專利名稱：光學(xué)薄膜的制造方法、光學(xué)薄膜、偏振板及顯示器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明是關(guān)于在諸如液晶顯示器(LCD)、陰極管顯示裝置(CRT)、或等離子顯示器(PDP)等顯示器(圖像顯示設(shè)備)的前面等處設(shè)置的光學(xué)薄膜、其制造方法、以及使用其的偏振板及顯示器。
在如上述的顯示器中，為提高該顯示面的視覺辨認(rèn)度，便要求減少從諸如熒光燈、太陽光等外部光源所照射的光線的反射。作為抑制外部光的反射的方法，已知有使用在硬涂層等功能層的最表面上設(shè)置低折射率層的抗反射膜的方法(例如專利文獻(xiàn)I)。但是，如專利文獻(xiàn)I的發(fā)明，將功能層形成用組合物進(jìn)行涂布，并利用致電離射線使半固化而形成功能層，進(jìn)一歩在半固化狀態(tài)的功能層上涂布低折射率層形成用組合物，再完全固化的方式(半固化方式(half-curing))，以及現(xiàn)有的、在每個(gè)層上分別涂布組合物，再完全固化的依次多層涂布方式中，因?yàn)閷⑦M(jìn)行多次涂布步驟及固化步驟，因而生產(chǎn)率不佳。針對(duì)這種情況，專利文獻(xiàn)2提出了ー種光學(xué)薄膜的制造方法，其目的在于提供能將2層以上的功能層同時(shí)進(jìn)行多層涂布，并可獲得高生產(chǎn)率、層間密合性較高、且不會(huì)對(duì)各層間的功能分離造成障礙的光學(xué)薄膜的制造方法，該制造方法中將分別含有致電離射線固化性樹脂的A層與B層同時(shí)進(jìn)行多層涂布，進(jìn)行第I次致電離射線照射(預(yù)固化)后，接著進(jìn)行干燥，再進(jìn)行第2次致電離射線照射，由此完成固化(完全固化)。但是，除要求多層涂布的各層之間的高密合性以外，也要求多層涂布的層與基材或與基材側(cè)所接觸的層之間的高密合性。專利文獻(xiàn)2中層間的密合性較高、各層間的功能被分離，但在同時(shí)涂布的A層(硬涂層或防眩層)與B層(折射率控制層)之間存在有層界面。另外，專利文獻(xiàn)I中為了降低低折射率層的折射率而含有中空粒子等低折射率微粒，但如果使低折射率層含有低折射率微粒，則雖然低折射率層的折射率會(huì)降低，但因?yàn)榈驼凵渎蕦拥呐c基材側(cè)所鄰接的功能層的折射率高于低折射率層，因而在低折射率層與功能層的邊界(界面)，在低折射率層的低折射率微粒與功能層中存在折射率差，若不進(jìn)行精密的膜厚控制，便會(huì)發(fā)生干涉紋，出現(xiàn)使用抗反射膜的顯示器的顯示面的視覺辨認(rèn)度降低的問題。[先行技術(shù)文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)][專利文獻(xiàn)I]日本特開2009-053691號(hào)公報(bào)[專利文獻(xiàn)2]日本特開2008-250267號(hào)公報(bào)

發(fā)明內(nèi)容(發(fā)明所要解決的問題)本發(fā)明是為解決上述問題而完成的，本發(fā)明的第一目的是提供ー種光學(xué)薄膜及其制造方法，對(duì)于該光學(xué)薄膜而言，通過進(jìn)行同時(shí)涂布(多層涂布)而具有抗反射功能，且維持光霧(haze)、全光線透過率及無條紋的表面狀態(tài)，并通過減少涂布步驟、固化步驟而生產(chǎn)率提高，且通過消除因依次涂布所造成的層間界面而層間干渉紋的發(fā)生得到抑制并且密合性變良好，且通過在基材附近増加與基材折射率相同程度的折射率的硬涂組合物的比例而在硬涂層與基材之間發(fā)生的干涉紋得到抑制且密合性優(yōu)異。本發(fā)明的第二目的是提供具備上述光學(xué)薄膜的偏振板。本發(fā)明的第三目的是提供具備上述光學(xué)薄膜的顯示器。(解決問題的手段)本發(fā)明人等經(jīng)深入研究結(jié)果發(fā)現(xiàn)，將第一組合物(其不含低折射率微粒與低折射率樹脂、或即使含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于含光固化性樹脂或熱固化性樹脂的固化性樹脂的質(zhì)量為5質(zhì)量％以下，較小，且具有特定的粘度)與第二組合物(其含有低折射率微粒，且具有特定的粘度)，從基材側(cè)將該第一組合物與第二組合物相鄰接而同時(shí)涂布于基材 上或在基材上所設(shè)置的層上，在未進(jìn)行干燥前的預(yù)固化情況下便進(jìn)行干燥，接著進(jìn)行光照射或加熱而使其固化，由此在HC層的膜厚方向上能夠獲得如下分布，即與HC層的基材側(cè)相比低折射率微粒更多地存在于HC層的與基材相反ー側(cè)的界面，且越靠基材側(cè)低折射率微粒存在量越少的分布，也就是說形成從與基材相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪膫?cè)低折射率微粒逐漸減少的分布，另外，未出現(xiàn)如現(xiàn)有的利用依次多層涂布形成低折射率層與HC層時(shí)、或如專利文獻(xiàn)2那樣利用同時(shí)涂布形成時(shí)會(huì)出現(xiàn)的明確的層界面，且具有抗反射功能，并在維持光霧、全光線透過率及無條紋的表面狀態(tài)的情況下，通過消除因依次涂布所產(chǎn)生的層間界面，抑制層間的干涉紋發(fā)生，使密合性變良好，還有通過在基材附近増加與基材折射率同等程度折射率的硬涂組合物的比例，而抑制發(fā)生硬涂層與基材間的干涉紋，以高生產(chǎn)率獲得密合性優(yōu)異的光學(xué)薄膜，從而完成了本發(fā)明。S卩，本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造方法的特征在于包括(i)準(zhǔn)備透光性基材的步驟，(ii)準(zhǔn)備第一硬涂層用固化性樹脂組合物和第二硬涂層用固化性樹脂組合物的步驟，其中所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物含有具有反應(yīng)性的第一樹脂和第一溶劑并且不含低折射率微粒和低折射率樹脂或即便含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于該第一樹脂的質(zhì)量為5. O質(zhì)量％以下，該第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ I為3mPa *s以上，所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物含有選自由平均粒徑為10 300nm的低折射率微粒和低折射率樹脂構(gòu)成的一組中的I種以上的低折射率成分、具有反應(yīng)性的第二樹脂、和第ニ溶劑，該第二硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ 2為5mPa *s以上，并且從該μ 2減去該μ I后得到的值為30mPa · s以下，(iii)在該透光性基材的一面?zhèn)龋瑥脑撏腹庑曰末`側(cè)開始至少將該第一硬涂層用固化性樹脂組合物和第二硬涂層用固化性樹脂組合物相鄰接而同時(shí)涂布，而制作涂膜的步驟，(iv)將上述(iii)步驟中獲得的涂膜干燥，接著進(jìn)行光照射和/或加熱，使之固化的步驟，并且在該(iii)步驟和該(iv)步驟之間不進(jìn)行預(yù)固化。
通過將不含低折射率微粒與低折射率樹脂或即使含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于第一樹脂質(zhì)量較小為5. O質(zhì)量％以下、并具有上述特定粘度的第一 HC層用固化性樹脂組合物(以下簡稱「第一組合物」)，和含有選自由低折射率微粒及低折射率樹脂所構(gòu)成的一組中的I種以上的低折射率成分并具有上述特定粘度的第二 HC層用固化性樹脂組合物(以下簡稱「第二組合物」)，從透光性基材側(cè)按照第一組合物和第二組合物相鄰而置的方式進(jìn)行同時(shí)多層涂布而形成HC層且不進(jìn)行預(yù)固化，由此使第二組合物中所含的低折射率成分在HC層的膜厚方向上形成如下分布，即與透光性基材側(cè)相比低折射率成分更多地存在于HC層的與透光性基材相反ー側(cè)的界面?zhèn)?，且越靠近透光性基材?cè)低折射率成分的存在量越少的分布，從與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)該低折射率微粒逐漸減少，可以抑制發(fā)生因HC層內(nèi)低折射率成分與HC層的樹脂之間的折射率差異所造成的干涉紋、以及HC層與基材的界面中干渉紋的發(fā)生，可以獲得視覺辨認(rèn)度優(yōu)異的光學(xué)薄膜。
另外，因?yàn)樵诓贿M(jìn)行預(yù)固化的情況下使涂膜干燥，接著進(jìn)行光照射或加熱而使涂膜固化，因而與進(jìn)行預(yù)固化來固化的情況相比，可以提高HC層、與透光性基材、HC層的與透光性基材側(cè)相鄰接的層之間的密合性。本發(fā)明中所謂「預(yù)固化」是指未使涂膜進(jìn)行正式固化的光照射及/或加熱。另外，所謂「涂膜正式固化」是指使涂膜干燥、減少涂膜中的溶剤、固化后得到的涂膜在根據(jù)JIS K5600-5-4(1999)所規(guī)定的鉛筆硬度試驗(yàn)(4.9Ν載荷)中顯現(xiàn)出「H」以上硬度的固化。本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法的優(yōu)選實(shí)施方式中，在上述(iii)步驟中，將第一硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜濕膜厚度設(shè)為Tl，并將第二硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜濕膜厚度設(shè)為T2時(shí)，通過將T2除以Tl得到的值(即T2/T1)設(shè)為O. 01 1，可獲得下述光學(xué)薄膜，該光學(xué)薄膜中形成如下分布，即在硬涂層的膜厚方向上，與透光性基材側(cè)相比低折射率成分更多地存在于HC層的與透光性基材相反ー側(cè)的界面?zhèn)?，且越靠近透光性基材?cè)低折射率成分的存在量越少，從與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)該低折射率成分逐漸減少，并且在硬涂層的膜厚方向上，在從與上述透光性基材相反側(cè)的界面起到上述硬涂層的干燥膜厚的70%為止的區(qū)域中，存在上述低折射率成分總量的70 100%的分布。通過低折射率成分形成這樣的分布，即便減少低折射率成分的含量，仍可充分顯現(xiàn)出光學(xué)薄膜的抗反射性能。另外，關(guān)于HC層膜厚方向上的低折射率微粒分布，可利用HC層膜厚方向截面的TEM(透過型電子顯微鏡)照片進(jìn)行觀察。關(guān)于HC層膜厚方向上的低折射率樹脂的分布例如通過以下方法測定，即將光學(xué)薄膜使用熱固化性樹脂予以包埋，再使用LEICA公司制超薄切片機(jī)從該經(jīng)包埋的光學(xué)薄膜中制作出厚SOnm的超薄切片，接著使用Ru04進(jìn)行氣相染色，并利用TEM進(jìn)行觀察。本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造方法的優(yōu)選實(shí)施方式中，由于可輕易地獲得具有上述特定的低折射率成分的分布的HC層，因此優(yōu)選上述第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ I為3 95mPa · s，上述第二硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ 2為5 IOOmPa · S。本發(fā)明的光學(xué)薄膜是依照上述光學(xué)薄膜的制造方法所獲得的光學(xué)薄膜。本發(fā)明光學(xué)薄膜的優(yōu)選的實(shí)施方式也可以是在透光性基材的一面?zhèn)仍O(shè)有硬涂層的光學(xué)薄膜，其中，在上述硬涂層的膜厚方向上，與該透光性基材側(cè)相比低折射率成分更多地存在干與上述透光性基材相反ー側(cè)的界面?zhèn)?，且越靠近該透光性基材?cè)則該低折射率微粒的存在量越少，從與該透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)該低折射率成分逐漸減少，并且在該硬涂層內(nèi)不存在層界面，該硬涂層對(duì)于上述透光性基材的棋盤格密合性試驗(yàn)中的密合率為90 100%。此處所謂的「棋盤格密合性試驗(yàn)的密合率」是指在光學(xué)薄膜的HC層側(cè)表面上按照Imm的方塊劃入共100格的棋盤格，再使用寬24mm的粘合膠帶(例如NICHIBAN (股)制エ業(yè)用賽珞膠帶(注冊商標(biāo)))，進(jìn)行5次連續(xù)剝離試驗(yàn)，再根據(jù)下述基準(zhǔn)計(jì)算出的未剝落而殘留的方格比例。密合率(％ )=(未剝落的方格數(shù)/總的方格數(shù)100) X 100本發(fā)明光學(xué)薄膜的優(yōu)選實(shí)施方式中，也可在硬涂層的膜厚方向上，在從與上述透光性基材的相反側(cè)的界面起至上述硬涂層干燥膜厚的70%為止的區(qū)域中，存在有上述低折射率微?？偭康?0 100%。本發(fā)明的偏振板的特征在于，在上述任一光學(xué)薄膜的與上述硬涂層相反的透光性基材側(cè)上，設(shè)有偏振片。本發(fā)明的顯示器的特征在于，在上述任一光學(xué)薄膜的與上述硬涂層相反的透光性基材側(cè)上，配置有顯示面板。(發(fā)明效果)通過將第一組合物(其未含有低折射率微粒與低折射率樹脂、或即使含有低折射率樹脂也是屬上述特定量，且具有上述特定粘度)和第二組合物(其含有低折射率微粒及/或低折射率樹脂，并具有上述特定粘度)，從透光性基材側(cè)按照第一組合物和第二組合物呈相鄰接位置的狀態(tài)進(jìn)行同時(shí)涂布，在未進(jìn)行預(yù)固化的情況下使涂膜干燥，接著再進(jìn)行光照射或加熱而形成HC層，由此即可獲得如下的光學(xué)薄膜，該光學(xué)薄膜在HC層的膜厚方向上，第二組合物中所含的低折射率微粒及/或低折射率樹脂形成如下分布，即與透光性基材側(cè)相比，第二組合物中所含的低折射率微粒及/或低折射率樹脂更多地存在于HC層的與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)?，并且越靠透光性基材?cè)其存在量越少，且從與透光性基材的相反側(cè)的界面起朝透光性基材側(cè)該低折射率成分逐漸減少的分布，并且該光學(xué)薄膜具有抗反射功能，在維持光霧、全光線透過率及無條紋的表面狀態(tài)的同時(shí)通過減少涂布步驟與固化步驟而生產(chǎn)率得到提高，并且通過消除因依次涂布所產(chǎn)生的層間界面，層間的干渉紋的發(fā)生得到抑制，密合性變良好，另外通過在基材附近増加與基材折射率同等程度折射率的硬涂組合物的比例，硬涂層與基材之間的干渉紋的發(fā)生得到抑制，且該光學(xué)薄膜的密合性優(yōu)異。


圖I為依照本發(fā)明制造方法所獲得的光學(xué)薄膜的HC層中，低折射率微粒的分布一例的截面示意圖。圖2為依照現(xiàn)有的依次多層涂布方式所獲得的抗反射膜的低折射率層中，低折射率微粒分布一例的截面示意圖。 圖3為本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法中，將第一及第ニ HC層用固化性樹脂組合物進(jìn)行同時(shí)涂布的步驟的一例的示意圖。圖4為本發(fā)明第二光學(xué)薄膜的層結(jié)構(gòu)一例的示意圖。圖5為本發(fā)明第二光學(xué)薄膜的層結(jié)構(gòu)另一例的示意圖。圖6為表不本發(fā)明偏振板的層結(jié)構(gòu)一例的不意圖。、
圖7為實(shí)施例I的光學(xué)薄膜截面圖。圖8為實(shí)施例I的光學(xué)薄膜的硬涂層中與透光性基材相反側(cè)的界面部分的放大截面圖。圖9為比較例3的光學(xué)薄膜的截面圖。符號(hào)說明I光學(xué)薄膜2偏振板10透光性基材20硬涂層30低折射率微粒40 模頭51、52 狹縫60第一硬涂層用固化性樹脂組合物61第一硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜70第二硬涂層用固化性樹脂組合物71第二硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜80涂布高度90第一及第二組合物的總濕膜厚度100現(xiàn)有的抗反射膜110現(xiàn)有的硬涂層120低折射率層130透光性基材的輸送方向140抗靜電層150防污層160保護(hù)膜170偏光層180偏振片
具體實(shí)施例方式以下，首先，針對(duì)本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造方法進(jìn)行說明，接著再針對(duì)該光學(xué)薄膜進(jìn)行說明。本發(fā)明中，(甲基)丙烯酸酯是指丙烯酸酯及/或甲基丙烯酸酷。再者，本發(fā)明的光是不僅局限于可見及非可見區(qū)域波長的電磁波，也涵蓋諸如電子射線的類的粒子射線、以及電磁波與粒子射線的統(tǒng)稱的放射線或致電離射線。本發(fā)明中，在無特別聲明的前提下，所謂「膜厚」是指干燥時(shí)的膜厚(干燥膜厚)。本發(fā)明中，所謂「硬涂層」是指依照J(rèn)IS K5600-5-4(1999)所規(guī)定的鉛筆硬度試驗(yàn)(4. 9Ν載荷)測定的硬度達(dá)到「H」以上的硬度。 另外，薄膜與薄片在JIS-K6900的定義中，所謂「薄片」是指較薄且一般其厚度相對(duì)于長度與寬度呈較小的扁平制品，所謂「薄膜」是指相對(duì)于長度及寬度，厚度極小，而最大厚度則為任意限定的薄的扁平制品，通常是以卷筒形式供應(yīng)。所以，薄片中厚度特別薄的可以稱之為薄膜，但是因?yàn)楸∑c薄膜的界線并無一定，不易明確區(qū)分，因而本發(fā)明的「薄膜」中包括厚度較厚的和厚度較薄的。本發(fā)明中所謂「樹脂」是除單體、寡聚物之外還包含聚合物的概念，是指經(jīng)固化后會(huì)成為HC層或其他功能層的基質(zhì)的成分。本發(fā)明中，所謂「分子量」在具有分子量分布的情況下，是指在THF溶劑中利用凝膠滲透色層分析儀(GPC)所測得的聚苯こ烯換算值的重均分子量，在不具有分子量分布的 情況，是指化合物本身的分子量。本發(fā)明中，所謂「低折射率微粒的平均粒徑」在組合物微粒情況下，是指用動(dòng)態(tài)光散射方法測定溶液中的粒子，并按照累計(jì)分布表示含一次粒徑和二次粒徑的粒徑分布時(shí)的50%粒徑(d50中值粒徑),可使用日機(jī)裝(股)制Microtrac粒度分析計(jì)進(jìn)行測定。在HC層中的微粒情況下，是指利用TEM照片觀察HC層截面測到的粒子20個(gè)的平均值。(光學(xué)薄膜的製造方法)本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造方法的特征在于包括(i)準(zhǔn)備透光性基材的步驟，(ii)準(zhǔn)備第一硬涂層用固化性樹脂組合物和第二硬涂層用固化性樹脂組合物的步驟，其中所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物含有具有反應(yīng)性的第一樹脂和第一溶劑且不含低折射率微粒和低折射率樹脂或即便含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于該第一樹脂的質(zhì)量為5. O質(zhì)量％以下，該第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ I為3mPa · s以上，所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物含有選自由平均粒徑為10 300nm的低折射率微粒和低折射率樹脂構(gòu)成的一組中的I種以上的低折射率成分、具有反應(yīng)性的第二樹脂和第二溶劑，該第二硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ2為5mPa*s以上，并且從該μ 2減去該μ I后得到的值為30mPa · s以下，(iii)在該透光性基材的一面?zhèn)?，從該透光性基材ー側(cè)開始至少使該第一硬涂層用固化性樹脂組合物和第二硬涂層用固化性樹脂組合物相鄰接而同時(shí)涂布，制作涂膜的步驟，(iv)將上述(iii)步驟中獲得的涂膜干燥，接著進(jìn)行光照射和/或加熱，使之固化的步驟，并且在該(iii)步驟和該(iv)步驟之間不進(jìn)行預(yù)固化。圖I是依照本發(fā)明的制造方法所獲得的光學(xué)薄膜的HC層中，低折射率微粒分布一例的截面示意圖。光學(xué)薄膜I中，在透光性基材10的一面?zhèn)壬显O(shè)置有HC層20，而HC層中，低折射率微粒30具有如下分布與透光性基材側(cè)相比低折射率微粒30更多地存在于HC層的與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)?，且越靠近透光性基材?cè)其存在量越少，即，具有從與透光性基材相反側(cè)的界面朝透光性基材側(cè)，該低折射率成分逐漸減少的分布。圖2是表示依照現(xiàn)有的依次多層涂布方式所形成的抗反射膜的低折射率層中，低折射率微粒分布的一例的截面示意圖?？狗瓷淠?00中，在透光性基材10的一面?zhèn)?，從透光性基材?cè)開始設(shè)置有HC層110及低折射率層120，在低折射率層內(nèi)的低折射率微粒30呈均勻分布，因?yàn)槭笻C層完全固化、形成后才形成低折射率層，因而低折射率微粒并不存在于HC層內(nèi)，在低折射率層與HC層的界面處折射率差會(huì)變大，導(dǎo)致產(chǎn)生干涉紋。又，HC層與低折射率層的界面也可明確地分辨出。進(jìn)而若在現(xiàn)有的抗反射膜中形成與圖I的低折射率微粒所存在的區(qū)域的厚度相同程度的、膜厚較厚的低折射率層，便會(huì)發(fā)生干涉紋。像這樣，現(xiàn)有的依次多層涂布方式中，若形成與依照本發(fā)明涂布方法所獲得的低折射率微粒分布的厚度相同程度厚度的上層(低折射率層)，則在成為下層的組合物的固化部分與成為上層的組合物的固化部分會(huì)產(chǎn)生界面，而該界面部分中，上層組合物中所含的低折射率微粒與下層組合物中所含的樹脂的折射率差較大，導(dǎo)致出現(xiàn)干涉紋。相對(duì)于此，本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法中，通過將第一組合物(其未含有低折射 率微粒與低折射率樹脂、或即使含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于第一樹脂的質(zhì)量為5. O質(zhì)量％以下，且具有上述特定粘度)和第二組合物(其含有低折射率成分并具有上述特定粘度)，從透光性基材側(cè)按照第一組合物和第二組合物呈相鄰接位置的狀態(tài)進(jìn)行同時(shí)涂布而形成HC層，并且不進(jìn)行預(yù)固化，由此即可獲得如下的光學(xué)薄膜，如圖I所示該光學(xué)薄膜在HC層的膜厚方向上，第二組合物中所含的低折射率組分形成如下分布，即與透光性基材側(cè)相比，第二組合物中所含的低折射率組分更多地存在于HC層的與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)嗓觳⑶以娇客腹庑曰膫?cè)低折射率微粒的存在量越少的分布，也就是說，從與透光性基材的相反側(cè)的界面起朝透光性基材側(cè)該低折射率成分逐漸減少的分布，并且HC層內(nèi)因低折射率成分與HC層的樹脂之間的折射率之差所造成的干渉紋的發(fā)生得到抑制、以及HC層與基材之間的界面處的干渉紋的發(fā)生得到抑制，可獲得優(yōu)異的視覺辨認(rèn)度，且HC層與透光性基材或與透光性基材側(cè)相鄰接的層之間的密合性優(yōu)異的光學(xué)薄膜。再者，由于不需要進(jìn)行預(yù)固化，因而相對(duì)于進(jìn)行預(yù)固化與正式固化2次、光照射才固化的情況，生產(chǎn)率也優(yōu)異。另外，當(dāng)在透光性基材上利用同時(shí)涂布形成含有作為低折射率成分的低折射率微粒的HC層時(shí)，該HC層與該透光性基材之間的密合性良好的理由雖尚未明確，但可推測為如下理由。即，若第一組合物中所含的樹脂接觸到透光性基材，則該樹脂會(huì)滲透于透光性基材中，并產(chǎn)生化學(xué)性及/或物理性結(jié)合，推測由此會(huì)提高HC層與透光性基材之間的密合性。相對(duì)于此，當(dāng)HC層中所含低折射率微粒并未形成如上述般越靠近透光性基材側(cè)則存在量越少的分布而在HC層中呈均勻分散時(shí)，在HC層中靠透光性基材側(cè)的界面處，低折射率微粒所占據(jù)的部分中不會(huì)發(fā)生因樹脂滲透而產(chǎn)生的樹脂與基材之間的化學(xué)性及/或物理性結(jié)合，推測密合性并未獲得提高。再者，若在透光性基材上剛將第一組合物與第二組合物同時(shí)涂布后，便進(jìn)行預(yù)固化，則在溶劑存在下，樹脂在滲入透光性基材之前便會(huì)開始進(jìn)行聚合或交聯(lián)，導(dǎo)致樹脂的分子量變大，樹脂不會(huì)滲入透光性基材中，即便經(jīng)干燥后再進(jìn)行光照射或加熱，推測密合性仍未獲得提尚。由這些現(xiàn)象可推測，在透光性基材上將第一組合物與第二組合物同時(shí)進(jìn)行涂布，而形成上述具有特定的低折射率微粒分布的本發(fā)明HC層時(shí)，會(huì)成為對(duì)透光性基材的密合性優(yōu)異的光學(xué)薄膜。
圖3是表示本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造方法中，將第一及第ニHC層用固化性樹脂組合物進(jìn)行同時(shí)涂布的步驟的一例的示意圖。
在透光性基材10上，從模具涂布機(jī)頭40的狹縫51及52分別將第一硬涂層用固化性樹脂組合物60及第ニ硬涂層用固化性樹脂組合物70，按照第一硬涂層用固化性樹脂組合物位于透光性基材側(cè)上的方式，呈相鄰接進(jìn)行同時(shí)多層涂布，形成第一硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜61、及第ニ硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜71。另外，圖3中，第一硬涂層用固化性樹脂組合物與第二硬涂層用固化性樹脂組合物原本呈一體而形成硬涂層，但為了簡化說明，便將該ニ種組合物與其涂膜分開顏色圖示。以下，針對(duì)在⑴及(ii)步驟中所準(zhǔn)備的透光性基材、第一組合物、及第二組合物進(jìn)行說明。(透光性基材)本發(fā)明的透光性基材只要是滿足能用作光學(xué)薄膜的透光性基材的物性的基材，則 并無特別的限制，可適當(dāng)選擇使用目前公知的在硬涂薄膜、光學(xué)薄膜中所采用的三醋酸纖維素、聚對(duì)苯ニ甲酸こニ醇酯或環(huán)烯烴聚合物等。在可見光區(qū)域380 780nm中的透光性基材的平均透光率優(yōu)選是50%以上、更優(yōu)選是70%以上、特別優(yōu)選是85%以上。另外，透光率的測定是使用紫外可見分光光度計(jì)(例如島津制作所(股)制UV-3100PC)，在室溫、大氣中所測得的值。再者，也可對(duì)透光性基材進(jìn)行皂化處理、或設(shè)置底漆層等表面處理。又，在透光性基材中也可添加諸如抗靜電劑等添加劑。透光性基材的厚度并無特別的限制，通常是20μπι 300μπι左右，優(yōu)選是40 μ m ~ 200 μ m。(第一硬涂層用固化性樹脂組合物)第一硬涂層用固化性樹脂組合物含有具有反應(yīng)性的第一樹脂和第一溶劑且不含低折射率微粒和低折射率樹脂或即便含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于該第一樹脂的質(zhì)量為5. O質(zhì)量％以下，該第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ I為5mPa · s以上。第一組合物不含有低折射率微粒與低折射率樹脂或即使含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于第一樹脂的質(zhì)量為5. O質(zhì)量％以下，且該第一組合物具有上述特定粘度，并且后述的第二組合物含有低折射率成分并具有特定粘度，還有按照第一組合物相對(duì)于第二組合物更靠近透光性基材側(cè)的方式同時(shí)涂布該2種組合物，由此在第一組合物與第二組合物進(jìn)行固化而形成HC層時(shí)，在HC層的膜厚方向上形成從與透光性基材的相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)低折射率成分逐漸減少的分布，當(dāng)?shù)驼凵渎食煞质堑驼凵渎饰⒘５那闆r下低折射率微粒便具有如圖I所示的分布。從適度地抑制與后述的第二組合物的混合的角度考慮，第一組合物的粘度為3mPa-s以上、優(yōu)選為IOmPa *s以上。從提高涂布性的觀點(diǎn)考慮，該粘度μ I優(yōu)選為95mPa-s以下，更優(yōu)選為50mPa *s以下，特別優(yōu)選為30mPa *s以下。此外，從第二組合物的粘度μ 2中減去μ I得到的值(以下簡稱為「粘度差」)為30mPa · s以下。從抑制混合和形成的表面狀態(tài)的觀點(diǎn)考慮，粘度差優(yōu)選為15mPa · s以下，更優(yōu)選為IOmPa · s以下。另外關(guān)于第一組合物的粘度μ I與第二組合物的粘度μ 2，從涂布性的觀點(diǎn)考慮，優(yōu)選μ 2大于μ I。另外，對(duì)于第一組合物及后述第二組合物的粘度，例如可以使用Anton Paar公司制商品名MCR301，并將測定夾具設(shè)為ΡΡ50，在測定溫度為25°C、剪切速度為10000 [Ι/s]的條件下，將測定對(duì)象的組合物適量滴加于平臺(tái)上進(jìn)行測定。
第一組合物是未含有低折射率微粒及低折射率樹脂或即使含有低折射率樹脂也是相對(duì)于該第一樹脂質(zhì)量在5.0質(zhì)量％以下。從顯現(xiàn)出抗反射性能的觀點(diǎn)考慮，這種低折射率成分最好僅存在于HC層的與透光性基材相反側(cè)的界面及其附近部分。若在整個(gè)HC層中低折射率成分均勻存在，則不會(huì)充分顯現(xiàn)出光學(xué)薄膜的抗反射性能，且也會(huì)有無法充分顯現(xiàn)出HC層硬度的可能性。就此點(diǎn)而言，后述第二組合物便具有使低折射率成分多數(shù)分布于該界面及其附近區(qū)域的作用。即便第一組合物中含有低折射率樹脂，但若屬于上述量，則光學(xué)薄膜仍可獲得充分的抗反射性能。第一組合物中所含的低折射率樹脂量相對(duì)于第一樹脂的質(zhì)量優(yōu)選為I質(zhì)量％以下。(第一樹脂)第一樹脂是具有反應(yīng)性、并經(jīng)固化便成為HC層基質(zhì)的成分。第一樹脂經(jīng)過光照射或加熱具有第一樹脂彼此之間、及與后述第二樹脂之間的聚合或交聯(lián)反應(yīng)性。第一樹脂可 以是通過諸如紫外線等光照射而進(jìn)行固化的光固化性樹脂，也可以是通過加熱而進(jìn)行固化的熱固化性樹脂。當(dāng)?shù)谝粯渲枪夤袒詷渲那闆r下，第一樹脂優(yōu)選具有聚合性不飽和基，更優(yōu)選具有致電離射線固化性不飽和基。具體例可舉出例如(甲基)丙烯酰基、こ烯基、烯丙基等烯鍵性不飽和鍵合及環(huán)氧基等等。當(dāng)?shù)谝粯渲菬峁袒詷渲那闆r下，第一樹脂可舉出例如具有諸如羥基、羧基、胺基、環(huán)氧基、環(huán)氧丙基、異氰1酸酷基及燒氧基等的樹脂。從利用交聯(lián)反應(yīng)提高HC層硬度的觀點(diǎn)考慮，第一樹脂優(yōu)選在I個(gè)分子中具有2個(gè)以上反應(yīng)性基，更優(yōu)選具有3個(gè)以上。作為光固化性樹脂的第一樹脂，只要使用目前公知的能成為HC層基質(zhì)的光固化性樹脂即可，優(yōu)選使用例如季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)及ニ季戊四醇六丙烯酸酯(DPHA)
等多官能基單體。作為熱固化性樹脂的第一樹脂，可使用例如具有環(huán)氧基的化合物及日本特開2006-106503號(hào)公報(bào)所記載的粘結(jié)劑性環(huán)氧化合物。且，也可使用日本特開2008-165041號(hào)公報(bào)所記載的熱固化性樹脂。從較容易調(diào)節(jié)第一組合物粘度μ I的觀點(diǎn)考慮，第一樹脂的分子量優(yōu)選500以上、更優(yōu)選大于1000。此外，從較容易調(diào)節(jié)第一組合物粘度μ I的觀點(diǎn)考慮，第一樹脂的分子量上限值優(yōu)選是150000以下、更優(yōu)選是50000以下、特別優(yōu)選是20000以下。通過將第一樹脂的分子量設(shè)定在該范圍內(nèi)，即可抑制后述第二組合物中所含的低折射率微?；虻驼凵渎蕵渲贖C層整體中呈均勻擴(kuò)散的情況，較容易使大多數(shù)存在于HC層的與透光性基材的相反側(cè)的界面?zhèn)戎?。作為分子量大?000的樹脂，優(yōu)選可舉出例如專利文獻(xiàn)I所記載的含有聚環(huán)氧烷鏈的聚合物D、或荒川化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名BEAMSET DK1、新中村化學(xué)エ業(yè)(股)制屬于UV固化型尿烷丙烯酸酯寡聚物的商品名NH寡聚U-15HA、以及日本合成化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名UV-1700B等。從抑制在HC層與基材的界面處發(fā)生干渉紋的觀點(diǎn)考慮，最好使第一樹脂中含有分子量1000以下的樹脂。作為這種分子量1000以下的樹脂，優(yōu)選舉出上述PETA或DPHA。當(dāng)作為第一樹脂并用分子量1000以下的樹脂以及除此之外的樹脂(即分子量大于1000的樹脂)時(shí)，對(duì)于分子量1000以下的樹脂含量只要根據(jù)所需粘度而適當(dāng)調(diào)節(jié)即可，而對(duì)于分子量1000以下的樹脂含量而言優(yōu)選相對(duì)于第一樹脂的總質(zhì)量為50 100質(zhì)量％。再者，就從HC層的硬度的觀點(diǎn)考慮，第一樹脂的分子量優(yōu)選是5000以下。此外，作為第一樹脂也可使用例如專利文獻(xiàn)I所記載的粘結(jié)劑C。作為該粘結(jié)劑C的市售物，可以舉出重均分子量小于10000、且具有2個(gè)以上聚合性不飽和基的尿烷丙烯酸酯市售物，諸如共榮公司化學(xué)(股)制商品名AH-600、AT-600、UA-306H、UA-306T、UA-306I等；日本合成化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名 UV-3000B、UV-3200B、UV-6300B、UV-6330B、UV-7000B等；荒川化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名BEAMSET 500系列(502H、504H、550B等);新中村化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名U-6HA、UA-32P、U-324A ;東亞合成(股)制商品名M-9050等等。 第一樹脂的含量只要適當(dāng)調(diào)節(jié)后使用即可，相對(duì)于第一組合物的總固體成分優(yōu)選為40 90質(zhì)量％、更優(yōu)選為50 80質(zhì)量％。第一樹脂是可単獨(dú)使用I種、也可組合使用2種以上。又，第一樹脂與后述的第二組合物中所含的第二樹脂相比，其基本骨架、官能基種類或官能基數(shù)目或分子量可以相同，也可以不同。(第一溶剤)第一溶劑在第一組合物中具有將上述第一樹脂那樣的固體成分予以溶解或分散而調(diào)節(jié)粘度的作用。作為第一溶劑，可從目前公知的硬涂層用組合物中所使用的溶劑中選擇使用I種或2種以上。例如甲こ酮(MEK)、甲基異丁酮(MIBK)及甲苯等；或諸如日本特開2005-316428號(hào)公報(bào)記載的醇類、酮類、酯類、鹵化烴類、芳香族烴類、醚類等。除此之外，第一溶劑也可使用例如四氫呋喃、1，4_ ニ噁烷、ニ氧雜戊環(huán)及ニ異丙醚等醚類；以及甲甘醇、丙ニ醇單甲醚(PGME)、甲甘醇醋酸酷等ニ醇類等。從調(diào)節(jié)(提高)第一組合物的粘度的角度考慮，優(yōu)選第一溶劑的粘度高，優(yōu)選ImP · s以上、更優(yōu)選2mP · s以上.作為這樣的用于提高第一組合物的粘度的溶剤，例如優(yōu)選丙ニ醇單甲醚(PGME)等。再者，通過適當(dāng)選擇第一溶劑的種類及上述透光性基材的種類，第一溶劑也具有使上述第一樹脂的一部分滲透于上述透光性基材中的作用。本發(fā)明中，通過使用(或并用)對(duì)透光性基材具有滲透性的溶劑(滲透性溶劑)，第一樹脂滲透于基材中而可輕易地抑制干渉紋的發(fā)生，也可提高密合性。另外，本發(fā)明中所謂「滲透性」是指對(duì)透光性基材具有滲透的性質(zhì)，此外還包括使透光性基材溶脹或濕潤的概念。作為滲透性溶劑的具體例，可舉出例如甲こ酮、甲基異丁酮及環(huán)己酮等酮類；醋酸甲酷、醋酸こ酯及醋酸丁酯等酯類；以及鹵化烴及酚類。作為當(dāng)透光性基材是三醋酸纖維素(TAC)的情況下所使用的溶剤、以及當(dāng)透光性基材是聚對(duì)苯ニ甲酸こニ醇酯(PET)的情況下使用的溶劑，可以舉出日本特開2005-316428號(hào)公報(bào)記載的溶剤。特別是當(dāng)透光性基材是三醋酸纖維素(TAC)的情況下所使用的溶剤，優(yōu)選為醋酸甲酷、醋酸こ酷、醋酸丁酷、及甲こ酮。
第一溶劑可以是與后述第二組合物中所含的第二溶劑相同的溶劑也可以是不同的溶剤。從HC層中在與透光性基材相反側(cè)較多地分布低折射率成分的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選第一組合物中相對(duì)于第一溶劑質(zhì)量的第一樹脂的質(zhì)量比例是100 400質(zhì)量％。又,此時(shí)，后述第二組合物中，相對(duì)于第二溶劑的質(zhì)量的低折射率成分及第ニ樹脂的總質(zhì)量比例是100 400質(zhì)量％。(第一硬涂層用固化性樹脂組合物的其他成分)在第一組合物中除上述成分之外，以賦予功能性的目的，還可含有諸如聚合引發(fā)齊U、抗靜電劑、增粘劑、以及反應(yīng)性或非反應(yīng)性均涂劑等。(聚合引發(fā)劑) 視需要也可適當(dāng)選擇使用自由基及陽離子聚合引發(fā)劑等。這些聚合引發(fā)劑是通過光照射及/或加熱而分解，并產(chǎn)生自由基或陽離子，而使自由基聚合與陽離子聚合進(jìn)行的物質(zhì)。自由基聚合引發(fā)劑可舉出例如日本汽巴(股)制IRGA⑶RE 184(1-羥基-環(huán)己基-苯基-酮)。當(dāng)使用含有環(huán)氧基的第一樹脂那樣光陽離子聚合性第一樹脂的情況下，視需要可使用例如日本特開2010-107823號(hào)公報(bào)記載的陽離子聚合引發(fā)劑。當(dāng)使用聚合引發(fā)劑的情況下，其含量優(yōu)選相對(duì)于第一組合物的總固體成分為I 10質(zhì)量％。(抗靜電劑)作為抗靜電劑可使用現(xiàn)有的公知抗靜電劑，可使用例如日本特開2007-264221號(hào)公報(bào)所記載的季銨鹽等陽離子性抗靜電劑、或錫摻雜氧化銦(ITO)等微粒。當(dāng)使用抗靜電劑的情況下，其含量優(yōu)選相對(duì)于第一組合物的總固體成分為30 60質(zhì)量％。(增粘劑)在第一組合物中，以調(diào)整粘度為目的，也可含有增粘劑。作為增粘劑可使用現(xiàn)有的公知增粘劑，可舉例如酪蛋白及酪蛋白的鹽等蛋白質(zhì)類；聚こ烯醇、脂肪族酰胺、丙烯酸共聚物、聚こ烯吡咯烷酮、聚丙烯酸鈉等、聚醚ニ烷基酷、こ烯基甲基醚-順丁烯ニ酸酐共聚物的部分酷、以及こ炔ニ醇等有機(jī)類增粘劑。其他也可舉例如微ニ氧化硅、高嶺土、膨潤土及滑石等無機(jī)類增粘劑。上述有機(jī)類增粘劑及無機(jī)類增粘劑是可単獨(dú)使用I種、也可組合使用2種以上。當(dāng)使用增粘劑的情況下，其含量相對(duì)于第一組合物的總固體成分優(yōu)選為O. I 10
質(zhì)量％。(均涂劑)均涂劑具有對(duì)HC表面賦予諸如涂布安定性、滑性、防污性或耐擦傷性的作用。作為均涂劑，可使用現(xiàn)有的公知抗反射膜中所使用的氟類、聚硅氧烷類及丙烯酸類等均涂劑。可任意使用例如DIC(股)制MEGAFAC 系列(MCF350-5)等不具有致電離射線固化性基的氟類均涂劑、或信越化學(xué)エ業(yè)(股)制X22-163A等具有致電離射線固化性基的聚硅氧烷類均涂劑。作為使用均涂劑時(shí)的含量，氟類均涂劑的情況下，相對(duì)于第一樹脂的質(zhì)量使用5. O質(zhì)量％以下，優(yōu)選使用O. I 3. O質(zhì)量％，氟類以外的均涂劑的情況下，相對(duì)于第一樹脂的質(zhì)量優(yōu)選使用O. 5 10質(zhì)量％。再者，從HC層的硬度的觀點(diǎn)而言，相對(duì)于第一組合物與第二組合物的固體成分的總質(zhì)量，均涂劑的含量優(yōu)選為5. O質(zhì)量％以下。第一組合物通常是通過在第一溶劑中，將第一樹脂、以及其他視需要含有的聚合引發(fā)劑等，根據(jù)一般的制備法進(jìn)行混合、分散處理來制備。進(jìn)行混合分散時(shí)可使用涂料振蕩機(jī)或珠磨機(jī)等。 (第二硬涂層用固化性樹脂組合物)本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法中所使用的第二硬涂層用固化性樹脂組合物中含有選自由平均粒徑10 300nm的低折射率微粒及低折射率樹脂構(gòu)成的一組中的I種以上的低折射率成分、具有反應(yīng)性的第二樹脂及第ニ溶劑，并且粘度μ 2為5mPa · s以上，且粘度差在30mPa · s以下。第二組合物含有低折射率成分并具有上述特定粘度，且按照第一組合物相對(duì)于第ニ組合物更靠近透光性基材側(cè)的方式同時(shí)涂布該2種組合物，由此在第一組合物與第二組合物進(jìn)行固化而形成HC層時(shí)，在HC層的膜厚方向上形成從與透光性基材的相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)低折射率成分逐漸減少的分布，當(dāng)?shù)驼凵渎食煞质堑驼凵渎饰⒘５那闆r下低折射率微粒便具有如圖I所示的分布。從適度地抑制與上述第一組合物的混合的觀點(diǎn)出發(fā)，本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法中所使用第二組合物的粘度μ 2為5mPa .s以上、更優(yōu)選IOmPa *s以上。從提高涂布性的觀點(diǎn)出發(fā)，該粘度μ 2優(yōu)選在IOOmPa · s以下、更優(yōu)選在50mPa · s以下、特別優(yōu)選在30mPa · s以下。又，從涂布性的觀點(diǎn)出發(fā)，第一組合物的粘度μ I與第二組合物的粘度μ 2中優(yōu)選μ 2大于μ I。(低折射率微粒)本發(fā)明的第一光學(xué)薄膜的制造方法中所使用的低折射率微粒通過大多數(shù)存在于與HC層的透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)?，?duì)本發(fā)明的光學(xué)薄膜賦予抗反射性。除低折射率微粒之外，還和配合使用后述的低折射率樹脂。低折射率微粒是指折射率I. 20 I. 45的微粒。作為低折射微粒可使用現(xiàn)有公知的低折射率層中所使用的粒子，可舉例如專利文獻(xiàn)2所記載的中空ニ氧化硅微粒、或LiF (折射率I. 39)、MgF2 (氟化鎂、折射率I. 38)、AlF3 (折射率I. 38)、Na3AlF6 (冰晶石、折射率I. 33)、及NaMgF3 (折射率I. 36)等金屬氟化物微粒。再者，低折射率微粒的表面也可以被第二樹脂或具有聚合性不飽和基或熱固化性基以便與上述第一樹脂產(chǎn)生交聯(lián)反應(yīng)的有機(jī)成分所覆蓋。覆蓋的方法可使用日本特開2008-165040號(hào)公報(bào)記載的反應(yīng)性無機(jī)微粒的制備方法。從防止HC層的光霧上升的觀點(diǎn)出發(fā)，低折射率微粒的平均粒徑設(shè)定在300nm以下。當(dāng)?shù)驼凵渎饰⒘Ｊ侵锌榨搜趸栉⒘５那闆r下，因?yàn)樾枰障?，因而從顯現(xiàn)出折射率降低效果的觀點(diǎn)出發(fā)，平均粒徑設(shè)為IOnm以上。低折射率微粒的平均粒徑優(yōu)選是10 lOOnm、更優(yōu)選是30 lOOnm。關(guān)于低折射率微粒的含量只要適當(dāng)調(diào)節(jié)使用即可，相對(duì)于與第二組合物中所含的第二樹脂的總質(zhì)量，優(yōu)選為50 90質(zhì)量％、更優(yōu)選為65 90質(zhì)量％。(低折射率樹脂)低折射率樹脂是指經(jīng)涂膜制膜后的折射率為I. 30 I. 45的樹脂。除低折射率樹脂之外，也可配合使用上述低折射率微粒。再者，因?yàn)榈驼凵渎蕵渲菍儆谠谕磕ぶ颇ず竽艹蔀镠C層基質(zhì)一部分的成分，因而也可采用低折射率樹脂兼做后述第二樹脂而。作為低折射率樹脂可使用現(xiàn)有公知的具有光固化性基或熱固化性基等反應(yīng)性基的含氟樹脂、不具有反應(yīng)性基的含氟樹脂等。具有光固化性基的含氟樹脂可例舉偏ニ氟こ烯、四氟こ烯、六氟丙烯、全氟丁ニ烯、全氟_2，2- ニ甲基-1，3- ニ噁唑等氟化烯烴類。其他具有光固化性基的含氟樹脂可例舉(甲基)丙烯酸-2，2，2-三氟こ酷、(甲基)丙烯酸-2，2，3，3，3_五氟丙酷、(甲基)丙烯酸-2-(全氟丁基)こ酷、(甲基)丙烯酸-2_(全氟己基)こ酷、(甲基)丙烯酸-2-(全氟辛基)こ酷、(甲基)丙烯酸-2-(全氟癸基)こ酷、α-三氟甲基丙烯酸甲酷、α-三氟甲基丙烯酸こ酯等(甲基)丙烯酸酯化合物；1個(gè)分子中含有至少具有3個(gè)氟原子的碳數(shù)I 14的氟化烷基、氟環(huán)烷基或氟化亞烷基、以及至少2個(gè)(甲基)丙烯酰氧基的含氟多官能基(甲基)丙烯酸酯化合物等。作為具有熱固化性基的含氟樹脂可使用例如4_氟こ烯-全氟烷基こ烯基醚共聚物、氟こ烯-烴類こ烯基醚共聚物、以及環(huán)氧樹脂、聚氨酯樹脂、纖維素樹脂、酚醛樹脂及聚酰亞胺樹脂等氟改性物等。其他也可使用日本特開2010-122603號(hào)公報(bào)所記載得含氟原子的聚合性化合物的聚合物或共聚物、以及含有硅氧烷的偏氟こ烯共聚物。低折射率樹脂的分子量并無特別的限制，可適當(dāng)選擇，但就從調(diào)節(jié)第二組合物粘度的觀點(diǎn)，優(yōu)選為500 5000。對(duì)于第二組合物中所含的低折射率樹脂的含量，只要適當(dāng)調(diào)節(jié)即可，當(dāng)?shù)驼凵渎蕵渲孀龊笫龅诙渲那闆r下，相對(duì)于第二組合物的總固體成分，優(yōu)選為70 100質(zhì)量％。(第二樹脂)第二樹脂是具有反應(yīng)性、經(jīng)固化會(huì)成為HC層基質(zhì)的成分。第二樹脂通過光照射或加熱具有第二樹脂彼此間、以及與上述第一樹脂間的聚合或交聯(lián)反應(yīng)性。第二樹脂可以是經(jīng)過紫外線等光照射而固化的光固化性樹脂，也可以是經(jīng)過加熱而固化的熱固化性樹脂。當(dāng)?shù)诙渲枪夤袒詷渲那闆r下，第二樹脂優(yōu)選具有聚合性不飽和基，更優(yōu)選具有致電離射線固化性不飽和基。具體例可舉出例如(甲基)丙烯?；ⅳ诚┗?、烯丙基等烯鍵性不飽和鍵合及環(huán)氧基等。當(dāng)?shù)诙渲菬峁袒詷渲那闆r下，作為第二樹脂所具有的熱固化性基可例
舉輕基、竣基、胺基、環(huán)氧基、環(huán)氧丙基、異氰1酸酷基、及燒氧基等。從利用交聯(lián)反應(yīng)提高HC層硬度的觀點(diǎn)出發(fā)，第二樹脂優(yōu)選在I分子中具有2個(gè)以上固化性基，更優(yōu)選具有3個(gè)以上。作為第二樹脂，可使用上述第一樹脂中所舉例的。對(duì)于第二樹脂的含量，只要適當(dāng)調(diào)節(jié)使用即可，相對(duì)于第二組合物的總固體成分，、優(yōu)選為60質(zhì)量％以下，且當(dāng)?shù)诙渲孀龅驼凵渎蕵渲那闆r下，相對(duì)于第二組合物的總固體成分，也可在100質(zhì)量％以下。第二樹脂可単獨(dú)使用I種，也可組合使用2種以上。(第二溶剤)第二溶劑在第二組合物中，具有將如上述低折射率微粒或第二樹脂之類的固體成分予以溶解或分散，由此調(diào)節(jié)粘度的作用。第二溶劑可使用上述第一溶劑中所例舉的。(第二硬涂層用固化性樹脂組合物的其他成分)第二組合物中除上述成分之外，在賦予功能性的目的下，如同第一組合物，還可進(jìn)一歩含有諸如聚合引發(fā)劑、抗靜電劑、增粘劑、防污劑、以及反應(yīng)性或非反應(yīng)性均涂劑等。 (聚合引發(fā)劑)聚合引發(fā)劑可使用上述第一組合物中所舉例的。當(dāng)使用聚合引發(fā)劑的情況下，其含量相對(duì)于第二組合物的總固體成分，優(yōu)選使用I 5質(zhì)量％。(抗靜電劑)抗靜電劑可使用上述第一組合物中所例舉的。當(dāng)使用抗靜電劑的情況下，其含量相對(duì)于第二組合物的總固體成分，優(yōu)選使用30 60質(zhì)量％。(增粘劑)增粘劑可使用上述第一組合物中所例舉的。增粘劑的含量是相對(duì)于第二組合物的總固體成分，優(yōu)選使用O. I 10質(zhì)量％。(防污劑)防污劑防止光學(xué)薄膜的最表面的污染，且也可對(duì)HC層賦予耐擦傷性。防污劑可在第一組合物及第二組合物雙方中均含有。從以較少含量有效地顯現(xiàn)出防污性的觀點(diǎn)出發(fā)，防污劑最好僅含于第二組合物中。作為防污劑可使用現(xiàn)有公知的氟類化合物或硅類化合物等防污劑(防污染劑)。防污劑可舉例如日本特開2007-264279號(hào)公報(bào)所記載的防污染劑。也優(yōu)選使用市售物的防污劑。此種市售物的防污劑(非反應(yīng)性)，可例舉如DIC (股)制 MEGAFAC 系列諸如商品名 MCF350-5、F445、F455、F178、F470、F475、F479、F477、TF1025、F478 及 F178K 等！TOSHIBA SILICONE (股)制 TSF 系列等；信越化學(xué)エ業(yè)(股)制X-22系列及KF系列等；以及CHISSO(股)制Silaplane 系列等。作為市售物的防污劑(反應(yīng)性)可例舉如新中村化學(xué)ェ業(yè)(股)制商品名 SUA1900L10 及商品名 SUA1900L6 ；Daicel · UCB (股)制商品名 Ebecryl350、商品名Ebecryl 1360及商品名KRM7039 ;日本合成化學(xué)エ業(yè)(股)制UT3971 ;DIC (股)制商品名DIFENSATF3001、商品名 DIFENSA TF3000 及商品名 DIFENSA TF3028 ;共榮公司化學(xué)(股)制商品名LIGHT-PR0C0AT AFC3000 ;信越化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名KNS5300 ；GE TOSHIBASILICONE (股)制商品名UVHCl 105及UVHC8550 ;以及日本涂料(股)制商品名ACS-1122
坐寸ο(均涂劑)均涂劑可使用上述第一組合物中所例舉的。
均涂劑可在第一組合物及第二組合物雙方中均含有。就從有效地顯現(xiàn)出均涂劑功能的觀點(diǎn)，最好僅含于第二組合物中。作為使用均涂劑時(shí)的含量，當(dāng)氟系均涂劑的情況下，相對(duì)于第二樹脂的質(zhì)量使用5. O質(zhì)量％以下、優(yōu)選使用O. I 3. O質(zhì)量％，當(dāng)氟系以外的均涂劑的情況下，相對(duì)于第二樹脂的質(zhì)量，優(yōu)選使用O. 5 10質(zhì)量％。第二組合物的制備方法可使用上述第一組合物中所舉例的方法。
(其他的功能層用組合物)本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法中，在上述(iii)同時(shí)涂布的步驟中，只要在透光性基材的一面?zhèn)龋辽賹⑸鲜龅谝患暗诙M合物同時(shí)涂布即可，根據(jù)對(duì)光學(xué)薄膜所要求的性能，也可適當(dāng)?shù)貫樵O(shè)置其他功能層而準(zhǔn)備其他的功能層用組合物。其他的功能層可例舉抗靜電層及防污層。另外，如后述，其他的功能層用組合物只要是從透光性基材側(cè)按照第一及第ニ組合物呈相鄰接位置狀態(tài)進(jìn)行涂布，即可根據(jù)其功能而設(shè)定適當(dāng)?shù)耐坎嘉恢?。在本發(fā)明光學(xué)薄膜的制造方法中的、(iii)將第一組合物與第二組合物進(jìn)行同時(shí)涂布的步驟中，對(duì)于將上述第一與第二組合物進(jìn)行同時(shí)涂布的方法，只要是能進(jìn)行同時(shí)涂布，則無特別的限制，可使用現(xiàn)有公知的方法，例如使用圖3所示德擠壓型模具涂布機(jī)的方法。在光學(xué)薄膜的制造方法中的、(iii)將第一組合物與第二組合物進(jìn)行同時(shí)涂布的步驟中，當(dāng)將第一組合物的涂膜的濕膜厚度設(shè)為Tl、將第二組合物的涂膜的濕膜厚度設(shè)為T2時(shí)，從以下觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選將T2/TI設(shè)為O. OI I，即在HC層的膜厚方向上，與透光性基材側(cè)相比低折射率成分更多地存在于HC層的與透光性基材相反ー側(cè)的界面?zhèn)?，且越靠近透光性基材?cè)低折射率成分的存在量越少，從與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)該低折射率成分逐漸減少，并且在硬涂層的膜厚方向上，在從與上述透光性基材相反側(cè)的界面起到上述硬涂層的干燥膜厚的70%為止的區(qū)域中，存在上述低折射率成分總量的70 100%，并且可有效地提高光學(xué)薄膜的抗反射性。此處所謂「濕膜厚度」是指剛涂布后，組合物中的溶劑揮發(fā)之前狀態(tài)下的涂膜厚度，從(透光性基材上所涂布的組合物的體積/涂布面積)即可求得。再者，當(dāng)?shù)谝患暗诙M合物的涂布是使用如圖3所示模具涂布機(jī)頭實(shí)施的情況下，模具涂布機(jī)頭40與透光性樹脂基材10之間的距離即涂布高度80、與在透光性樹脂基材10上進(jìn)行同時(shí)多層涂布時(shí)的第一及第二組合物的涂膜總厚度90，最好滿足涂布高度80< (厚度90的2倍)的關(guān)系。通過在保持此種關(guān)系的情況下進(jìn)行同時(shí)多層涂布，在透光性樹脂基材10與模具涂布機(jī)頭40之間所形成的涂布液滴呈穩(wěn)定化。特別是利用涂布所形成的層越薄膜化，則該涂布液滴越容易不穩(wěn)定，成為涂布面出現(xiàn)斑點(diǎn)、條紋，導(dǎo)致外觀惡化的原因，但通過保持上述涂布高度80與厚度90的關(guān)系，可輕易地使涂布液滴呈穩(wěn)定化。另外，所謂「涂布液滴」是指在涂布裝置與基材之間滯留的液體。上述其他的功能層用組合物可與第一及第二組合物一起進(jìn)行同時(shí)涂布，也可與第一及第二組合物分開涂布。當(dāng)進(jìn)行同時(shí)涂布的情況下，只要是按照從透光性基材側(cè)起第一及第二組合物鄰接而置的方式進(jìn)行涂布，可根據(jù)其功能而設(shè)定適當(dāng)?shù)耐坎嘉恢?。例如將抗靜電層用組合物與第一及第二組合物一起進(jìn)行同時(shí)涂布時(shí)，只要在比圖3中的模頭的狹縫51更靠近透光性基材輸送方向140的上游側(cè)(即圖3中的狹縫51左側(cè))的位置設(shè)置第三狹縫(未圖示)，再將抗靜電層用組合物、第一及第二組合物進(jìn)行同時(shí)涂布即可。又，例如當(dāng)將抗靜電層用組合物、第一及第二組合物、以及防污層用組合物進(jìn)行同時(shí)涂布時(shí)，只要在圖3中于狹縫51左側(cè)設(shè)置涂布抗靜電層用組合物用的第三狹縫(未圖示)，并在狹縫52右側(cè)設(shè)置涂布防污層用組合物用的第四狹縫(未圖示)，將該四種組合物進(jìn)行同時(shí)涂布即可。作為(iv)步驟的干燥方法，例如有減壓干燥或加熱干燥，以及組合這些干燥的方法等。又，當(dāng)在常壓下進(jìn)行干燥時(shí)，最好在30 110°C下進(jìn)行干燥。本發(fā)明中，在進(jìn)行(iv)步驟之前，即涂膜干燥前并不進(jìn)行預(yù)固化。例如當(dāng)使用甲基異丁酮作為第一或第二溶劑的情況下，通常在室溫 80°C、優(yōu)選40°C 70°C范圍內(nèi)的溫度下，進(jìn)行20秒 3分鐘、優(yōu)選30秒 I分鐘左右時(shí)間的干燥。另外，本發(fā)明中，(iv)步驟中所謂「干燥」是指即便進(jìn)行該干燥，層的固化作為產(chǎn)品并不充分的程度(例如在JIS K5600-5-4(1999)所規(guī)定的鉛筆硬度試驗(yàn)(4.9Ν載荷)中， 小于硬度「H」)的處理，相對(duì)于此，當(dāng)?shù)谝粯渲c第二樹脂含有熱固化性樹脂的情況下，干燥后進(jìn)行的加熱是指，在通過該加熱而層的固化能達(dá)到作為產(chǎn)品充分的程度(上述鉛筆硬度試驗(yàn)中達(dá)到硬度「H」以上)的溫度下進(jìn)行處理。(iv)步驟的光照射方法主要是使用諸如紫外線、可見光、電子束、或致電離射線等。在紫外線固化的情況下使用從諸如超高壓水銀燈、高壓水銀燈、低壓水銀燈、碳弧、氙弧或金屬鹵素?zé)舻鹊墓饩€所發(fā)出的紫外線等。能量線源的照射量是按照在紫外線波長365nm下的累計(jì)曝光量計(jì)，為50 300mJ/cm2。本發(fā)明中并不進(jìn)行預(yù)固化，使涂膜固化(正式固化)的光照射或加熱是在涂膜干燥后才實(shí)施。由此，第二組合物中所含的低折射率組分形成如下分布，即在HC層的膜厚方向上，與透光性基材側(cè)相比，第二組合物中所含的低折射率組分更多地存在于HC層的與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)龋娇客腹庑曰膫?cè)低折射率微粒的存在量越少的分布，并且從與透光性基材的相反側(cè)的界面起朝透光性基材側(cè)該低折射率成分逐漸減少，HC層內(nèi)因低折射率成分與HC層的樹脂之間的折射率之差所造成的干涉紋的發(fā)生、以及HC層與基材之間的界面處的干渉紋的發(fā)生得到抑制，可獲得具有優(yōu)異的視覺辨認(rèn)度的光學(xué)薄膜。再者，因?yàn)樵谖催M(jìn)行預(yù)固化的情況下便使涂膜干燥，接著進(jìn)行光照射或加熱而使涂膜固化，因而相比于進(jìn)行預(yù)固化而進(jìn)行固化的情況，將提高HC層、與透光性基材或HC層的與透光性基材側(cè)所鄰接的層之間的密合性。再者，因?yàn)椴槐剡M(jìn)行預(yù)固化，因而相比于進(jìn)行預(yù)固化與正式固化2次、光照射才固化的情況，生產(chǎn)率也優(yōu)異。(光學(xué)薄膜)本發(fā)明的光學(xué)薄膜是依照上述制造方法所獲得的薄膜，如圖I所示，在透光性基材10的一面?zhèn)戎辽僭O(shè)有HC層20。通過依照上述制造方法制造本發(fā)明的光學(xué)薄膜，可獲得如下的光學(xué)薄膜，即第二組合物中含有的低折射率微粒及/或低折射率樹脂在HC層的膜厚方向上，按照與透光性基材側(cè)相比更多地存在于HC層的與透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)龋⑶以娇拷腹庑曰膫?cè)其存在量越少的方式進(jìn)行分布，并且HC層內(nèi)因其低折射率微粒及/或低折射率樹脂與HC層的樹脂之間的折射率之差所造成的干渉紋的發(fā)生、以及HC層與基材之間的界面處的干涉紋的發(fā)生得到抑制，可獲得具有優(yōu)異的視覺辨認(rèn)度的光學(xué)薄膜。另外，由于在不進(jìn)行預(yù)固化的情況下干燥涂膜、接著通過光照射或加熱來實(shí)施固化，因此與進(jìn)行預(yù)固化接著實(shí)施干燥、光照射或加熱來進(jìn)行固化的情況相比，不會(huì)出現(xiàn)如現(xiàn)有的利用依次多層涂布形成低折射率層與HC層時(shí)、或如專利文獻(xiàn)2那樣利用同時(shí)涂布形成時(shí)會(huì)出現(xiàn)的明確的層界面，且具有抗反射功能，并在維持光霧、全光線透過率及無條紋表面狀態(tài)的情況下，抑制層間的干渉紋的發(fā)生，使密合性變良好，還有通過在基材附近増加與基材折射率同等程度折射率的硬涂組合物的比例，而抑制發(fā)生硬涂層與基材之間的干涉紋，并且密合性優(yōu)異。如上述制造方法中所述，本發(fā)明的光學(xué)薄膜也可進(jìn)行其他功能層用組合物的涂布而形成其他的功能層，例如當(dāng)在第一組合物的透光性基材側(cè)涂布抗靜電層用組合物而形成 抗靜電層時(shí)，便形成如圖4所示的、從透光性基材10側(cè)起為抗靜電層140及HC層20的層結(jié)構(gòu)。再者，如圖5所示，可以在HC層的與透光性基材相反側(cè)的面上設(shè)置防污層150。對(duì)于HC層的干燥膜厚(以下也簡稱「膜厚」)可根據(jù)所要求的性能而適當(dāng)調(diào)節(jié)，例如膜厚優(yōu)選為I 20 μ m。其他功能層的膜厚是可適當(dāng)調(diào)節(jié)，例如抗靜電層的膜厚優(yōu)選是O. 05 5 μ m，防污層的膜厚優(yōu)選是O. 01 10nm。對(duì)于本發(fā)明的光學(xué)薄膜，可根據(jù)所要求的性能，通過適當(dāng)調(diào)節(jié)上述第二組合物的低折射率微粒或低折射率樹脂的種類與含量，即可調(diào)節(jié)其反射率，而對(duì)入射光的反射率優(yōu)選是I 3. 75、更優(yōu)選是I 3. 4。對(duì)于反射率，使用日本分光(股)制商品名V7100型紫外可見分光光度計(jì)及日本分光(股)制商品名VAR-7010絕對(duì)反射率測定裝置，將入射角設(shè)為5°、偏振片設(shè)為N偏光、測定波長范圍設(shè)為380 780nm，并將黑色膠帶貼合于光學(xué)薄膜的TAC基材側(cè)，再將其設(shè)置于裝置中來進(jìn)行測定。另外，將在測定波長范圍內(nèi)所求得的測定結(jié)果的平均值作為反射率。對(duì)于本發(fā)明光學(xué)薄膜的光霧可根據(jù)所要求的性能而適當(dāng)調(diào)節(jié)，優(yōu)選為O. I
I.0%、更優(yōu)選為O. I O. 4%。霧度值可根據(jù)JIS K7136，利用反射·透過率計(jì)HM_150(村上色彩技術(shù)研究所(股)制)進(jìn)行測定。本發(fā)明光學(xué)薄膜的優(yōu)選的實(shí)施方式也可以是在透光性基材的一面?zhèn)仍O(shè)有硬涂層的光學(xué)薄膜，其中，在上述硬涂層的膜厚方向上，與該透光性基材側(cè)相比低折射率微粒更多地存在干與上述透光性基材相反ー側(cè)的界面?zhèn)龋以娇拷撏腹庑曰膫?cè)則該低折射率微粒的存在量越少，從與該透光性基材相反側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)該低折射率成分逐漸減少，并且在該硬涂層內(nèi)不存在層界面，該硬涂層對(duì)于上述透光性基材的棋盤格密合性試驗(yàn)中的密合率為90 100%。如圖I所示，通過在HC層內(nèi)形成這樣的低折射率微粒的分布，具有抗反射功能，且維持光霧、全光線透過率及無條紋的表面狀態(tài)，同時(shí)抑制層間的干涉紋發(fā)生、使密合性變良好，通過在基材附近増加與基材的折射率同等程度折射率的硬涂組合物的比例，而抑制硬涂層與基材之間的干渉紋的發(fā)生，可獲得密合性優(yōu)異的光學(xué)薄膜。
所謂「硬涂層內(nèi)的層界面」是指如圖2所示，于層內(nèi)在組合物的固化部分發(fā)生界面(邊界)的情形。層界面的具體例例如有后述圖9所示的2種組合物的固化部分的邊界。本發(fā)明光學(xué)薄膜的優(yōu)選實(shí)施方式可以是，在硬涂層的膜厚方向上，在從與上述透光性基材相反側(cè)的界面起到上述硬涂層的干燥膜厚的70%為止的區(qū)域中，存在上述低折射率成分總量的70 100%。由此即可有效地提高光學(xué)薄膜的抗反射性。本發(fā)明光學(xué)薄膜的全光線透過率(τ t)，就從透明性的觀點(diǎn)，優(yōu)選90%以上、更優(yōu)選92%以上。對(duì)于光學(xué)薄膜的全光線透過率，可根據(jù)JIS K7361，利用與霧度值相同的測定器進(jìn)行測定。(偏振板)本發(fā)明偏振板的特征在于在上述光學(xué)薄膜的與上述硬涂層相反的透光性基材側(cè)上設(shè)有偏振片。圖6是表不本發(fā)明偏振板的層構(gòu)成一例的不意圖。圖6所不的偏振板2具有在透光性基材10上設(shè)有HC層20的光學(xué)薄膜I、以及層疊有保護(hù)膜160與偏光層170的偏振片180，在光學(xué)薄膜I的與HC層20相反的透光性基材10側(cè)設(shè)有偏振片180。另外，在光學(xué)薄膜的與硬涂層相反的透光性基材側(cè)配置有偏振片，不僅包括光學(xué)薄膜與偏振片分別形成的情況，也包括構(gòu)成光學(xué)薄膜的部件兼做構(gòu)成偏振片的部件的情況。再者，將本發(fā)明偏振板使用于顯示面板的情況下，通常是在偏振片側(cè)配置顯示面板。另外，關(guān)于光學(xué)薄膜使用上述光學(xué)薄膜即可，因而此處便不再贅述。以下，針對(duì)本發(fā)明偏振板的其他構(gòu)成進(jìn)行說明。(偏振片)本發(fā)明所使用的偏振片只要具備給定的偏光特性，則沒有特別的限制，可使用一般在液晶顯示設(shè)備中所使用的偏振片。偏振片只要是能長期間保持給定的偏光特性的形態(tài)，則無特別的限制，例如也可僅由偏光層構(gòu)成，也可將保護(hù)膜與偏光層予以貼合而構(gòu)成。當(dāng)將保護(hù)膜與偏光層予以貼合的情況下，既可僅在偏光層的單面上形成保護(hù)膜，也可在偏光層的雙面上均有形成保護(hù)膜。作為偏光層通?？墒褂檬沟饨谟删郅诚┐紭?gòu)成的薄膜中，再將其單向拉伸而形成了聚こ烯醇與碘的絡(luò)合物的偏光層。再者，作為保護(hù)膜只要是能保護(hù)上述偏光層且具有所需透光性的膜，則無特別的限制。保護(hù)膜的透光性優(yōu)選在可見光區(qū)域中的透過率為80%以上、更優(yōu)選為90%以上。另外，上述保護(hù)膜的透過率可根據(jù)JIS K7361-l(塑料-透明材料的全光線透過率試驗(yàn)方法)進(jìn)行測定。構(gòu)成保護(hù)膜的樹脂可舉出纖維素衍生物、環(huán)烯烴類樹脂、聚甲基丙烯酸甲酷、聚こ烯醇、聚酰亞胺、多芳基化合物、聚對(duì)苯ニ甲酸こニ醇酯等。其中，優(yōu)選使用纖維素衍生物或環(huán)烯烴類樹脂。 保護(hù)膜可由単一的層構(gòu)成，也可由多層層疊而成。又，當(dāng)保護(hù)膜由多層層疊而成的情況下，可由同一組成的多層層疊，也可由具有不同組成的多層層疊。再者，保護(hù)膜的厚度只要是能將本發(fā)明偏振板的撓性形成于所需范圍內(nèi)，且通過與偏光層相貼合可將偏振片的尺寸變化限制于給定范圍內(nèi)的范圍，則無特別的限制，但優(yōu)選為5 200 μ m范圍內(nèi)、更優(yōu)選為15 150 μ m范圍內(nèi)、特別優(yōu)選為30 100 μ m范圍內(nèi)。若上述厚度小于5 μ m,便會(huì)有本發(fā)明偏振板的尺寸變化變大的可能性。又，若上述厚度大于200 μ m，例如當(dāng)將本發(fā)明的偏振板進(jìn)行裁剪加工時(shí)，會(huì)有加工屑?jí)埣?、或裁剪刀片的磨損變快的可能性。保護(hù)膜也可為具有相位差性的膜。通過使用具有相位差性的保護(hù)膜，具有使本發(fā)明的偏振板具有顯示面板的視角補(bǔ)償功能的優(yōu)點(diǎn)。作為保護(hù)膜具有相位差性的方式，只要是能顯現(xiàn)出所需相位差性的方式，則無特別的限制。此種方式可以舉出保護(hù)膜具有由単一的層構(gòu)成的結(jié)構(gòu)，且通過含有顯現(xiàn)出相位差性的光學(xué)特性顯劑(developing agent)而具有相位差性的方式，以及形成了在由上述樹 脂構(gòu)成的保護(hù)膜上層疊著含有具有折射率各向異性的化合物的相位差層的結(jié)構(gòu)，由此具有相位差性的方式。本發(fā)明中，這些方式中的任一方式均適于使用。(顯示器)本發(fā)明顯示器的特征在于在上述光學(xué)薄膜的與上述硬涂層相反的透光性基材側(cè)上，配置有顯示面板。作為顯示器可例舉如LCD、PDP、ELD(有機(jī)EL、無機(jī)EL)、CRT等。顯示器是由顯示器的視聽者側(cè)部件的顯示面板、以及含驅(qū)動(dòng)部的背面?zhèn)炔考?gòu)成。若舉液晶顯示器為例進(jìn)行說明，所謂「顯示面板」是包括封入有液晶材料的2片玻璃板(例如彩色濾光片基板與數(shù)組基板)、偏振板、及本發(fā)明光學(xué)薄膜等的部件。若舉液晶顯示器為例進(jìn)行說明，所謂「背面?zhèn)炔考故前ǚQ為「背光燈」的光源、控制LCD的驅(qū)動(dòng)電路、控制光源的電路及機(jī)殼等的部件。作為該情況的液晶顯示器的層構(gòu)成的一例，是包括含有導(dǎo)光板或擴(kuò)散薄膜等的背光燈部，且在其視聽者側(cè)依序?qū)盈B著偏振板、數(shù)組基板、液晶層、彩色濾光片基板、偏振板及光學(xué)薄膜的層構(gòu)成。作為上述顯示器的另一例的PDP是具備表面玻璃基板、以及背面玻璃基板的裝置，其中該背面玻璃基板與該表面玻璃基板相對(duì)向而置，并且在之間封入有放電氣體。當(dāng)上述顯示器是PDP的情況下，也有在表面玻璃基板的表面或其前面板(玻璃基板或薄膜基板)上設(shè)置上述光學(xué)薄膜的。上述顯示器可以是如下顯示器，即將若施加電壓便會(huì)發(fā)光的硫化鋅、ニ胺類物質(zhì)等發(fā)光體蒸鍍于玻璃基板上，控制著對(duì)基板所施加的電壓而進(jìn)行顯示的ELD裝置，或者將電子信號(hào)轉(zhuǎn)換為光而產(chǎn)生肉眼可看到的影像的CRT等顯示器。此時(shí)，在ELD裝置或CRT的最表面或其前面板的表面設(shè)有上述光學(xué)薄膜。[實(shí)施例]以下，例舉實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明進(jìn)行更具體的說明。本發(fā)明并不限制于這些記載。作為低折射率微粒使用日揮觸媒化成(股)制中空ニ氧化硅微粒(商品名THRULYA DAS (平均粒徑50nm、MIBK分散液、固體成分20 % ))。作為第一樹脂(I)使用荒川化學(xué)エ業(yè)(股)制商品名BEAMSET DKl (重均分子量20000、固體成分75%,MIBK溶劑)。
作為第一樹脂(2)使用日本化藥(股)制季戊四醇三丙烯酸酷。作為兼具第一樹脂的低折射率樹脂使用共榮公司化學(xué)(股)制LINC-3A(下述通式(I)所示的三丙烯酰基-十七氟壬烯基-季戊四醇(主成分)、與季戊四醇三丙烯酸酯的混合物)。[化I]通式(I)
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)薄膜的制造方法，其特征在于包括 (i)準(zhǔn)備透光性基材的步驟， (ii)準(zhǔn)備第一硬涂層用固化性樹脂組合物和第二硬涂層用固化性樹脂組合物的步驟，其中所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物含有具有反應(yīng)性的第一樹脂和第一溶劑并且不含低折射率微粒和低折射率樹脂或即便含有低折射率樹脂其含量相對(duì)于該第一樹脂的質(zhì)量為5. O質(zhì)量％以下，該第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ I為3mPa *s以上，所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物含有選自由平均粒徑為10 300nm的低折射率微粒和低折射率樹脂構(gòu)成的一組中的I種以上的低折射率成分、具有反應(yīng)性的第二樹脂、和第二溶齊U，該第二硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ2為5mPa*s以上，并且從該μ 2減去該μ I后得到的值為30mPa · s以下， (iii)在該透光性基材的一面?zhèn)龋瑥脑撏腹庑曰囊粋?cè)開始至少將該第一硬涂層用固化性樹脂組合物和第二硬涂層用固化性樹脂組合物相鄰接而同時(shí)涂布，由此制作涂膜的步驟， (iv)將所述(iii)步驟中獲得的涂膜干燥，接著進(jìn)行光照射和/或加熱，使之固化的步驟， 并且在該(iii)步驟和該(iv)步驟之間不進(jìn)行預(yù)固化。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，在所述(iii)步驟中，將第一硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜的濕膜厚度設(shè)為Tl，并將第二硬涂層用固化性樹脂組合物的涂膜的濕膜厚度設(shè)為T2時(shí)，T2/T1為O. 01 I。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的光學(xué)薄膜的制造方法，其中，所述第一硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ I為3 95mPa ·S，所述第二硬涂層用固化性樹脂組合物的粘度μ 2為5 IOOmPa · S。
4.一種光學(xué)薄膜，利用權(quán)利要求I 3中的任意一項(xiàng)所述的制造方法所獲得。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)薄膜，其特征在于，在透光性基材的一面?zhèn)仍O(shè)有硬涂層，其中， 在所述硬涂層的膜厚方向上，與該透光性基材側(cè)相比低折射率微粒更多地存在于與所述透光性基材相反一側(cè)的界面?zhèn)?，且該低折射率微粒的存在量越靠近該透光性基材?cè)則越少，從與該透光性基材相反一側(cè)的界面?zhèn)绕鸪腹庑曰膫?cè)該低折射率成分逐漸減少， 并且在該硬涂層內(nèi)不存在層界面， 該硬涂層對(duì)于所述透光性基材的棋盤格密合性試驗(yàn)中的密合率為90 100%。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的光學(xué)薄膜，其中，在所述硬涂層的膜厚方向上，在從與所述透光性基材相反一側(cè)的界面起到所述硬涂層的干燥膜厚的70%為止的區(qū)域中，存在所述低折射率微?？偭康?0 100%。
7.一種偏振板，其特征在于在上述權(quán)利要求4所述光學(xué)薄膜的與所述硬涂層相反的透光性基材側(cè)設(shè)有偏振片。
8.—種顯示器，其特征在于在上述權(quán)利要求4所述光學(xué)薄膜的與所述硬涂層相反的透光性基材側(cè)配置有顯示面板。
全文摘要
本發(fā)明目的在于提供生產(chǎn)率優(yōu)異，并抑制在硬涂層與硬涂層的與基材側(cè)所鄰接的層之間發(fā)生干涉紋的現(xiàn)象，且視覺辨認(rèn)度優(yōu)異的光學(xué)薄膜的制造方法。本發(fā)明的光學(xué)薄膜的制造方法的特征在于包括準(zhǔn)備透光性基材的步；準(zhǔn)備第一組合物和第二組合物的步驟，其中所述第一組合物含有第一樹脂和第一溶劑且不含低折射率成分或即便含有低折射率成分其含量相對(duì)于第一樹脂的質(zhì)量為5.0質(zhì)量％以下，該第一樹脂組合物的粘度μ1為3mPa·s以上，所述第二組合物含有低折射率成分、第二樹脂和第二溶劑，該第二組合物的粘度μ2為5mPa·s以上，并且μ2與μ1之差為30mPa·s以下；在該透光性基材的一面?zhèn)龋瑥脑撏腹庑曰囊粋?cè)開始至少使該第一組合物和第二組合物相鄰接而同時(shí)涂布，制作涂膜的步驟；將上述涂膜干燥，接著進(jìn)行光照射或加熱，使之固化的步驟，并且在該干燥之前不進(jìn)行預(yù)固化。
文檔編號(hào)G02B1/11GK102667535SQ20108004804
公開日2012年9月12日 申請(qǐng)日期2010年11月15日 優(yōu)先權(quán)日2009年11月30日
發(fā)明者宮之脅伸, 村上茂樹, 林祐輔, 橋本浩二, 筱原誠司 申請(qǐng)人:大日本印刷株式會(huì)社