專(zhuān)利名稱(chēng)：一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種鍍膜技術(shù)，尤其是一種反向鍍膜方法，具體地說(shuō)是一種能消除光 學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法。
背景技術(shù)：
當(dāng)太陽(yáng)光照射到物體表面時(shí)，光從一個(gè)介質(zhì)進(jìn)入到另一個(gè)介質(zhì)，因不同介質(zhì)面而 產(chǎn)生的光分子和光波長(zhǎng)同時(shí)發(fā)生，產(chǎn)生光的反射和折射，分別造成眩光和鬼影。如圖1所示，入射光線照射到光源影像即實(shí)物A后，發(fā)生第一次反射，反射光遇到 光學(xué)透明材料時(shí)，如圖所示，以玻璃為例，在玻璃的兩面均發(fā)生分光的反射和折射，分光點(diǎn) 之間的距離等于玻璃的厚度，由于反射光和折射光的干涉即干擾；反射光al、a2產(chǎn)生眩光； 進(jìn)入人的視野；眩光會(huì)增強(qiáng)亮度，減弱色彩飽和度，使物體輪廓模糊不清。折射光bl、l32在 主穿透光的影像A’附近產(chǎn)生雙重迭影AbliAb2的重疊影像即鬼影。一般在常態(tài)下，在一片厚度為0. Imm以上的玻璃上進(jìn)行投影時(shí)，若投影的角度與 玻璃不在正90度角時(shí)就會(huì)產(chǎn)生雙重迭影即鬼影。鬼影的生成原因是光在穿透不同介質(zhì)時(shí) 會(huì)產(chǎn)生折射分光分光。在折射分光的作用下，光行進(jìn)至玻璃表面此會(huì)產(chǎn)生一個(gè)較主體影像 弱光度的折射分光影像，在原反射主體影像前方或者后方出現(xiàn)，這就形成雙重迭影(俗稱(chēng) 鬼影)。例如一般，當(dāng)人們站在大型玻璃窗框前，人從側(cè)面看向窗框時(shí)，嘗嘗看到自己的影 像成雙重即(鬼影)。同時(shí)，該影像成像模糊、不清楚，影像視覺(jué)效果，容易產(chǎn)生視覺(jué)疲勞， 混淆。在實(shí)際使用中，我們?yōu)榱讼碛?，一般使用色差法貼一層薄膜或涂布一層半透 漆，(此貼膜或漆畢須是有穿透性并且較原呈像物深色的對(duì)象)；例如在汽車(chē)的前擋風(fēng) 玻璃上貼附一層與擋風(fēng)玻璃相比顏色較深的具有穿透性的貼膜來(lái)消除鬼影，能達(dá)到一定效 果。但是，由于新的貼膜較原對(duì)象顏色深，會(huì)有色差，影響視覺(jué)清晰度，影響駕駛員視線。所 以色差法不是很好的方法。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是針對(duì)光的干涉影像中即光干擾中所存在的雙重迭影即鬼影問(wèn)題， 提出一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法。本發(fā)明的技術(shù)方案是
一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法，在電子鍍膜機(jī)對(duì)光學(xué)透 明材料進(jìn)行鍍抗反射膜的過(guò)程中，將電子鍍膜機(jī)的粒子槍電極極化倉(cāng)上的正、負(fù)電荷反向， 進(jìn)行反向鍍抗反射膜，在光學(xué)透明材料表面形成反向抗反射膜。本發(fā)明的光學(xué)透明材料為耐高溫的透明材料。本發(fā)明的耐高溫的透明材料為耐高溫的玻璃。
本發(fā)明的光學(xué)透明材料面向光源影像即實(shí)物的一面反向鍍抗反射膜即反向抗反 射膜。本發(fā)明的反向抗反射膜的作用面面向光學(xué)透明材料。本發(fā)明的反向抗反射膜的厚度為0. 1-2. 5nm。本發(fā)明的電子鍍膜機(jī)選用高溫的電子蒸鍍機(jī)或選用常溫的電子鍍膜機(jī)。本發(fā)明的有益效果
本發(fā)明是使用電離子鍍膜方法鍍抗反射膜，當(dāng)我們?cè)谑褂秒娮渝兡C(jī)時(shí)，將粒子槍的 電極極化倉(cāng)上的正負(fù)電荷反向，鍍膜會(huì)產(chǎn)生作用面反向朝內(nèi)，面向光學(xué)透明材料的情形；能 夠有效消除鬼影，使得成像物體沒(méi)有明顯色差，看不出有附加物；同時(shí)，增強(qiáng)了影像的清晰 度，減少了光反射效應(yīng)，使得呈像物體的光特性增加了效果及應(yīng)用性。本發(fā)明提出的新技術(shù)作法能改善一般色差法達(dá)不到的效果，較優(yōu)良而且不犧牲視 覺(jué)效果，同時(shí)增加清晰度，利于光學(xué)上增加視覺(jué)效果的抗反射膜(光穿透性近99%)的鍍膜特 性一正向面減少光的散射增加光線穿透度，反向面則是具有折、反射的作用面。該抗反射 鍍膜有一特殊性，它是不對(duì)等單面作用的特點(diǎn)，其一面(正作用面)為穿透性即抗反射性， 另一面(反向作用面)為半穿透性。所謂半穿透性是指其具有偏光(反射及折射作用)的 特性效果，但是，它具有偏光片沒(méi)有的零角度的部分光反射作用或部分光折射作用的效果， 和正向作用近乎全穿透的透射效果。此特殊的特點(diǎn)可應(yīng)用在光學(xué)設(shè)計(jì)上，幫助對(duì)光學(xué)投 影、造影等等進(jìn)行光路徑的設(shè)計(jì)，幫助取得更清晰的影像；更多的光學(xué)折反射作用中，光源 本身所容易造成的各種光干涉影像，均得到解決。本發(fā)明可應(yīng)用于汽車(chē)行業(yè)、航空行業(yè)、液晶行業(yè)、顯示器行業(yè)和通訊行業(yè)。


圖1是干涉影像即雙重迭影產(chǎn)生的原理示意圖。圖2是本發(fā)明的消除干涉影像的原理示意圖。圖中1、反向抗反射膜；2、光學(xué)透明材料。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對(duì)本發(fā)明作進(jìn)一步的說(shuō)明。如圖2所示，一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法，在電 子鍍膜機(jī)對(duì)光學(xué)透明材料2進(jìn)行鍍抗反射膜的過(guò)程中，將電子鍍膜機(jī)(可采用德儀科技有 限公司生產(chǎn)的型號(hào)為DVE-240-PVD的蒸鍍機(jī))的粒子槍電極極化倉(cāng)上的正、負(fù)電荷反向，進(jìn) 行反向鍍抗反射膜，在光學(xué)透明材料2表面形成反向抗反射膜1。本發(fā)明的光學(xué)透明材料2為耐高溫的透明材料，可采用耐高溫的玻璃。本發(fā)明的光學(xué)透明材料2面向光源影像即實(shí)物的一面反向鍍抗反射膜即反向抗 反射膜1。反向抗反射膜1的作用面朝內(nèi)，面向光學(xué)透明材料2;該面加大了反射性；非作用 面朝外，面向?qū)嵨?，該面的穿透性加大。通常，在光學(xué)透明材料2面向光源影像即實(shí)物的一面反向鍍抗反射膜即反向抗反射膜1，另一面鍍偏光膜?；蛘?，根據(jù)需要在該偏光膜上再鍍反向抗反射膜。也可以根據(jù)需 要，在光學(xué)透明材料的兩面均鍍反向抗反射膜。本發(fā)明的反向抗反射膜1的厚度為0. 1-2. 5nm。本發(fā)明的電子鍍膜機(jī)選用高溫的電子蒸鍍機(jī)或選用常溫的電子鍍膜機(jī)。如圖2所示，入射光線照射到光源影像即實(shí)物A后，發(fā)生第一次反射，反射光遇到 鍍有反向抗反射膜的光學(xué)透明材料時(shí)，以玻璃為例，在玻璃的兩面均發(fā)生分光的反射和折 射，由于反向抗反射膜1的作用面朝內(nèi)，面向玻璃，該面加大了反射性；非作用面朝外，面向 實(shí)物，該面的穿透性加大；分光逐漸變?nèi)?。反射光al、a2逐漸變?nèi)酰瓷浣侵饾u變大，反射影像遠(yuǎn)離人的視野；眩光現(xiàn)象減 弱。由于反向抗反射膜1的作用面朝內(nèi)，面向玻璃，該面加大了反射性，主穿透光折射 后的光線1^2在玻璃面反射，之后依次在反向抗反射膜1的作用面和玻璃的非貼膜面之間反 射；折射光bl、b2、折射后的反射光b3、b4產(chǎn)生影像的Abl、Ab2、Ab3、Ab4，亮度逐漸變?nèi)酢?同時(shí)主穿透光折射后的反射角逐漸增大，如圖2所示，θ 1< θ 2< θ 3，影像Abl、Ab2、Ab3、 Ab4距離變遠(yuǎn)，遠(yuǎn)離人的視野。主穿透光的影像A’的清晰度高，同時(shí)減少了光反射效應(yīng)；能 夠有效消除鬼影，使得成像物體沒(méi)有明顯色差，看不出有附加物，使得呈像物體的光特性增 加了效果及應(yīng)用性。本發(fā)明未涉及部分均與現(xiàn)有技術(shù)相同或可采用現(xiàn)有技術(shù)加以實(shí)現(xiàn)。
權(quán)利要求
1.一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法，其特征是在電子鍍膜 機(jī)對(duì)光學(xué)透明材料(2)進(jìn)行鍍抗反射膜的過(guò)程中，將電子鍍膜機(jī)的粒子槍電極極化倉(cāng)上的 正、負(fù)電荷反向，進(jìn)行反向鍍抗反射膜，在光學(xué)透明材料(2)表面形成反向抗反射膜(1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方 法，其特征是所述的光學(xué)透明材料(2)為耐高溫的透明材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方 法，其特征是所述的耐高溫的透明材料為耐高溫的玻璃。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方 法，其特征是所述的光學(xué)透明材料(2)面向光源影像即實(shí)物的一面反向鍍抗反射膜即反向 抗反射膜(1)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方 法，其特征是所述的反向抗反射膜(1)的作用面面向光學(xué)透明材料(2)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方 法，其特征是所述的反向抗反射膜(1)的厚度為0. 1-2. 5nm。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方 法，其特征是所述的電子鍍膜機(jī)選用高溫的電子蒸鍍機(jī)或選用常溫的電子鍍膜機(jī)。
全文摘要
一種能消除光學(xué)成像中光干涉影像的反向鍍抗反射膜的方法，在電子鍍膜機(jī)對(duì)光學(xué)透明材料(2)進(jìn)行鍍抗反射膜(1)的過(guò)程中，將電子鍍膜機(jī)的粒子槍電極極化倉(cāng)上的正、負(fù)電荷反向，進(jìn)行反向鍍抗反射膜(1)。本發(fā)明是使用電離子鍍膜方法鍍抗反射膜，鍍膜會(huì)產(chǎn)生作用面反向朝內(nèi)，面向光學(xué)透明材料的情形；能夠有效消除鬼影，使得成像物體沒(méi)有明顯色差，看不出有附加物；同時(shí)，增強(qiáng)了影像的清晰度，減少了光反射效應(yīng)，使得呈像物體的光特性增加了效果及應(yīng)用性。
文檔編號(hào)G02B1/11GK102122009SQ201110069118
公開(kāi)日2011年7月13日 申請(qǐng)日期2011年3月22日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月22日
發(fā)明者呂興增 申請(qǐng)人:南京炫視界光電科技有限公司