斷面觀察時，在寬度方向延伸至500nm的直線上的區(qū)域中，從與空氣界面接觸的實心粒子70所占部分的投影區(qū)域中減去與空氣界面接觸的中空粒子50和與空氣界面接觸的實心粒子70重疊的部分的投影區(qū)域后剩下的區(qū)域。此外，所述所謂「部分90」是指中空粒子和實心粒子均不存在的界面中的樹脂部分。再者，只要實心粒子占有此范圍且偏在于至2個分散平均粒徑的深度80為止即可，如圖2所示，實心粒子也可存在于比深度80更深的光透過性基材側的界面100—側。同樣地，只要中空粒子在界面至少1個被固化樹脂所被覆并接觸界面即可，如圖2所示，也可在區(qū)域21的實心粒子70所占部分以外均勻分散。另外，在本發(fā)明中，具有此種粒子分布的區(qū)域只要在低折射率層中存在至少1個即可。在本發(fā)明的光學薄膜中，所述偏在的實心粒子的比例優(yōu)選為所述區(qū)域中存在的實心粒子總量的40100%。若在此范圍，則可以使用少量的實心粒子，有效率地提高低折射率層的耐擦傷性。而且，所述偏在的實心粒子的比例優(yōu)選為所述區(qū)域中存在的實心粒子總量的60100%。例如圖2中，對于偏在的實心粒子的比例而言，在2個分散平均粒徑為止的深度中存在12個、在光透過性基材一側的界面附近存在7個，因此12/(12+7)X100=63%。從獲得良好的耐擦傷性方面而言，在本發(fā)明的光學薄膜中，優(yōu)選所述低折射率層的所述界面的基于JisB0601-1998規(guī)定測定得到的最大高度Ry為0.050μm以下。在將低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面用鋼絲絨等劃刮、擦拭時，若該界面的所述最大高度Rz大于0.050μm,則鋼絲絨等劃刮物被剮到其凹凸中，易成為界面的損傷。相對地，通過如所述將最大高度Rz設定為0.050μm以下，則不容易被鋼絲絨等剮到，在界面不容易發(fā)生損傷。最大高度Ry愈小對耐擦傷性和光學特性愈有效，優(yōu)選0.050μm以下，更優(yōu)選0.010μm以下，且其最小值優(yōu)選為0.005μm左右。另外，如JISB0601-1998所記載的那樣，在求出Ry的情況下，從不存在視為損傷的不尋常高山及低谷的部分中選取所述區(qū)域。以下，說明作為本發(fā)明的光學薄膜的必要構成要件的光透過性基材及低折射率層以及根據(jù)需要適當設置的其他層。(光透過性基材)本發(fā)明的光透過性基材只要是滿足可用作光學層疊體的光透過性基材的物性的材料，則無特別限定，可適當選擇使用公知的硬涂薄膜和光學薄膜中使用的三乙酰纖維素(TAC)、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)或環(huán)烯烴聚合物等?？梢姽鈪^(qū)域380780nm中的光透過性基材的平均光透過率優(yōu)選為50%以上，更優(yōu)選為70%以上，特別優(yōu)選為85%以上。另外，光透過率的測定中采用使用紫外線可見光分光光度計(例如，島津制作所(股)制的UV-3100PC)在室溫、大氣中測定的值。另外，也可對光透過性基材實施皂化處理和設置涂底層等的表面處理。此外，也可以添加抗靜電劑等添加劑。光透過性基材的厚度并無特別限定，通常為30200μm左右，優(yōu)選40200μm。(低折射率層)低折射率層是由至少含有中空粒子、實心粒子及粘合劑成分的低折射率層用固化性樹脂組合物(以下，有時簡單稱為「低折射率層用組合物」)的固化物所構成的層。低折射率層與光學薄膜中的比該低折射率層更鄰接光透過性基材側的硬涂層、高折射率層等層相比，折射率較低，通過與該鄰接的層的折射率之差而具有降低光學薄膜的表面反射的作用。對于低折射率層的折射率而言，根據(jù)光學薄膜所要求的性能、與光透過性基材側鄰接的層的折射率而適當調節(jié)即可。例如，低折射率層的折射率優(yōu)選為1.45以下。對于低折射率層的膜厚d(nm)而言，根據(jù)要求的性能適當調節(jié)即可，優(yōu)選滿足下述式⑴。d=mλ/(4η)····(I)(所述式(I)中，η表示低折射率層的折射率，m表示正的奇數(shù)，λ為波長。)式(I)中，m優(yōu)選為1，λ優(yōu)選為480580nm。λ在所述范圍的情況下，膜厚優(yōu)選為80120nm。低折射率層中的中空粒子及實心粒子的分布為如所述，故在此省略說明。以下，說明作為固化成為低折射率層的低折射率層用組合物的必要成分的中空粒子、實心粒子及粘合劑成分、以及根據(jù)需要也可適當含有的其他成分。(中空粒子)中空粒子是具有外殼層且外殼層所圍住的內(nèi)部為多孔質組織或空腔的粒子。此外殼層的厚度為130nm，優(yōu)選為220nm。在該多孔質組織及空腔中含有折射率為1的空氣，通過使低折射率層含有中空粒子，則可降低低折射率層的折射率。中空粒子的空隙率為1080%。此外，根據(jù)如圖6的TEM斷面觀察此中空粒子，可觀察到外殼部分比低折射率層用組合物更濃且黑的濃度。與外殼層的黑色部分不同的內(nèi)部為空腔部分。本發(fā)明中的平均初級粒徑，例如是測定20個由此外殼層所圍住的部分的最大徑的平均值。作為中空粒子，可以使用公知的、抗反射薄膜中所用的中空粒子。例如，可使用專利文獻1中記載的金屬氧化物、金屬氮化物、金屬硫化物及金屬氟化物等無機系中空粒子，中空聚合物粒子等有機系粒子。由生產(chǎn)性和強度等方面而言，優(yōu)選無機系粒子。就降低低折射率層的折射率方面而言，更優(yōu)選折射率低至1.201.40的中空二氧化硅粒子。本發(fā)明所用的中空粒子在屬于低折射率層用組合物的固化物的低折射率層中，平均初級粒徑為10lOOnm。中空粒子的平均初級粒徑若小于lOnm，則后述的實心粒子難以形成如所述的界面中的分布。此外，中空粒子的平均初級粒徑若超過lOOnm，則界面的凹凸變大，耐擦傷性降低。本發(fā)明中，中空粒子的平均初級粒徑為10lOOnm。此外，就可易于形成如所述的界面中的分布的方面而言，優(yōu)選中空粒子的平均初級粒徑比后述實心粒子的分散平均粒徑更大。具體而言，優(yōu)選中空粒子的平均初級粒徑為30lOOnm，且后述實心粒子的分散平均粒徑為520nm。對于中空粒子的含量，根據(jù)低折射率層的厚度和所要求的耐擦傷性等而適當調節(jié)即可。對于中空粒子的含量而言，例如相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量，優(yōu)選為2080質量％，更優(yōu)選為3070質量％。(實心粒子)本發(fā)明中，實心粒子是指粒子內(nèi)部既不是多孔質也不是空腔的粒子。因為不具有空隙，因此相比于中空粒子，粒子不容易因由外部所加的壓力(外壓)而崩潰，耐壓性優(yōu)異。因此，通過使低折射率層含有該實心粒子，則可易于提高低折射率層的硬度及耐擦傷性。實心粒子的情況與所述中空粒子不同，是在進行如圖6所示的斷面TEM觀察時，在粒子中無法觀察到任何的孔和空腔的粒子。因為不存在空腔等，因此折射率比中空粒子高，為1.421.46。并且粒子既可以是非結晶狀態(tài)也可以是結晶狀態(tài)。作為實心粒子，可以使用公知的、抗反射薄膜或硬涂薄膜等中所用的實心粒子。例如可以使用專利文獻1中記載的金屬氧化物、金屬氮化物、金屬硫化物及金屬氟化物等的無機系實心粒子。本發(fā)明中使用的實心粒子，在作為低折射率層用組合物的固化物的低折射率層中，分散平均粒徑為120nm且為低折射率層的膜厚d的一半以下即可。因此，既可以是未凝聚的初級粒徑為120nm的實心粒子，也可以是粒徑為120nm的凝聚體。實心粒子的分散平均粒徑如果在Inm以上，則有助于提高硬度和耐擦傷性。如果實心粒子的分散平均粒徑大于20nm，則實心粒子難以形成如所述的界面中的分布，因此設定為20nm以下。此外，如果實心粒子的分散平均粒徑超過低折射率層的膜厚的一半，則界面的平滑性變低，低折射率層的耐擦傷性降低。實心粒子的分散平均粒徑優(yōu)選為520nm。作為實心二氧化硅粒子的市售品，可列舉例如，日產(chǎn)化學工業(yè)(股)制的商品名MIBK-ST(平均初級粒徑12nm)及MIBK-ST-ZL(平均初級粒徑88nm)及日揮觸媒化成工業(yè)(股)制的商品名OSCAL系列(平均初級粒徑7IOOnm)等。就可易于提高低折射率層的界面的耐擦傷性方面而言，在本發(fā)明的光學薄膜中，優(yōu)選中空粒子的平均初級粒徑與實心粒子的分散平均粒徑的比(平均初級粒徑/分散平均粒徑)為2.O以上。通過設定為此范圍，則實心粒子可更易于形成如所述的界面中的分布。這可以推測為實心粒子易于穿行中空粒子之間。該比的下限值優(yōu)選為2.5以上。對于實心粒子的含量，根據(jù)低折射率層的厚度和所要求的耐擦傷性等適當調節(jié)即可。對于實心粒子的含量而言，例如相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量，優(yōu)選為130質量％，更優(yōu)選為520質量％。此外，就易于形成如所述的界面中的分布的方面而言，優(yōu)選實心粒子的含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量為520質量％、并且中空粒子的含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量為3070質量％。(粒子的表面處理)對于所述中空粒子和實心粒子而言，優(yōu)選其粒子表面被偶合劑等的具有可形成交聯(lián)的光固化性基團的有機基被覆。通過該光固化性基，該中空粒子和實心粒子可在同種或異種的粒子間以及與后述粘合劑成分之間形成交聯(lián)，提高低折射率層的耐擦傷性。此外，通過用該有機基團被覆粒子表面，可抑制粒子彼此間的凝聚，難以發(fā)生因過大凝聚體造成界面的凹凸，可確保界面的平滑性。作為可形成交聯(lián)的光固化性基團，優(yōu)選為電離放射線固化性不飽和基團。作為其具體例，可列舉(甲基)丙烯?；?、乙烯基、烯丙基等的乙烯性不飽和鍵及環(huán)氧基等。作為所用的偶合劑，可使用用于向對象物導入交聯(lián)形成基的先前公知的偶合劑，可列舉例如3-(甲基)丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷、3_(甲基)丙烯酰氧丙基甲基二甲氧基硅烷、3-(甲基)丙烯酰氧丙基甲基二乙氧基硅烷、2_(甲基)丙烯酰氧丙基三甲氧基硅烷、2-(甲基)丙烯酰氧丙基三乙氧基硅烷等。此外，通過使用三氟丙基三甲氧基硅烷、十七氟基癸基三甲氧基硅烷及2_(全氟己基)乙基三甲氧基硅烷等的含氟系偶合劑被覆實心粒子，具有可更加容易降低低折射率層的折射率，且該經(jīng)被覆的實心粒子易于形成如所述的界面中的分布的優(yōu)點。將中空粒子及實心粒子用交聯(lián)形成基團予以被覆的方法可使用先前公知的方法。例如，可使用專利文獻1的表面修飾中空二氧化硅微粒子A的制備方法。此外，對于實心粒子，也可使用日本專利特開2009-108123號公報記載的、二氧化硅微粒子以鏈狀連結該連結的二氧化硅微粒子經(jīng)硅烷偶合劑予以表面處理的粒子(反應性異型二氧化硅微粒子)。作為此種反應性實心二氧化硅粒子的市售品，可列舉例如，日揮觸媒化成(股)制的商品名DP1039SIV(平均初級粒徑20nm、平均連結數(shù)3.5個、平均二級粒徑55nm、光固化性基團為甲基丙烯?；?。(粘合劑成分)粘合劑成分是具有光固化性基團且通過光照射固化成為低折射率層的基質的成分。光固化性基團只要是所述粒子的表面處理中所列舉的即可。低折射率層用組合物所含的粘合劑成分并無特別限定，可使用先前公知的抗反射薄膜和硬涂薄膜的粘合劑成分。粘合劑成分可使用單獨1種，且也可組合使用2種以上。作為粘合劑成分，可列舉例如，1個分子中具有2個以上光固化性基團的多官能單體。作為多官能單體，可列舉例如，季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷六(甲基)丙烯酸酯及聚酯三丙烯酸酯及其改性體。另外，作為改性體，可列舉EO(環(huán)氧乙烷)改性體、PO(環(huán)氧丙烷)改性體、CL(己內(nèi)酯)改性體及異三聚氰酸改性體等。從固化反應性的觀點而言，在所述多官能單體中，光固化性基以丙烯酰基比甲基丙烯?；鼉?yōu)選。作為多官能單體，特別優(yōu)選使用季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)、二季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)、季戊四醇四丙烯酸酯(PETTA)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(TMPTA)、二季戊四醇五丙烯酸酯(DPPA)、異三聚氰酸EO改性三丙烯酸酯及聚酯三丙烯酸酯等。除了所述多官能單體以外，聚合物類也適于使用。例如，可使用日本特開2008-165040號公報記載的含有聚環(huán)氧化物鏈的聚合物(A)等。此外，單官能單體也可適當使用。此外，為了降低低折射率層的折射率，優(yōu)選使用含氟的粘合劑成分。作為含氟的粘合劑，可列舉例如含有聚硅氧烷的偏氟乙烯共聚物。該含有聚硅氧的偏氟乙烯共聚物，具體而言，是以含有偏氟乙烯和六氟丙烯的單體組合物作為原料的共聚而得的、由含氟比例為6070%的含氟共聚物100份和具有乙烯性不飽和基的聚合性化合物80150份所構成的共聚物。對于含有聚硅氧烷的偏氟乙烯共聚物而言，單體組合物中的各成分的比例為偏氟乙烯為3090%、優(yōu)選為4080%、特別優(yōu)選為4070%，六氟丙烯為550%、優(yōu)選為1050%、特別優(yōu)選為1545%。該單體組合物也可再含有040%、優(yōu)選035%、特別優(yōu)選為1030%的四氟乙烯。含有聚硅氧烷的偏氟乙烯共聚物也可含有例如20%以下、優(yōu)選為10%以下范圍的其他的共聚物成分，且作為這種其他的共聚成分的具體例，可例示氟乙烯、三氟乙烯、氯三氟乙烯、1，2-二氯-1，2-二氟乙烯、2-溴-3，3，3-三氟乙烯、3-溴-3，3-二氟丙烯、3，3，3-三氟丙烯、1，1，2-三氯-3，3，3-三氟丙烯及α-三氟甲基丙烯酸等的具有氟原子的聚合性單體。對于由如所述單體組合物所得的含氟共聚物的含氟比例而言，優(yōu)選為6270%、特別優(yōu)選為6468%。通過將含氟比例設為這樣的6070%，含氟聚合體對于溶劑具有良好的溶解性。此外，低折射率層用組合物通過含有這種含氟聚合體作為成分，可對于光透過性基材具有優(yōu)異的密合性，具有高透明性和低折射率，同時可提高低折射率層的耐擦傷性。該含氟共聚物的分子量優(yōu)選為5，000200，000,更優(yōu)選10，000100，000。通過在此范圍，可使低折射率層用組合物的涂布性變?yōu)榱己谩：簿畚锲浔旧淼恼凵渎蕿?.45以下，特別以1.42以下、更以1.40以下者優(yōu)選。粘合劑成分的含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量，優(yōu)選1070質量％，更優(yōu)選2060質量％。(低折射率層用固化性樹脂組合物的其他成分)在低折射率層用組合物中，除了所述中空粒子、實心粒子及粘合劑成分以外，根據(jù)需要也可適當含有溶劑、聚合引發(fā)劑、勻涂劑、防靜電劑及抗菌劑等。以下，說明低折射率層用組合物中也可以含有的其他成分。(溶劑)在使用較多量粘合劑成分的情況下，粘合劑成分中的單體及/或低聚物也可發(fā)揮作為液狀介質的功能，因此有時即使不使用溶劑也可制備低折射率層用組合物。因此，為了可適當?shù)貙⒐腆w成分溶解或分散并調整濃度，制備出涂布性優(yōu)異的低折射率層用組合物，而使用溶劑即可。溶劑并無特別限定，可使用各種有機溶劑，例如可以使用異丙醇、甲醇及乙醇等的醇類、甲基乙基酮、甲基異丁基酮及環(huán)己酮等的酮類、醋酸乙酯及醋酸丁酯等的酯類、鹵化烴類、甲苯及二甲苯等的芳香族烴類及它們的混合溶劑。所述溶劑可使用單獨1種，且也可混合使用2種以上。所述溶劑中優(yōu)選使用酮系的有機溶劑。若使用酮系溶劑制備低折射率層用組合物，則可易于在光透過性基材表面容易且薄薄地均勻涂布，并且涂布后溶劑的蒸發(fā)速度適度難以引起干燥不勻，具有可易于獲得均勻厚度的大面積涂膜的優(yōu)點。此外，酮系溶劑與所述實心粒子的親和性良好，在溶劑的干燥過程中，實心粒子與溶劑共同移動至界面?zhèn)龋虼司哂幸子谛纬扇缢鼋缑嬷械膶嵭牧Ｗ臃植嫉膬?yōu)點。作為酮系溶劑，可使用單獨1種，也可組合使用2種以上的酮系溶劑。此外，也可組合使用酮系溶劑與酮系以外的溶劑。并用該不同種類的溶劑時，優(yōu)選含有總溶劑的70質量％以上、特別優(yōu)選80質量％以上的酮系溶劑。在本發(fā)明中，從易于獲得如所述界面中的實心粒子分布方面以及提高界面平滑性方面而言，低折射率層用組合物的固體成分濃度(全體固體成分的總質量相對于組合物總質量的比例)優(yōu)選為0.130質量％，更優(yōu)選為110質量％。但是，根據(jù)所用的溶劑，干燥速度若過快則實心粒子的移動時間變短，難以形成所述的分布，因此優(yōu)選適當調整且事前確認溶劑組成等。(聚合引發(fā)劑)為了促進粘合劑成分、具有光固化性基的經(jīng)過表面處理的中空粒子及實心粒子的交聯(lián)反應等，根據(jù)需要也可適當選擇使用自由基及陽離子聚合引發(fā)劑等。這些聚合引發(fā)劑是通過光照射及/或加熱而被分解，產(chǎn)生自由基或陽離子并且進行自由基聚合和陽離子聚合的物質。例如，作為自由基聚合引發(fā)劑，可列舉CibaJapan(股)制的商品名Irugacure184(1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮)。使用聚合引發(fā)劑時，其含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量，優(yōu)選使用110質量％。(防靜電劑)作為防靜電劑，可使用先前公知的防靜電劑，例如，可使用季銨鹽等的陽離子性防靜電劑、錫摻混氧化銦(ITO)等的微粒子。使用防靜電劑時，其含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量優(yōu)選為130質量％。(勻涂劑)在本發(fā)明的低折射率層用組合物中，在賦予滑性、防污性及耐擦傷性的目的下，也可含有先前公知的勻涂劑(防污染劑)。作為勻涂劑，可使用先前公知的硬涂層、防污層中所用的氟系或聚硅氧烷系等的勻涂劑。此外，也可為含有氟系及聚硅氧烷系兩者的共聚物。作為勻涂劑的市售品，可列舉例如，DIC(股)制的Megafac系列(商品名MCF350-5)等的不具有電離放射線固化性基團的勻涂劑、信越化學工業(yè)(股)制的商品名X22-163A及X22-164E等的具有電離放射線固化性基團的勻涂劑。使用勻涂劑時，其含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量優(yōu)選使用0.110質量％。(抗菌劑)作為抗菌劑，可使用一般市售的工業(yè)用抗菌劑。工業(yè)用抗菌劑中有有機系抗菌劑和無機系抗菌劑，使用任一者均可。作為無機系抗菌劑，可列舉例如，東亞合成(股)制的商品名NovaronAG330、AG020、AG300及AGllOO等。作為有機系抗菌劑，可列舉例如，新中村化學工業(yè)(股)制的商品名NKEconomerADP-51、ADP-33、AL、AL-4G、AL-8G、AL-12G、ML、ML-4G、ML-8G及ML-12G及日華化學(股)制的商品名B^EHS(X8129)、BZBEHP(X8128)及ALOOGT等。使用抗菌劑時，其含量相對于低折射率層用組合物的全體固體成分的總質量優(yōu)選為0.00110質量％。(其他層)在本發(fā)明的光學薄膜的優(yōu)選實施形態(tài)中，可以設置成在光透過性基材與低折射率層之間進一步設置有選自由硬涂層、高折射率層、中折射率層、防靜電層及防眩層所組成的一組中的1種以上層的層結構。此外，在本發(fā)明的光學薄膜的其他的優(yōu)選實施形態(tài)中，也可以設置成在所述低折射率層的與光透過性基材為相反一側的界面進一步設置有防污層的層結構。通過作成這種層結構，可對本發(fā)明的光學薄膜賦予硬度、防靜電性、防眩性及防污性并且可提高本發(fā)明的光學薄膜的抗反射性。圖3是顯示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的其他一例的示意圖。在光透過性基材10的一面?zhèn)龋瑥墓馔高^性基材側開始依次設置有高折射率層110及低折射率層20。圖4是顯示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的其他一例的示意圖。在光透過性基材10的一面?zhèn)龋瑥墓馔高^性基材側開始依次設置有中折射率層120、高折射率層110及低折射率層20。圖5是顯示本發(fā)明的光學薄膜的層結構的其他一例的示意圖。在光透過性基材10的一面?zhèn)?，從光透過性基材側開始依次設置有防靜電層130、硬涂層30、低折射率層20及防污層140。以下，說明根據(jù)需要可設置的硬涂層、高折射率層、中折射率層、防靜電層及防污層等其他層。(硬涂層)硬涂層是在JISK5600-5-4(1999)規(guī)定的鉛筆硬度試驗(4.9Ν載荷)中顯示「H」以上硬度的層，具有提高本發(fā)明的光學薄膜的硬度的作用。硬涂層可使用先前公知的硬涂層，也可以是由僅含粘合劑成分的組合物的固化物所構成的層，此外，在組合物中也可含有用在所述低折射率層用組合物中所列舉的交聯(lián)形成基實施了表面修飾的實心二氧化硅粒子(反應性二氧化硅微粒子)和聚合引發(fā)劑等。硬涂層的粘合劑成分可使用先前公知的硬涂層的粘合劑成分，例如，可使用所述低折射率層用組合物中所列舉的粘合劑成分。硬涂層的膜厚適當調節(jié)即可，例如，為120μπι即可。(高折射率層及中折射率層)高折射率層及中折射率層是為了調整本發(fā)明的光學薄膜的反射率所設置的層，高折射率層是鄰接低折射率層的光透過性基材側而設置的層，中折射率層是鄰接高折射率層的光透過性基材側而設置的層。高折射率層及中折射率層通常主要含有粘合劑成分和調整折射率用的粒子。作為粘合劑成分，可使用低折射率層用組合物中所列舉的粘合劑成分。作為調整折射率用的粒子，可列舉例如，粒徑為IOOnm以下的微粒子。作為此種微粒子，可列舉選自由氧化鋅(折射率1.90)、二氧化鈦(折射率2.32.7)、氧化鈰(折射率1.95)、錫摻混氧化銦(折射率1.95)、銻摻混氧化錫(折射率1.80)、三氧化二釔(折射率1.87)、氧化鋯(折射率2.0)所組成的一組中的1種以上。高折射率層具體而言優(yōu)選1.502.80的折射率。中折射率層比高折射率層的折射率更低，優(yōu)選折射率為1.502.00。膜厚優(yōu)選為10300nm。根據(jù)所求的光學特性適當設定折射率及膜厚。(防靜電層)防靜電層是具有抑制靜電發(fā)生而防止塵埃的附著，或防止組裝至液晶顯示器等時來自外部的靜電損害的作用的層。防靜電層由含有防靜電劑和粘合劑成分的組合物的固化物所構成。防靜電層的膜厚適當調節(jié)即可，優(yōu)選為30nm3μm。作為防靜電層的性能優(yōu)選形成光學薄膜后的表面電阻為1012Ω/□以下。另外，表面電阻值可使用三菱油化(股)制的HighResterHT-210測定。防靜電劑可使用先前公知物質，可使用低折射率層用組合物中所列舉的。防靜電劑的含量相對于防靜電層用組合物的全體固體成分的總質量優(yōu)選為130質量％。作為固化形成防靜電層的粘合劑成分，使用先前公知的防靜電層的粘合劑成分即可，例如，可使用低折射率層用組合物中所列舉的粘合劑。(防污層)以防止光學薄膜最表面的污染為目的，可在光學薄膜的與光透過性基材為相反側的最表面設置防污層。通過防污層，可對光學薄膜賦予防污性，并且進一步提高耐擦傷性。防污層是由含有防污劑和粘合劑成分的防污層用組合物的固化物所構成的層。作為防污劑，可使用低折射率層用組合物中所列舉的勻涂劑。防污劑的含量相對于防污層用組合物的全體固體成分的總質量優(yōu)選為130質量％。作為固化形成防污層的粘合劑成分，使用先前公知的粘合劑成分即可，例如，可使用低折射率層用組合物中所列舉的粘合劑成分。防污層的膜厚適當調整即可，但優(yōu)選可維持低折射率層的抗反射機能的膜厚，為130nmo(光學薄膜的制造方法)本發(fā)明的光學薄膜的制造方法，包含在光透過性基材的一面?zhèn)韧坎妓龅驼凵渎蕦佑媒M合物，照射光使其固化形成低折射率層的步驟。低折射率層用組合物可直接涂布至光透過性基材上，也可在光透過性基材上形成的所述硬涂層、防靜電層等的其他層上涂布。此外，設置其他層時，也可與防靜電層等其他層的組合物同時涂布。對于低折射率層用組合物，通常利用一般的制備法在溶劑中將粘合劑成分、中空粒子及實心粒子以及聚合引發(fā)劑等混合并且分散處理而制備。在混合分散中可使用涂料振蕩機或珠粒磨機等。在粘合劑成分具有流動性的情況下，即使不使用溶劑也可在基材上涂布低折射率層用組合物，因此適當根據(jù)需要使用溶劑即可。涂布方法使用先前公知的方法即可，并無特別限定，可使用旋涂法、浸漬法、噴霧法、滑動片涂敷法、棒涂法、輥涂法、彎月面涂敷法、撓性印刷法、網(wǎng)版印刷法及珠粒涂敷法等各種方法。光照射主要使用紫外線、可見光、電子線、電離放射線等。紫外線固化的情況下，使用由超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧燈、氙弧燈、金屬鹵素燈等光線所發(fā)出的紫外線等。能量線源的照射量，以在紫外線波長365nm的累積曝光量計，為50500mJ/cm2左右ο從防止低折射率層用組合物表面的氧阻礙的方面而言，優(yōu)選在氮氣氛下，例如以氧濃度IOOOppm以下進行光照射。除了光照射還進行加熱的情況下，通常在40120°C的溫度下處理。在低折射率層用組合物的涂布后、進行光照射前，優(yōu)選進行干燥。作為干燥方法，可列舉例如，減壓干燥或加熱干燥、以及組合這些干燥的方法等。例如，使用甲基乙基酮作為低折射率層用組合物的溶劑時，可在30150°C、優(yōu)選為35°C100°C的溫度，以20秒鐘3分鐘、優(yōu)選為30秒鐘1分鐘的時間進行干燥步驟。若為此溫度，則溶劑由涂膜揮發(fā)的速度和實心粒子朝向界面?zhèn)纫苿拥乃俣冗m當。(其他層的形成)在光透過性基材上形成其他層的情況下，在涂布低折射率層用組合物前涂布其他層的組合物，并且進行光照射及/或加熱而形成其他層即可。(偏振片)接著說明本發(fā)明的偏振片。本發(fā)明的偏振片是具有偏光膜和保護該偏光膜兩面的2片保護薄膜的偏振片，其特征在于該保護薄膜中的至少一個是所述本發(fā)明的光學薄膜。優(yōu)選如下的結構光學薄膜的光透過性基材根據(jù)需要隔著由聚乙烯醇構成的粘接劑層等與偏光膜粘接，成為偏光膜的保護薄膜，并且在偏光膜的另一側也具有保護薄膜。也可在另一保護薄膜的與偏光膜為相反側的面具有粘合劑層。通過將本發(fā)明的光學薄膜用作為偏振片用保護薄膜，可制作具有耐擦傷性、密合性優(yōu)異的抗反射功能的偏振片，可降低成本、使顯示設備薄型化等。(顯示面板和顯示器)本發(fā)明的顯示面板具備本發(fā)明的光學薄膜。此外，同樣使用具備所述本發(fā)明的光學薄膜的偏振片時，也可獲得顯示面板。顯示器由顯示器的視聽者側構件的顯示面板和包含驅動部的背面?zhèn)葮嫾鶚嫵?。若以液晶顯示器舉例說明，所謂顯示面板是由封閉液晶材料的2片玻璃板(例如，彩色濾光片基板和數(shù)組基板)、偏振片、及如本發(fā)明的具備抗反射性等的光學薄膜等所構成的構件，所謂背面?zhèn)葮嫾怯煞Q為背光的光源、控制LCD的驅動電路、控制光源的電路及底架等所構成的構件。作為此情況的液晶顯示器層結構的1例，是具有包含導光板和擴散薄膜等的背光部，并且在其上方依次層疊偏振片、數(shù)組基板、液晶層、彩色濾光片基板、偏振片、光學薄膜而成的結構。在背面?zhèn)葮嫾囊暵犝邆?，通過配置所述本發(fā)明的光學薄膜、所述偏振片、或所述顯示面板，可構成顯示器(圖像顯示設備)。例如，可在所述光學薄膜的光透過性基材側配置背面?zhèn)葮嫾?。作為顯示器，根據(jù)背面?zhèn)葮嫾牟町?用于圖像再現(xiàn)的驅動原理等的差異)，可列舉IXD、PDP、ELD(有機EL、無機EL)、CRT、SED(表面電場顯示器)等，或者根據(jù)顯示器用途的差異，可列舉電視、計算機監(jiān)視器、觸控面板、電子紙等。所述顯示器的代表例LCD是具備透過性顯示體和由其背面照射的光源裝置而成的。在所述顯示器為LCD的情況下，是在其透過性顯示體的表面配置本發(fā)明的光學薄膜或具備該光學薄膜的偏振片而成的。所述顯示器的其他一例的PDP是具備表面玻璃基板和與該表面玻璃基板對置并在之間封入放電氣體而配置的背面玻璃基板而成的。在所述顯示器為PDP的情況下，也有在表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或薄膜基板)具備所述光學薄膜的結構。所述顯示器也可以是將施加電壓就發(fā)光的硫化鋅、二胺類物質等的發(fā)光體蒸鍍至玻璃基板，控制施加至基板的電壓而進行顯示的ELD裝置，或者是將電信號轉換成光，產(chǎn)生人類肉眼可見的圖像的CRT等顯示器。此時，在ELD裝置或CRT的最表面或其前面板的表面具備所述硬涂薄膜。[實施例]以下，列舉實施例，進一步具體說明本發(fā)明。本發(fā)明并不局限于這些記載。另外，所謂分散液等固化前的油墨組合物中所用的各微粒子的平均初級粒徑，是指原材料的粒徑，與固化膜中的平均粒徑是不同的。作為中空二氧化硅粒子(1)，使用日揮觸媒化成工業(yè)(股)制的中空二氧化硅分散液(平均初級粒徑60nm、異丙醇分散液(固體成分20質量％))。作為中空二氧化硅粒子O)，使用日揮觸媒化成工業(yè)(股)制的中空二氧化硅分散液(平均初級粒徑50nm、異丙醇分散液(固體成分20質量％))。作為實心二氧化硅粒子(1)，使用日產(chǎn)化學工業(yè)(股)制的商品名MIBK-ST(平均初級粒徑12nm、甲基異丁基酮分散液(固體成分30質量％))。作為實心二氧化硅粒子0)，使用日揮觸媒化成(股)制的商品名0SCAL(平均初級粒徑7nm、異丙醇分散液(固體成分20質量％))。作為實心二氧化硅粒子(3)，使用日揮觸媒化成(股)制的商品名0SCAL(平均初級粒徑17nm、異丙醇分散液(固體成分20質量％))。作為實心二氧化硅粒子G)，使用日產(chǎn)化學工業(yè)(股)制的商品名MIBK-ST-ZL(平均初級粒徑88nm、甲基異丁基酮分散液(固體成分30質量％))。作為實心二氧化硅粒子(5)，使用日產(chǎn)化學工業(yè)(股)制的商品名MIBK-ST-L(平均初級粒徑44nm、甲基異丁基酮分散液(固體成分30質量％))。作為粘合劑成分(1)，使用季戊四醇三丙烯酸酯。作為粘合劑成分O)，使用日本合成化學工業(yè)(股)制的商品名UV1700-B。作為聚合引發(fā)劑，使用CikiJapan(股)制的商品名Irugacure(Irg)184。作為勻涂劑，使用信越化學工業(yè)(股)制的具有電離放射線固化性基的勻涂劑商品名X-22-164E。作為光透過性基材，使用富士膠片(股)制的TAC基材、商品名TF80UL(厚度80μm)ο各化合物的簡稱分別如下。PETA季戊四醇三丙烯酸酯MIBK甲基異丁基酮MEK:甲基乙基酮IPA異丙醇PGME丙二醇單甲醚TAC三乙酰纖維素Irgl84Jrugacure184(1_羥基-環(huán)己基-苯基-酮)(表面處理中空二氧化硅粒子(1)的制備)將中空二氧化硅粒子(1)的分散液，使用旋轉蒸發(fā)器由IPA進行溶劑置換成MIBK，獲得中空二氧化硅粒子20質量％的分散液。在此MIBK分散液100質量％中添加3-甲基丙烯酰氧丙基甲基二甲氧基硅烷5質量％，并以50°C加熱處理1小時，獲得經(jīng)表面處理的中空二氧化硅粒子(1)20質量％的MIBK分散液。(表面處理中空二氧化硅粒子O)的制備)在所述表面處理中空二氧化硅粒子(1)的制備中，除了使用中空二氧化硅粒子(2)代替中空二氧化硅粒子(1)以外，同樣地進行表面處理，獲得經(jīng)表面處理的中空二氧化硅粒子(幻20質量％的MIBK分散液。(表面處理實心二氧化硅粒子(1)的制備)在實心二氧化硅粒子(1)的分散液100質量％中，添加3-甲基丙烯酰氧丙基甲基二甲氧基硅烷5質量％，并以50°C加熱處理1小時，獲得經(jīng)表面處理的實心二氧化硅粒子(1)20重量％的MIBK分散液。(表面處理實心二氧化硅粒子O)的制備)在所述表面處理中空二氧化硅粒子(1)的制備中，除了使用實心二氧化硅粒子(2)代替中空二氧化硅粒子(1)以外，同樣地進行表面處理，獲得經(jīng)表面處理的實心二氧化硅粒子(幻20質量％的MIBK分散液。(表面處理實心二氧化硅粒子(3)的制備)在所述表面處理中空二氧化硅粒子(1)的制備中，除了使用實心二氧化硅粒子(3)代替中空二氧化硅粒子(1)以外，同樣地進行表面處理，獲得經(jīng)表面處理的實心二氧化硅粒子03)20質量％的MIBK分散液。(表面處理實心二氧化硅粒子的制備)在所述表面處理實心二氧化硅粒子(1)的制備中，除了使用實心二氧化硅粒子(4)代替實心二氧化硅粒子(1)以外，同樣地進行表面處理，獲得經(jīng)表面處理的實心二氧化硅粒子(4)20質量％的MIBK分散液。(表面處理實心二氧化硅粒子(5)的制備)在所述表面處理實心二氧化硅粒子(1)的制備中，除了使用實心二氧化硅粒子(5)代替實心二氧化硅粒子(1)以外，同樣地進行表面處理，獲得經(jīng)表面處理的實心二氧化硅粒子20質量％的MIBK分散液。(低折射率層用固化性樹脂組合物的制備)分別配合下述所示組成的成分，制備低折射率層用固化性樹脂組合物14。(低折射率層用固化性樹脂組合物1)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)表面處理實心二氧化硅粒子(1)1.4質量份(固體成分0.4質量份)PETA:1.7質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E:0.1質量份MIBK59.5質量份PGME:28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物2)表面處理中空二氧化硅粒子(分散液10.8質量份(固體成分2.2質量份)表面處理實心二氧化硅粒子(1)1.1質量份(固體成分0.3質量份)PETA:1.3質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E:0.1質量份MIBK57.8質量份PGME28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物3)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)表面處理實心二氧化硅粒子O):1.4質量份(固體成分0.4質量份)PETA:1.7質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E0.1質量份MIBK59.5質量份PGME28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物4)表面處理中空二氧化硅粒子(分散液10.8質量份(固體成分2.2質量份)表面處理實心二氧化硅粒子(3):1.1質量份(固體成分0.3質量份)PETA:1.3質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E0.1質量份MIBK57.8質量份PGME28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物5)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)PETA2.1質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E0.1質量份MIBK60.5質量份PGME28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物6)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)表面處理實心二氧化硅粒子1.1質量份(固體成分0.3質量份)PETA:1.3質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E0.1質量份MIBK57.8質量份PGME28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物7)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)表面處理實心二氧化硅粒子(5)1.4質量份(固體成分0.4質量份)PETA:1.7質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E0.1質量份MIBK59.5質量份PGME28.8質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物8)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)表面處理實心二氧化硅粒子(1)1.4質量份(固體成分0.4質量份)PETA:1.7質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E:0.1質量份MIBK88.3質量份(低折射率層用固化性樹脂組合物9)表面處理中空二氧化硅粒子(1)分散液8.4質量份(固體成分1.7質量份)表面處理實心二氧化硅粒子(1)4.2質量份(固體成分1.3質量份)PETA:0.8質量份Irgl84:0.1質量份X-22-164E:0.1質量份MIBK57.6質量份PGME:28.8質量份(硬涂層用固化性樹脂組合物的制備)配合下述所示組成的成分，制備硬涂層用固化性樹脂組合物。(硬涂層用固化性樹脂組合物)表面處理實心二氧化硅粒子(1)25質量份(固體成分0.3質量份)UV1700-B25質量份Irgl84:0.2質量份MEK49.8質量份(光學薄膜的制作)(實施例1)在TAC基材(TF80UL)的一面?zhèn)龋瑢⑺鲇餐繉佑霉袒詷渲M合物予以棒涂敷，并在溫度70°C的熱烤爐中干燥60秒鐘，使涂膜中的溶劑蒸發(fā)，氮氣氛下，使用FusionUVSystemsJapan(股)的紫外線照射裝置(光源H燈)，將紫外線以累積光量為200mJ/cm2照射使涂膜固化，形成硬涂層。接著，在硬涂層上，將所述低折射率層用固化性樹脂組合物1予以棒涂敷，并與硬涂層同樣地進行紫外線照射，形成低折射率層，獲得光學薄膜。另外，低折射率層的膜厚設定成使用島津制作所(股)制的分光光度計(UV-3100PC)測定的反射率極小值在波長550nm附近。(實施例24及比較例15)除了將實施例1中將低折射率層用固化性樹脂組合物1分別以下述表1所示的低折射率層用固化性樹脂組合物代替以外，同實施例1處理，獲得光學薄膜。但是，在比較例2中，實心二氧化硅粒子的分散平均粒徑超過低折射率層的膜厚的一半。比較例3中，中空二氧化硅與實心二氧化硅的平均粒徑小且耐擦傷性差；比較例4中，實心二氧化硅未偏在于表層附近，而在膜內(nèi)均勻，耐擦傷性差；比較例5中，因粒子使實心二氧化硅成為各條，因此膜硬而脆，從而密合性變差。對于實施例14及比較例15的低折射率層的膜厚而言，如果由利用所述分光光度計測定的反射率極小的部分的反射率和波長算出，則全部為約lOOnm。[表1]權利要求1.一種光學薄膜，其特征在于，是在光透過性基材的一面?zhèn)染邆淠ず馾的低折射率層的光學薄膜，其中該低折射率層含有平均初級粒徑為10IOOnm的中空粒子和分散平均粒徑為120nm且為該膜厚d的一半以下的實心粒子，在該低折射率層的膜厚方向的斷面且層平面方向的寬500nm的區(qū)域中，至少1個該中空粒子被該低折射率層的固化樹脂所被覆并且與該低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面接觸，該實心粒子占有該中空粒子接觸部分以外的該界面的50%以上范圍，且偏在于從該界面至膜厚方向的該實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中。2.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中，所述偏在的實心粒子的比例為所述區(qū)域中存在的實心粒子總量的40100%。3.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中，所述中空粒子的平均初級粒徑與所述實心粒子的分散平均粒徑之比(平均初級粒徑/分散平均粒徑)為2.0以上。4.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中，所述界面的基于JISB0601-1998規(guī)定測定得到的最大高度Ry為0.050μm以下。5.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中，在所述光透過性基材與所述低折射率層之間進一步設置有選自由硬涂層、高折射率層、中折射率層、防靜電層及防眩層組成的一組中的1種以上的層。6.根據(jù)權利要求1所述的光學薄膜，其中，在所述低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面進一步設置有防污層。7.一種偏振片，其特征在于具備權利要求1所述的光學薄膜。8.—種顯示面板，其特征在于包含權利要求1所述的光學薄膜。9.一種顯示面板，其特征在于包含權利要求8所述的偏振片。10.一種顯示器，其特征在于在背面?zhèn)葮嫾囊暵犝邆扰渲糜袡嗬?所述的光學薄膜。11.一種顯示器，其特征在于在背面?zhèn)葮嫾囊暵犝邆染邆溆袡嗬?所述的偏振片。12.—種顯示器，其特征在于在背面?zhèn)葮嫾囊暵犝邆染邆錂嗬?所示的顯示面板。13.—種顯示器，其特征在于在背面?zhèn)葮嫾囊暵犝邆染邆錂嗬?所示的顯示面板。全文摘要本發(fā)明的課題在于提供具有高抗反射性，且具備硬度及耐擦傷性優(yōu)異的低折射率層的低成本光學薄膜。一種光學薄膜，其特征在于，在光透過性基材的一面?zhèn)染邆淠ず馾的低折射率層，其中該低折射率層含有平均初級粒徑為10～100nm的中空粒子、及分散平均粒徑1～20nm且為該膜厚d的一半以下的實心粒子，在該低折射率層的膜厚方向的斷面且層平面方向的寬500nm的區(qū)域中，至少1個該中空粒子被該低折射率層的固化樹脂所被覆且與該低折射率層的與光透過性基材相反一側的界面接觸，該實心粒子占有該中空粒子接觸的部分以外的該界面的50％以上范圍，且偏在于從該界面至膜厚方向的該實心粒子的2個分散平均粒徑為止的深度中。還提供具備該光學薄膜的偏振片、顯示面板、顯示器。文檔編號G02B1/10GK102576095SQ201080045188公開日2012年7月11日申請日期2010年10月13日優(yōu)先權日2009年10月16日發(fā)明者中村啟志,島野繪美,用木麻友,秋山健太郎,筱原誠司申請人:大日本印刷株式會社