專利名稱：具有空間濾光片的全息掩模檢查系統(tǒng)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明的實施例整體上涉及光刻術(shù)，更具體地涉及ー種具有空間濾光片的全息掩模檢查系統(tǒng)。
背景技術(shù)：
光刻術(shù)被廣泛地公認(rèn)為在制造集成電路(IC)以及其他器件和/或結(jié)構(gòu)中的關(guān)鍵 エ藝。光刻設(shè)備是一種在光刻過程中使用的機器，其將所需圖案應(yīng)用到襯底上(諸如應(yīng)用到所述襯底的目標(biāo)部分上)。在用光刻設(shè)備制造IC的過程中，圖案形成裝置(可替代地稱為掩?；蜓谀０娴?生成待形成在所述IC的單層上的電路圖案?？梢詫⒃搱D案轉(zhuǎn)移到襯底 (例如，硅晶片)上的目標(biāo)部分(例如，包括一部分管芯、ー個或多個管芯)上。典型地，經(jīng)由成像將所述圖案轉(zhuǎn)移到在所述襯底上設(shè)置的輻射敏感材料(例如抗蝕劑)層上。通常， 單個襯底將包含連續(xù)形成圖案的相鄰目標(biāo)部分的網(wǎng)絡(luò)。制造IC的不同層通常需要利用不同的掩模在不同的層上對不同的圖案進行成像。隨著IC的尺寸的減小以及被從掩模轉(zhuǎn)移到襯底上的圖案變得更加復(fù)雜，在掩模上形成的特征中的缺陷變得越來越重要。結(jié)果，形成在掩模上的特征中的缺陷轉(zhuǎn)換成形成在襯底上的圖案缺陷。掩模缺陷可能來自各種源，諸如例如掩模坯料上的涂層中的缺陷、掩模車間中的掩模圖案化過程以及在晶片制造設(shè)施中的掩模輸送和污染物缺陷。因此，針對缺陷檢查掩模對于最小化或消除不期望的顆粒和污染物以防止影響掩模圖案到襯底上的轉(zhuǎn)移是重要的。全息術(shù)是可以用于監(jiān)控掩模缺陷的ー種方法。例如，通過使物方束與參考束相互干渉可以產(chǎn)生全息圖，使得可以在圖像傳感器上記錄合成場，圖像傳感器諸如是例如具有傳感器陣列的硅電荷耦合器件(CCD)。之后，可以重新構(gòu)造該物體，其中來自重新構(gòu)建的物體的相位和振幅信息可以被檢查以確定缺陷的存在。因為掩模上的小顆粒(例如掩模缺陷)可能導(dǎo)致由圖像傳感器記錄的合成場的小的信噪比，所以對掩模的目標(biāo)部分的全息成像是困難的?；蛘哒f，被從小的顆粒反射回至圖像傳感器的能量的量時常地遠小于背景DC信號中的波動(例如來自圍繞小的顆粒的掩模區(qū)域)，其還被返回至圖像傳感器。關(guān)于小顆粒(諸如掩模缺陷)的全息成像的另ー問題關(guān)注在從對應(yīng)于合成場的全息圖像減去參考圖像以確定兩個圖像之間的差別時的配準(zhǔn)誤差(registration error)。參考圖像和合成圖像之間的差別可以表示存在掩模缺陷。然而，如果參考圖像和合成圖像包含在兩個圖像之間被偏移某ー隨機量的圖案，那么這些圖像之間的差別的殘余量可能顯著地大于來自附近顆粒的信號。
需要設(shè)備、方法以及系統(tǒng)以克服關(guān)于掩模缺陷的全息監(jiān)控的上文提及的問題。

發(fā)明內(nèi)容
鑒于上述，需要的是改進的全息掩模檢查系統(tǒng)以支持從轉(zhuǎn)移到襯底上的掩模圖案最小化或移除缺陷。為了滿足這ー需要，本發(fā)明的實施例涉及具有空間濾光片的全息掩模檢查系統(tǒng)。本發(fā)明的實施例包括全息掩模檢查系統(tǒng)。全息掩模檢查系統(tǒng)包括照射源，配置成將輻射束照射到掩模的目標(biāo)部分上。該全息掩模檢查系統(tǒng)還包括空間濾光片，其布置在光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中。所述空間濾光片接收來自所述掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的至少一部分。所述光學(xué)系統(tǒng)組合所述被反射的輻射束的所述部分與參考輻射束以產(chǎn)生組合的輻射束。此外，該全息掩模檢查系統(tǒng)包括圖像傳感器，其配置成捕獲組合的輻射束的圖像。本發(fā)明的實施例還包括用于檢查掩模的缺陷的方法。所述方法包括以下步驟將輻射束照射到掩模的目標(biāo)部分上；接收來自所述掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的至少一部分，其中所述被反射的輻射束的所述部分穿過布置在光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中的空間濾光片；組合來自所述空間濾光片的被反射的輻射束的所述部分與參考輻射束以產(chǎn)生組合的輻射束；和檢測對應(yīng)于所述組合的輻射束的圖像。本發(fā)明的實施例還包括具有全息掩模檢查系統(tǒng)的光刻系統(tǒng)。所述光刻系統(tǒng)包括下述部件第一照射系統(tǒng)、支撐件、襯底臺、投影系統(tǒng)和全息掩模檢查系統(tǒng)。該全息掩模檢查系統(tǒng)包括第二照射源、布置在光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中的空間濾光片和圖像傳感器。所述空間濾光片接收來自圖案形成裝置的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的至少一部分。所述光學(xué)系統(tǒng)組合所述被反射的輻射束的所述部分與參考輻射束以產(chǎn)生組合的輻射束。圖像傳感器配置成檢測對應(yīng)于所述組合的輻射束的圖像。本發(fā)明實施例的另外的特征和優(yōu)點以及本發(fā)明各實施例的結(jié)構(gòu)和操作將在下文中參考附圖進行詳細(xì)描述。注意到，本發(fā)明不限于此處描述的具體實施例。此處呈現(xiàn)出這樣的實施例僅是為了說明的目的?；诖颂幇慕虒?dǎo)，相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)人員將明白另外的實施例。


此處包含的且形成了說明書的一部分的附圖示出了本發(fā)明，且與所述描述一起進一歩用于說明本發(fā)明實施例的原理，和使相關(guān)領(lǐng)域的技術(shù)人員能夠制造和使用本發(fā)明的實施例。圖IA是示例性的反射式光刻設(shè)備的視圖，其中可以實施本發(fā)明的實施例。圖IB是示例性的透射式光刻設(shè)備的視圖，其中可以實施本發(fā)明的實施例。圖2是示例性EUV光刻設(shè)備的視圖，其中可以實施本發(fā)明的實施例。圖3是全息掩模檢查系統(tǒng)的實施例的圖示。圖4是具有設(shè)置在其上的示例性的周期性掩模版圖案的示例性掩模版的圖示。圖5是在將空間濾光片放置在傅里葉變換平面中之前和之后示例性空間濾光片的圖示，其中傅里葉變換平面的像在全息掩模檢查系統(tǒng)的光學(xué)系統(tǒng)中。
圖6是另ー全息掩模檢查系統(tǒng)的另ー實施例的圖示。圖7是還ー全息掩模檢查系統(tǒng)的實施例的圖示。圖8是全息掩模檢查方法的實施例的圖示。在結(jié)合附圖時，將從下文闡述的詳細(xì)描述更加明白本發(fā)明實施例的特征和優(yōu)點， 其中相同的參考標(biāo)記在全文中表示相應(yīng)的元件。在附圖中，相同的參考標(biāo)號通常表示一致的、功能上類似的和/或結(jié)構(gòu)上類似的元件。元件首次出現(xiàn)的附圖由相應(yīng)的參考標(biāo)號中的最左邊的數(shù)字示出。
具體實施例方式I.綜述本發(fā)明的實施例涉及全息掩模檢查系統(tǒng)。本說明書公開了包括本發(fā)明實施例的特征的ー個或更多的實施例。所公開的實施例僅示例性地說明本發(fā)明。本發(fā)明的范圍不限于所公開的實施例。本發(fā)明由隨附的權(quán)利要求限定。所描述的實施例和在說明書中對“ー個實施例”、“實施例”、“示例性實施例”等的引用表示所述的實施例可以包括特定的特征、結(jié)構(gòu)或特性，但是每ー實施例不一定包括特定的特征、結(jié)構(gòu)或特性。然而，這樣的措辭不一定表示同一實施例。另外，在結(jié)合實施例描述特定的特征、結(jié)構(gòu)或特性時，應(yīng)當(dāng)理解，不論是否明確地進行了描述，結(jié)合其它實施例實施這樣的特征、結(jié)構(gòu)或特性在本領(lǐng)域技術(shù)人員的知識范圍內(nèi)。本發(fā)明的實施例涉及全息掩模檢查系統(tǒng)。全息掩模檢查系統(tǒng)可以用于解決典型的全息掩模檢查系統(tǒng)中的問題，諸如例如且不限干，用于產(chǎn)生全息圖像和配準(zhǔn)誤差的合成場的信噪比小的問題。在實施例中，這些問題可以通過將空間濾光片放置在全息掩模檢查系統(tǒng)中的光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面或傅里葉變換平面中來解決?？臻g濾光片可以移除與反射離開掩模缺陷的光的衍射圖案相關(guān)的光譜分量，其又可以改善最終場的信噪比和配準(zhǔn)誤差。然而，在更加詳細(xì)地描述這樣的實施例之前，呈現(xiàn)出可以實施本發(fā)明的實施例的示例性環(huán)境是有益的。II.示例性光刻環(huán)境A.示例性反射式和透射式光刻系統(tǒng)圖IA和IB分別示意性地示出光刻設(shè)備100和光刻設(shè)備100’。光刻設(shè)備100和 100’中每個包括照射系統(tǒng)(照射器)IL，配置用于調(diào)節(jié)輻射束B (例如，深紫外(DUV)輻射或極紫外(EUV)輻射)；支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT，配置用干支撐圖案形成裝置(例如掩模、掩模版、或動態(tài)圖案形成裝置)MA并與配置用于精確地定位圖案形成裝置MA的第一定位裝置PM相連；襯底臺(例如晶片臺)WT，配置用于保持襯底(例如涂覆有抗蝕劑的晶片) W，并與配置用于精確地定位襯底W的第二定位裝置PW相連。光刻設(shè)備100和100’還具有投影系統(tǒng)PS，所述投影系統(tǒng)PS配置用于將由圖案形成裝置MA賦予輻射束B的圖案投影到襯底W的目標(biāo)部分C(例如包括一根或多根管芯)上。在光刻設(shè)備100中，圖案形成裝置MA 和投影系統(tǒng)PS是反射性的，在光刻設(shè)備100’中，圖案形成裝置MA和投影系統(tǒng)PS是透射性的。所述照射系統(tǒng)IL可以包括各種類型的光學(xué)部件，例如折射型、反射型、磁性型、電磁型、靜電型或其它類型的光學(xué)部件、或其任意組合，以引導(dǎo)、成形、或控制輻射B。
所述支撐結(jié)構(gòu)MT以依賴于圖案形成裝置MA的方向、光刻設(shè)備100和100，的設(shè)計以及諸如圖案形成裝置MA是否保持在真空環(huán)境中等其它條件的方式保持圖案形成裝置 MA。所述支撐結(jié)構(gòu)MT可以采用機械的、真空的、靜電的或其它夾持技術(shù)來保持圖案形成裝置MA。所述支撐結(jié)構(gòu)MT可以是框架或臺，例如，其可以根據(jù)需要成為固定的或可移動的。 所述支撐結(jié)構(gòu)MT可以確保圖案形成裝置位于所需的位置上(例如相對于投影系統(tǒng)PS)。術(shù)語“圖案形成裝置”MA應(yīng)該被廣義地理解為表示能夠用于將圖案在輻射束B的橫截面上賦予輻射束B、以便在襯底W的目標(biāo)部分C上形成圖案的任何裝置。被賦予輻射束 B的圖案可能與在目標(biāo)部分C上形成的器件中的特定的功能層相對應(yīng)，例如集成電路。圖案形成裝置MA可以是透射式的(例如圖IB中的光刻設(shè)備100’中)或反射式的(如在圖IA的光刻設(shè)備100中)。圖案形成裝置MA的示例包括掩模版、掩模、可編程反射鏡陣列以及可編程液晶顯示(LCD)面板。掩模在光刻術(shù)中是公知的，并且包括諸如ニ元掩模類型、交替型相移掩模類型、衰減型相移掩模類型和各種混合掩模類型之類的掩模類型。可編程反射鏡陣列的示例采用小反射鏡的矩陣布置，每ー個小反射鏡可以獨立地傾斜， 以便沿不同方向反射入射的輻射束。所述已傾斜的反射鏡將圖案賦予由所述反射鏡矩陣反射的輻射束B。術(shù)語“投影系統(tǒng)"PS可以包括任意類型的投影系統(tǒng)，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、電磁型和靜電型光學(xué)系統(tǒng)、或其任意組合，如對于所使用的曝光輻射所適合的、 或?qū)τ谥T如使用浸沒液或使用真空之類的其他因素所適合的。真空環(huán)境可以用于EUV或電子束，這是因為其它氣體可能吸收太多的輻射或電子。因此可以在真空壁和真空泵的幫助下將真空環(huán)境提供至整個束路徑。光刻設(shè)備100和/或光刻設(shè)備100’可以是具有兩個(雙臺)或更多襯底臺(和 /或兩個或更多的掩模臺)WT的類型。在這種“多臺”機器中，可以并行地使用附加的襯底臺WT，或可以在ー個或更多個臺上執(zhí)行預(yù)備步驟的同吋，將ー個或更多個其它襯底臺WT用 ラ曙九。參照圖IA和1B，所述照射器IL接收從輻射源SO發(fā)出的輻射束。該源SO和所述光刻設(shè)備100和100’可以是分立的實體(例如當(dāng)該源SO為準(zhǔn)分子激光器時)。在這種情況下，不會將該源SO考慮成形成光刻設(shè)備100或100’的一部分，并且通過包括例如合適的定向反射鏡和/或擴束器的束傳遞系統(tǒng)BD(圖1B)的幫助，將所述輻射束B從所述源SO 傳到所述照射器1し在其它情況下，所述源SO可以是所述光刻設(shè)備100、100’的組成部分 (例如當(dāng)所述源SO是汞燈時)。可以將所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要時設(shè)置的所述束傳遞系統(tǒng)BD —起稱作輻射系統(tǒng)。所述照射器IL可以包括用于調(diào)整所述輻射束的角強度分布的調(diào)整器AD(圖1B)。 通常，可以對所述照射器的光瞳平面中的強度分布的至少所述外部和/或內(nèi)部徑向范圍 (一般分別稱為σ-外部和ο-內(nèi)部)進行調(diào)整。此外，所述照射器IL可以包括各種其它部件(圖1Β)，例如積分器IN和聚光器CO?？梢詫⑺稣丈淦鱅L用于調(diào)節(jié)所述輻射束B， 以在其橫截面中具有所需的均勻性和強度分布。參考圖1A，所述輻射束B入射到保持在支撐結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺)MT上的所述圖案形成裝置(例如，掩模)MA上，并且通過所述圖案形成裝置MA來形成圖案。在光刻設(shè)備 100中，輻射束B被從圖案形成裝置(例如掩模)MA反射。在已經(jīng)從圖案形成裝置(例如掩摸)MA反射之后，所述輻射束B通過投影系統(tǒng)PS，所述投影系統(tǒng)PS將輻射束B聚焦到所述襯底W的目標(biāo)部分C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF2 (例如，干涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標(biāo)部分C定位于所述輻射束B的路徑中。類似地，可以將所述第一定位裝置PM和另ー個位置傳感器IFl用于相對于所述輻射束B的路徑精確地定位圖案形成裝置(例如掩模)MA?？梢允褂醚谀?zhǔn)標(biāo)記Ml、M2和襯底對準(zhǔn)標(biāo)記Pl、P2來對準(zhǔn)圖案形成裝置(例如掩模)MA和襯底W。參考圖1B，所述輻射束B入射到保持在支撐結(jié)構(gòu)(例如，掩模臺MT)上的所述圖案形成裝置(例如，掩模MA)上，并且通過所述圖案形成裝置來形成圖案。已經(jīng)穿過掩模MA 之后，所述輻射束B通過投影系統(tǒng)PS，所述投影系統(tǒng)PS將束聚焦到所述襯底W的目標(biāo)部分 C上。通過第二定位裝置PW和位置傳感器IF(例如，干涉儀器件、線性編碼器或電容傳感器)的幫助，可以精確地移動所述襯底臺WT，例如以便將不同的目標(biāo)部分C定位于所述輻射束B的路徑中。類似地，例如在從掩模庫的機械獲取之后，或在掃描期間，可以將所述第一定位裝置PM和另ー個位置傳感器(圖IB中未明確示出)用于相對于所述輻射束B的路徑精確地定位掩模MA。通常，可以通過形成所述第一定位裝置PM的一部分的長行程模塊(粗定位)和短行程模塊(精定位)的幫助來實現(xiàn)掩模臺MT的移動。類似地，可以采用形成所述第二定位裝置PW的一部分的長行程模塊和短行程模塊來實現(xiàn)所述襯底臺WT的移動。在步進機的情況下(與掃描器相反)，所述掩模臺MT可以僅與短行程致動器相連，或可以是固定的?？梢允褂醚谀?zhǔn)標(biāo)記Ml、M2和襯底對準(zhǔn)標(biāo)記Pl、P2來對準(zhǔn)掩模MA和襯底W。盡管所示的襯底對準(zhǔn)標(biāo)記占據(jù)了專用目標(biāo)部分，但是它們可以位于目標(biāo)部分之間的空間(這些公知為劃線對齊標(biāo)記)中。類似地，在將多于一個的管芯設(shè)置在掩模MA上的情況下，所述掩模對準(zhǔn)標(biāo)記可以位于所述管芯之間。可以將所述光刻設(shè)備100和100’用于以下模式中的至少ー種中1.在步進模式中，在將支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT和襯底臺WT保持為基本靜止的同吋，將賦予所述輻射束B的整個圖案一次投影到目標(biāo)部分C上(即，單一的靜態(tài)曝光)。 然后將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標(biāo)部分C曝光。2.在掃描模式中，在對支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT和襯底臺WT同步地進行掃描的同吋，將賦予所述輻射束B的圖案投影到目標(biāo)部分C上(S卩，單一的動態(tài)曝光)。襯底臺WT 相對于支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺)MT的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PS的(縮小)放大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。3.在另ー種模式中，將用于保持可編程圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)(例如掩模臺) MT保持為基本靜止，并且在對所述襯底臺WT進行移動或掃描的同吋，將賦予所述輻射束B 的圖案投影到目標(biāo)部分C上。可以采用脈沖輻射源S0，并且在所述襯底臺WT的每一次移動之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。這種操作模式可易于應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置(例如，如在本文所述類型的可編程反射鏡陣列)的無掩模光刻術(shù)中。也可以采用所述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。盡管在本文中可以做出具體的參考，將所述光刻設(shè)備用于制造IC，但應(yīng)當(dāng)理解這里所述的光刻設(shè)備可以有其他的應(yīng)用，例如，集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲器的引導(dǎo)和檢測圖案、平板顯示器、液晶顯示器(LCD)、薄膜磁頭等的制造。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該理解的是，在這種替代應(yīng)用的情況中，可以將其中使用的任意術(shù)語“晶片”或“管芯”分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語“襯底”或“目標(biāo)部分”同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進行處理，例如在軌道(ー種典型地將抗蝕劑層涂到襯底上，并且對已曝光的抗蝕劑進行顯影的工具)、 量測工具和/或檢驗工具中。在可應(yīng)用的情況下，可以將此處的公開內(nèi)容應(yīng)用于這種和其它襯底處理工具中。另外，所述襯底可以處理多于一次，例如以便產(chǎn)生多層IC，使得這里使用的所述術(shù)語“襯底”也可以表示已經(jīng)包含多個已處理層的襯底。在另外的實施例中，光刻設(shè)備100包括極紫外(EUV)源，其配置用于產(chǎn)生用于EUV 光刻術(shù)的EUV輻射束。通常，將EUV源配置在輻射系統(tǒng)(參見下文)中，且對應(yīng)的照射系統(tǒng)配置成調(diào)節(jié)EUV源的EUV輻射束。B.示例性EUV光刻設(shè)備圖2示意性示出了根據(jù)本發(fā)明的一實施例的示例性EUV光刻設(shè)備200。在圖2中， EUV光刻設(shè)備200包括輻射系統(tǒng)42、照射光學(xué)単元44以及投影系統(tǒng)PS。輻射系統(tǒng)42包括輻射源S0，其中可以通過放電等離子體形成輻射束。在一實施例中，EUV輻射可以通過(例如來自Xe氣體、Li蒸汽或Sn蒸汽的)氣體或蒸汽來產(chǎn)生EUV輻射，其中產(chǎn)生非常熱的等離子體來發(fā)射在電磁光譜的EUV范圍中的輻射?？梢酝ㄟ^例如放電產(chǎn)生至少部分地電離的等離子體來產(chǎn)生非常熱的等離子體。為了有效地產(chǎn)生輻射，可能需要分壓為例如10 的Xe， Li, Sn蒸汽或任何其它的適合的氣體或蒸汽。由輻射源SO發(fā)射的輻射從源腔47經(jīng)由定位在源腔47中的開口中或后面的氣體阻擋件或污染物阱49通入到收集器腔48中。在ー實施例中，氣體阻擋件49可以包括通道結(jié)構(gòu)。收集器腔48包括輻射收集器50 (其還可以被稱作收集器反射鏡或收集器)，其可以由掠入射收集器形成。輻射收集器50具有上游輻射收集器側(cè)50a和下游輻射收集器側(cè) 50b，通過收集器50的輻射可以被反射離開光柵光譜濾光片51以被聚焦在收集器腔48中的孔闌處的虛源點52處。輻射收集器50對于本領(lǐng)域技術(shù)人員是已知的。來自收集器腔48的輻射束56在照射光學(xué)単元44中被經(jīng)由正入射反射器53和M 反射到定位在掩模版或掩模臺MT上的掩模版或掩模(未顯示)上。形成了圖案化的束57， 其在投影系統(tǒng)PS中被經(jīng)由反射元件58和59成像到被支撐在晶片平臺或襯底臺WT上的襯底(未顯示)上。在不同實施例中，照射光學(xué)単元44和投影系統(tǒng)PS可以包括比圖2中示出的更多(或更少)的元件。例如，可以依賴于光刻設(shè)備的類型而可選地設(shè)置光柵光譜濾光片51。另外，在一實施例中，照射光學(xué)単元44和投影系統(tǒng)PS可以包括比圖2中示出的反射鏡更多的反射鏡。例如，除反射元件58和59之外，投影系統(tǒng)PS還可以包括一至四個反射元件。在圖2中，參考標(biāo)號180表示兩個反射器之間的空間，例如反射器142和143之間的空間。在一實施例中，替代掠入射反射鏡或除掠入射反射鏡之外，收集器反射鏡50還可以包括正入射收集器。另外，收集器反射鏡50盡管被參考具有反射器142、143和146的巢狀收集器進行描述，但是在此處進一歩被用作收集器的例子。另外，替代光柵51，如在圖2中示意性地示出的，還可以應(yīng)用透射式光學(xué)濾光片。 EUV透射性的光學(xué)濾光片以及對UV輻射透射性較差的或甚至基本上吸收UV輻射的光學(xué)濾光片對于本領(lǐng)域技術(shù)人員是已知的。因此，“光柵光譜純度濾光片，，的使用在此處還可以可替代地表示成“光譜純度濾光片”，其包括光柵或透射式濾光片。雖然未在圖2中示出，但是 EUV透射式光學(xué)濾光片可以被包括作為另外的光學(xué)元件，例如配置在照射単元44和/或投影系統(tǒng)PS中的收集器反射鏡50或光學(xué)EUV透射式濾光片的上游。相對于光學(xué)元件，術(shù)語“上游”和“下游”分別表示為ー個或更多的光學(xué)元件的位于ー個或更多的另外的光學(xué)元件的“光學(xué)上游”和“光學(xué)下游”的位置。遵循輻射束越過的光刻設(shè)備200的光路，與第二光學(xué)元件相比更靠近源SO的第一光學(xué)元件配置在第二光學(xué)元件的上游；第二光學(xué)元件配置在第一光學(xué)元件的下游。例如，收集器反射鏡50配置在光學(xué)濾光片51的上游，而光學(xué)元件53配置在光學(xué)濾光片51的下游。在圖2中示出的所有光學(xué)元件(和未在該實施例的示意圖中示出的另外的光學(xué)元件)可能易受由源SO產(chǎn)生的污染物(例如Sn)的沉積的損壞。對于輻射收集器50可能是這種情形，且如果存在的話，對于光譜純度濾光片51也可能是這種情形。因此，可以采用清潔裝置來清潔這些光學(xué)元件中的一個或更多個，以及可以將清潔方法應(yīng)用至這些光學(xué)元件，而且還可以應(yīng)用至正入射反射器53和M和反射元件58和59或其它光學(xué)元件，例如另外的反射鏡、光柵等。輻射收集器50可以是掠入射收集器，在這樣的實施例中，收集器50被沿著光軸0 對準(zhǔn)。源SO或其像還可以沿著光軸0定位。輻射收集器50可以包括反射器142、143和 146 (也稱為“殼”或包括多個Wolter型反射器的Wolter型反射器)。反射器142、143和 146可以是巢狀的且圍繞光軸0可以是旋轉(zhuǎn)對稱的。在圖2中，內(nèi)反射器由參考標(biāo)號142表示，中間反射器由參考標(biāo)號143表示，外反射器由參考標(biāo)號146表示。輻射收集器50包圍特定的體積，即在外反射器146內(nèi)的體積。通常，在外反射器146中的體積被圓周地封閉， 盡管可以設(shè)置小的開ロ。反射器142、143和146分別可以包括表面，所述表面至少一部分代表ー個反射層或多個反射層。因此，反射器142、143和146 (或在具有多于3個反射器或殼的輻射收集器的實施例中的另外的反射器)至少部分地設(shè)計用于反射和收集來自源SO的EUV輻射，反射器142、143和146中的至少一部分可以不被設(shè)計成反射和收集EUV輻射。例如，反射器的后側(cè)的至少一部分可以不被設(shè)計成反射和收集EUV輻射。在這些反射層的表面上，可以另外地設(shè)置有用于保護的覆蓋層或作為設(shè)置在這些反射層的表面的至少一部分上的光學(xué)濾光片的覆蓋層。輻射收集器50可以放置在源SO的附近或放置在源SO的像附近。每ー反射器142、 143和146可以包括至少兩個相鄰的反射表面，更加遠離源SO的反射表面與更靠近源SO的反射表面相比，被設(shè)置成相對于光軸0成更小的角度。這樣，掠入射收集器50配置成產(chǎn)生沿著光軸0傳播的￠)UV輻射束。至少兩個反射器可以被基本上同軸地設(shè)置且圍繞光軸0 基本上旋轉(zhuǎn)對稱地延伸。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，輻射收集器50可以具有在外反射器146的外表面上的另外的特征，或在外反射器146的周圍的另外的特征，例如保護性保持器、加熱器等。在此處描述的實施例中，術(shù)語“透鏡”和“透鏡元件”，在可以允許的情況下，可以表示各種類型的光學(xué)元件中的任一個或組合，包括折射性、反射性、磁性、電磁性和靜電光學(xué)部件。另外，此處使用的術(shù)語“輻射”和“束”包括全部類型的電磁輻射，包括紫外(UV)輻射(例如具有波長入為365,248,193，157或126nm)、極紫外(EUV或軟X射線)輻射(例如具有在5-20nm的范圍內(nèi)的波長，例如13. 5nm)或在小于5nm下工作的硬X射線以及粒子束(諸如離子束或電子束)。通常，具有在約780-3000nm(或更大)之間的波長的輻射被認(rèn)為是頂輻射。UV表示具有大約100-400nm的波長的輻射。在光刻術(shù)中，通常還將其應(yīng)用至可以由汞放電燈產(chǎn)生的波長G-線436nm ；H-線405nm ；和/或I-線365nm。真空UV或 VUV (即由空氣吸收的UV)表示具有大約100-200nm的波長的輻射。深UV (DUV)通常表示具有從的范圍的波長的輻射，且在ー實施例中，準(zhǔn)分子激光器可以產(chǎn)生在光刻設(shè)備中使用的DUV輻射。應(yīng)當(dāng)認(rèn)識到，具有在例如5-20nm的范圍內(nèi)的波長的輻射與特定波長帶的輻射相關(guān)，其至少一部分在5-20nm的范圍內(nèi)。III.全息掩模檢查系統(tǒng)的實施例圖3是全息掩模檢查系統(tǒng)300的實施例的圖示。全息掩模檢查系統(tǒng)300包括反射鏡320、照射源330、物鏡;340、空間濾光片350、束組合器360、管透鏡370和圖像傳感器380。 物鏡340、空間濾光片350、束組合器360和管透鏡370還在此處統(tǒng)稱為全息掩模檢查系統(tǒng) 300的光學(xué)系統(tǒng)390。術(shù)語“掩模版”和“掩?！痹诖颂幍拿枋鲋斜豢苫Q地使用。在傅里葉光學(xué)裝置的領(lǐng)域中公知的是，對于特定光學(xué)系統(tǒng)(例如圖3的光學(xué)系統(tǒng) 390)，光學(xué)系統(tǒng)的光瞳表示任何物方圖案的光學(xué)傅里葉變換。在光學(xué)地變換物體的動作中， 物體中的空間能量頻率被變換成光瞳內(nèi)的空間位置。作為變換操作的結(jié)果，從掩模版衍射的能量的相當(dāng)大的部分(例如大多數(shù)能量)將被映射到光瞳內(nèi)的特定空間位置。在傅里葉光學(xué)裝置的領(lǐng)域中還公知的是，小的顆粒(例如掩模版上的缺陷)在所有角度上相當(dāng)均勻地散射入射能量。結(jié)果，由光學(xué)系統(tǒng)(例如圖3的光學(xué)系統(tǒng)390)收集的、來自顆粒的能量將橫跨光學(xué)系統(tǒng)的光瞳相當(dāng)均勻地散布。在本發(fā)明的實施例中，通過將空間濾光片引入到光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中(在此處也被稱作為光學(xué)系統(tǒng)的傅里葉變換平面)，可以從圖像背景中移除相當(dāng)大量的能量，同時留下相當(dāng)大量的顆粒能量以重新形成圖像。除此之外，全息掩模檢查系統(tǒng)300的ー種用途是產(chǎn)生給定掩模版310的一個或更多的目標(biāo)部分的全息圖像，如圖3所示。掩模版310的全息圖像之后可以與參考或理想掩模版圖案的一個或更多的對應(yīng)的圖像比較以確定掩模缺陷的存在。如在上文的引述部分指明的，典型的全息掩模檢查系統(tǒng)遇到的問題是，諸如例如且不限制性地，在用于產(chǎn)生全息圖像的合成場中的信噪比小的問題和配準(zhǔn)誤差問題。除此以外，全息掩模檢查系統(tǒng)300的目標(biāo)是解決這些問題和典型的全息掩模檢查系統(tǒng)中的其它問題?；诖颂幍拿枋觯绢I(lǐng)域中普通技術(shù)人員將認(rèn)識到，全息掩模檢查系統(tǒng)300可以用于解決除了合成場中的信噪比小和配準(zhǔn)誤差問題之外的全息問題。在一實施例中，全息掩模檢查系統(tǒng)300可以是單獨的系統(tǒng)，其與圖IA的反射式光刻設(shè)備、圖IB的透射式光刻設(shè)備或圖2的EUV光刻設(shè)備一起操作。在另ー實施例中，全息掩模檢查系統(tǒng)300可以集成到圖IA的反射式光刻設(shè)備、圖IB的透射式光刻設(shè)備或圖2的 EUV光刻設(shè)備中。例如，在與圖1的反射式光刻設(shè)備集成吋，圖1的照射源IL還可以提供照射源給全息掩模檢查系統(tǒng)300。全息掩模檢查系統(tǒng)300的照射源(例如照射源330)被在下文中進ー步地詳細(xì)描述。圖4是示例性掩模版410的圖示，其具有設(shè)置在其上的周期性掩模版圖案420。為了便于說明，掩模版410和其周期性圖案420將用于方便說明全息掩模檢查系統(tǒng)300?；诖颂幍拿枋?，相關(guān)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員將認(rèn)識到其它的掩模版和掩模版圖案可以與本發(fā)明的實施例一起使用。所述其它掩模版和掩模版圖案在本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)。再參考圖3，照射源330配置成朝向反射鏡320發(fā)射輻射束331。反射鏡320引導(dǎo)輻射束331到掩模版310的目標(biāo)部分上。輻射束的波長可以例如而不限于是^6nm。如相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將明白的，可以使用其它波長，而不背離本發(fā)明的實施例的精神和范圍。光學(xué)系統(tǒng)390接收來自掩模版310的目標(biāo)部分的被反射的輻射束311的一部分。 在一實施例中，物鏡340布置在光學(xué)系統(tǒng)390中，以接收被反射的輻射束311的該部分。根據(jù)本發(fā)明的實施例，空間濾光片350之后接收來自物鏡340的被反射的輻射束311的該部分。在被反射的輻射束311的該部分被空間濾光片350濾波之后，根據(jù)本發(fā)明的實施例，束組合器360接收被反射的輻射束311的該部分。在實施例中，束組合器360布置成組合被反射的輻射束311的該部分與參考輻射束361。被反射的輻射束311的該部分與參考輻射束361的組合在此處也被稱作為“組合的輻射束”。參考輻射束361可以例如而不限干， 是用于與來自空間濾光片350的被反射的輻射束311的該部分相互干涉的輔助光源。在另一實施例中，參考輻射束361可以由照射源330產(chǎn)生，和還可以是與輻射束331相同類型的光。在還ー實施例中，參考輻射束361可以由圖IA的反射式光刻設(shè)備、圖IB的透射式光刻設(shè)備或圖2的EUV光刻設(shè)備中的照射源產(chǎn)生。如相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所理解的，由在被反射的輻射束311的該部分和參考輻射束361之間的相互干涉產(chǎn)生的合成場可以用于產(chǎn)生掩模版310的目標(biāo)部分的全息圖像。根據(jù)本發(fā)明的實施例，組合的輻射束(例如輻射束311的該部分和參考輻射束361之間的干渉)被從束組合器360引導(dǎo)至管透鏡370。在一實施例中，圖像傳感器380的一部分接收來自管透鏡370的組合的輻射束，和記錄來自組合的輻射束的合成場。圖像傳感器380可以例如而不限于，是具有傳感器陣列的硅電荷耦合器件。基于此處的描述，相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將認(rèn)識到，可以使用其他類型的圖像傳感器來接收和記錄合成場。所述其他類型的圖像傳感器在本發(fā)明的范圍和精神內(nèi)。根據(jù)本發(fā)明的實施例，來自圖像傳感器380的被記錄的合成場可以用于產(chǎn)生掩模版310的目標(biāo)部分的全息圖像。在一實施例中，全息圖像可以與參考圖像相比較，以確定掩模缺陷的存在。參考圖3，在光學(xué)系統(tǒng)390的光瞳平面或傅里葉變換平面中放置空間濾光片350解決了上述的信噪比和配準(zhǔn)誤差的問題。傅里葉變換平面或光瞳平面可以例如而不限于定位在物鏡340和束組合器360之間的區(qū)域中，如通過將空間濾光片350放置在圖3的光學(xué)系統(tǒng)390中所顯示的。在一實施例中，空間濾光片350定位在光學(xué)系統(tǒng)390的傅里葉變換平面中，使得在對應(yīng)于被反射的輻射束311的該部分的圖像中的一個或更多的空間頻率分量被濾除或被移除而不傳送至束組合器360。圖5是示例性的空間濾光片520、沒有將空間濾光片520放置在圖3的光學(xué)系統(tǒng) 390的傅里葉變換平面中的傅里葉變換平面的圖像510、將空間濾光片520放置在傅里葉變換平面中的圖像530的圖示。圖像510顯示示例性的光譜分量511，其與反射離開掩模版 310的目標(biāo)部分的光的衍射圖案相關(guān)聯(lián)。在沒有將空間濾光片520布置在光學(xué)系統(tǒng)390的傅里葉變換平面中的情況下，光譜分量511可以被圖像傳感器380接收和記錄(例如，光譜分量511被包含在被反射的輻射束311的該部分中，被反射的輻射束311的該部分被束組合器360接收、由束組合器360與參考輻射束361組合和穿過管透鏡370至圖像傳感器 380)。從由光學(xué)系統(tǒng)形成的圖像移除特定的光譜分量511可能導(dǎo)致由圖像傳感器380記錄的合成場中的信噪比的改進。這是因為在所述特定的例子中最亮的光譜分量511包含從掩模版的背景反射的大多數(shù)能量，而來自掩模版上的假定顆粒的能量將圍繞光譜分量511 均等地分布。在一實施例中，圖5的空間濾光片520移除與關(guān)于掩模版的背景的最強的光譜分量511相關(guān)聯(lián)的背景光。結(jié)果，除了從在掩模版上出現(xiàn)的任何顆粒散射的大多數(shù)能量之外，通過圖3的圖像傳感器380對光的檢測限制于從掩模版310的目標(biāo)部分反射的顯著地減小的量的光。或者說，根據(jù)本發(fā)明的實施例，空間濾光片520阻擋與關(guān)于掩模版的背景的光譜分量511相關(guān)聯(lián)的光使其不被圖像傳感器380檢測。例如，在圖5的圖像530中顯示出對光譜分量511的阻擋，其中空間濾光片520從圖像510濾掉光譜分量511。在圖3的束組合器360處形成的合成場的信噪比又被増加，其還增加了圖像傳感器380的靈敏度，以檢測掩模缺陷。除此之外，空間濾光片520的另ー優(yōu)點是減小在掩模缺陷檢測中對配準(zhǔn)誤差的靈敏度。通過用空間濾光片520移除由于背景圖案導(dǎo)致的光譜分量511，如上文所述，可以由合成場產(chǎn)生全息圖像(例如，圖3的被反射的輻射束311的該部分與參考輻射束361的干渉)，根據(jù)本發(fā)明的實施例，該合成場不包含由于背景圖案導(dǎo)致的光譜分量511。在ー實施例中，掩模版310的目標(biāo)部分的所述全息圖像可以與參考圖像比較，以確定掩模缺陷的存在。然而，如果光譜分量511沒有通過空間濾光片520濾波，那么光譜分量511就變成了掩模版310的目標(biāo)部分的全息圖像的一部分，其在與參考圖像相比較時，可以產(chǎn)生一個或更多的掩模缺陷的錯誤指示。因此，通過移除光譜分量511，將空間濾光片520放置在圖3的光學(xué)系統(tǒng)390的傅里葉變換平面中不僅改善了合成場的信噪比，而且減小了對于在掩模缺陷檢測中的配準(zhǔn)誤差的靈敏度。在一實施例中，空間濾光片520的圖案依賴于由圖3的掩模版310的目標(biāo)部分產(chǎn)生的預(yù)定的衍射圖案。如由相關(guān)領(lǐng)域中的普通技術(shù)人員所理解的，從掩模版310的目標(biāo)部分所衍射的光的圖案(例如圖5的光譜分量511)依賴于掩模版310上設(shè)置的圖案(例如圖4的周期性掩模版圖案420)。因此，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將認(rèn)識到空間濾光片(例如圖 5的空間濾光片520)的圖案可以變化以濾除與由掩模版的不同的目標(biāo)部分衍射的光相關(guān)的光譜分量的各種圖案。然而，在一實施例中，空間濾光片530的圖案可以被選擇成優(yōu)化地濾除與掩模版上的各種圖案相關(guān)的光譜分量的各種圖案。圖6是根據(jù)本發(fā)明的實施例的另ー全息掩模檢查系統(tǒng)600的圖示。全息掩模檢查系統(tǒng)600包括反射鏡320、照射源330、圖像傳感器380、光學(xué)系統(tǒng)610和分束器620。對于給定的掩模版310、反射鏡320、照射源330和圖像傳感器380的描述類似于關(guān)于圖3的全息掩模檢查系統(tǒng)300的上文的它們各自的描述。在一實施例中，分束器620朝向反射鏡320 引導(dǎo)輻射束331的一部分和朝向光學(xué)系統(tǒng)610引導(dǎo)輻射束331的另一部分。
在一實施例中，光學(xué)系統(tǒng)610包括物鏡340、空間濾光片350、管透鏡630、反射鏡 640、管透鏡650和束組合器660。對于物鏡340和空間濾光片350的描述類似于關(guān)于圖3 的全息掩模檢查系統(tǒng)300的上文的它們各自的描述。在一實施例中，管透鏡650接收來自空間濾光片350的被反射的輻射束311的該部分和朝向束組合器660傳送反射的輻射束311 的一部分。根據(jù)本發(fā)明的實施例，束組合器660布置成組合被反射的輻射束311的該部分與輻射束331以產(chǎn)生組合的輻射束670(例如，在被反射的輻射束311的該部分和輻射束331 之間的干渉)。在一實施例中，束組合器660經(jīng)由管透鏡630和反射鏡640接收輻射束331。 根據(jù)本發(fā)明的實施例，圖像傳感器380接收來自束組合器660的組合的輻射束670，其中圖像傳感器380記錄來自組合的輻射束670的合成場。類似于圖3的全息掩模檢查系統(tǒng)300，圖6的全息掩模檢查系統(tǒng)600包括在光學(xué)系統(tǒng)610的傅里葉變換平面中的空間濾光片350。在一實施例中，將空間濾光片350放置在光學(xué)系統(tǒng)610的傅里葉變換平面中移除了光譜分量(例如圖5的光譜分量511)，其被包含在被反射的輻射束311的該部分中。這又改善了在束組合器660處形成的合成場的信噪比， 和減小了與由合成場產(chǎn)生的全息圖像和參考圖像的比較的配準(zhǔn)誤差。圖7是根據(jù)本發(fā)明的實施例的另ー全息掩模檢查系統(tǒng)700的圖示。全息掩模檢查裝置700包括照射源330、光學(xué)系統(tǒng)710和圖像傳感器380。對于給定的掩模版310、反射鏡 320、照射源330和圖像傳感器380的描述類似于關(guān)于圖3的全息掩模檢查系統(tǒng)300的上文的它們的各自的描述。在一實施例中，光學(xué)系統(tǒng)710包括參考反射鏡720、物鏡730、分束器和組合器740、 物鏡340、中繼透鏡750、空間濾光片350和管透鏡760。關(guān)于物鏡340和空間濾光片350的描述類似于關(guān)于圖3的全息掩模檢查系統(tǒng)300在上文的它們各自的描述。在一實施例中， 分束器和組合器740接收來自反射鏡320的輻射束331，和朝向物鏡730弓丨導(dǎo)輻射束的一部分而朝向物鏡340引導(dǎo)輻射束331的另一部分。根據(jù)本發(fā)明的實施例，朝向物鏡340引導(dǎo)的輻射束331的該部分被朝向掩模版310的目標(biāo)部分引導(dǎo)，其中被反射的輻射束311的一部分被朝向物鏡340與分束器和組合器740引導(dǎo)返回。另外，根據(jù)本發(fā)明的實施例，朝向物鏡730引導(dǎo)的輻射束331的該部分被反射離開參考反射鏡720，和朝向物鏡730與分束器和組合器740引導(dǎo)返回。在一實施例中，參考反射鏡720被布置成使得空間全息圖像可以由在來自物鏡340的被反射的輻射束311的該部分和來自物鏡730的輻射束331之間的干渉的合成場產(chǎn)生。在另ー實施例中，參考反射鏡 720具有可調(diào)整的位移和在各種光路長度處反射輻射束331，使得相移全息圖像可以由組合的輻射束的合成場產(chǎn)生。用于產(chǎn)生空間和相移全息圖像的方法和技術(shù)對于相關(guān)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員是已知的。在一實施例中，分束器和組合器740布置成組合來自物鏡730的輻射束331與來自物鏡730的被反射的輻射束311的該部分，以產(chǎn)生組合的輻射束(例如在被反射的輻射束311的該部分和輻射束331之間的干渉)。在一實施例中，中繼透鏡750接收來自分束器和組合器740的組合的輻射束，和朝向空間濾光片350引導(dǎo)組合的輻射束。在被空間濾光片350濾波之后，由管透鏡760接收組合的輻射束，該管透鏡760朝向圖像傳感器380的一部分引導(dǎo)組合的輻射束。
類似于圖3的全息掩模檢查系統(tǒng)300和圖6的全息掩模檢查系統(tǒng)600，圖7的全息掩模檢查系統(tǒng)700包括在光學(xué)系統(tǒng)710的傅里葉變換平面中的空間濾光片350。在ー實施例中，將空間濾光片350放置在光學(xué)系統(tǒng)710的傅里葉變換平面中移除了包含在反射的輻射束311的所述部分中的光譜分量(例如圖5的光譜分量511)。這又改善了在分束器和組合器740處形成的合成場的信噪比，和減小了由合成場產(chǎn)生的全息圖像和參考圖像的比較的配準(zhǔn)誤差?；诖颂幍拿枋?，相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員將認(rèn)識到本發(fā)明的實施例不限于圖3、6和7的全息掩模檢查系統(tǒng)300、600和700，具有各種配置的光學(xué)系統(tǒng)(例如分別是圖3、6和7的光學(xué)系統(tǒng)390、610和710)的其他全息掩模檢查系統(tǒng)可以被實施。所述具有各種配置的光學(xué)系統(tǒng)的其他全息掩模檢查系統(tǒng)在本發(fā)明的范圍和精神內(nèi)。圖8是用于全息掩模檢查的方法800的實施例的圖示。方法800可以利用例如但不限于圖3的全息掩模檢查300、圖6的全息掩模檢查系統(tǒng)600或圖7的全息掩模檢查系統(tǒng)700進行。在步驟810中，掩模的目標(biāo)部分被照射。掩模的目標(biāo)部分可以用例如但不限于圖3、6和7的照射源330照射。在步驟820中，接收來自掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的一部分，其中被反射的輻射束的該部分穿過布置在光學(xué)系統(tǒng)的傅里葉變換平面中的空間濾光片。如關(guān)于圖 3-7在上文描述的，空間濾光片(例如空間濾光片350)可以布置在光學(xué)系統(tǒng)的傅里葉變換平面中，使得與被反射的輻射束中的衍射光相關(guān)的光譜分量可以被濾除或移除而不被作為組合的輻射束的一部分傳送(在步驟830中)。在步驟830中，來自空間濾光片的被反射的輻射束的該部分與參考輻射束組合以產(chǎn)生組合的輻射束。圖3的束組合器360、圖6的束組合器660或圖7的分束器和組合器 740可以被使用，例如但不限于用于組合來自空間濾光片的被反射的輻射束的該部分與參考輻射束。在步驟840中，對應(yīng)于組合的輻射束的圖像被用圖像傳感器檢測。如關(guān)于圖3在上文描述的，圖像傳感器可以是具有傳感器陣列的硅電荷耦合器件?？傊瑢τ谠谌⒀谀z查系統(tǒng)(例如圖3的全息掩模檢查系統(tǒng)300、圖6的全息掩模檢查系統(tǒng)600和圖7的全息掩模檢查系統(tǒng)700)中的光學(xué)系統(tǒng)的傅里葉變換平面中布置空間濾光片，可以移除與掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束中的衍射光相關(guān)的光譜分量。除此之外，移除這些光譜分量的優(yōu)點又包括全息圖像的合成場的信噪比的改進和在將掩模的目標(biāo)部分的全息圖像與參考圖像比較時配準(zhǔn)誤差的減小。IV.結(jié)論應(yīng)該認(rèn)識到，不是發(fā)明內(nèi)容和摘要部分，而是具體實施方式
部分要被用于解釋權(quán)利要求。發(fā)明內(nèi)容和摘要部分可以闡明由本發(fā)明人設(shè)想的本發(fā)明的所有示例性實施例中的一個或更多個示例性實施例，但不是本發(fā)明的全部示例性實施例，因而不是要以任何方式限制本發(fā)明和隨附的權(quán)利要求。借助示出具體功能的實施及其關(guān)系的功能構(gòu)建塊，在上文描述了本發(fā)明的實施例。為了描述方便，這些功能構(gòu)建塊的邊界在本文是任意限定的?？梢韵薅商娲倪吔?， 只要特定功能及其關(guān)系被適當(dāng)?shù)貓?zhí)行即可。具體實施例的前述說明如此充分地掲示了本發(fā)明的一般特性，使得其他人通過應(yīng)用本領(lǐng)域的知識可以在不需要過多的實驗且在不背離本發(fā)明的總體構(gòu)思的情況下容易地修改和/或適應(yīng)用于各種應(yīng)用的這樣的具體實施例。因此，基于這里給出的教導(dǎo)和引導(dǎo)，這種適應(yīng)和修改是在所公開的實施例的等價物的范圍和含義內(nèi)。應(yīng)當(dāng)理解，這里的措詞或術(shù)語是為了描述的目的，而不是限制性，使得本說明書的術(shù)語或措辭由本領(lǐng)域技術(shù)人員根據(jù)教導(dǎo)和引導(dǎo)進行解釋。 本發(fā)明的寬度和范圍不應(yīng)該受上述的任何示例性實施例的限制，而應(yīng)該僅根據(jù)權(quán)利要求及其等價物來限定。
權(quán)利要求
1.ー種全息掩模檢查系統(tǒng)，包括照射源，配置成將輻射束照射到掩模的目標(biāo)部分上；空間濾光片，布置在光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中，其中所述空間濾光片接收來自所述掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的至少一部分，所述光學(xué)系統(tǒng)組合所述被反射的輻射束的所述部分與參考輻射束以產(chǎn)生組合的輻射束；和圖像傳感器，配置成檢測對應(yīng)于所述組合的輻射束的圖像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，還包括反射鏡，其中所述反射鏡布置成將來自所述照射源的輻射束反射到所述掩模的目標(biāo)部分上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述空間濾光片配置成對在對應(yīng)于被反射的輻射束的圖像中的一個或更多的空間頻率分量進行濾波。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述空間濾光片包括濾光片圖案， 所述濾光片圖案基于由所述掩模的目標(biāo)部分產(chǎn)生的預(yù)定的衍射圖案。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括物鏡，布置成在接收所述被反射的輻射束的所述部分的所述空間濾光片之前接收所述被反射的輻射束的所述部分；束組合器，布置成組合來自所述空間濾光片的所述被反射的輻射束的所述部分與所述參考輻射束，以產(chǎn)生所述組合的輻射束，其中所述空間濾光片定位在所述物鏡和所述束組合器之間；和管透鏡，布置成接收所述組合的輻射束和將所述組合的輻射束引導(dǎo)到所述圖像傳感器的一部分上。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括 反射鏡，布置成將來自所述照射源的輻射束反射到所述掩模的目標(biāo)部分上；分束器，布置成朝向所述反射鏡引導(dǎo)所述輻射束和基于所述輻射束產(chǎn)生所述參考輻射束；物鏡，布置成在接收所述被反射的輻射束的所述部分的所述空間濾光片之前接收所述被反射的輻射束的所述部分；管透鏡，布置成接收來自所述空間濾光片的所述被反射的輻射束的所述部分，其中所述空間濾光片定位在所述物鏡和所述管透鏡之間；和束組合器，布置成組合來自所述管透鏡的所述被反射的輻射束的所述部分與所述參考輻射束以產(chǎn)生所述組合的輻射束。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括 物鏡，布置成接收所述輻射束和所述被反射的輻射束的所述部分； 參考反射鏡，布置成接收所述參考輻射束；分束器和組合器，布置成朝向所述物鏡和所述參考反射鏡引導(dǎo)所述輻射束，和組合所述被反射的輻射束的所述部分與反射遠離所述參考反射鏡的參考輻射束以產(chǎn)生所述組合的輻射束；中繼透鏡，接收所述組合的輻射束；和管透鏡，布置成接收來自所述中繼透鏡的組合的輻射束和引導(dǎo)所述組合的輻射束至所述圖像傳感器的一部分，其中所述空間濾光片定位在所述中繼透鏡和所述管透鏡之間。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述圖像傳感器包括具有傳感器陣列的硅電荷耦合器件。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述圖像包括對應(yīng)于所述掩模上的一個或更多的掩模缺陷的信息。
10.一種用于全息掩模檢查的方法，包括以下步驟 將輻射束照射到掩模的目標(biāo)部分上；使來自所述掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的至少一部分穿過布置在光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中的空間濾光片；組合來自所述空間濾光片的所述被反射的輻射束的所述部分與參考輻射束以產(chǎn)生組合的輻射束；和檢測對應(yīng)于所述組合的輻射束的圖像。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，還包括使用反射鏡將來自照射源的所述輻射束反射到所述掩模的目標(biāo)部分上。
12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中使所述被反射的輻射束的所述至少一部分穿過的步驟包括在對應(yīng)于所述被反射的輻射束的圖像中對ー個或更多的空間頻率分量進行濾波。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的方法，其中對ー個或更多的空間頻率分量進行濾波的步驟包括基于由所述掩模的目標(biāo)部分產(chǎn)生的預(yù)定的衍射圖像對ー個或更多的空間頻率分量進行濾波。
14.根據(jù)權(quán)利要求10所述的方法，其中檢測所述圖像的步驟包括檢測在所述掩模上的一個或更多的掩模缺陷。
15.一種光刻系統(tǒng)，包括第一照射系統(tǒng)，配置成調(diào)節(jié)第一輻射束；支撐件，構(gòu)造成支撐圖案形成裝置，所述圖案形成裝置配置成在所述第一輻射束的橫截面中將圖案賦予所述第一輻射束以形成圖案化的輻射束； 襯底臺，構(gòu)造成保持襯底；投影系統(tǒng)，配置成將所述圖案化的輻射束聚焦到所述襯底上；和全息掩模檢查系統(tǒng)，所述全息掩模檢查系統(tǒng)包括第二照射源，配置成將第二輻射束照射到所述圖案形成裝置的目標(biāo)部分上； 空間濾光片，布置在光學(xué)系統(tǒng)的光瞳平面中，其中所述空間濾光片接收來自所述圖案形成裝置的目標(biāo)部分的被反射的輻射束的至少一部分，所述光學(xué)系統(tǒng)組合所述被反射的輻射束的所述部分與參考輻射束以產(chǎn)生組合的輻射束；和圖像傳感器，配置成檢測對應(yīng)于所述組合的輻射束的圖像。
16.根據(jù)權(quán)利要求15的光刻系統(tǒng)，其中所述全息掩模檢查系統(tǒng)還包括反射鏡，其中所述反射鏡布置成將來自所述第二照射源的第二輻射束反射到所述圖案形成裝置的目標(biāo)部分上。
17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻系統(tǒng)，其中所述空間濾光片配置成對在對應(yīng)于所述被反射的輻射束的圖像中的一個或更多的空間頻率分量進行濾波。
18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的光刻系統(tǒng)，其中所述空間濾光片包括濾光片圖案，所述濾光片圖案基于由所述圖案形成裝置的目標(biāo)部分產(chǎn)生的預(yù)定的衍射圖案。
19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括物鏡，布置成在接收所述被反射的輻射束的所述部分的所述空間濾光片之前接收所述被反射的輻射束的所述部分；束組合器，布置成組合來自所述空間濾光片的所述被反射的輻射束的所述部分與所述參考輻射束，以產(chǎn)生所述組合的輻射束，其中所述空間濾光片定位在所述物鏡和所述束組合器之間；和管透鏡，布置成接收所述組合的輻射束和引導(dǎo)所述組合的輻射束到所述圖像傳感器的一部分上。
20.根據(jù)權(quán)利要求15所述的全息掩模檢查系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括反射鏡，布置成將來自第二照射源的第二輻射束反射到所述圖案形成裝置的目標(biāo)部分上；分束器，布置成朝向所述反射鏡引導(dǎo)所述輻射束和基于所述第二輻射束產(chǎn)生所述參考輻射束；物鏡，布置成在接收所述被反射的輻射束的所述部分的所述空間濾光片之前接收所述被反射的輻射束的所述部分；管透鏡，布置成接收來自所述空間濾光片的所述被反射的輻射束的所述部分，其中所述空間濾光片定位在所述物鏡和所述管透鏡之間；和束組合器，布置成組合來自所述管透鏡的所述被反射的輻射束的所述部分與所述參考輻射束以產(chǎn)生所述組合的輻射束。
21.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻系統(tǒng)，其中所述光學(xué)系統(tǒng)包括物鏡，布置成接收所述第二輻射束和所述被反射的輻射束的所述部分；參考反射鏡，布置成接收所述參考輻射束；分束器和組合器，布置成朝向所述物鏡和所述參考反射鏡引導(dǎo)所述輻射束，和組合所述被反射的輻射束的所述部分與反射遠離所述參考反射鏡的參考輻射束以產(chǎn)生所述組合的輻射束；中繼透鏡，用于接收所述組合的輻射束；和管透鏡，布置成接收來自所述中繼透鏡的組合的輻射束和引導(dǎo)所述組合的輻射束至所述圖像傳感器的一部分，其中所述空間濾光片定位在所述中繼透鏡和所述管透鏡之間。
22.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻系統(tǒng)，其中所述圖像傳感器包括具有傳感器陣列的硅電荷耦合器件。
23.根據(jù)權(quán)利要求15所述的光刻系統(tǒng)，其中所述圖像包括對應(yīng)于所述掩模上的ー個或更多的掩模缺陷的信息。
全文摘要
公開了用于全息掩模檢查的設(shè)備、方法和光刻系統(tǒng)。全息掩模檢查系統(tǒng)(300，600，700)包括照射源(330)、空間濾光片(350)和圖像傳感器(380)。照射源配置成將輻射束(331)照射到掩模(310)的目標(biāo)部分上?？臻g濾光片(350)布置在光學(xué)系統(tǒng)(390，610，710)的傅里葉變換光瞳平面中，其中空間濾光片接收來自所述掩模的目標(biāo)部分的被反射的輻射束(311)的至少一部分。光學(xué)系統(tǒng)布置成組合(360，660，740)被反射的輻射束(311)的所述部分與參考輻射束(361，331)以產(chǎn)生組合的輻射束。此外，圖像傳感器(380)配置成捕獲組合的輻射束的全息圖像。圖像可以包含一個或更多的掩模缺陷。
文檔編號G03F7/20GK102597890SQ201080050478
公開日2012年7月18日 申請日期2010年11月12日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月27日
發(fā)明者A·鄧鮑夫, E·凱蒂, R·薩拉爾德森, R·雅克布, Y·沙瑪萊 申請人:Asml控股股份有限公司