專利名稱：光學(xué)板的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種光學(xué)板，尤其涉及該光學(xué)板的結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
具有精密光學(xué)效果的光學(xué)板已成為眾所矚目的技術(shù)產(chǎn)品。光學(xué)板可應(yīng)用在各式各 樣的光學(xué)相關(guān)領(lǐng)域中。舉例而言，在液晶顯示器的領(lǐng)域中，會使用到能使光線進(jìn)行擴(kuò)散的擴(kuò) 散板、能夠收集光線的棱鏡片、或是提升面光源亮度的增亮片等的光學(xué)板。一般是在上述光學(xué)板(擴(kuò)散片、棱鏡片或增亮片)的表面上制作各式各樣的光學(xué) 微結(jié)構(gòu)，以達(dá)到所需的光學(xué)效果。以往的技術(shù)是利用熱壓印的方式在光學(xué)板的表面上制作 光學(xué)微結(jié)構(gòu)。然而，這樣的做法會有以下缺點(diǎn)首先，熱壓印需在高溫環(huán)境下進(jìn)行，對于制程 整體而言需進(jìn)行加熱，會增加制程的復(fù)雜性及危險(xiǎn)性。再者，經(jīng)由熱壓印所形成的光學(xué)微結(jié) 構(gòu)，在溫度冷卻后因熱漲冷縮的影響將導(dǎo)致光學(xué)微結(jié)構(gòu)之間的尺寸產(chǎn)生無法預(yù)期的差異。 如此一來，光學(xué)微結(jié)構(gòu)的尺寸精密度會劣化，而導(dǎo)致不良的光學(xué)效果。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明需要解決的技術(shù)問題是提供了一種光學(xué)板，旨在解決上述的問題。為了解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明是通過以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的本發(fā)明的一種光學(xué)板包括具有一表面，該表面具有一第一方向與一第二方向，該 第一方向與該第二方向之間夾一角度，該光學(xué)板包括一光學(xué)元件陣列；所述的光學(xué)元件 陣列設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第一方向中延伸；以及一刻劃線；所述的刻劃線 設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第二方向中延伸；該表面是選自于該光學(xué)板的上表面、 該光學(xué)板的下表面及其組合。本發(fā)明的另一種光學(xué)板包括具有一表面，該光學(xué)板包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)；所述 的多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)分布在該光學(xué)板的該表面上；以及一刻劃線；所述的刻劃線分布在該光 學(xué)板的該表面上；該表面包括該光學(xué)板的上表面、或該光學(xué)板的下表面。與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的有益效果是具有光學(xué)元件陣列與刻劃線，其中，刻劃 線可提供霧化光線的光學(xué)效果；另外，光學(xué)元件陣列可包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，設(shè)置在光學(xué)板 的多個(gè)分布區(qū)域之相同或不相同的區(qū)塊；也就是說，根據(jù)所設(shè)置的光學(xué)微結(jié)構(gòu)的種類以及 光學(xué)微結(jié)構(gòu)的設(shè)置位置而可以產(chǎn)生所需的光學(xué)效果，如擴(kuò)散光線、收集光線、提升亮度等。


圖1為本發(fā)明實(shí)施例的一種光學(xué)板的立體示意圖、及光學(xué)板表面的光學(xué)元件陣列 與刻劃線的示意圖。圖2為本發(fā)明實(shí)施例的一種光學(xué)板的制作方法的制作流程示意圖。圖3為本發(fā)明實(shí)施例的一種切割工具的示意圖。圖4為本發(fā)明實(shí)施例的另一種切割工具的示意圖。
圖5為本發(fā)明實(shí)施例的再一種切割工具的示意圖。圖6為本發(fā)明一實(shí)施例的切割工具的微結(jié)構(gòu)的示意圖。圖7為本發(fā)明另一實(shí)施例的切割工具的微結(jié)構(gòu)的示意圖。圖8為利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對于光學(xué)板進(jìn)行表面處理的示意圖。圖9為利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對于另一光學(xué)板進(jìn)行表面處理的示意 圖。圖10為本發(fā)明實(shí)施例的一種切割工具模塊的示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖與具體實(shí)施方式
對本發(fā)明作進(jìn)一步詳細(xì)描述本發(fā)明提供一種光學(xué)板，具有光學(xué)元件陣列，且還具有能提升光學(xué)板的光學(xué)效果 的刻劃線。本發(fā)明提出一種光學(xué)板，具有一表面，該表面具有第一方向與第二方向，該第一方 向與該第二方向之間夾一角度。此光學(xué)板包括光學(xué)元件陣列以及刻劃線。光學(xué)元件陣列 設(shè)置在光學(xué)板的表面上、且于第一方向中延伸?？虅澗€設(shè)置在光學(xué)板的表面上、且于第二方 向中延伸，其中，表面是選自于光學(xué)板的上表面、光學(xué)板的下表面及其組合。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的刻劃線分布在該表面的同一水平/垂直基準(zhǔn)在 線、或不同的水平/垂直基準(zhǔn)在線。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的角度為90士 10度。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，突出于光學(xué) 板的表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，內(nèi)凹于光學(xué) 板的表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，這些光學(xué)微 結(jié)構(gòu)彼此之間的尺寸為相同或不相同。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，相鄰兩光學(xué) 微結(jié)構(gòu)的間距為相同或不相同。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的該光學(xué)板包括擴(kuò)散板、棱鏡片或增亮片。本發(fā)明又提出一種光學(xué)板，具有一表面。光學(xué)板包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)以及一刻劃 線。光學(xué)微結(jié)構(gòu)分布在光學(xué)板的表面上?？虅澗€分布在光學(xué)板的表面上，其中，表面包括 光學(xué)板的上表面、或光學(xué)板的下表面。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)板具有多個(gè)分布區(qū)域，光學(xué)微結(jié)構(gòu)規(guī)則地或 不規(guī)則地設(shè)置在分布區(qū)域中。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的刻劃線分布于表面的同一水平/垂直基準(zhǔn)在線、 或不同的水平/垂直基準(zhǔn)在線。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)微結(jié)構(gòu)突出于光學(xué)板的表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu) 的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)微結(jié)構(gòu)內(nèi)凹于光學(xué)板的表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu) 的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。
在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)微結(jié)構(gòu)彼此之間的尺寸為相同或不相同。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的相鄰兩光學(xué)微結(jié)構(gòu)的間距為相同或不相同。在本發(fā)明的一實(shí)施例中，上述的光學(xué)板包括擴(kuò)散板、棱鏡片或增亮片?；谏鲜?，本發(fā)明的光學(xué)板具有光學(xué)元件陣列與刻劃線，其中，刻劃線可提供霧化 光線的光學(xué)效果。另外，光學(xué)元件陣列可包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，設(shè)置在光學(xué)板的多個(gè)分布區(qū) 域之相同或不相同的區(qū)塊。也就是說，根據(jù)所設(shè)置的光學(xué)微結(jié)構(gòu)的種類以及光學(xué)微結(jié)構(gòu)的 設(shè)置位置而可以產(chǎn)生所需的光學(xué)效果，如擴(kuò)散光線、收集光線、提升亮度等。特別是，上述光 學(xué)板是利用切割工具所制作的，所以具有刻劃線之光學(xué)特征結(jié)構(gòu)。再者，相較于現(xiàn)有技術(shù)熱 壓印的制作方式，上述的光學(xué)板的光學(xué)微結(jié)構(gòu)不會有熱漲冷縮的影響，所以光學(xué)微結(jié)構(gòu)的 尺寸可控制在相當(dāng)高的光學(xué)精密度。[光學(xué)板]圖1為本發(fā)明實(shí)施例的一種光學(xué)板的立體示意圖、及光學(xué)板表面的光學(xué)元件陣列 與刻劃線的示意圖。請參照圖1，光學(xué)板OP具有一表面Sl或S2，該表面Sl或S2可具有第 一方向Dl以及與第一方向Dl夾一角度θ的第二方向D2。如圖1所示，光學(xué)板OP的表面 Sl可以是上表面，而光學(xué)板OP的表面S2可以是下表面。另外，該角度θ可為90士 10度、 較佳為90度。請繼續(xù)參照圖1，光學(xué)板OP可包括光學(xué)元件陣列OPA以及刻劃線CL。光學(xué)元件 陣列OPA可設(shè)置于光學(xué)板OP的表面Sl或S2上、且于第一方向Dl中延伸。更詳細(xì)而言，光學(xué)元件陣列OPA可包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)0Μ，內(nèi)凹于光學(xué)板OP的 表面，且光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合(互補(bǔ)于后續(xù)圖6所 示的突出于切割部120的微結(jié)構(gòu)130)。另外，光學(xué)元件陣列OPA也可包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)0Μ，突出于光學(xué)板OP的表面， 且光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM的形狀可選自于半圓形、V字形、R溝及其組合(互補(bǔ)于后續(xù)圖7所示的內(nèi) 凹于切割部120的微結(jié)構(gòu)130)。再者，多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM的彼此之間的尺寸可為相同或不 相同，其中尺寸相同或不相同是指面積相同或不相同，或者是體積的相同或不相同。光學(xué)元 件陣列OPA可以是規(guī)律地、或隨機(jī)地排列在光學(xué)板OP的表面Sl或S2上，端看所需的光學(xué) 效果。另外，在這些光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM中，相鄰兩光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM的間距(未繪示)也可為相同 或不相同。請?jiān)賲⒄請D1，刻劃線CL可設(shè)置于光學(xué)板OP的表面Sl或S2上、且于第二方向D2 中延伸。更詳細(xì)而言，可在光學(xué)板OP的至少一表面Sl或S2，或者全部表面Si、S2形成光 學(xué)元件陣列OPA以及刻劃線CL?？虅澗€CL可隨機(jī)地分布于該表面Sl或S2上，亦即，刻劃線CL可分布于表面 Sl (或S2)的同一水平/垂直基準(zhǔn)線(未繪示)上、或不同的水平/垂直基準(zhǔn)在線。具體而 言，表面Sl (或S2)可具有多條水平基準(zhǔn)線，且將水平基準(zhǔn)線轉(zhuǎn)90度來看即可視為多條垂 直基準(zhǔn)線，而刻劃線CL可位于同一條水平基準(zhǔn)線的位置(規(guī)律設(shè)置)，或位于不同一條水平 基準(zhǔn)線的位置(隨機(jī)設(shè)置)，使得可由刻劃線CL的設(shè)置而造成霧面的光學(xué)效果。上述光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM的種類可根據(jù)所需的光學(xué)效果而進(jìn)行選擇。在一實(shí)施例中，可 采用形狀不規(guī)則的光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM而使光線被擴(kuò)散，此時(shí)光學(xué)板OP成為可散射光線的擴(kuò)散 板；或者，也可選用角錐狀的光學(xué)微結(jié)構(gòu)，而達(dá)到折射光線的效果，此時(shí)光學(xué)板OP成為棱鏡片；或者，可選用半圓形的柱狀光學(xué)微透鏡，而能夠達(dá)到集光效果，此時(shí)光學(xué)板OP成為增亮 片。光學(xué)板OP可以是擴(kuò)散片、擴(kuò)散板、棱鏡片或增亮片。以下，將進(jìn)一步說明本發(fā)明上述光學(xué)板的制作方法。[光學(xué)板的制作方法]圖2為本發(fā)明實(shí)施例的一種光學(xué)板的制作方法的制作流程示意圖。圖3為本發(fā)明 實(shí)施例的一種切割工具的示意圖。請同時(shí)參照圖1、圖2與圖3來理解本發(fā)明的光學(xué)板的制 作方法MlOO。由圖2可知，光學(xué)板的制作方法MlOO包括步驟SllO S130。首先，在步驟SllO中，提供如圖1所示的至少一光學(xué)板0P，該光學(xué)板OP具有一表 面Sl或S2，該表面Sl或S2具有第一方向Dl以及與第一方向Dl夾一角度θ的第二方向 D2。再來，在步驟S120中，提供如圖3所示的至少一切割工具100，其中，每一切割工具 100包括基部110、至少一切割部120以及多個(gè)微結(jié)構(gòu)130。基部110具有一旋轉(zhuǎn)軸110a。 切割部120設(shè)置于基部110上、沿著旋轉(zhuǎn)軸IlOa的延伸方向L而排列。微結(jié)構(gòu)130設(shè)置于 切割部120上。切割部120的數(shù)量、長度、排列于基部110的位置等都可變化，亦即根據(jù)光 學(xué)板OP所需的光學(xué)效果來進(jìn)行設(shè)計(jì)。之后，在步驟S130中，使切割工具100進(jìn)行旋轉(zhuǎn)而切割光學(xué)板0P，其中，被切割后 的如圖1所示的光學(xué)板OP包括光學(xué)元件陣列OPA以及刻劃線CL。光學(xué)元件陣列OPA設(shè) 置于光學(xué)板OP的該表面Sl或S2上、且于第一方向Dl中延伸?？虅澗€CL設(shè)置于光學(xué)板OP 的該表面Sl或S2上、且于第二方向D2中延伸。值得注意的是，可利用切割工具100在光學(xué)板OP的至少一表面Sl或S2，或者全部 表面Si、S2上進(jìn)行切割或表面處理，而形成光學(xué)元件陣列OPA以及刻劃線CL?？梢?，利用 切割工具100進(jìn)行光學(xué)板OP的制作時(shí)，光學(xué)板OP將具有刻劃線CL這樣的光學(xué)特征結(jié)構(gòu)。圖3繪示了三個(gè)切割部120，然而，切割部120的數(shù)量可隨著實(shí)際的使用需求而進(jìn) 行調(diào)整，并非僅限定于三個(gè)。并且，圖3所示的每一切割部120為條狀的連續(xù)結(jié)構(gòu)，然而切 割部120也可以是多個(gè)的不連續(xù)結(jié)構(gòu)；并且，可在各切割部120上分別設(shè)置彼此相同或彼此 不同形態(tài)的微結(jié)構(gòu)130，以制作出具有特定形態(tài)的微結(jié)構(gòu)130的組合的切割工具100，而切 出多種不同功能的光學(xué)微結(jié)構(gòu)0M。上述的切割工具100通過在切割部120上設(shè)置微結(jié)構(gòu)130，使得當(dāng)切割工具100在 進(jìn)行高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，微結(jié)構(gòu)130可在切割工具100的旋轉(zhuǎn)方向R的切線上、對與微結(jié)構(gòu)130接 觸的光學(xué)板OP的表面Sl或S2進(jìn)行切割或刻劃工作。結(jié)果是，于切割光學(xué)板OP同時(shí)，可自 然地在光學(xué)板OP的切割面上形成光學(xué)元件陣列OPA與刻劃線CL，且光學(xué)元件陣列OPA的光 學(xué)微結(jié)構(gòu)OM的形狀與切割工具100的微結(jié)構(gòu)130的形狀彼此為互補(bǔ)。請?jiān)賲⒄請D3，切割部120可沿著旋轉(zhuǎn)軸IlOa的延伸方向L而同軸排列。在另一 實(shí)施例中，切割部120也可以采用其它的排列方式。圖4為本發(fā)明實(shí)施例的另一種切割工 具的示意圖。請參照圖4，此切割工具102與圖3的切割工具100相同的組件標(biāo)示以相同的 符號。可注意到，在此實(shí)施例中，切割部120沿著旋轉(zhuǎn)軸IlOa的延伸方向而螺旋排列。通 過同軸排列或螺旋排列的方式，可以使切割部120上的多處微結(jié)構(gòu)130均能夠進(jìn)行切割或 表面刻劃的效果，使得切割工具100適于進(jìn)行具有大面積的工件的切割或表面處理。請?jiān)賲⒄請D3，基部110與切割部120為一體成型，也就是說，可以利用精密機(jī)械加工、或電加工切割，直接在一圓柱體(未繪示)上形成切割部120，使切割部120與基部110 是一體連接的。在另一實(shí)施例中，基部110與切割部120也可以采用其它的連接方式。圖5為本發(fā) 明實(shí)施例的再一種切割工具的示意圖。請參照圖5，此切割工具104與圖3的切割工具100 相同的組件標(biāo)示以相同的符號?？勺⒁獾剑诖藢?shí)施例中，基部110與切割部120為彼此組 裝。更詳細(xì)而言，基部110與切割部120是分開制作的，并且，可利用黏接或特殊的嵌合結(jié) 構(gòu)等方式使切割部120固定到基部110上，以使切割工具104在高速旋轉(zhuǎn)時(shí)，切割部120不 會從基部110上脫離。圖6為本發(fā)明一實(shí)施例的切割工具的微結(jié)構(gòu)的示意圖。請參照圖6，將切割部120 的區(qū)域A進(jìn)行放大后，可看到微結(jié)構(gòu)130的形狀。請繼續(xù)參照圖6，在一實(shí)施例中，上述的微 結(jié)構(gòu)130可突出于切割部120，且微結(jié)構(gòu)130的形狀可以是選自于半圓形、V字形、R溝及其 組合，亦即，如圖6所繪示的半圓形微結(jié)構(gòu)130a、V字形微結(jié)構(gòu)130b、R溝微結(jié)構(gòu)130c、130d。 利用圖6所示的突出于切割部120的微結(jié)構(gòu)130，可在光學(xué)板OP的表面上切割出內(nèi)凹于光 學(xué)板OP表面的光學(xué)微結(jié)構(gòu)0M。圖7為本發(fā)明另一實(shí)施例的切割工具的微結(jié)構(gòu)的示意圖。請參照圖7，在另一實(shí)施 例中，將切割部120的區(qū)域B進(jìn)行放大后，可看到微結(jié)構(gòu)130是內(nèi)凹于切割部120，且微結(jié)構(gòu) 130的形狀可以是選自于半圓形、倒V字形、R溝及其組合，亦即，如圖7所繪示的半圓形微 結(jié)構(gòu)130a、V字形微結(jié)構(gòu)130b、R溝微結(jié)構(gòu)130c、130d。利用圖7所示的內(nèi)凹于切割部120 的微結(jié)構(gòu)130，可在光學(xué)板OP的表面上切割出突出于光學(xué)板OP表面的光學(xué)微結(jié)構(gòu)0M。上述各種微結(jié)構(gòu)130a 130d彼此之間的尺寸可為相同或不相同，例如，可以采用 具有不同尺寸的R溝微結(jié)構(gòu)130c、130d，或是多個(gè)尺寸相同的半圓形微結(jié)構(gòu)130a等。相鄰 的兩個(gè)微結(jié)構(gòu)130a 130d之間的間距也可相同或不相同。本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)設(shè)計(jì) 需要組合微結(jié)構(gòu)130a 130d的種類、尺寸等。如此一來，可以直接于切割部120上組合各 式各樣的微結(jié)構(gòu)130而輕易地于一次切割的制程中于光學(xué)板OP的表面Sl或S2上制作多 種形狀的光學(xué)微結(jié)構(gòu)0M。圖8為利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對于光學(xué)板進(jìn)行表面處理的示意圖。請 參照圖8，可使切割工具100高速旋轉(zhuǎn)，再使光學(xué)板OP在輸送帶(未繪示)上于輸送方向 D上進(jìn)行傳送，切割部120上的微結(jié)構(gòu)130會與光學(xué)板OP的表面Sl (上表面)或S2 (下表 面)接觸，而刻劃出光學(xué)元件陣列OPA以及刻劃線CL。所形成的光學(xué)元件陣列OPA例如是 透鏡微數(shù)組(lens array)，可提供所需的光學(xué)效果，而刻劃線CL可以用來霧化光線。另外，立體影像顯示器也已逐漸地發(fā)展起來。根據(jù)人眼的視覺特性，當(dāng)左、右眼分 別觀看相同的影像內(nèi)容但是具有不同視差(parallax)的二影像時(shí)，人眼會觀察、將二影像 重迭解讀成一立體影像，也可利用上述的切割工具100來制作能夠形成立體影像光學(xué)微結(jié) 構(gòu)。圖9為利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對于另一光學(xué)板進(jìn)行表面處理的示意 圖。請參照圖9，此光學(xué)板0P’具有一表面Sl或S2。光學(xué)板0P’包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM 以及一刻劃線CL。光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM分布于光學(xué)板0P’的表面Sl或S2上。刻劃線CL分布 于光學(xué)板0P’的表面Sl或S2上，其中，表面Sl或S2包括光學(xué)板0P’的上表面、或光學(xué)板 OP’的下表面。
此光學(xué)板0P’與上述的光學(xué)板OP類似，相關(guān)的說明不在此重述。值得注意的是， 如圖9所示的光學(xué)板0P’可具有多個(gè)分布區(qū)域G，該光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM與該刻劃線CL是規(guī)則地 或不規(guī)則地設(shè)置在分布區(qū)域G中。換言之，光學(xué)元件陣列OPA與刻劃線CL可分布在相同或 不同的區(qū)塊(即分布區(qū)域G)。請?jiān)賲⒄請D9，部分的分布區(qū)域G可制作有該光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM與該刻劃線CL，另一 部分的分布區(qū)域G可不具有光學(xué)微結(jié)構(gòu)OM與刻劃線CL?？赏ㄟ^切割工具100的微結(jié)構(gòu) 130的設(shè)計(jì)，使微結(jié)構(gòu)130接觸或不接觸光學(xué)板0P’的表面Sl或S2，而切割出上述的光學(xué) 板 0P，。圖10為本發(fā)明實(shí)施例的一種切割工具模塊的示意圖。請參照圖10，切割工具模 塊200包括多個(gè)上述的切割工具100，其中，這些切割工具100在旋轉(zhuǎn)軸IlOa的延伸方向 L上進(jìn)行排列。如圖8或圖9所示，僅繪示一個(gè)切割工具100進(jìn)行表面處理的示意圖，然而，本發(fā) 明并不僅限于使用一個(gè)切割工具100。更詳細(xì)而言，當(dāng)光學(xué)板OP的面積增大時(shí)，可利用如圖 10所示由多個(gè)切割工具100構(gòu)成的切割工具模塊200輕易地對于大面積的光學(xué)板OP進(jìn)行 切割或表面處理。另外，可拼裝出對應(yīng)于該特定尺寸的光學(xué)板OP的切割工具模塊200，以對于該特 定尺寸的光學(xué)板OP進(jìn)行切割或表面處理。再者，當(dāng)切割工具模塊200中的任一個(gè)切割工具 100損壞時(shí)，可直接抽換該損壞的切割工具100，有利于維修效率的提升。特別是，也可任意組合具有各種不同的微結(jié)構(gòu)130的切割工具100 104，來形成 切割工具模塊200。如此一來，可制作各種形態(tài)的光學(xué)微結(jié)構(gòu)0M。綜上所述，本發(fā)明的光學(xué)板及其制作方法至少具有以下優(yōu)點(diǎn)利用本發(fā)明實(shí)施例所述的切割工具對于光學(xué)板進(jìn)行切割或表面處理，可以于光學(xué) 板的表面上形成多種形態(tài)的光學(xué)微結(jié)構(gòu)與刻劃線，其中，刻劃線可提供霧化光線的光學(xué)效果。當(dāng)進(jìn)行切割或表面處理時(shí)，在切割部上設(shè)置的多個(gè)微結(jié)構(gòu)可對于光學(xué)板進(jìn)行刻 劃，能夠提升切割工具的加工速度、延長切割工具的壽命。并且，相較于現(xiàn)有技術(shù)利用熱壓 印的方式，利用切割工具制作光學(xué)板的方式，光學(xué)微結(jié)構(gòu)不會受到熱漲冷縮的影響，而能夠 提升光學(xué)微結(jié)構(gòu)的尺寸精密度。通過在切割部上形成各式各樣的微結(jié)構(gòu)，而可以在光學(xué)板上形成所需形狀的光學(xué) 微結(jié)構(gòu)，而能夠得到具有擴(kuò)散效果、集光效果或增亮效果的光學(xué)板。雖然本發(fā)明已以實(shí)施例揭露如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何所屬技術(shù)領(lǐng)域 中具有通常知識的，在不脫離本發(fā)明之精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許之更動與潤飾，故本發(fā)明 之保護(hù)范圍當(dāng)視后附權(quán)利要求保護(hù)范圍所界定的為準(zhǔn)。
權(quán)利要求
1.一種光學(xué)板，其特征在于包括具有一表面，該表面具有一第一方向與一第二方向， 該第一方向與該第二方向之間夾一角度，該光學(xué)板包括一光學(xué)元件陣列；所述的光學(xué)元件陣列設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第一方向 中延伸；以及一刻劃線；所述的刻劃線設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第二方向中延 伸；該表面是選自于該光學(xué)板的上表面、該光學(xué)板的下表面及其組合。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該刻劃線分布于該表面的同一水平/ 垂直基準(zhǔn)在線、或不同的水平/垂直基準(zhǔn)在線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該角度為90士10度。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié) 構(gòu)；所述的多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)突出于該光學(xué)板的該表面，且該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于 半圓形、V字形、R溝及其組合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié) 構(gòu)；所述的多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)內(nèi)凹于該光學(xué)板的該表面，且該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于 半圓形、V字形、R溝及其組合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié) 構(gòu)，該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)彼此之間的尺寸為相同或不相同。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)元件陣列包括多個(gè)光學(xué)微結(jié) 構(gòu)，相鄰兩該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)的一間距為相同或不相同。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)板包括擴(kuò)散片、擴(kuò)散板、棱鏡片 或增亮片。
9.一種光學(xué)板，其特征在于包括具有一表面，該光學(xué)板包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)；所述 的多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)分布在該光學(xué)板的該表面上；以及一刻劃線；所述的刻劃線分布在該光 學(xué)板的該表面上；該表面包括該光學(xué)板的上表面、或該光學(xué)板的下表面。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)板具有多個(gè)分布區(qū)域，該些光 學(xué)微結(jié)構(gòu)與該刻劃線規(guī)則地或不規(guī)則地設(shè)置在該些分布區(qū)域中。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于該刻劃線分布于該表面的同一水平/ 垂直基準(zhǔn)在線、或不同的水平/垂直基準(zhǔn)在線。
12.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)突出于該光學(xué)板的該 表面，且該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。
13.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)內(nèi)凹于該光學(xué)板的該 表面，且該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)的形狀是選自于半圓形、V字形、R溝及其組合。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)彼此之間的尺寸為相 同或不相同。\
15.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于相鄰兩該些光學(xué)微結(jié)構(gòu)的一間距為相 同或不相同。
16.根據(jù)權(quán)利要求9所述的光學(xué)板，其特征在于該光學(xué)板包括擴(kuò)散片、擴(kuò)散板、棱鏡 片或增亮片。
全文摘要
本發(fā)明涉及一種光學(xué)板，包括具有一表面，該表面具有一第一方向與一第二方向，該第一方向與該第二方向之間夾一角度，該光學(xué)板包括一光學(xué)元件陣列；所述的光學(xué)元件陣列設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第一方向中延伸；以及一刻劃線；所述的刻劃線設(shè)置在該光學(xué)板的該表面上、且于該第二方向中延伸；該表面是選自于該光學(xué)板的上表面、該光學(xué)板的下表面及其組合；本發(fā)明的有益效果是具有光學(xué)元件陣列與刻劃線，其中，刻劃線可提供霧化光線的光學(xué)效果；另外，光學(xué)元件陣列可包括多個(gè)光學(xué)微結(jié)構(gòu)，設(shè)置在光學(xué)板的多個(gè)分布區(qū)域之相同或不相同的區(qū)塊，可以產(chǎn)生所需的光學(xué)效果，如擴(kuò)散光線、收集光線、提升亮度等。
文檔編號G02B5/02GK102062894SQ20111004416
公開日2011年5月18日 申請日期2011年2月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年2月22日
發(fā)明者李佳真, 李信坤, 李國成, 黃依萍 申請人:蘇州向隆塑膠有限公司