專利名稱：化合物的制作方法
技術領域：
本發(fā)明涉及一種利用光的照射使包含具有親液性的基團的化合物與包含具有疏液性的基團的化合物進行二聚化反應而得的化合物。更具體來說，涉及在將功能性薄膜加以圖案處理時所用的所述化合物。
背景技術：
在有機薄膜晶體管元件、有機薄膜太陽能電池、有機EL顯示器等領域中，研究過很多功能性薄膜。功能性薄膜是如下的薄膜，即，含有體現(xiàn)出各種功能的材料，在設備中需要體現(xiàn)該功能的場所，以為體現(xiàn)該功能所必需的精度配置，進行了所謂的微細圖案處理的膜。作為利用圖案處理來體現(xiàn)的功能，可以例示出配線、電極、絕緣層、發(fā)光層、電荷傳輸層等功能。作為進行這些圖案處理的方法，例如有光刻法。即，該方法在基板等上的一面形成薄膜后，在該薄膜上形成含有光刻膠材料的層，利用光刻膠材料的感光性，對基底的薄膜進 行微細圖案處理，形成功能性薄膜。但是，利用光刻法形成的功能性薄膜因進行光刻法中的紫外線照射、顯影、清洗等工序，而經常會有該功能性薄膜的功能大幅度降低的情況，特別是在功能性薄膜為功能性有機薄膜的情況下，因進行顯影、清洗的工序，而經常出現(xiàn)該功能性有機薄膜的功能受到很大的損害的情況。作為解決光刻法的問題的方法，提出過將功能性薄膜使用噴墨法或噴嘴法、或者各種輥涂印刷法，例如苯胺印刷或反轉印刷等，在基板上直接進行圖案處理的方法。這些印刷法一般來說使用濃度及粘度比較低的墨液，因此作為在將墨液向基板接觸轉印后僅在必需的場所準確地形成功能性薄膜的方法，有在形成功能性薄膜的區(qū)域的周圍設置用于防止墨液的流動的隔壁的方法、在基板表面形成接收墨液的親液性的區(qū)域和不接收墨液的疏液性的區(qū)域的方法。作為在基板表面形成親液性的區(qū)域和疏液性的區(qū)域的方法，具體來說，已知有如下的方法，即，在親液性的薄膜的表面涂布含氟硅烷偶聯(lián)劑等疏液性物質而形成疏液性的薄膜，將波長小于200nm的光向疏液性的薄膜的一部分照射而分解該疏液性物質，然后除去分解物。利用該方法得到的基板中僅光照射部位是親液性表面(專利文獻I)。另外作為使用波長比較長的光的方法，可以舉出如下的方法，即，在親液性的基板上形成包含具有疏液性基團的化合物和光聚合引發(fā)劑的疏液性組合物的薄膜，通過對該薄膜的一部分照射光，而將該疏液性的組合物聚合，變得不溶于溶劑，通過使用溶劑除去未聚合部分，而對親液性區(qū)域進行圖案處理(專利文獻2)。作為使用長波長的紫外線的方法，還已知有如下的方法，S卩，在親液性的層上形成含有氧化鈦等光催化劑的疏液性的薄膜，對該薄膜的一部分照射光，將疏液性的薄膜分解而對親液性的區(qū)域進行圖案處理(專利文獻3)。專利文獻專利文獻I :日本特開2000-282240號公報專利文獻2 :國際公開第2007-102487號
專利文獻3 :日本特開平11-344804號公報但是，照射波長小于200nm的光的方法是長時間照射高能量光的方法，該方法需要大規(guī)模的設備、真空裝置、高能量光源等特別的裝置，存在制造成本升高的問題。另外，由于高能量的光的照射，而會有使照射光的層的基底層的特性降低的情況。使用波長比較長的光的方法由于使用能量比較低的光，因此可以減少照射光的層的基底層的特性的降低，然而在疏液性組合物中含有光聚合引發(fā)劑，從而會有該光聚合引發(fā)劑的反應殘基使形成于其上的功能性薄膜的特性降低的問題。使用長波長的紫外線的方法也有光催化劑使形成于其上的功能性薄膜的特性降低的問題。

發(fā)明內容
S卩，本發(fā)明之第一發(fā)明提供一種化合物，利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)進行二聚化反應而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以進行光二聚化反應的感光性基團、和具有親液性的基團，所述化合物(B)包含具有感光性且可以進行光二聚化反應的 感光性基團、和具有疏液性的基團。本發(fā)明之第二發(fā)明提供如下的所述化合物，其特征在于，化合物(A)中所含的感光性基團包含雙鍵或芳香族稠環(huán)。本發(fā)明之第三發(fā)明提供如下的所述化合物，其特征在于，化合物(B)中所含的感光性基團包含雙鍵或芳香族稠環(huán)。本發(fā)明之第四發(fā)明提供如下的所述化合物，即，化合物(A)是以式(1-1)表示的化合物。[化I]
權利要求
1.一種化合物,其特征在于， 利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)進行二聚化反應而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以進行光二聚化反應的感光性基團、和具有親液性的基團，所述化合物(B)包含具有感光性且可以進行光二聚化反應的感光性基團、和具有疏液性的基團。
2.根據(jù)權利要求I所述的化合物，其特征在于， 化合物(A)中所含的感光性基團包含雙鍵或芳香族稠環(huán)。
3.根據(jù)權利要求I或2所述的化合物，其特征在于， 化合物(B)中所含的感光性基團包含雙鍵或芳香族稠環(huán)。
4.根據(jù)權利要求I 3中任一項所述的化合物，其中， 化合物㈧是以式(ι-i)表示的化合物； [化I]
5.根據(jù)權利要求I 3中任一項所述的化合物，其中， 化合物㈧是以式(1-2)表示的化合物； [化2]
6.根據(jù)權利要求I 5中任一項所述的化合物，其中， 具有親液性的基團是包含屬于周期表的第4族、第5族、第6族、第13族、第14族、第15族或第16族的原子的基團。
7.根據(jù)權利要求6所述的化合物，其中，具有親液性的基團是包含硅原子的基團。
8.根據(jù)權利要求7所述的化合物，其中， 具有親液性的基團是以式(1-3)表示的基團； [化3]
9.根據(jù)權利要求I 8中任一項所述的化合物，其中， 化合物⑶是以式(2-1)表示的化合物； [化4]
10.根據(jù)權利要求I 8中任一項所述的化合物，其中， 化合物⑶是以式(2-2)表示的化合物； [化5]
11.根據(jù)權利要求9或10所述的化合物，其中， 具有疏液性的基團是以下式表示的基團；
12.根據(jù)權利要求11所述的化合物，其中， 具有疏液性的基團是以下式表示的基團；
13.根據(jù)權利要求12所述的化合物，其中， 具有疏液性的基團是以下式表示的基團；
全文摘要
本發(fā)明的課題在于，在照射光而進行功能性薄膜的微細圖案處理的情況下，抑制照射光的層的基底層的特性降低及功能性薄膜的特性降低。課題的解決途徑是，提供一種化合物，是利用光的照射使化合物(A)和化合物(B)進行二聚化反應而得，所述化合物(A)包含具有感光性且可以進行光二聚化反應的感光性基團、和具有親液性的基團，所述化合物(B)包含具有感光性且可以進行光二聚化反應的感光性基團、和具有疏液性的基團。
文檔編號G03F7/004GK102712664SQ201080052079
公開日2012年10月3日 申請日期2010年11月18日 優(yōu)先權日2009年11月18日
發(fā)明者中谷修平, 原口修一, 后藤修, 坂上惠, 小川雅司, 新海征治, 柿本秀信, 白木智丈 申請人:住友化學株式會社, 松下電器產業(yè)株式會社